JP6948229B2 - 熱電変換装置および熱輸送システム - Google Patents
熱電変換装置および熱輸送システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP6948229B2 JP6948229B2 JP2017216779A JP2017216779A JP6948229B2 JP 6948229 B2 JP6948229 B2 JP 6948229B2 JP 2017216779 A JP2017216779 A JP 2017216779A JP 2017216779 A JP2017216779 A JP 2017216779A JP 6948229 B2 JP6948229 B2 JP 6948229B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic material
- material layer
- magnetic
- unit
- skyrmion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Hall/Mr Elements (AREA)
- Mram Or Spin Memory Techniques (AREA)
Description
[検討の経緯について]
まず、実施の形態を説明する前に、本発明者が検討した事項について説明する。
図1は、本実施の形態の熱電変換装置HD1の構造を示す平面図、図2は、本実施の形態の熱電変換装置HD1を図1のA−A線に沿って切断した構造を示す断面図、図3(a)は、本実施の形態の熱電変換装置HD1を図1のB−B線に沿って切断した構造を示す断面図、図3(b)は、本実施の形態の熱電変換装置HD1の図3(a)に対応するポテンシャル図である。
本実施の形態の熱電変換装置HD1の主要な特徴は、図2に示すように、磁性材料部MM1と、磁性材料部MM1の磁化状態の変化を観測する観測部OBと、磁性材料部MM1の磁化状態を制御する制御部GTと、磁気エネルギーを電気エネルギーに変換する変換部CVとを備えることである。そして、観測部OBと制御部GTとは、磁性材料部MM1の長さ方向に沿って、交互に複数設けられている。そして、磁性材料部MM1は、第1非磁性体層NM1、第1磁性体層MG1および第2非磁性体層NM2からなり、第1磁性体層MG1の膜厚は、磁性材料部MM1の長さ方向に向かうに従って厚くなっている。そして、変換部CVは、磁性材料部MM1の長さ方向端部のうち、第1磁性体層MG1の膜厚が最も大きい側に設けられている。
上記実施の形態の変形例である熱電変換装置HD2について、図8を参照して説明する。図8は、変形例の熱電変換装置HD2の図1のA−A線に相当する位置での断面図である。
本実施の形態の熱輸送システムHSについて説明する。図9は、本実施の形態の熱輸送システムHSの構成図である。図9に示すように、本実施の形態の熱輸送システムHSは、熱を発生する半導体装置SDと、半導体装置SDを冷却する冷却装置CDと、上記熱電変換装置HD1と、熱電変換装置HD1から出力された電気エネルギーを蓄積するエネルギー蓄積装置ESとを備えている。図示しないが、熱輸送システムHSを構成する半導体装置SD、熱電変換装置HD1、エネルギー蓄積装置ESおよび冷却装置CDは、同一の基板SUB上に形成されていてもよいし、それぞれ別の基板に形成されていてもよい。ただし、半導体装置SD、熱電変換装置HD1、エネルギー蓄積装置ESおよび冷却装置CDのそれぞれの装置間で熱や電気エネルギーのやり取りを効率よく行うためには、同一の基板SUB上に形成されていることが好ましい。
CD 冷却装置
CV 変換部
ES エネルギー蓄積装置
GT,GT1,GT2 制御部
HD1,HD2 熱電変換装置
HS 熱輸送システム
IL1,IL2 絶縁膜
M1,M2,M3 電極
MG1 第1磁性体層
MG2 第2磁性体層
MM1,MM2 磁性材料部
NM1 第1非磁性体層
NM2 第2非磁性体層
OB,OB1,OB2,OB3 観測部
SD 半導体装置
SK,SK2 スキルミオン
SP スキルミオン生成部
SUB 基板
Claims (15)
- 磁性材料部と、
前記磁性材料部の磁化状態の変化を観測する観測部と、
前記磁性材料部の磁化状態を制御する制御部と、
前記磁性材料部内の磁気エネルギーを電気エネルギーに変換する変換部と、
を備え、
前記磁性材料部は、非磁性体からなる第1非磁性体層と、前記第1非磁性体層上に形成され、磁性体からなる第1磁性体層と、前記第1磁性体層上に形成され、前記第1非磁性体層と異なる非磁性体からなる第2非磁性体層とからなり、
前記第1磁性体層の膜厚は、第1の方向に向かうに従って厚くなっており、
前記第1の方向は、平面視において前記変換部に向かう方向である、熱電変換装置。 - 請求項1記載の熱電変換装置において、
前記第1磁性体層中には、前記磁性材料部の熱ゆらぎによってスキルミオンが生成し、
前記観測部は、前記第1磁性体層中の前記スキルミオンの位置を検出し、
