KR20090000368A

KR20090000368A - 여과 기능을 갖는 침전탱크

Info

Publication number: KR20090000368A
Application number: KR1020070064384A
Authority: KR
Inventors: 진용희
Original assignee: 주식회사 포스코
Priority date: 2007-06-28
Filing date: 2007-06-28
Publication date: 2009-01-07
Also published as: KR101406534B1

Abstract

이물질이 유입 침전되고 이물질이 침전된 순수만이 배출되는 여과 기능을 갖는 침전탱크가 제공된다.

상기 여과 기능을 갖는 침전탱크는, 이물질이 포함된 처리수가 공급되는 처리수 공급관과 이물질이 침전된 처리된 순수를 배출하는 순수 배출관이 높이차를 갖고 연결되는 탱크몸체와, 상기 처리수 공급관과 순수 배출관사이로 탱크몸체내에 구비되되 처리수가 통과하여 순수만이 배출되도록 구성된 이물질 여과수단 및, 상기 탱크몸체의 하부에 연결되는 침전물 배출관을 포함하여 구성된 것에 그 특징이 있다.

이와 같은 본 발명에 의하면, 이물질의 침전은 물론, 여과도 탱크내부에서 구현되어 보다 청정한 순수를 배출하여 순수 재활용시 이물질에 의한 생산 공정상 여러 문제들이 발생되는 것을 효과적으로 방지토록 한 개선된 효과를 얻을 수 있다.

침전탱크, 에지 폴리싱 라인, 강판 에지 도금 파우더, 침전탱크, 여과수단

Description

여과 기능을 갖는 침전탱크{Settling Tank with filtering function}

도 1은 종래의 침전탱크를 포함하는 도금강판의 에지 폴리싱 라인을 도시한 전체 구성도

도 2는 도 1에서의 종래 침전탱크를 도시한 상세도

도 3은 본 발명에 따른 여과 기능을 갖는 침전탱크를 도시한 구성도

도 4는 도 3의 본 발명 침전탱크를 도시한 측면 구조도

도 5는 도 3의 본 발명 침전탱크를 도시한 정면 구조도

도 6은 도 3의 본 발명 침전탱크를 도시한 평면 구조도

도 7은 본 발명 침전탱크의 여과수단을 도시한 것으로서,

(a)는 구조도

(b)는 평면도

도 8은 본 발명인 침전탱크의 하부 하우징 구조를 도시한 분해 사시도

도 9는 본 발명의 침전탱크에서 오버 플로우 연결구를 도시한 사시도

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *

1.... 침전탱크 10.... 탱크몸체

10a.... 상부 몸체 10b.... 하부 몸체

12.... 탱크 하우징 14.... 배출관 연결구

30.... 여과수단 32.... 여과수단 하우징

34.... 매쉬플레이트 50.... 침전물 배출관

70.... 이물질 제거수단 72.... 수평 회전축

72a,74a.... 베벨기어 74.... 수직 회전축

76.... 수평 회동축 78.... 브러쉬블록

80,82.... 베어링블록 90.... 침전물 베출제어수단

92.... 종동 수직 회전축 94.... 스크류

본 발명은 이물질이 유입 침전되고 이물질이 제거된 순수만이 배출되는 침전탱크에 관한 것이며, 더욱 상세하게는 이물질의 침전은 물론, 여과도 탱크내부에서 구현되어 보다 청정한 순수를 배출하여 순수 재활용시 이물질에 의한 생산 공정상 여러 문제들이 발생되는 것을 효과적으로 방지토록 한 여과 기능을 갖는 침전탱크에 관한 것이다.

이물질이 유입되면 이를 침전시키는 침전탱크를 알려져 있는데, 예를 들어 제철소 도금공정라인에서 도금강판의 에지 도금 파우더를 제거하는 에지 폴리싱 라 인(edge polishing line)에는 에지 도금 파우더가 혼합된 처리수가 유입된 후, 도금 파우더는 침전 처리되고 순수만이 배출되는 침전탱크를 포함한다.

