JP6835432B2 - 可撓性基板処理システムおよび方法 - Google Patents

Description

可撓性基板処理システムおよび方法に関する。

特定種類の電子製品は、「ウェブ（web）」とも称する紙またはプラスチック基板（たとえば、ポリマー繊維担体）等の可撓性基板上に製造される場合がある。このようなウェブを使用すると、電子製品を大量かつ効率的に製造することができる。最も一般的なウェブ用途においては、ウェブがウェブ処理システムを通って連続的に搬送される。ただし、いくつかのウェブ用途においては、ウェブ処理システム内でウェブを断続的に停止させて、何らかの処理作業をウェブに行うことが必要となる場合がある。

米国特許出願公開第２０１０／０２２３７６７号明細書 米国特許出願公開第２００８／００６１２７５号明細書 米国特許出願公開第２００７／０１３７０３１号明細書

このような種類のウェブ用途の場合は、ウェブが一時的に停止した場合の処理作業の反復実行のため、ウェブの正確な位置決めが重要である。ただし、ウェブと処理システムの構成要素との間の摩擦が変動することから、処理システム内のウェブ位置の高い精度を実現することが重大な課題となる。

可撓性基板（たとえば、ウェブ）を処理する処理システムおよび方法では、可撓性基板を断続的に移動させて処理するインデクサ（indexer）とともに、可撓性基板の搬送方向に沿って移動可能なバキュームプレート（vacuum plate）を備えたテンショナ（tensioner）を使用する。テンショナおよびインデクサは、可撓性基板が停止した場合であっても、すべての作動状態において、インデクサとテンショナのバキュームプレートとの間の相対速度が所定の閾値を超えて維持されるように制御される。

本発明の一実施形態に係る処理システムは、搬送方向に沿って可撓性基板がバキュームプレート上を搬送される場合に、可撓性基板に張力を付与するように構成されたバキュームプレートを備えたテンショナであって、バキュームプレートが、搬送方向に沿って移動するように構成された、テンショナと、可撓性基板を断続的に移動させて処理するように構成されたインデクサと、可撓性基板が停止した場合であっても、すべての作動状態において、インデクサとテンショナのバキュームプレートとの間の相対速度が所定の閾値を超えて維持されるように、テンショナおよびインデクサを制御するように構成されたコントローラと、を備える。

一実施形態において、コントローラは、インデクサが停止した場合に、テンショナのバキュームプレートを搬送方向の反対方向に移動させるように構成されている。
一実施形態において、コントローラは、インデクサとテンショナのバキュームプレートとの間の相対速度がストライベック曲線の線形領域に維持されるように、テンショナのバキュームプレートを移動させるように構成されている。

一実施形態において、この処理システムは、インデクサが停止した場合に、インデクサ上の可撓性基板に処理を行う処理装置をさらに備える。
一実施形態において、処理装置は、デバイスを可撓性基板上に配置するピックアンドプレース装置である。

一実施形態において、インデクサは、吸引孔を有するドラムを含むことにより、ドラムの回転時にウェブを移動させる。
一実施形態において、インデクサは、リニアインデクサ（linear indexer）である。

一実施形態において、テンショナは、回転方向に移動可能な曲面を有する。
一実施形態において、可撓性基板は、紙、プラスチック、または金属製である。
本発明の別の実施形態に係る処理システムは、搬送方向に沿ってウェブがバキュームプレート上を搬送される場合に、ウェブに張力を与えるように構成されたバキュームプレートを備えたウェブテンショナであって、バキュームプレートが、搬送方向に沿って移動するように構成された、ウェブテンショナと、吸引孔を備えたドラムを含むウェブインデクサであって、ドラムが、断続的な回転によってウェブを移動させるように構成された、ウェブインデクサと、ウェブインデクサのドラム上でウェブを処理するように構成された処理装置と、ウェブが停止した場合であっても、すべての作動状態において、ウェブインデクサのドラムとウェブテンショナのバキュームプレートとの間の相対速度が所定の閾値を超えて維持されるように、ウェブテンショナおよびウェブインデクサを制御するように構成されたコントローラと、を備える。

一実施形態において、コントローラは、ウェブインデクサのドラムが停止した場合に、バキュームプレートを搬送方向の反対方向に移動させるように構成されている。
一実施形態において、コントローラは、ウェブインデクサのドラムとウェブテンショナのバキュームプレートとの間の相対速度がストライベック曲線の線形領域に維持されるように、ウェブテンショナのバキュームプレートを移動させるように構成されている。

一実施形態において、処理装置は、デバイスをウェブインデクサのドラム上のウェブ上に配置するピックアンドプレース装置である。
本発明の一実施形態に係る可撓性基板を処理する方法は、可撓性基板がバキュームプレート上を搬送されるように、バキュームプレートを備えたテンショナを介して可撓性基板をインデクサに供給するステップと、搬送方向に沿って、可撓性基板を断続的に移動させて処理するステップと、可撓性基板が停止した場合であっても、すべての作動状態において、インデクサとテンショナのバキュームプレートとの間の相対速度が所定の閾値を超えて維持されるように、搬送方向に沿ってテンショナのバキュームプレートを移動させるステップと、を含む。