前記制御部は、前記観測部により検出された前記スキルミオンの位置における前記第1磁性体層の膜厚よりも厚い膜厚を有する前記第1磁性体層が存在する方向にのみ、前記スキルミオンが移動するように制御する、熱電変換装置。 - 請求項2記載の熱電変換装置において、
前記磁性材料部は、平面視において、長方形状に形成され、
前記観測部および前記制御部は、前記第1の方向に沿って交互に配置されている、熱電変換装置。 - 請求項3記載の熱電変換装置において、
平面視で前記第1の方向と直交する第2の方向において、前記第1磁性体層の端部は、前記第1磁性体層の中央部よりも厚く、
前記スキルミオンは、前記第1の方向に沿って、前記第1磁性体層の中央部を移動する、熱電変換装置。 - 請求項3記載の熱電変換装置において、
前記観測部は、前記第1非磁性体層と、前記第1非磁性体層上の前記第1磁性体層と、前記第1磁性体層上の前記第2非磁性体層と、前記第2非磁性体層上に形成された第2磁性体層と、前記第2磁性体層上に形成された電極とからなる、熱電変換装置。 - 請求項3記載の熱電変換装置において、
前記制御部は、前記第1非磁性体層と、前記第1非磁性体層上の前記第1磁性体層と、前記第1磁性体層上の前記第2非磁性体層と、前記第2非磁性体層上に形成された電極とからなる、熱電変換装置。 - 請求項3記載の熱電変換装置において、
前記変換部は、f軌道に電子を有する非磁性金属からなる、熱電変換装置。 - 請求項3記載の熱電変換装置において、
前記第1非磁性体層は、f軌道に電子を有する非磁性金属からなり、
前記第2非磁性体層は、非磁性絶縁体からなる、熱電変換装置。 - 請求項8記載の熱電変換装置において、
前記第1非磁性体層は、PtまたはTaからなり、
前記第1磁性体層は、CoFeBからなり、
前記第2非磁性体層は、MgOからなる、熱電変換装置。 - 磁性材料部と、
前記磁性材料部の磁化状態の変化を観測する観測部と、
前記磁性材料部の磁化状態を制御する制御部と、
前記磁性材料部内の磁気エネルギーを電気エネルギーに変換する変換部と、
を備え、
前記磁性材料部は、非磁性体からなる第1非磁性体層と、前記第1非磁性体層上に形成され、磁性体からなる第1磁性体層と、前記第1磁性体層上に形成され、前記第1非磁性体層と異なる非磁性体からなる第2非磁性体層とからなり、
前記第1非磁性体層の膜厚は、第1の方向に向かうに従って厚くなっており、
前記第1の方向は、平面視において前記変換部に向かう方向である、熱電変換装置。 - 請求項10記載の熱電変換装置において、
前記第1磁性体層中には、前記磁性材料部の熱ゆらぎによってスキルミオンが生成し、
前記観測部は、前記第1磁性体層中の前記スキルミオンの位置を検出し、
前記制御部は、前記観測部により検出された前記スキルミオンの位置における前記第1非磁性体層の膜厚よりも厚い膜厚を有する前記第1非磁性体層が存在する方向にのみ、前記スキルミオンが移動するように制御する、熱電変換装置。 - 請求項11記載の熱電変換装置において、
前記磁性材料部は、平面視において、長方形状に形成され、
前記観測部および前記制御部は、前記第1の方向に沿って交互に配置されている、熱電変換装置。 - 熱電変換装置と、
半導体装置と、
冷却装置と、
を有し、
前記熱電変換装置は、
磁性材料部と、
前記磁性材料部の磁化状態の変化を観測する観測部と、
前記磁性材料部の磁化状態を制御する制御部と、
前記磁性材料部内の磁気エネルギーを電気エネルギーに変換する変換部と、
を備え、
前記半導体装置から発生する熱を前記熱電変換装置に供給し、
前記熱を前記熱電変換装置により電気エネルギーに変換し、
前記電気エネルギーを前記冷却装置に供給し、
前記冷却装置によって、前記半導体装置を冷却する、熱輸送システム。 - 請求項13記載の熱輸送システムにおいて、
前記磁性材料部は、非磁性体からなる第1非磁性体層と、前記第1非磁性体層上に形成され、磁性体からなる第1磁性体層と、前記第1磁性体層上に形成され、前記第1非磁性体層と異なる非磁性体からなる第2非磁性体層とからなり、
前記第1磁性体層の膜厚は、第1の方向に向かうに従って厚くなっており、
前記第1の方向は、平面視において前記変換部に向かう方向である、熱輸送システム。 - 請求項14記載の熱輸送システムにおいて、
前記磁性材料部は、平面視において、長方形状に形成され、
前記観測部および前記制御部は、前記第1の方向に沿って交互に配置され、
前記第1磁性体層中には、前記磁性材料部の熱ゆらぎによってスキルミオンが生成し、
前記観測部は、前記第1磁性体層中の前記スキルミオンの位置を検出し、
前記制御部は、前記観測部により検出された前記スキルミオンの位置における前記第1磁性体層の膜厚よりも厚い膜厚を有する前記第1磁性体層が存在する方向にのみ、前記スキルミオンが移動するように制御する、熱輸送システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017216779A JP6948229B2 (ja) | 2017-11-09 | 2017-11-09 | 熱電変換装置および熱輸送システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017216779A JP6948229B2 (ja) | 2017-11-09 | 2017-11-09 | 熱電変換装置および熱輸送システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019087697A JP2019087697A (ja) | 2019-06-06 |