예컨대, 도 1에서는 이와 같은 에지 폴리싱 라인에 구비되는 침전탱크를 포함하는 에지 폴리싱 라인(100)이 도시되고 있다.

즉, 도 1에서 도시한 바와 같이, 도금강판 특히 전기도금강판(110)의 경우 전기도금이 완료되면, 강판(110)의 에지(Edge)에는 과전류에 의한 과도금이 통상 트리(Tree)형태 예컨대, 덴드라이트(Dendrite:수지상결정)라는 미세 트리형식의 에지 도금 파우더(112)가 발생한다.

그런데, 이와 같은 에지 도금 파우더(112)는 도금강판의 표면에 이물마크를 발생시키는 원인이 되고, 수요가에게 판매되어 제조업체에서 페인트 도장 작업시 에지 도금 파우더가 강판에서 떨어져 나가면서 페인트 성분에 혼합되어 페인트 도장 불량을 발생시키고, 프레스 작업시 도금 파우더 덩어리로 생성되어 이것이 프레스 설비에 누적되는 등의 여러 문제를 야기시킨다.

따라서, 도 1에서 도시한 바와 같이, 에지 폴리싱 라인(100)에서는 도금강판(110)의 에지에서 발생되는 에지 도금 파우더(112)를 제거하는 에지 도금 파우더 제거장치(이하, '에지 폴리셔' 이라함)(edge polisher)(120)에 구비되는 브러쉬링(122)들이 강판 에지에 회전 접촉하여 에지 도금 파우더(112)를 제거한다.

이때, 동시에 에지 폴리셔의 브러쉬링(122) 상부에는 정수 또는 침전탱크를 거쳐 순환 공급되는 순수(물)(W)를 분사하는 스프레이(Spray)(124)들이 구비되어 있어 브러쉬링에 의하여 강판 에지에서 제거된 에지 도금 파우더(가루)는 분사된 물과 함께 에지 폴리셔(120)의 하부 폴리셔 탱크(126)에 낙하하여 모이게 된다.

그리고, 이와 같은 에지 도금 파우더가 혼합된 물(이하, '처리수' 이라함)(W1)은 상기 에지 폴리셔(120)의 하부 폴리셔 탱크(126)와 연결된 리턴배관 즉, 처리수 공급관(130)을 통하여 침전탱크(140)로 보내져 탱크에서 파우더가 침전 처리된다.

한편, 이와 같은 침전탱크(140)는 도 2에서 도시한 바와 같이, 통상 5개 정도가 연계되어 최초 탱크에서 마지막 탱크를 통과하면서 처리수(W1)에 포함된 도금 파우더는 탱크(140)의 하부로 침전되고 파우더가 제거된 물(이하, '순수(W)' 라함)는 다시 순수 공급배관(150)을 통하여 에지 폴리셔 스프레이(124)들에 순환 공급된다.

이때, 도 1에서와 같이, 에지 폴리셔(120)를 통과하는 강판은 링거롤과 에어 건조기 등을 통과하여 표면 처리가 진행된다.

그런데, 도 1에서 도시한 바와 같이, 이와 같은 종래의 침전탱크(140)에 있어서는, 단지 이물질 예컨대, 도금 파우더 등을 자연 낙하식으로 침전시키기 때문에, 침전에 많은 시간이 필요하고 침전 효율도 높은 것이 아니었다.

더욱이, 종래 침전탱크는 별도의 여과 기능을 구비하지 않기 때문에, 종래 에지 폴리링 라인의 침전탱크를 거친 순수(W)에는 이물질 예컨대, 도금 파우더 등이 포함되기 쉽다.

따라서, 종래 침전탱크(140)의 경우에는 순수가 순환되어 에지 폴리셔(120)에서 재순환되어 강판(110)상에 린스 스프레이(Rinse Spray)로 분사될 때, 강판 표 면에 파우더들이 부착되게 된다.

