JP6914073B2

JP6914073B2 - 表面処理装置

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Publication number: JP6914073B2
Application number: JP2017063751A
Authority: JP
Inventors: 正仁谷川
Original assignee: C.UYEMURA&CO.,LTD.
Current assignee: C.UYEMURA&CO.,LTD.
Priority date: 2017-03-28
Filing date: 2017-03-28
Publication date: 2021-08-04
Anticipated expiration: 2037-03-28
Also published as: JP2018165393A

Description

本発明は、被処理物表面を処理するために用いられる表面処理装置に関する。

表面処理は、めっきや塗装など処理対象物の性質を向上させるために行われる。表面処理の一例としてめっきを例に挙げる場合、通常めっきする際、めっき液を撹拌しながらめっきする。その撹拌方法として、めっき液中でバブリングや噴流を用いて行っている。また、噴流に空気を混ぜ、液体と気体の両方により撹拌しめっきを行っている。

特許文献１では、被処理基板の下方へ無電解めっき液をポンプ等により供給し、被処理基板の下方に供給された無電解めっき液内へ酸素含有気体をエアーポンプ等により散気し、液体と気体の両方で撹拌しながらめっきすることが記載されている。

特開２０１６−０６０９３５号公報

しかしながら、液体と気体の両方により撹拌する場合、液体用ポンプと気体用ポンプの両方が必要となる。通常、めっき等の表面処理設備の環境は、表面処理液が酸やアルカリのため、酸やアルカリ雰囲気であることが多く、その場合、ポンプ等の表面処理設備に備わる付帯装置を腐食させるなどの悪影響を及ぼす。よって、ポンプ等の表面処理設備に備わる付帯装置の個数は、設備環境、メンテナンス面、コスト等の面から極力少ない方が好ましい。

そこで、本発明はそのような表面処理環境の中、ポンプ等の表面処理設備に備わる付帯装置の個数を減らし、省コスト化が可能な表面処理装置を提供することを目的とする。

本発明の一態様に係る表面処理装置は、被処理物表面を処理するために用いられる表面処理装置であって、少なくとも表面処理液が収容された表面処理槽と、前記表面処理槽に、気体を導入する気体導入口と、液体を導入する液体導入口と、前記気体導入口から導入した前記気体と前記液体導入口から導入された前記液体とを混合して吐出する吐出口とを有するアスピレーターとを備え、前記気体導入口が前記表面処理槽の外部と接続され、前記液体導入口の上流側に前記液体を分岐させるための分岐機構と、前記分岐機構の下流側に前記気体導入口に導入される前記気体の吸気量を調節する吸気量調節機構がさらに設けられ、前記吸気量調節機構の下流から液体を吐出させることを特徴とする。また、本発明の他の態様に係る表面処理装置は、被処理物表面を処理するために用いられる表面処理装置であって、少なくとも表面処理液が収容された表面処理槽と、前記表面処理槽に、気体を導入する気体導入口と、液体を導入する液体導入口と、前記気体導入口から導入した前記気体と前記液体導入口から導入された前記液体とを混合して吐出する吐出口とを有するアスピレーターとを備え、前記気体導入口が前記表面処理槽の外部と接続され、前記表面処理装置は、さらに前記液体導入口の上流側に前記液体を分岐させるための分岐機構と、前記分岐機構の下流に液体を吐出させるための液体吐出機構が設けられていることを特徴とする。

このようにすれば、アスピレーターにより気体と液体を同時に吐出できるので、エアーポンプが不要となり、ポンプの個数を減らし、省コスト化が可能となる。そして、所望の単位時間当たりの必要な処理液の循環量とすることができる。また、局所的に液体のみを被処理物に吐出させ、液体のみの撹拌を必要とする場合に有利である。

このとき、本発明の他の態様では、前記気体導入口に導入される前記気体の吸気量を調節する吸気量調節機構が前記液体導入口の上流側にさらに設けられていても良い。

このようにすれば、空気の量が調節可能となるので、被処理物表面の酸化を制御できるなど、所望の気体量とすることができる。

このとき、本発明の他の態様では、前記分岐機構の下流側に前記気体導入口に導入される前記気体の吸気量を調節する吸気量調節機構がさらに設けられ、前記吸気量調節機構の下流から液体を吐出させても良い。