JP6948229B2 true JP6948229B2 (ja) | 2021-10-13 |
Family
ID=66763402
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017216779A Active JP6948229B2 (ja) | 2017-11-09 | 2017-11-09 | 熱電変換装置および熱輸送システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6948229B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021033579A (ja) * | 2019-08-22 | 2021-03-01 | 国立大学法人大阪大学 | 演算装置 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5267967B2 (ja) * | 2007-11-22 | 2013-08-21 | 国立大学法人東北大学 | スピン流熱変換素子及び熱電変換素子 |
JP5456035B2 (ja) * | 2009-06-08 | 2014-03-26 | 株式会社日立製作所 | トンネル磁気抵抗効果素子及びそれを用いたランダムアクセスメモリ |
JP2012185897A (ja) * | 2011-02-14 | 2012-09-27 | Toshiba Corp | 半導体記憶システム |
WO2012169509A1 (ja) * | 2011-06-07 | 2012-12-13 | 日本電気株式会社 | 熱電変換素子 |
JP5771544B2 (ja) * | 2012-02-14 | 2015-09-02 | 株式会社日立製作所 | スピン流増幅装置 |
JP2014072250A (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-21 | Nec Corp | 熱電変換素子及びその製造方法 |
JP2014078560A (ja) * | 2012-10-09 | 2014-05-01 | Institute Of Physical & Chemical Research | 絶縁材料およびその製造方法 |
JP6116043B2 (ja) * | 2012-10-19 | 2017-04-19 | 国立研究開発法人理化学研究所 | スキルミオン駆動方法およびマイクロ素子 |
JP6078643B2 (ja) * | 2013-05-22 | 2017-02-08 | 株式会社日立製作所 | スピン波デバイス |
WO2014207818A1 (ja) * | 2013-06-25 | 2014-12-31 | 株式会社日立製作所 | スピン波回路 |
US20160202330A1 (en) * | 2013-09-09 | 2016-07-14 | Hitachi, Ltd. | Magnetic sensor element |
US9343658B2 (en) * | 2013-10-30 | 2016-05-17 | The Regents Of The University Of California | Magnetic memory bits with perpendicular magnetization switched by current-induced spin-orbit torques |
WO2015111681A1 (ja) * | 2014-01-23 | 2015-07-30 | 国立研究開発法人理化学研究所 | 磁気素子及びスキルミオンメモリ |
JP2015185778A (ja) * | 2014-03-26 | 2015-10-22 | 日本電気株式会社 | 熱電変換素子及びその製造方法 |
JP6398573B2 (ja) * | 2014-10-10 | 2018-10-03 | 日本電気株式会社 | スピン熱流センサ及びその製造方法 |
KR102006671B1 (ko) * | 2014-11-27 | 2019-08-02 | 고쿠리쓰 겐큐 가이하쓰 호징 리가가쿠 겐큐소 | 자기 소자, 스커미온 메모리, 스커미온 메모리 탑재 고체 전자 장치, 데이터 기록 장치, 데이터 처리 장치 및 통신 장치 |
JP6436348B2 (ja) * | 2015-01-26 | 2018-12-12 | 国立研究開発法人理化学研究所 | 磁気素子、スキルミオンメモリ、スキルミオンメモリデバイス、データ処理装置、スキルミオンメモリ搭載固体電子デバイス、データ記録装置、データ処理装置及びデータ通信装置 |