결국, 이와 같은 종래 침전탱크를 거친 순수(W)에 포함된 도금 파우더 가루와 같은 이물질은 강판의 이물 묻음, 덴트(Dent) 등과 같은 여러 표면 결함을 발생시키거나, 심한 경우 스프레이(124)의 노즐을 폐쇄시킨다.

따라서, 스프레이(124) 노즐이 막히는 경우 강판의 도금 줄무늬를 발생시키는 등의 다른 문제들을 야기하는 것이다.

본 발명은 상기와 같은 종래 문제점을 개선시키기 위하여 제안된 것으로서 그 목적 측면은, 이물질의 침전은 물론, 여과도 탱크내부에서 구현되어 보다 청정한 순수를 배출하여 순수 재활용시 이물질에 의한 생산 공정상 여러 문제들이 발생되는 것을 효과적으로 방지토록 한 여과 기능을 갖는 침전탱크를 제공하는 데에 있다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 기술적인 측면으로서 본 발명은, 이물질이 포함된 처리수가 공급되는 처리수 공급관과 이물질이 침전된 처리된 순수를 배출하는 순수 배출관이 높이차를 갖고 연결되는 탱크몸체;

상기 처리수 공급관과 순수 배출관사이로 탱크몸체내에 구비되되 처리수가 통과하여 순수만이 배출되도록 구성된 이물질 여과수단; 및,

상기 탱크몸체의 하부에 연결되는 침전물 배출관;

을 포함하여 구성된 여과 기능을 갖는 침전탱크을 제공한다.

이하, 첨부된 도면에 따라 본 발명을 더욱 상세하게 설명하면 다음과 같다.

다만, 도 1의 종래 에지 폴리싱 라인(100)의 에지 폴리셔(120) 관련 구성은 동일한 도면부호로 나타내고 설명은 간략한다.

먼저, (도 1 참조) 도 3에서 도시한 바와 같이, 본 발명의 침전탱크(1)는 크게 이물질 예컨대, 에지 도금 파우더 등의 이물질이 포함된 처리수(W1)가 공급되는 처리수 공급관(130)과 이물질이 침전된 순수(W)가 배출되는 순수 배출관(150)이 높이차를 갖고 연결되는 탱크몸체(10)와, 상기 처리수 공급관(130)과 순수 배출관(150)사이에 탱크몸체내에 상기 처리수가 통과하여 탱크 외부로 배출되도록 배치된 이물질 여과수단(30) 및, 상기 탱크몸체의 하부에 연결되는 침전물 배출관(50)을 포함하여 구성된 것에 그 특징이 있다.

따라서, 본 발명의 침전탱크(1)는 기존 도 1의 침전탱크(140)에서 침전이 완전하게 이루어 지지 않아 에지 도금 파우더(도 3의 P) 등의 이물질을 포함하는 순수(W)가 다시 에지 폴리셔(120)로 순환 사용(공급 분사됨)됨에 따른 강판 표면상의 여러 결함 발생 문제를 방지하는데, 이는 여과수단(30)이 구비되어 이물질이 순수에 포함되지 않기 때문이다.

결국, 본 발명의 침전탱크(1)는 처리수(W1)에 포함된 도금 파우더 등의 이물 질 침전은 물론, 여과 기능을 구비하는 이점을 제공하는 여과 기능을 갖는 침전탱크로 제공된다.

이때, 본 발명의 여과수단(30)은 처리수(W1)가 공급관(130)을 통하여 유입되는 위치와 순수가 배출되는 순수 배츨관(150)의 배출 위치사이에 있으면서 반드시 처리수가 통과하도록 구조적으로 설치되기 때문에, 처리수에 포함된 이물질의 탱크 외부 배출이 원천적으로 차단된다.