このようにすれば、所望の単位時間当たりの必要な処理液の循環量とすることができる。

このとき、本発明の一態様では、前記吐出口は、前記表面処理槽底部の前記被処理物の底部と対向する位置に、前記表面処理槽の底部から頂部に向けて混合された前記気体と前記液体を吐出するように設けられても良い。

このようにすれば、直接的に被処理物に気体と液体が同時にあたるので、被処理物表面近傍の溶液を効率よく撹拌でき、また液流が下から上になるので、溶液中の不純物をオーバーフローから気泡と一緒に除去できる。

このとき、本発明の一態様では、前記吐出口は、前記表面処理槽底部の前記被処理物の底部と対向する位置を除く位置の何れかに複数設けられていても良い。

このようにすれば、被処理物の両側面に気体と液体が同時に吐出されるので、被処理物の両側面の溶液を効率よく撹拌できる。

このとき、本発明の一態様では、前記吐出口は、前記表面処理槽側面の前記被処理物側面と対向する位置に、前記表面処理槽側面から中央に向けて混合された前記気体と前記液体を吐出するように設けられていても良い。

このようにすれば、被処理物表面である被処理物側面に直接あたるので、被処理物表面の溶液をさらに効率よく撹拌できる。

また、本発明の一態様では、前記吐出口は、前記表面処理槽側面近傍で前記被処理物の底部下端より下方に設けられ、前記表面処理槽側面から中央に向けて混合された前記気体と前記液体を吐出するように設けられていても良い。

このようにすれば、被処理物に気体と液体を直接あてない場合の、液中の溶存酸素量を増減させることができる。

以上説明したように本発明によれば、アスピレーターにより気体と液体を同時に吐出できるので、エアーポンプが不要となり、ポンプの個数を減らし、省コスト化が可能となる。

図１（Ａ）は、本発明の一実施形態に係る表面処理装置の一例を示す概略構成で、アスピレーターを表面処理槽に直接接続しない態様を示す図であり、図１（Ｂ）は、本発明の一実施形態に係る表面処理装置の一例を示す概略構成で、アスピレーターを表面処理槽に直接接続する態様を示す図である。図２は、本発明の実施形態に係る表面処理装置の一変形例を示す概略構成図である。図３は、本発明の他の実施形態に係る表面処理装置の他の一変形例を示す概略構成図である。図４は、本発明の他の実施形態に係る表面処理装置のさらに他の一変形例を示す概略構成図である。図５は、本発明の他の実施形態に係る表面処理装置のさらに他の一変形例を示す概略構成図である。図６は、本発明の他の実施形態に係る表面処理装置のさらに他の一変形例を示す概略構成図である。

以下、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、以下に説明する本実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではなく、本実施形態で説明される構成の全てが本発明の解決手段として必須であるとは限らない。

まず、本発明の一実施形態に係る表面処理装置の構成について、図面を使用しながら説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る表面処理装置の概略構成を示す図である。

本発明の一実施形態に係る表面処理装置１００は、図１に示すように、被処理物１０５表面を処理するために用いられ、少なくとも表面処理液１０１が収容された表面処理槽１０２を備える。そして、上記表面処理槽１０２に、気体を導入する気体導入口１０３ａと、液体を導入する液体導入口１０３ｂと、上記気体導入口１０３ａから導入した上記の気体と上記液体導入口１０３ｂから導入された上記液体とを混合して同時に吐出する吐出口１０３ｃとを有するアスピレーター１０３とを備える。そして、上記気体導入口１０３ａが上記表面処理槽１０２の外部と接続されていることを特徴とする。

