JP6838880B2 - 基板保持装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法 - Google Patents

基板保持装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6838880B2
JP6838880B2 JP2016140648A JP2016140648A JP6838880B2 JP 6838880 B2 JP6838880 B2 JP 6838880B2 JP 2016140648 A JP2016140648 A JP 2016140648A JP 2016140648 A JP2016140648 A JP 2016140648A JP 6838880 B2 JP6838880 B2 JP 6838880B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
holding
support portion
holding device
support
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016140648A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2018010247A5 (enExample
JP2018010247A (ja
Inventor
正親 平山
正親 平山
弘志 今成
弘志 今成
高橋 彰宏
彰宏 高橋
雄己 内田
雄己 内田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2016140648A priority Critical patent/JP6838880B2/ja
Publication of JP2018010247A publication Critical patent/JP2018010247A/ja
Publication of JP2018010247A5 publication Critical patent/JP2018010247A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6838880B2 publication Critical patent/JP6838880B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
JP2016140648A 2016-07-15 2016-07-15 基板保持装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法 Active JP6838880B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016140648A JP6838880B2 (ja) 2016-07-15 2016-07-15 基板保持装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016140648A JP6838880B2 (ja) 2016-07-15 2016-07-15 基板保持装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2018010247A JP2018010247A (ja) 2018-01-18
JP2018010247A5 JP2018010247A5 (enExample) 2019-08-15
JP6838880B2 true JP6838880B2 (ja) 2021-03-03

Family

ID=60993847

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016140648A Active JP6838880B2 (ja) 2016-07-15 2016-07-15 基板保持装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6838880B2 (enExample)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7110005B2 (ja) * 2018-06-20 2022-08-01 キヤノン株式会社 基板回転装置、基板回転方法、リソグラフィ装置、および物品製造方法
JP7214455B2 (ja) * 2018-12-07 2023-01-30 株式会社ディスコ 保護部材形成装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007012838A (ja) * 2005-06-30 2007-01-18 Nikon Corp 基板保持方法、位置計測方法、基板保持装置、露光装置、デバイス製造方法
JP2007214336A (ja) * 2006-02-09 2007-08-23 Nikon Corp 保持装置、保持方法、ステージ装置、露光装置、デバイスの製造方法
JP2008235472A (ja) * 2007-03-19 2008-10-02 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP4425943B2 (ja) * 2007-03-19 2010-03-03 日本精工株式会社 ワークチャック
JP2008251754A (ja) * 2007-03-29 2008-10-16 Nikon Corp 基板搬送方法及び装置、並びに露光方法及び装置
JP2012237817A (ja) * 2011-05-10 2012-12-06 Nsk Technology Co Ltd 露光装置及び露光方法
JP2015018927A (ja) * 2013-07-10 2015-01-29 株式会社ニコン 基板保持方法及び装置、並びに露光方法及び装置
JP2015185670A (ja) * 2014-03-24 2015-10-22 リンテック株式会社 板状部材の支持装置および支持方法
JP6362416B2 (ja) * 2014-05-23 2018-07-25 キヤノン株式会社 保持装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法
CN110068991B (zh) * 2014-10-23 2021-03-12 Asml荷兰有限公司 用于光刻设备的支撑台和光刻设备

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018010247A (ja) 2018-01-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6855010B6 (ja) 基板保持装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP6708233B2 (ja) 物体移動装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
JP5741834B2 (ja) 物体の搬出方法、物体の交換方法、物体保持装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
JP6319277B2 (ja) 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法、並びに露光方法
US20090033906A1 (en) Stage apparatus, exposure apparatus, stage control method, exposure method, and device fabricating method
JP7030416B2 (ja) 基板保持装置、リソグラフィ装置、物品の製造方法
JP5884267B2 (ja) 物体搬送装置、露光装置、デバイス製造方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及び物体搬送方法
JP2008103703A (ja) 基板保持装置、該基板保持装置を備える露光装置、およびデバイス製造方法
JP2011233776A (ja) 物体搬送装置、物体支持装置、物体搬送システム、露光装置、デバイス製造方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及び物体搬送方法
JP2013051237A (ja) 物体処理装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、物体搬送装置、及び物体の搬入方法
JP6838880B2 (ja) 基板保持装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法
JP2005044882A (ja) 搬送装置及び露光装置
JP2004221296A (ja) 基板保持装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法
JP5741927B2 (ja) 物体搬出方法、物体交換方法、物体保持装置、物体交換システム、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
JP5741926B2 (ja) 物体交換システム、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び物体交換方法
JP6874314B2 (ja) 物体保持装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
JP7756535B2 (ja) 位置決め装置、リソグラフィ装置、および物品製造方法
JP3624057B2 (ja) 露光装置
JP7110005B2 (ja) 基板回転装置、基板回転方法、リソグラフィ装置、および物品製造方法
JP6015984B2 (ja) 物体搬出方法、物体交換方法、物体保持装置、物体交換システム、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
JP6746092B2 (ja) 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法
JP6015983B2 (ja) 物体交換システム、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイス製造方法
JP2024167358A (ja) 搬送装置、搬送方法、リソグラフィ装置、リソグラフィシステム、および物品製造方法
JPH07283125A (ja) 位置決め方法および位置決めステージおよびこれを用いた露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190704

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190704

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200828

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200901

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20201028

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210112

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210212

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6838880

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151