한편, 도 3에서 도시한 바와 같이, 본 발명의 여과 기능을 구비하는 침전탱크(1)는 여러 개가 연결관(160)으로 구비되고, 최초 탱크와 마지막 탱크에만 각각 처리수 공급관(130) 및 순수 배출관(150)이 연결된다.

따라서, 실질적으로 여러개의 탱크에 구비된 여과수단(30)을 처리수가 반복하여 통과하면서 최종적으로 순수가 배출되기 때문에, 보다 청정한 순수(W)가 원하는 장소 예컨대, 에지 폴리셔(도 1의 120) 등의 재활용 위치에 공급될 수 있다.

결국, 보다 청정한 순수가 에지 폴리셔(120)에서 스프레이(124)를 통하여 분사되기 때문에, 강판 에지 폴리셔에서 강판의 표면에 이물질 즉, 도금 파우더 가루가 부착됨에 따른 표면 결함발생을 효과적으로 방지한다.

다음, 도 4 내지 도 6에서 도시한 바와 같이, 본 발명의 상기 탱크몸체(10)는 원추형상의 하부탱크(10b)와 그 상부에 연결되는 사각의 상부탱크(10a)로 구성되어 있다.

즉, 사각의 상부 탱크는 상부 오버플로우 연결구(14)가 길게 신장된 상태로 설치되는 것을 가능하게 하고, 이 연결구(14)에 순수 배출관(150)이 연결된다.(물론, 도 3과 같이 연결관(160)이 연결될 수 있다)

그리고, 상기 원추형 하부탱크(10b)는 다음에 상세하게 설명하는 이물질 제거수단(70)의 회전 구동을 가능하게 하는 구조이다.

이때, 앞에서 설명한 바와 같이, 상기 처리수 공급관(130)과 순수 배출관(150)은 각각 상기 하부탱크(10b)의 중간부분과 상부탱크(10a)에 연결되고 유입된 처리수는 반드시 이물질 여과수단(30)을 통과하게 된다.

물론, 처리수에 포함된 이물질은 실제로는 자체 무게에 의하여 하부탱크(10b)의 하단 침전물 배출관(50)측으로 침전되게 됨은 물론이다.

다음, 도 4, 도 5 및, 도 7에서 도시한 바와 같이, 본 발명의 침전탱크(1)의 상기 여과수단(30)은, 탱크몸체의 원추형 하부탱크(10b) 내부에 고정되는 하우징(32)과 상기 하우징(32)에 다단으로 제공되어 순수만이 통과하여 이물질을 제거하는 매쉬플레이트(34)를 포함한다.

이때, 도 7a 및 도 7b에서 도시한 바와 같이, 상기 패쉬플레이트(34)는 실제로는 여러개가 점진적으로 직경이 감소되면서 하우징(32)의 하부에서 상부로 환형으로 형성되어 부착된다.

즉, 매쉬플레이트(34)는 하우징에 원형으로 형성된 개구부분에 부착되고, 하우징의 하단부는 하부탱크의 내면에 긴밀하게 부착 고정되기 때문에, 처리수(W1)는 여과수단의 매쉬플레이트(34)를 통과하지 않고는 순수 배출관(150)으로 배출될 수 없다.

결국, 본 발명의 침전탱크(1)에서는 처리수에 포함된 이물질 예컨대, 에지 도금 파우더(P)가 완전하게 침전되지 않아 배출되는 과정에서 여과수단의 매쉬플레이트(34)에서 여과되기 때문에, 순수는 매우 청정한 상태로 배출될 수 있는 것이다.

다음, 도 4 내지 도 6에서 도시한 바와 같이, 본 발명의 침전탱크(1)는, 상기 여과수단(30)의 내측으로 탱크몸체의 하부탱크(10b)사이에 상기 여과수단에 구비된 매쉬플레이트에 부착된 이물질을 제거하는 이물질 제거수단(70)을 더 포함하는 것에 그 특징이 있다.

