JP6910586B1 - 壁掻き可能な反応釜 - Google Patents

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    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/18Stationary reactors having moving elements inside
    • B01J19/20Stationary reactors having moving elements inside in the form of helices, e.g. screw reactors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B9/00Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto 
    • B08B9/08Cleaning containers, e.g. tanks
    • B08B9/0804Cleaning containers having tubular shape, e.g. casks, barrels, drums
    • B08B9/0808Cleaning containers having tubular shape, e.g. casks, barrels, drums by methods involving the use of tools, e.g. by brushes, scrapers

Abstract

【課題】材料の撹拌中において掻き処理が選択可能で、釜の内壁をきれいに洗浄できる壁掻き可能な反応釜を提供する。【解決手段】釜本体1、撹拌機構2、掻き機構3および切換機構4を備えており、撹拌機構2は、撹拌モータ21、モータ軸22および、正反方向交替で螺旋状である多段の撹拌パドル23を含み、掻き機構3は釜本体1の内側かつ撹拌機構2の外側に設置されており、位置決めロッド31およびスクレーパー32を含み、切換機構4は係合溝41、内係合ディスク42、押圧ディスク43、メイン係合ディスク44を含み、隣り合う位置決めロッド31上のスクレーパー32は千島状に配置されており、回転すると釜本体1内壁へ掻く際の面積が増大する、ことを特徴とする壁掻き可能な反応釜。【選択図】図2

Description

本発明は、反応釜に関し、具体的には壁掻き可能な反応釜に関する。
従来の反応釜が一体型構造とされているので、釜の内壁はきれいに洗浄するのは難しい。
内壁上へ残った残留物は、反応製品の生産に悪影響を与え、不合格品をもたらす可能性が
高い。また、内壁への残留物積みで、反応釜の熱伝導性が悪化され、釜内温度を適時に所
定温度に達させることができなく、製品の品質へ影響を与える。さらに、残留物が腐食性
を持つものの場合、反応釜の内壁を腐食するので、反応釜、ないしはかかる他の装置や部
品の使用寿命を減少させる。
これに対して、撹拌軸の外端にスクレーパーを設置してそれによって釜の内壁を掻くこと
が提案されている。ところが、スクレーパーは撹拌軸と同期に回転するもので、自主的に
機能する自由度がない。撹拌が停止すればスクレーパーの掻き消しも終わり、撹拌が開始
すればスクレーパーの掻き消しも始まる。また長期間使用にわたって、スクレーパーは磨
損が起こり、スクレーパーと内壁間の隙間が大きく離れて、スクレイプの効果が発揮でき
なくなる。
本発明は、上記の問題に対して、壁掻き可能な反応釜を提供する。
本発明が採用する技術方案は下記の通りである。
壁掻き可能な反応釜は、
釜本体、撹拌機構、掻き機構および切換機構を備えており、
撹拌機構は釜本体の中部に設置されておし、掻き機構は釜本体の内側かつ撹拌機構の外
側に設置されており、
切換機構は係合溝、内係合ディスク、押圧ディスク、メイン係合ディスクおよび伸縮モ
ータを含み、係合溝はつ以上備えられ、環状的に撹拌機構上に配置されており、内係合デ
ィスクの外周に設けられる係合歯は係合溝内に挿設されており、内係合ディスクの上端に
設けられる突起リングと押圧ディスクとが回転可能に接続されており、
伸縮モータの底部が釜本体の上端に固定され、その頂部が押圧ディスクに固定されてお