一実施形態において、テンショナのバキュームプレートを移動させるステップは、インデクサが停止した場合に、テンショナのバキュームプレートを搬送方向の反対方向に移動させるステップを含む。

一実施形態において、テンショナのバキュームプレートを移動させるステップは、インデクサとテンショナのバキュームプレートとの間の相対速度がストライベック曲線の線形領域に維持されるように、テンショナのバキュームプレートを移動させるステップを含む。

一実施形態において、この方法は、インデクサが停止した場合に、インデクサ上の可撓性基板に処理を行うステップをさらに含む。
一実施形態において、可撓性基板を処理するステップは、デバイスを可撓性基板上に配置するステップを含む。

一実施形態において、インデクサにおいて可撓性基板を断続的に移動させるステップは、インデクサの吸引孔を有するドラムを回転させて可撓性基板を移動させるステップを含む。

一実施形態において、インデクサにおいて可撓性基板を断続的に移動させるステップは、インデクサにおいて可撓性基板を直線的に移動させるステップを含む。

本発明の一実施形態に係る、処理システムの模式図である。 図１の処理システムに使用可能なウェブの一例を示した図である。 本発明の一実施形態に係る、処理システムのウェブテンショナの拡大図である。 本発明の一実施形態に係る、処理システムのウェブインデクサのドラムの回転を示した図である。 非線形および線形領域を有するストライベック曲線を示した図である。 ウェブテンショナが静止したバキュームプレートを使用する場合のウェブインデクサの位置および速度を示したグラフである。 本発明の一実施形態に係る、ウェブテンショナが可動バキュームプレートを使用する場合のウェブインデクサおよびウェブテンショナの位置および速度を示したグラフである。 本発明の一実施形態に係る、処理システムに使用可能なリニアウェブインデクサの図である。 本発明の一実施形態に係る、可撓性基板を処理する方法の処理フロー図である。

本明細書に概説するとともに添付の図面に示す実施形態の構成要素は、多種多様な異なる構成で配置および設計することも可能であることが容易に了解される。このため、図面に描く種々実施形態に関する以下のより詳細な説明は、本開示の範囲を制限するものではなく、種々実施形態の代表に過ぎない。図面は、実施形態の種々態様を提示しているが、具体的な指定のない限り、必ずしも縮尺通りに描画したものではない。説明全体を通して、類似の要素を識別するのに類似の参照番号を使用する場合がある。本発明の実施形態の他の態様および利点については、添付の図面と併せて、以下の詳細な説明から明らかとなるであろう。

本発明は、その主旨または本質的特性から逸脱することなく、他の特定の形態で実施されていてもよい。記載された実施形態は、あらゆる点で例示に過ぎず、何ら制限するものではないと考えるべきである。したがって、本発明の範囲は、この詳細な説明ではなく、添付の特許請求の範囲によって示される。特許請求の範囲の均等の意味および範囲となるすべての変更は、当該範囲に含まれるものとする。

本明細書の全体を通して、特徴、利点、または類似表現の言及は、本発明により実現可能な特徴および利点がすべて、本発明の任意単一の実施形態に存在すべきことまたは存在することを暗示するものではない。特徴および利点に言及する表現はむしろ、一実施形態との関連で記載された特定の特徴、利点、または特性が本発明の少なくとも１つの実施形態に含まれることを意味するものと了解される。これにより、本明細書の全体を通して、特徴および利点に関する記述ならびに類似表現は、同じ実施形態を表していてもよいが、必ずしもそうではない。

さらに、本発明の記載の特徴、利点、および特性は、１つまたは複数の実施形態において、任意適当に組み合わされていてもよい。当業者であれば、本明細書の記載を踏まえて、特定の一実施形態の特定の特徴または利点のうちの１つまたは複数がなくても、本発明を実現可能であることが認識されよう。他の事例では、本発明のどの実施形態にも存在し得ない付加的な特徴および利点が特定の実施形態において認識されていてもよい。

本明細書の全体を通して、「一実施形態（one embodimentもしくはan embodiment）」または類似表現の言及は、指定の実施形態との関連で記載された特定の特徴、構造、または特性が本発明の少なくとも１つの実施形態に含まれることを意味する。これにより、本明細書の全体を通して、表現「一実施形態において（in one embodimentおよびin an embodiment）」ならびに類似表現はすべて、同じ実施形態を表していてもよいが、必ずしもそうではない。

図１は、本発明の一実施形態に係る、処理システム１００を示している。処理システムは、可撓性基板１０２に作用するが、本明細書においては可撓性基板１０２を「ウェブ（web）」と称する。可撓性基板は、任意の可撓性材料で構成可能である。一例として、可撓性基板は、長い紙、長いポリマー繊維担体、または長い可撓性金属であってもよいが、これらに限定されない。いくつかの用途において、ウェブは、電気的構造またはトレースが形成されていてもよい。処理システムは、ウェブに対する集積回路（ＩＣ）チップ等の電子部品のピックアンドプレース処理（pick-and-place process）等、１つまたは複数の処理をウェブに行えるように、ウェブを内部搬送および案内するように構成されている。以下に詳述する通り、処理システムは、ウェブを高精度に内部搬送するように動作する。