따라서, 통상 매쉬플레이트가 사용될 때 이물질을 여과는 하지만 매쉬 구멍사이로 이물질이 끼이면서 매쉬가 막히는 문제가 있지만, 본 발명의 침전탱크(1)에서는 이물질 제거수단(70)이 주기적으로 매쉬 플레이트(34)에 부착된 이물질을 브러싱 작동으로 제거하여 매쉬플레이트를 통한 여과 기능이 항상 일정하게 유지되고, 이는 침전탱크의 침전은 물론, 여과 기능의 유지를 가능하게 한다.

특히, 자동적으로 이물질 제거수단이 가동되기 때문에, 특별한 관리도 필요없고, 원하는 경우 즉시 가동이 가능하며, 전력 공급의 조정을 통한 모터 가동제어로 간헐적으로 일정하게 가동시키는 것도 가능하다.

예컨대, 도 4 내지 도 6에서 도시한 바와 같이, 이와 같은 본 발명의 이물질 제거수단(70)은, 상기 탱크 외부로 부터 동력이 전달되고 구동 베벨기어(72a)가 구 비된 수평 회전축(72)과, 상기 구동 베벨기어에 단속되는 종동 베벨기어(74a)가 구비되되 여과수단 하우징과 하부탱크 사이에 수직하게 회전 가능하게 배치된 수직 회전축(74) 및, 상기 수직 회전축(74)에서 다단으로 수평 연결된 수평 회동축(76)에 단부에 설치되고 상기 여과수단의 매쉬 플레이트(34)에 접촉하도록 배치된 브러쉬블록(78)을 포함한 것에 그 특징이 있다.

이때, 제5항에 있어서, 상기 수직 회전축(74)의 상단은 여과수단의 하우징 중앙에 지지되고, 상기 수직 회전축(74)의 하단은 하부탱크 벽에 고정된 베어링블록(80)에 지지되어 베벨기어들의 구동으로 회전토록 구성되고, 상기 수평 회전축(74)은 하부탱크 외부에 설치된 베어링블록(82)에 지지되되 단부에는 구동모터(86a)로서 구동되는 벨트(86)가 체결되는 풀리(84)가 구비되어 외부 동력원이 전달되게 된다.

따라서, 상기 구동모터(86a)가 구동되면 별도의 부호로 도시하지 않은 모터 구동풀리와 수평 회전축(72)의 단부 풀리(84)사이에 연결된 벨트(86)가 구동되고 이에 따라 수평 회전축(72)이 구동되면, 베벨기어(72a)(74a)의 회전으로 수직 회전축(74)이 여과수단 하우징(32) 중앙과 하부 탱크에 브라켓트로 고정된 베어링블록(80)사이에서 회전된다.

결국, 상기 수직 회전축(74)을 따라 여러개가 직각으로 수평 연결된 회동축(76)의 단부에 여과수단의 환형 매쉬 플레이트(34)에 접촉하도록 위치 조정되어 배치된 브러쉬블록(78)의 브러쉬에 의하여 매쉬 플레이트에 부착된 이물질 들은 모두 제거되어 침전되게 된다.

따라서, 매쉬플레이트가 이물질에 의하여 막히면서 처리수나 순수의 흐름이 방해되는 요인이 본 발명의 침전탱크에서는 원천적으로 방지되고, 이는 결국 침전탱크의 침전성과 여과성을 모두 양호하게 유지하게 한다.

한편, 도 3 및 도 5에서 도시한 바와 같이, 본 발명의 상기 수평 회전축(72)에는 다단의 풀리(84)(85)가 설치되고 밸트(86)들이 연결되면 여러개의 침전탱크(1)들을 배열하고 하나의 구동모터(86a)를 가동하면서도 이물질 제거수단(70)의 가동이 각각의 탱크에서 같이 구동되게 된다.