図１に示すように、アスピレーター１０３は基本的にＴ字管になっており、図１のアスピレーター１０３の垂直線にあたる管の下方を液体導入口１０３ｂへ接続する。そして、その垂直線にあたる管の上方は、吐出口１０３ｃとなる。垂直線にあたる管の内部は一部細くなっており、ここから分岐して水平線にあたる気体導入口１０３ａが付く。図１のアスピレーター１０３の水平方向へは液体が流れ込まないようになっている。垂直方向に水を流すと、管内の細くなった部分で流速が増すため、ベンチュリ効果によって圧力が低下する。この減圧になった液流に上記の気体導入口１０３ａが表面処理槽１０２の外部に接続された周囲の気体が流れ込み、アスピレーター１０３内で気体と液体が混合され、吐出口１０３ｃから気体と液体が同時に吐出される。

また、気体導入口１０３ａへ導入される気体は、気体導入口１０３ａが表面処理槽１０２の外部と接続されることにより、気体を取り入れ、取り入れられた気体は例えば配管１０８などを通って、アスピレーター１０３内で液体導入口１０３ｂから導入された液体と混合して、吐出口１０３ｃから気体と液体が同時に吐出される。一方、液体導入口１０３ｂへ導入される液体は、表面処理槽１０２に収容された表面処理液が、オーバーフロー槽１０７から配管１０８を通ってポンプ１０６へ移送され、ポンプ１０６から配管１０８を通って液体導入口１０３ｂへ接続され、アスピレーター１０３内で気体導入口１０３ａから導入された気体と混合して、吐出口１０３ｃから気体と液体が同時に吐出される。

また、上記アスピレーター１０３は、複数設けても良い。例えば、撹拌を強く必要とする場合には、複数設けた方が有利である。

さらに、ポンプ１０６の前後の何れかに濾過装置を設けることが好ましい。このようにすれば、循環させる液体に浮遊する不純物を濾過し、不純物そのものによるアスピレーター１０３内での詰まりを防止できる。また、表面処理が無電解めっきの場合、不純物の存在により、それが核となって金属結晶を成長させてしまうことによる、アスピレーター１０３内での詰まりを防止できる。

また、本発明の一実施形態に係る表面処理装置１００は、図１（Ａ）に示すように、気体導入口１０３ａに導入される気体の吸気量を調節する吸気調節機構１０４が、液体導入口１０３ｂの上流側にさらに設けられていることが好ましい。さらに吸気調節機構１０４は、液体導入口１０３ｂの上流側でかつ、ポンプ１０６の下流側に設けられることが好ましい。例えば、液体導入口１０３ｂとポンプ１０６の間に設けられる。このようにすれば、液体導入口１０３ｂの上流側に設けた、吸気調節機構１０４により、ポンプ１０６から液体導入口１０３ｂへ送る液の流速を調節することにより、吸気する空気の量が調節可能となるので、所望の気体量とすることができる。

例えば、気体と液体を混合し吐出させ撹拌させたい状況において、被処理物１０５の表面酸化を抑えたい場合には、上記の吸気調節機構１０４により調節し、吸気量を抑えれば良い。一方、被処理物１０５の表面酸化を進めたい場合には、同様に上記の吸気調節機構１０４により調節し、吸気量を増加させればよい。また液中の溶存酸素量を制御できる。

上記の吸気調節機構１０４は、特に限定されるものではないが、例えばバルブにより吸気量を調節すれば良い。なお、バルブを閉じていくと、流れる液の流量が減ることで流速が遅くなり、吸気量が減る。一方バルブを開いていくと、流れる液の流量が増すことで、流速が速くなり、吸気量が増える。

また、調節機構のさらに上流側にエアーフィルターを設けたほうが好ましい。このようにすれば、大気中に浮遊する不純物を吸気の際に吸気することを防止し、より不純物の少ない気体をアスピレーター１０３に導入でき、不純物そのものによるアスピレーター１０３内での詰まりを防止できる。また、表面処理が無電解めっきの場合、不純物の存在により、それが核となって金属結晶を成長させてしまうことによる、アスピレーター１０３内での詰まりを防止できる。さらに、上記に設けるエアーフィルターは、カーボンフィルターがより好ましい。表面処理雰囲気は、めっき液やめっき前処理などの表面処理液に有機物が添加される場合があり、また表面処理装置に添加される潤滑剤などの有機物が浮遊している場合があるので、大気中の不純物の他に上記の有機物も除去できるからである。上記のフィルターを組み合わせても良い。また、吸気量調整機構１０４を設けずに上記のフィルターを設けてもよい。エアーフィルターを設ける場合は、吸気の妨げとならないよう、十分な通気性を持ったエアーフィルターを選定する。