り、
メイン係合ディスクは釜本体に対して回転可能とし、上端面には、内係合ディスクの外
周に係合する噛み合う凹溝が設置されており、撹拌機構はメイン係合ディスクの中部に開
設される貫通穴に挿設されている。
好ましくは、撹拌機構は、撹拌モータ、モータ軸および撹拌パドルを含み、モータ軸の一
端が撹拌モータに接続され、その他端がメイン係合ディスクの中部における貫通穴を貫通
しており、係合溝はモータ軸の外壁に開設されており、モータ軸の底端は釜本体の内底壁
に固定的に取付けされる位置決め台に回転可能に接続されており、撹拌パドルはモータ軸
の外端に固定されている。
好ましくは、撹拌パドルは多段とし、正反方向交替で螺旋状である。
好ましくは、掻き機構は位置決めロッドおよびスクレーパーを含み、位置決めロッドの数
は少なくともつとし、位置決めロッドの一端がメイン係合ディスクの下端に固定され、そ
の他端が釜本体底部に対して回転可能であり、スクレーパーはつ以上備えられ、その一端
が位置決めロッド上に固定され、その他端が釜本体内壁に接触している。
好ましくは、隣り合う位置決めロッド上のスクレーパーは千島状に配置されており、この
ようにして回転起動すると釜本体内壁へ掻く際の面積が増大する。
好ましくは、釜本体の外側に掃除機構が設けられており、掃除機構は外フレーム、下仕切
板、引き出し、上仕切板、動力ユニット、保護ユニットおよび掃除ブラッシュを含み、釜
本体は外フレームの内側に回転可能に接続されており、下仕切板および上仕切板はいずれ
も外フレームの対向する内壁の間に固定接続され、且つ下から上へ配置されており、動力
ユニットは下仕切板と上仕切板の間に取付けられ、釜本体の回転を駆動可能であり、引き
出しは下仕切板と外フレームの底壁との間に配置されており、釜本体内部から排出する材
料を受けるように配置されており、保護ユニットは釜本体の外側に設置されており、掃除
ブラッシュは外フレームの内壁に粘着され、釜本体の表面に接触する。
好ましくは、動力ユニットは動力モータ、カムおよび伝動歯を含み、動力モータは上仕切
板上に取り付けられており、その動力端が上仕切板を貫通して下仕切板に対して回転可能
であり、カムは動力モータの出力軸の外端に固定されており、伝動歯はつ以上備えられ、
均一に釜本体の外壁に固定され、且つ環状的に配置されており、カムの出力軸と反対側の
一端は隣り合う両伝動歯間に配置されている。
好ましくは、保護ユニットは保護リング、接続ロッドおよび位置決めブロックを含み、保
護リングは釜本体の外側に接続されており、接続ロッドはつ設けられ、それぞれ保護リン
グの両端に固定されており、接続ロッドの保護リングと反対側の一端は位置決めブロック
に固定されている。
本発明の有益な効果は以下の通りである。
・ 本発明の反応釜は、材料の撹拌中において掻き処理が選択可能である。掻き作業際は
、内係合ディスクの外周における係合歯をメイン係合ディスクの上端における凹溝内に係
入するように伸縮モータを短縮させれば、撹拌材料の運動エネルギによって掻き機構を動
作させる。そして、メイン係合ディスクの下端が密閉処理とされ、モータ軸が軸受けを介
してメイン係合ディスクの中部における貫通穴に取付られるので、埃の入ることなどがな
い。メイン係合ディスクの外周と釜本体が互いに回転する際は、メイン係合ディスクが落
とすことがない。
・ スクレーパーをずれて設置する(千島状配布)ことによって、釜本体内壁に対する掻
き面積が広くなって、掻き効果が一層よくなる。
・ 撹拌パドルは、多段とし、正反方向交替で螺旋状としている。これによって、撹拌際
に材料の運動方向が一定としなく、変化するようにできるので、撹拌を充分に行うことが
できる。
・ 掃除機構を設置することによって、釜本体外壁上の灰埃も清潔することができるので
、灰埃の積込みを防止する。また、掃除は、撹拌と同時に実行することができ、撹拌を促
進する機能を発揮する。
以下、図面及び実施例とともに本発明をさらに説明する。
本発明の釜本体の立体構造の概略図である。 本発明の釜本体の構造断面図である。 本発明の釜本体の平面構成図である。 本発明の立体構造の概略図である。 本発明の動力ユニットにおける平面構造の概略図である。 本発明の保護ユニットにおける平面構造の概略図である。
[符号の説明]
1 釜本体
2 撹拌機構
21 撹拌モータ
22 モータ軸
23 撹拌パドル
24 位置決め台
3 掻き機構
31 位置決めロッド
32 スクレーパー
4 切換機構
41 係合溝
42 内係合ディスク
43 押圧ディスク
44 メイン係合ディスク
45 伸縮モータ
5 掃除機構
51 外フレーム
52 下仕切板
53 引き出し
54 上仕切板
55 動力ユニット
551 動力モータ
552 カム
553 伝動歯
56 保護ユニット
561 保護リング
562 接続ロッド
563 位置決めブロック
57 掃除ブラッシュ
本発明によって実現される技術的手段、創作的特徴、目的と効果を明確に説明するために
、以下では具体的な実施形態に関連して、本発明をさらに説明する。
図1〜図6に示されるように、本発明の壁掻き可能な反応釜は、釜本体1、撹拌機構2、
掻き機構3および切換機構4を備えている。撹拌機構2は釜本体1の中部に設置されてい
る。掻き機構3は釜本体1の内側かつ撹拌機構2の外側に設置されている。切換機構4は
係合溝41、内係合ディスク42、押圧ディスク43、メイン係合ディスク44および伸
縮モータ45を含む。係合溝41は2つ以上備えられ、環状的に撹拌機構2上に配布され
ている。内係合ディスク42の外周に設けられる係合歯は係合溝41内に挿設されている
。係合歯の数が係合溝41に対応するようにされている。内係合ディスク42の上端に設
けられる突起リングと押圧ディスク43とが回転可能に接続されている。突起リングの断
面がL形状とされている。このため、内係合ディスク42は押圧ディスク43上から落ち
ることがない。伸縮モータ45の底部が釜本体1の上端に固定され、その頂部が押圧ディ
スク43に固定されている。メイン係合ディスク44は釜本体1に対して回転可能とする
。メイン係合ディスク44の外周にフランジが設置されている。釜本体1の上端開口にお
ける内壁にフランジに嵌合される環形状の滑り溝が設置されている。このようにして、フ
ランジは滑り溝内でメイン係合ディスク44の回転を邪魔しなく、そしてこのフランジに
よってメイン係合ディスク44が落ちやすくないようにできる。また上端面には、内係合
ディスク42の外周に係合するティースのように噛み合う凹溝が設置されている。また、
撹拌機構2はメイン係合ディスク44の中部に開設される貫通穴に挿設されている。
図2に示されるように、撹拌機構2は、撹拌モータ21、モータ軸22および撹拌パドル
23を含む。モータ軸22の一端が撹拌モータ21に接続され、その他端がメイン係合デ
ィスク44の中部における貫通穴を貫通している。撹拌モータ21は使用際に外部のホル
ダに固定するようにする。係合溝41はモータ軸22の外壁に開設されている。モータ軸
22の底端は釜本体1の内底壁に固定的に取付けされる位置決め台24に回転可能に接続
されている。撹拌パドル23はモータ軸22の外端に固定されている。撹拌パドル23は
多段とし、正反方向交替で螺旋状としている。このようにして釜本体1内に入った材料を
均一に撹拌することができる。
図2に示されるように、掻き機構3は位置決めロッド31およびスクレーパー32を含む
。位置決めロッド31の数は少なくとも2つとする。位置決めロッド31の一端がメイン
係合ディスク44の下端に固定され、その他端が釜本体1底部の位置決め台24に対して
回転可能である。スクレーパー32は2つ以上備えられ、その一端が位置決めロッド31
上に固定され、その他端が釜本体1内壁に接触している。隣り合う位置決めロッド31上
のスクレーパー32は千島状に配布される。このようにして回転起動すると釜本体1内壁
へ掻く際の面積が増大する。
図4〜6に示されるように、釜本体1の外側に掃除機構5が設けられている。掃除機構5
は外フレーム51、下仕切板52、引き出し53、上仕切板54、動力ユニット55、保
護ユニット56および掃除ブラッシュ57を含む。釜本体1は外フレーム51の内側に回
転可能に接続されている。下仕切板52および上仕切板54はいずれも外フレーム51の
対向する内壁の間に固定接続され、且つ下から上へ配布されている。動力ユニット55は
下仕切板52と上仕切板54の間に取付けられ、釜本体1の回転を駆動可能である。引き
出し53は下仕切板52と外フレーム51の底壁との間に配置されており、釜本体1内部