다음, 도 4 및 도 5에서 도시한 바와 같이,본 발명의 침전탱크(1)는 추가로 상기 수직 회전축(74)의 하단에 베어링블록(80)을 통과하여 체결되는 종동 수직 회전축(92) 및, 상기 종동 수직 회전축(92)의 하부에 연결되고 하부탱크(10b)의 하단에 연결되는 탱크하우징(14)의 개구(14a)에 배치되어 수직 회전축과 일체로 회전되면서 침전물의 탱크 배출을 제어하는 스크류(94)를 포함하는 침전물 배출제어수단(90)을 더 구비할 수 있다.

따라서, 본 발명의 침전탱크(1)에서 상기 이물질 제거수단(70)의 수직 회전축(74)이 회전하면, 상기 종동 수직 회전축(92)이 하부탱크 하부의 베어링블록(80)에 지지된 상태로 일체로 회전되고, 따라서 탱크몸체의 하부탱크(10b)의 하부가 연결된 탱크 하우징(12)의 개구(12a)는 상기 스크류(94)의 가동시 침전물 즉 에지 도금 파우더(P)가 하부의 침전물 수용박스(B)로 배출되게 된다.

이때, 도 3 내지 도 5에서 도시한 바와 같이, 본 발명의 침전탱크(1)에서 상기 탱크하우징(14)에는 침전물 배출관(50)이 연결되고, 상기 침전물 배출관(50)에는 덤프밸브(52)가 구비된다.

그리고, 상기 침전물 배출관은 사이에 덤프밸브(52)가 설치되도록 플랜지 연결되고, 상기 탱크 하우징의 하단부에 연결된다.

따라서, 스크류 회전시 침전물인 에지 도금 파우더(P)는 덤프밸브(52)로 배출되고, 덤프밸브(52)의 가동시에만 하부 박스(B)로 배출된다.

한편, 본 발명의 침전탱크(1)에서는 앞에서 설명한 바와 같이, 처리수 공급관(130)이 순수 배출관(150)보다 아래에 배치되기 때문에, 처리수는 일정 압력으로 공급되는 것이 필요하다.

이와 같이 본 발명인 침전탱크는, 강판 도금공정의 에지 폴리싱 라인에서 에지 도금 파우더와 같은 이물질과 혼합된 처리수가 유입되면 여과수단을 통하여 순수만이 배출되도록 함으로서, 순수의 재활용시 물에 포함된 파우더 등과 같은 이물에 의한 공정상 문제 즉, 강판의 표면에 결함을 발생시키는 등의 문제 발생을 방지하는 여과 기능을 갖는 침전탱크를 제공한다.

특히, 추가로 파우더 등의 침전물의 탱크 배출을 원활하게 하면서 여과수단이 에지 도금 파우더 등의 이물에 의하여 막히는 것도 방지하는 것을 가능하게 한다.

본 발명은 지금까지 특정한 실시예에 관련하여 도시하고 설명하였지만, 이하의 특허청구범위에 의해 마련되는 본 발명의 정신이나 분야를 벗어나지 않는 한도내에서 본 발명이 다양하게 개조 및 변화될수 있다는 것을 당업계에서 통상의 지식을 가진자는 용이하게 알수 있음을 밝혀두고자 한다.

Claims

이물질이 포함된 처리수(W1)가 공급되는 처리수 공급관(130)과 이물질이 침전된 처리된 순수(W)를 배출하는 순수 배출관(150)이 높이차를 갖고 연결되는 탱크몸체(10);

상기 처리수 공급관(130)과 순수 배출관(150)사이로 탱크몸체내에 구비되되 처리수가 통과하여 순수만이 배출되도록 구성된 이물질 여과수단(30); 및,

상기 탱크몸체의 하부에 연결되는 침전물 배출관(50);