また、気体導入口１０３ａの上流側の配管に真空計を取り付けることが好ましい。そうすることで、真空計の値から配管を通る気体の流動状況を確認できるので、完全に詰まった後の段階ばかりでなく、詰まる前段階が確認できる。よって、配管の詰まりを未然に防止でき、アスピレーターからの吐出量をより一定に保つことができる。ゆえに、被処理物の表面処理能力の向上が可能となる。

さらに図１（Ａ）では、表面処理槽１０２内に配管１０８を設け、アスピレーター１０３を表面処理槽１０２に設ける態様を示したが、例えば図１（Ｂ）に示すように、アスピレーター１１３を表面処理槽１１２に直接接続する態様とした表面処理装置１１０も可能である。このとき、気体導入口１１３ａは気体を導入するため、表面処理槽１１２の外部となるように接続する。

例えば、図１（Ａ）としては、表面処理槽１０２に浸漬された被処理物１０５の底部１０５ｂ下端より下方のスペースに、アスピレーター１０３を導入できる場合や、設置地面から表面処理槽１０２の底部１０２ｂまでにアスピレーター１０３を導入できるスペースがない場合、又は設置が困難な場合に選択する方が好ましい。

一方、図１（Ｂ）としては、表面処理槽１１２に浸漬された被処理物１１５の底部１１５ｂ下端より下方のスペースに、アスピレーター１１３を導入できない場合や、設置地面から表面処理槽１１２の底部１１２ｂまでにアスピレーター１１３を導入できるスペースがある場合や、設置が比較的容易な場合に選択する方が好ましい。

上述したように従来、液体と気体の両方により撹拌する場合、液体用ポンプと気体用ポンプの両方が必要となっていた。通常、表面処理設備の環境は、めっき前処理液やめっき液などの表面処理液が酸やアルカリのため、酸やアルカリ雰囲気であることが多く、その場合、ポンプ等の表面処理設備に備わる付帯装置を腐食させたり、酸やアルカリ雰囲気により装置に結晶が付着し、さらに腐食を進行させたりするなど悪影響を及ぼす。またポンプは高額なため初期コストが増加する。さらに酸やアルカリ雰囲気のため故障率が高く、設備の維持コストや、ポンプ交換の人的コストが増加する。場合によっては、ポンプは各槽に１個以上必要となるので、気体と液体との混合撹拌が必要な場合には、層ごとにポンプの台数が増加していく。よってポンプ等の付帯装置の個数は、設備環境、メンテナンス面、コスト等の面から極力少ない方が好ましい。

そこで、本発明の一実施形態に係る表面処理装置１００によれば、表面処理槽１０２に設けられたアスピレーター１０３を用いることで、気体導入口１０３ａと液体導入口１０３ｂから導入された気体と液体を吐出口１０３ｃから同時に吐出することで、エアーポンプが不要となり、ポンプの個数を減らし、省コスト化が可能となる。

さらに、本発明の一実施形態に係る表面処理装置１００によれば、上記の設備のコスト面等ばかりでなく、気体と液体を混合して同時に吐出し撹拌しているので、撹拌力が向上することで、表面処理が例えばめっきの場合、めっき析出の促進が可能となる。また、被処理物１０５表面に付着した不純物も除去しやすくなり、被処理表面の異物、ざらつき等といった外観不良も改善できる。よって、表面処理能力の向上が可能となる。