JP6312925B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2018-04-18 | 国立研究開発法人科学技術振興機構 | スキルミオン生成装置、スキルミオン生成方法、および磁気記憶装置 |
JP6420209B2 (ja) * | 2015-06-08 | 2018-11-07 | 日本電信電話株式会社 | 半導体装置 |
WO2017029720A1 (ja) * | 2015-08-19 | 2017-02-23 | 株式会社日立製作所 | 磁気センサ及びその製造方法 |
JP6607737B2 (ja) * | 2015-08-21 | 2019-11-20 | 国立研究開発法人理化学研究所 | 磁気素子、スキルミオンメモリ及び演算処理装置 |
US10269402B2 (en) * | 2015-09-15 | 2019-04-23 | Imec Vzw | Magnetic topological soliton detection |
KR101902261B1 (ko) * | 2017-07-13 | 2018-09-28 | 한국표준과학연구원 | 스커미온 메모리 소자 |
-
2017
- 2017-11-09 JP JP2017216779A patent/JP6948229B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019087697A (ja) | 2019-06-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101683440B1 (ko) | 자기 메모리 소자 | |
JP6219395B2 (ja) | 面内電流と電場を利用した磁気メモリ素子 | |
JP5360774B2 (ja) | 磁化制御方法、情報記憶方法、情報記憶素子及び磁気機能素子 | |
JP2020031234A (ja) | スピン流磁化反転素子 | |
TWI274345B (en) | Memory | |
JP4533837B2 (ja) | 電圧制御磁化反転記録方式のmram素子及びそれを利用した情報の記録及び読み出し方法 | |
JP6424999B1 (ja) | スピン素子の安定化方法及びスピン素子の製造方法 | |
KR102179913B1 (ko) | 자기 메모리 소자 | |
US8754491B2 (en) | Spin torque MRAM using bidirectional magnonic writing | |
JP5461683B2 (ja) | 磁気メモリセル及び磁気ランダムアクセスメモリ | |
JP6428988B1 (ja) | スピン素子の安定化方法及びスピン素子の製造方法 | |
JP2012146727A (ja) | 記憶素子及び記憶装置 | |
JP2009152258A (ja) | 単一方向電流磁化反転磁気抵抗効果素子と磁気記録装置 | |
JP2013033881A (ja) | 記憶素子及び記憶装置 | |
JP2013115319A (ja) | 記憶素子、記憶装置 | |
JP2023089288A (ja) | スピントロニクスデバイス、磁気メモリ及び電子機器 | |
JP2010098259A (ja) | メモリセル、ならびに、磁気メモリ素子 | |
JP2010062342A (ja) | 磁性細線及び記憶装置 | |
JP5092464B2 (ja) | 磁壁移動検出端子を有する磁壁移動型磁気記録素子 | |
JP6758617B2 (ja) | 積層磁性薄膜、積層磁性薄膜の製造方法、および磁気メモリ装置 | |
JP6948229B2 (ja) | 熱電変換装置および熱輸送システム | |
KR101266792B1 (ko) | 면내 전류와 전기장을 이용한 수평형 자기메모리 소자 | |
JP2004172218A (ja) | 磁気記憶素子及びその記録方法、並びに磁気記憶装置 | |
JP2022059442A (ja) | 磁気メモリ素子及び磁気メモリ装置 | |
JP2008071720A (ja) | バッテリー、バッテリーシステムおよびマイクロ波発信装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200226 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210120 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210302 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210430 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210907 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210917 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6948229 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |