JP6963639B2 - 純ギ酸ガスが供給されるはんだ付けシステム - Google Patents
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Description
1.ギ酸の分圧及び濃度が低く、処理時間が長い。
Claims (1)
- 純ギ酸ガスが供給されるはんだ付けシステムであって、
液体のギ酸を加熱してギ酸ガスを供給するように構成された純ギ酸ガス供給装置と、
部品をはんだ付けするように構成された複真空室はんだ付け炉と、
真空ポンプと、
ギ酸排出処理装置とを備え、
前記純ギ酸ガス供給装置は、
底ベース、天井カバー、前記底ベースの周縁に連結され且つ前記天井カバーの周縁に連結された周壁、及び、前記底ベースと前記天井カバーと前記周壁とによって囲まれて密閉された内部空間を有するタンクと、
前記タンクに連結されて前記タンクの前記内部空間と連通し、液体のギ酸を前記タンクの前記内部空間へ供給するように構成された液体配管と、
前記タンクの前記底ベースに連結され、前記底ベースが液体のギ酸を加熱して、液体のギ酸を蒸発させて液体のギ酸をギ酸ガスに変化させることができるように前記底ベースを加熱することができる加熱組立品と、
前記タンクの内部に設けられ、前記タンク内の液体のギ酸の液位を検出することができる液位検出組立品と、
液体のギ酸の液位よりも高い位置で前記タンクに連結され、前記タンクの前記内部空間と連通し、純ギ酸ガスを放出するように構成された少なくとも1つのガス配管とを有し、
前記複真空室はんだ付け炉は、
それぞれ入口端及び出口端となる2つの両端部を有するプラットフォームと、
前記プラットフォームを選択的に覆う上部カバーと、
前記プラットフォームに設けられ、前記入口端から前記出口端へ向かう方向に沿って配列された複数の加熱ベースと、
前記上部カバーに設けられた複数の真空カバーであって、前記上部カバーが前記プラットフォームを覆うときに、前記真空カバーのそれぞれは前記加熱ベースのそれぞれと並んでおり、前記上部カバーに対して上下に移動でき、対応する前記加熱ベースを覆って密閉して、前記少なくとも1つのガス配管が連通して純ギ酸ガスが供給される真空室を形成することができる複数の真空カバーと、
前記上部カバーに設けられ、それぞれ前記真空カバーに連結され、前記上部カバーに対して前記真空カバーを移動させることができる複数の駆動機構と、
前記真空カバーによって形成された前記真空室にそれぞれ連結された複数の真空配管と、
前記プラットフォームに連結され、部品を前記入口端から前記出口端へ前記加熱ベースのそれぞれに順次搬送することができる少なとも1つの搬送機構とを有し、
前記真空ポンプは、前記複真空室はんだ付け炉の前記真空配管と連通し、前記真空室から空気を吸引して前記真空室の内部を真空にすることができ、
前記ギ酸排出処理装置は、
前記真空ポンプと連通し、前記真空ポンプが前記真空室から前記ギ酸排出処理装置へ空気を引き込む際に空気が通過する吸気端と、
前記吸気端と連通し、大気プラズマを発生させることができる大気プラズマ発生器と、
前記大気プラズマ発生器と連通し、ギ酸を酸化させるための触媒を包含している触媒担体と、
前記触媒担体と連通する排気端とを有し、
前記吸気端、前記大気プラズマ発生器、前記触媒担体及び前記排気端は、順番に配列された、純ギ酸ガスが供給されるはんだ付けシステム。
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