またアスピレーターはエアーポンプと比べ、非常に安価である。また、アスピレーターは小設備なので、初期の設置や後付けが容易である。またそれがゆえに、表面処理槽の幅広い改造ができるので、様々な表面処理の仕様に対応可能である。以下本発明の一実施形態に係る表面処理装置１００の態様、変形例について説明する。

本発明の一実施形態に係る表面処理装置１００は、図１（Ａ）に示すように、吐出口１０３ｃは、表面処理槽１０２底部１０２ｂの被処理物１０５の底部１０５ｂと対向する位置に、上記表面処理槽１０２の底部１０２ｂから頂部に向けて混合された気体と液体を吐出するように設けられることが好ましい。

このようにすれば、被処理物１０５に直接あたるので、被処理物１０５表面近傍の溶液を効率よく撹拌でき、被処理物１０５の表面処理を促進することができる。例えば、表面処理がめっきの場合、めっき析出の促進が図れる。また、液流方向が下から上になるので、被処理物１０５表面に付着した溶液中の不純物を除去し、オーバーフロー槽１０７から気泡と一緒に効率よく除去できる。よって、被処理物１０５表面の液体の撹拌により、被処理物１０５表面を効率よく洗浄も可能となる。また、被処理物１０５表面に付着した溶液中の不純物を除去するばかりでなく、表面処理液１０１中に浮遊する不純物もオーバーフロー槽１０７から気泡と一緒に効率よく除去できる。ゆえに、被処理物表面の異物、ざらつき等といった外観不良もさらに改善できる。

ここで表面処理の例としては、無電解めっき、電気めっき、置換めっき、前処理、後処理、活性化、触媒付与、プレディップ、エッチング、ジンケート、剥離、水洗、酸洗及びデスミア等が挙げられる。よって本発明の一実施形態に係る表面処理装置は、上記の表面処理における装置に対応可能である。なお、表面処理は上記に限定されるものではなく、被処理物の性質を向上させるために行われる処理の装置に適用可能である。

例えば、めっき前処理に本発明の一実施形態に係る表面処理装置を用いた場合、めっき前処理に必要な反応を促進させた後めっきする場合に有利となる。上記にも説明した通り、勿論めっき前処理液中の不純物をオーバーフロー槽から気泡と一緒に除去し、めっき外観不良低減に効果的である。

また、水洗槽に本発明の一実施形態に係る表面処理装置を用いた場合、気体と液体の両方を同時に吐出し撹拌しているので、洗浄力が向上し、また水洗槽の液中の不純物をオーバーフロー槽から気泡と一緒に除去し、被処理物の外観不良低減が可能となる。

上記にめっき前処理、水洗槽に本発明の一実施形態に係る表面処理装置を用いた場合の効果を説明したが、めっき前処理、水洗槽以外の無電解めっき、電気めっき、置換めっき、前処理、後処理、活性化、触媒付与、プレディップ、エッチング、ジンケート、剥離、水洗、酸洗及びデスミア等においても、本発明の一実施形態に係る表面処理装置を用いた場合には、表面処理能力を向上させることができ、上記と同様の効果を得ることができる。

また、本発明は上述した実施形態に限定されない。例えば図２に、本発明の実施形態に係る表面処理装置１００の一変形例を示す表面処理装置２００の概略構成を示す。図２に示すように、液体導入口２０３ｂの上流側に液体を分岐させるための分岐機構２０９と、上記分岐機構２０９のアスピレーター２０３へ向かう下流とは別の下流に吸気量調節機構２０４がさらに設けられ、そして吸気量調節機構２０４の下流から液体を表面処理槽２０２内に配管２０８を通じて吐出させることが好ましい。上記の吸気量調節機構２０４は、特に限定されるものではないが、例えばバルブにより吸気量を調節すれば良い。なお、バルブを閉じていくと、ポンプ２０６からアスピレーター２０３へ流れる液の流量が増すことで流速が速くなり、吸気量が増える。一方バルブを開いていくと、ポンプ２０６からアスピレーター２０３へ流れる液の流量が減ることで、流速が遅くなり、吸気量が減る。

ここで、表面処理槽に於いてポンプを設置する理由は、槽内の液の撹拌とフィルターレーションによる濾過を行う為である。フィルタレーションでは、槽の容量に応じて、単位時間当たりの必要な処理液の循環量が設定される。アスピレーターのみでの循環では、その特性上、この単位時間当たりの必要な処理液の循環量を満足できない可能性がある。アスピレーターを多数設置して、循環量を多くすることも可能であるが、逆にバブリングが多く成り過ぎる可能性もある。また、専用のポンプを設置してしまうと動力が増えてしまう為、本来の目的から外れてしまう。よって上記の理由から、図２の態様によれば、所望の適切な循環量となり、より適切なフィルターレーションによる濾過が可能となる。

さらに図２の態様について、処理液の循環量を多くする場合には、複数の分岐機構２０９、吸気量調節機構２０４、配管２０８を設けても良い。

分岐機構２０９は、分岐するのに適した機構であれば良く、例えば３つまたのＴ字やＹ字ジョイントを用いる。なお、４つまた以上のジョイントを用いても良い。また、吸気量調節機構２０４の下流から液体を表面処理槽２０２内に吐出させる配管は、表面処理槽２０２の液面付近に液体を吐出させても良い。一方、図２に示すように、表面処理槽２０２の底部付近まで配管を伸ばし液体を吐出させても良い。また、分岐機構２０９は、ポンプ２０６の下流側に設けられることが好ましい。

さらに、本発明の実施形態に係る表面処理装置１００の他の一変形例を示す。図３に示すように、吐出口３０３ｃは、表面処理槽底部３０２ｂの被処理物の底部３０５ｂと対向する位置を除く位置の何れかに複数設けることが好ましい。

このようにすれば、被処理物３０５の両側面の溶液を効率よく撹拌できる。よって被処理物３０５の両側面に気体と液体が吐出されるので、撹拌がより強くなり、表面処理がめっきの場合、めっき析出の促進や、被処理物３０５表面の不純物の除去がより効果的となり、被処理物表面の外観不良低減がより可能となる。また、被処理物３０５の両側面に吐出されるので、被処理物３０５が薄い板の場合に有利となる。例えば、被処理物の対象がプリント基板の場合、その板厚は様々であり、薄型の基板にも対応できる。さらに、被処理物３０５の両側面に吐出されるので、両側面均等に撹拌できる点で有利である。

さらに、本発明の実施形態に係る表面処理装置１００の他の一変形例を示す。図４は、本発明の他の実施形態に係る表面処理装置の他の一変形例を示す表面処理装置４００の概略構成図である。図４に示すように、吐出口４０３ｃは、表面処理槽側面４０２ａの被処理物側面４０５ａと対向する位置に、表面処理槽側面４０２ａから中央に向けて混合された気体と液体を吐出するように設けることが好ましい。

このようにすれば、被処理物４０５表面である被処理物側面４０５ａに直接あたるので、被処理物４０５表面の溶液をさらに効率よく撹拌でき、表面処理がめっきの場合、さらなるめっき析出の促進が可能となるなど、表面処理能力の向上が可能となる。図４に示す態様は特に、被処理物表面の撹拌を強くしたい場合により効果的である。

さらに、本発明の実施形態に係る表面処理装置１００の他の一変形例を示す。図５は、本発明の他の実施形態に係る表面処理装置のさらに他の一変形例を示す表面処理装置５００の概略構成図である。図５に示すように、吐出口５０３ｃは、表面処理槽側面５０２ａ近傍で被処理物の底部５０５ｂ下端より下方に設けられ、表面処理槽側面５０２ａから中央に向けて混合された気体と液体を吐出するように設けることが好ましい。つまり、被処理物の底部５０５ｂ下端と表面処理槽底部５０２ｂの間ｈにアスピレーター５０３を設ける。

このようにすれば、被処理物５０５に気体と液体を直接あてないときの、溶存酸素量を増減させたい場合に効果的である。また、吸気量調節機構５０４により吸気量を調節し、吐出口５０３ｃから吐出される気体の量を調節することが好ましい。

この場合も、上記の対応と同様に、表面処理が例えばめっきの場合、めっき析出の促進や、被処理物５０５表面に付着した溶液中の不純物を除去し、オーバーフロー槽５０７から気泡と一緒に除去できる。よって、被処理物５０５表面の液体の撹拌の他、被処理物５０５表面の洗浄も可能となる。また、被処理物５０５表面に付着した溶液中の不純物を除去するばかりでなく、表面処理液５０１中に浮遊する不純物もオーバーフロー槽５０７から気泡と一緒に除去できる。ゆえに、表面処理表面の異物、ざらつき等といった外観不良も改善できる。

さらに、本発明の実施形態に係る表面処理装置１００の他の一変形例を示す。図６は、本発明の他の実施形態に係る表面処理装置のさらに他の一変形例を示す表面処理装置６００の概略構成図である。図６に示した表面処理装置６００は、図１の表面処理装置１００に、さらに液体導入口６０３ｂの上流側に液体を分岐させるための分岐機構６０９と、上記分岐機構の下流に液体を吐出させるための液体吐出機構６１０が設けられても良い。また、分岐機構６０９は、ポンプ６０６の下流側に設けられることが好ましい。

このとき、液体吐出機構６１０は、複数設けられていても良い。また、表面処理槽側面６０２ａの被処理物側面６０５ａと対向する位置に、上記表面処理槽側面６０２ａから中央に向けて上記液体を吐出するように設けられても良い。さらに、液体吐出機構６１０は、表面処理槽底部６０２ｂの上記被処理物の底部６０５ｂと対向する位置に、上記表面処理槽の底部５０５ｂから頂部に向けて上記液体を吐出するように設けられていても良い。また、複数の液体吐出機構６１０を設け、表面処理槽底部６０２ｂの上記被処理物の底部６０５ｂと対向する位置を除く位置の何れかに複数設けられていても良い。

このようにすれば、局所的に液体のみを被処理物に吐出させ、液体のみの撹拌を必要とする場合に有利である。また、液体のみを吐出させることにより、アスピレーターから吐出した気体と液体の撹拌方向を変えることができ、複雑な撹拌とすることができる。

分岐機構６０９は、上述したように、分岐するのに適した機構であれば良く、例えば３つまたのＴ字やＹ字ジョイントを用いる。また４つまた以上のジョイントを用いても良く、この場合、液体吐出機構６１０は複数となる。さらに液体吐出機構６１０は、吐出するのに適した機構であれば良く、例えば、配管のまま吐出させても良いが、撹拌力を高めるため、吐出口が狭くなっているものが好ましい。

また、上述したように、表面処理装置６００は、図１の表面処理装置１００に、さらに分岐機構６０９及び液体吐出機構６１０が設けられることを説明したが、図２〜５に示した表面処理装置２００、３００、４００及び５００の構成にも、さらに液体導入口６０３ｂの上流側に液体を分岐させるための分岐機構６０９と、上記分岐機構の下流に液体を吐出させるための液体吐出機構６１０が設けられても良い。また、分岐機構６０９は、ポンプ６０６の下流側に設けられることが好ましい。このようにすれば、上記に説明した同様の効果を得ることができる。

なお、上記のように本発明の各実施形態について詳細に説明したが、本発明の新規事項及び効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは、当業者には、容易に理解できるであろう。従って、このような変形例は、全て本発明の範囲に含まれるものとする。

例えば、明細書又は図面において、少なくとも一度、より広義又は同義な異なる用語と共に記載された用語は、明細書又は図面のいかなる箇所においても、その異なる用語に置き換えることができる。また、表面処理装置の構成、動作も本発明の各実施形態及び各実施例で説明したものに限定されず、種々の変形実施が可能である。