을 포함하여 구성된 여과 기능을 갖는 침전탱크.
제1항에 있어서,

상기 탱크몸체(10)는 원추형상의 하부탱크(10b)와 그 상부에 연결되는 사각의 상부탱크(10a)로 구성되고,

상기 처리수 공급관(130)과 순수 배출관(150)은 각각 하부탱크와 상부탱크에 연결되어 처리수 유입과 순수 배출 수위의 높이차를 형성하면서 그 사이에 상기 이물질 여과수단(30)이 처리수가 통과 여과되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 여과 기능을 갖는 침전탱크.
제2항에 있어서,

상기 여과수단(30)은,

탱크몸체의 원추형 하부탱크(10b) 내부에 고정되는 하우징(32); 및,

상기 하우징(32)에 다단으로 제공되어 순수만이 통과하여 이물질을 제거하는 매쉬플레이트(34);

를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 여과 기능을 갖는 침전탱크.
제1항 내지 제3항 중 어느 하나의 항에 있어서,

상기 여과수단(30)의 내측으로 탱크몸체의 하부탱크(10b)사이에 상기 여과수단에 구비된 매쉬플레이트에 부착된 이물질을 제거하는 이물질 제거수단(70)이 더 구비된 것을 특징으로 하는 여과 기능을 갖는 침전탱크.
제4항에 있어서,

상기 이물질 제거수단(70)은,

상기 탱크 외부로 부터 동력이 전달되고 구동 베벨기어(72a)가 구비된 수평 회전축(72);

상기 구동 베벨기어에 단속되는 종동 베벨기어(74a)가 구비되되 여과수단 하우징과 하부탱크 사이에 수직하게 회전 가능하게 배치된 수직 회전축(74); 및,

상기 수직 회전축(74)에서 다단으로 수평 연결된 수평 회동축(76)에 단부에 설치되고 상기 여과수단의 매쉬 플레이트(34)에 접촉하도록 배치된 브러쉬블록(78);

을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 여과 기능을 갖는 침전탱크.
제5항에 있어서,

상기 수직 회전축(74)의 상단은 여과수단의 하우징 중앙에 지지되고, 상기 수직 회전축(74)의 하단은 하부탱크 벽에 고정된 베어링블록(80)에 지지되어 베벨기어들의 구동으로 회전토록 구성되고,

상기 수평 회전축(74)은 하부탱크 외부에 설치된 베어링블록(82)에 지지되되 단부에는 모터(86a) 구동되는 벨트(86)가 체결되는 풀리(84)가 구비되어 동력이 전달토록 구성된 것을 특징으로 하는 여과 기능을 갖는 침전탱크.
제6항에 있어서,

복수의 탱크가 배치되되 상기 수평 회전축에는 다단의 풀리가 구비되면서 그 중 하나는 탱크간 동력 전달용 벨트가 체결되어 하나의 모터로서 다수개의 탱크 수평 회전축에 동시에 동력이 전달토록 구성되고,

상기 복수의 탱크 중 최초 및 마지막 탱크에 상기 처리수 공급관(130)과 순 수 배출관(150)이 연결되고, 중간의 탱크들은 연결관(160)으로 연결 구성된 것을 특징으로 하는 여과 기능을 갖는 침전탱크.
제6항에 있어서,

상기 수직 회전축(74)의 하단에 베어링블록(80)을 통과하여 체결되는 종동 수직 회전축(92); 및,

상기 종동 수직 회전축(92)의 하부에 연결되고 하부탱크(10b)의 하단에 연결되는 탱크하우징(12)의 개구(12a)에 배치되어 수직 회전축과 일체로 회전되면서 침전물의 탱크 배출을 제어하는 스크류(94);

를 포함하는 침전물 배출제어수단(90)을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 여과 기능을 갖는 침전탱크.
제8항에 있어서,

상기 탱크하우징(12)에는 침전물 배출관(50)이 연결되고, 상기 침전물 배출관(50)에는 덤프밸브(52)가 구비되는 것을 특징으로 하는 여과 기능을 갖는 침전탱크.