から排出する材料を受けるように配置されている。下仕切板52と外フレーム1内壁の間
に下ろしスリットが残されている。釜本体1の下端に位置する排出口は下ろしスリットの
直上方に位置されている。このため、引き出し53は材料を受けることができる。下仕切
板52は傾斜的に設置されており、その釜本体1寄りの一側は低い側とし、落ちた材料を
一方向に案内するようにする。これによって、引き出し53内に容易に進入させる。保護
ユニット56は釜本体1の外側に設置されている。掃除ブラッシュ57は外フレーム51
の内壁に粘着され、釜本体1の表面に接触可能である。
図5に示されるように、動力ユニット55は動力モータ551、カム552および伝動歯
553を含む。動力モータ551は上仕切板54上に取り付けられており、その動力端が
上仕切板54を貫通して下仕切板52に対して回転可能である。カム552は動力モータ
551の出力軸の外端に固定されている。伝動歯553は2つ以上備えられ、均一に釜本
体1の外壁に固定され、且つ環状的に配布されている。カム552の出力軸と反対側の一
端は隣り合う両伝動歯553間に配置されている。
図6に示されるように、保護ユニット56は保護リング561、接続ロッド562および
位置決めブロック563を含む。保護リング561は釜本体1の外側に接続されている。
接続ロッド562は2つ設けられ、それぞれ保護リング561の両端に固定されている。
接続ロッド562の保護リング561と反対側の一端は位置決めブロック563に固定さ
れている。
材料を釜本体1の頂端に固定する供給口から受け入れると、撹拌モータ21を起動して、
モータ軸22に連動して撹拌パドル23が回転しながら材料を撹拌するように始まる。そ
れとともに、内係合ディスク42の外周における係合歯と係合溝41の係合により、内係
合ディスク42が連動して押圧ディスク43の下端において回転する。釜本体1の掻き処
理にあたっては、伸縮モータ45を伸縮して、押圧ディスク43が連動して下移して、押
圧ディスク43によって内係合ディスク42を押圧してメイン係合ディスク44上端の凹
溝内まで下移させる。そして内係合ディスク42外側の係合歯と凹溝が係りあって、内係
合ディスク42が回転する時はメイン係合ディスク44が連動して回転する。それととも
に、それらの下方にある撹拌パドル23とスクレーパー32も運動する。これで、材料を
撹拌しながらスクレーパー32が釜本体1の内壁を掻くように動作するので、材料が釜本
体1の内壁上へは粘り難いようにできる。またスクレーパー32の千島状配布によって、
釜本体1内壁への掻き面積が増大する。そして材料を撹拌し終わったら、排出口から排出
して、下ろしスリットを介して引き出し53内に落とす。このとき、引き出し53を引き
出して材料を収集する。
収集が終わったら、動力モータ551を起動して、動力モータ551に連動してカム55
2が回転する。このようにして間欠的に伝動歯553を動かして、釜本体1を回転させる
。このときは、掃除ブラッシュ57によって釜本体1の外壁における埃などを掃除する。
掃除後、落下した埃が下ろしスリットから引き出し53内におろす。この引き出し53は
新しいものとしてもよく、材料を盛る引き出し53と区別する。そして、引き出し53内
における釜の埃を処分すればよい。また材料がまだ排出されていないうちにおいて材料を
撹拌しながら釜本体1の外面の埃などを掃除してもよい。この場合は、掃除機構5が材料
の撹拌を促進する機能も有する。釜本体1の回転過程では、保護リング561は、釜本体
1の回転範囲を定義するように働いているので、釜本体1が倒れやすくないようにできる

Claims (8)

  1. 釜本体1、撹拌機構2、掻き機構3および切換機構4を備えており、
    撹拌機構2は釜本体1の中部に設置されており、掻き機構3は釜本体1の内側かつ撹拌
    機構2の外側に設置されており、
    切換機構4は係合溝41、内係合ディスク42、押圧ディスク43、メイン係合ディス
    ク44および伸縮モータ45を含み、係合溝41は2つ以上備えられ、環状的に撹拌機構
    2上に分布しており、内係合ディスク42の外周に設けられる係合歯は係合溝41内に挿
    設されており、内係合ディスク42の上端に設けられる突起リングと押圧ディスク43と
    が回転可能に接続されており、
    伸縮モータ45の底部が釜本体1の上端に固定され、その頂部が押圧ディスク43に固
    定されており、
    メイン係合ディスク44は、釜本体1に対して回転可能であり、上端面には内係合ディ
    スク42の外周に設けられる係合歯に係合する噛み合う凹溝が設置されており、撹拌機構
    2は、メイン係合ディスク44の中部に開設される貫通穴に挿設されている、
    ことを特徴とする壁掻き可能な反応釜。
  2. 撹拌機構2は、撹拌モータ21、モータ軸22および撹拌パドル23を含み、モータ軸2
    2の一端が撹拌モータ21に接続され、その他端がメイン係合ディスク44の中部におけ
    る貫通穴を貫通しており、係合溝41はモータ軸22の外壁に開設されており、モータ軸
    22の底端は釜本体1の内底壁に固定的に取付けられる位置決め台24に回転可能に接続
    されており、撹拌パドル23はモータ軸22の外端に固定されている、ことを特徴とする
    請求項1に記載の壁掻き可能な反応釜。
  3. 撹拌パドル23は多段であり、正反方向交替で螺旋状である、ことを特徴とする請求項2
    に記載の壁掻き可能な反応釜。
  4. 掻き機構3は位置決めロッド31およびスクレーパー32を含み、位置決めロッド31の
    数は少なくとも2つとし、位置決めロッド31の一端がメイン係合ディスク44の下端に
    固定され、その他端が釜本体1底部に対して回転可能であり、スクレーパー32は2つ以
    上備えられ、その一端が位置決めロッド31上に固定され、その他端が釜本体1内壁に接
    触する、ことを特徴とする請求項1に記載の壁掻き可能な反応釜。
  5. 隣り合う位置決めロッド31上のスクレーパー32は千島状に配置されており、このよう
    にして回転すると釜本体1内壁へ掻く際の面積が増大する、ことを特徴とする請求項4に
    記載の壁掻き可能な反応釜。
  6. 釜本体1の外側に掃除機構5が設けられており、掃除機構5は外フレーム51、下仕切板
    52、引き出し53、上仕切板54、動力ユニット55、保護ユニット56および掃除ブ
    ラッシュ57を含み、釜本体1は外フレーム51の内側に回転可能に接続されており、下
    仕切板52および上仕切板54はいずれも外フレーム51の対向する内壁の間に固定接続
    され、且つ下仕切板52および上仕切板54は下から上へ分布しており、動力ユニット5
    5は下仕切板52と上仕切板54の間に取付けられ、釜本体1の回転を駆動可能であり、
    引き出し53は下仕切板52と外フレーム51の底壁との間に配置されており、釜本体1
    内部から排出する材料を受けるように配置されており、保護ユニット56は釜本体1の外
    側に設置されており、掃除ブラッシュ57は外フレーム51の内壁に粘着され、釜本体1
    の表面に接触する、ことを特徴とする請求項1に記載の壁掻き可能な反応釜。
  7. 動力ユニット55は動力モータ551、カム552および伝動歯553を含み、動力モー
    タ551は上仕切板54上に取り付けられており、その動力端が上仕切板54を貫通して
    下仕切板52に対して回転可能であり、カム552は動力モータ551の出力軸の外端に
    固定されており、伝動歯553は2つ以上備えられ、均一に釜本体1の外壁に固定され、
    且つ環状的に配置されており、カム552の出力軸と反対側の一端は隣り合う両伝動歯5
    53間に配置されている、ことを特徴とする請求項6に記載の壁掻き可能な反応釜。
  8. 保護ユニット56は保護リング561、接続ロッド562および位置決めブロック563
    を含み、保護リング561は釜本体1の外側に接続されており、接続ロッド562は2つ
    設けられ、それぞれ保護リング561の両端に固定されており、接続ロッド562の保護
    リング561と反対側の一端は位置決めブロック563に固定されている、ことを特徴と
    する請求項6に記載の壁掻き可能な反応釜。
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