１００１１０１３０１４０２００３００４００５００６００表面処理装置
１０１１１１１３１１４１２０１３０１４０１５０１６０１表面処理液、
１０２１１２２０２３０２４０２５０２６０２表面処理槽
４０２ａ５０２ａ６０２ａ表面処理槽側面、１０２ｂ１１２ｂ２０２ｂ３０２ｂ４０２ｂ５０２ｂ６０２ｂ表面処理槽底部、
１０３１１３１３３１４３２０３３０３４０３５０３６０３アスピレーター、
１０３ａ１１３ａ１３３ａ１４３ａ２０３ａ３０３ａ４０３ａ５０３ａ６０３ａ気体導入口、
１０３ｂ１１３ｂ１３３ｂ１４３ｂ２０３ｂ３０３ｂ４０３ｂ５０３ｂ６０３ｂ液体導入口、
１０３ｃ１１３ｃ１３３ｃ１４３ｃ２０３ｃ３０３ｃ４０３ｃ５０３ｃ６０３ｃ吐出口、
１０４１１４１３４１４４２０４３０４４０４５０４６０４吸気調節機構、
１０５１１５１３５１４５２０５３０５４０５５０５６０５被処理物、
４０５ａ６０５ａ被処理物側面、
１０５ｂ１１５ｂ１３５ｂ１４５ｂ２０５ｂ４０５ｂ５０５ｂ６０５ｂ被処理物の底部、
１０６１１６１３６１４６２０６３０６４０６５０６６０６ポンプ、
１０７１１７１３７１４７２０７３０７４０７５０７６０７オーバーフロー槽、
１０８１１８１３８１４８２０８３０８４０８５０８６０８配管、
２０９６０９分岐機構、６１０液体吐出機構

Claims

被処理物表面を処理するために用いられる表面処理装置であって、
少なくとも表面処理液が収容された表面処理槽と、
前記表面処理槽に、気体を導入する気体導入口と、液体を導入する液体導入口と、前記気体導入口から導入した前記気体と前記液体導入口から導入された前記液体とを混合して吐出する吐出口とを有するアスピレーターとを備え、
前記気体導入口が前記表面処理槽の外部と接続され、
前記液体導入口の上流側に前記液体を分岐させるための分岐機構と、前記分岐機構の下流側に前記気体導入口に導入される前記気体の吸気量を調節する吸気量調節機構がさらに設けられ、前記吸気量調節機構の下流から液体を吐出させることを特徴とする表面処理装置。
被処理物表面を処理するために用いられる表面処理装置であって、
少なくとも表面処理液が収容された表面処理槽と、
前記表面処理槽に、気体を導入する気体導入口と、液体を導入する液体導入口と、前記気体導入口から導入した前記気体と前記液体導入口から導入された前記液体とを混合して吐出する吐出口とを有するアスピレーターとを備え、
前記気体導入口が前記表面処理槽の外部と接続され、
前記表面処理装置は、さらに前記液体導入口の上流側に前記液体を分岐させるための分岐機構と、前記分岐機構の下流に液体を吐出させるための液体吐出機構が設けられていることを特徴とする表面処理装置。
前記気体導入口に導入される前記気体の吸気量を調節する吸気量調節機構が前記液体導入口の上流側にさらに設けられていることを特徴とする請求項２に記載の表面処理装置。
前記分岐機構の下流側に前記気体導入口に導入される前記気体の吸気量を調節する吸気量調節機構がさらに設けられ、前記吸気量調節機構の下流から液体を吐出させることを特徴とする請求項２に記載の表面処理装置。
前記吐出口は、前記表面処理槽底部の前記被処理物の底部と対向する位置に、前記表面処理槽の底部から頂部に向けて混合された前記気体と前記液体を吐出するように設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の表面処理装置。
前記吐出口は、前記表面処理槽底部の前記被処理物の底部と対向する位置を除く位置の何れかに複数設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の表面処理装置。
前記吐出口は、前記表面処理槽側面の前記被処理物側面と対向する位置に、前記表面処理槽側面から中央に向けて混合された前記気体と前記液体を吐出するように設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の表面処理装置。
前記吐出口は、前記表面処理槽側面近傍で前記被処理物の底部下端より下方に設けられ、前記表面処理槽側面から中央に向けて混合された前記気体と前記液体を吐出するように設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の表面処理装置。