処理システム１００に使用可能なウェブ１０２の一例を図２に示す。図２に示すように、ウェブは、いくらかの距離だけ互いに分離された多くの電気的構造２０４を含む。これらの電気的構造としては、任意の種類の可撓性電子回路が可能である。これらの電気的構造は、処理システムによるウェブの処理に先立って、当該ウェブ上に作製される。いくつかの用途においては、電気的構造それぞれの正確な位置にデバイスを配置する必要があってもよい。このため、ウェブ上の指定の配置位置にデバイスを正確に配置できるように、ウェブを処理システムに正確に通すことが非常に重要である。

図１に戻って、処理システム１００は、巻き外しユニット（de-reeling unit）１１２、ウェブテンショナ（web tensioner）１１４、ウェブインデクサ（web indexer）１１６、処理装置１１８、巻き上げユニット（reeling unit）１２０、およびコントローラ１２２を備える。図１においては、処理システムの発明的特徴が曖昧になることのないように、当該システムのさまざまな構成要素の種々支持構造は示していない。図１に示すように、ウェブ１０２は、処理システムにより処理されているため、処理システムのさまざまな構成要素を通って搬送および案内されている。特に、ウェブは、ウェブインデクサにおいて処理装置により処理可能となるように、ウェブテンショナおよびウェブインデクサを通って巻き外しユニットから巻き上げユニットまで搬送される。ウェブテンショナ、ウェブインデクサ、および処理装置は、ウェブ処理セット（web processing set）と見なすことができる。図示の実施形態において、処理システムは、ウェブ処理セットを１つだけ具備する。ただし、他の実施形態において、処理システムは、１つまたは複数の付加的なウェブ処理セットを具備していてもよい。

処理システム１００の巻き外しユニット１１２は、通常は末端リール１２４に巻かれた処理対象のウェブ１０２のロールを巻き外すように動作する。巻き外しユニットは、張力が掛からない状態で、ウェブを次のモジュール（すなわち、ウェブテンショナ１１４）に供給する。巻き外しユニットは、ウェブが巻き外し可能となるように末端リール１２４を保持および回転する機構を含む。これらの機構は一般的に、従来の処理システムに見られるため、本明細書においては詳しく図示・説明はしない。

処理システム１００のウェブテンショナ１１４は、特にウェブインデクサ１１６において、システムを通るウェブ１０２の動きを高精度に制御可能となるように、ウェブに張力を付与するように動作する。一実施形態において、ウェブテンショナ１１４は、図３に最も良く示すように、ガス吸気圧またはガス負圧を用いてウェブの引っ張りまたは引き付けを行うバキュームプレートまたはテーブル１２６を含む。バキュームプレートによるウェブの吸引によって、ウェブに張力が付与される一方、ウェブは依然、搬送方向に沿って移動または走行可能であり、これを矢印１２８で示す。バキュームプレートには、吸引を付与する真空ポンプ（図示せず）に接続された多くの孔を含む。バキュームプレートは、両方向矢印１３０で示すように、搬送方向に前進および後進するように構成されている。以下に詳述する通り、バキュームプレートの制御された動きによって、ウェブは、高精度に搬送および案内可能である。バキュームプレートは、移動のため、当該バキュームプレートを所望の速度で所望の方向に変位可能なモータ等の１つまたは複数の駆動機構に結合されている。いくつかの実施形態において、バキュームプレートは、ウェブの横方向の動きを制御するため、両方向矢印１３２（図１参照）で示すように、搬送方向に対する横方向、すなわち搬送方向に直交する方向に移動するようにさらに構成されている。ウェブは、搬送方向に十分な張力が掛かっている状態で、ウェブインデクサ１１６によりインデキシング（index）または移動が行われた場合、横方向に大きくシフトすることはない。図１および図３に示す実施形態において、ウェブテンショナは、ウェブを受け入れる（interfacing）平坦な表面を有する板を含む。ただし、他の実施形態において、ウェブテンショナは、ドラム等、ウェブを受け入れる湾曲表面を備えた構成要素を含んでもよい。これらの実施形態において、ウェブテンショナの湾曲表面は、直線方向ではなく、回転方向に移動するようになっていてもよい。さらに別の実施形態において、ウェブテンショナは、ウェブに張力を付与する１つまたは複数のローラとして実現されていてもよい。

処理システム１００のウェブインデクサ１１６は、ウェブの特定の位置または部位が所望の処理位置へと変位するように、ウェブ１０２のインデキシングまたは精密な搬送を行うように動作する。たとえば、ウェブは、電気的構造２０４（図２参照）のうちの１つのウェブ上の指定位置が特定の位置と合って、デバイスが指定位置に配置可能となるように移動可能である。図示の実施形態において、ウェブインデクサは、ウェブテンショナ１１４と同様に、ガス吸気圧またはガス負圧を用いてウェブの引っ張りまたは引き付けを行う複数の吸引孔を備えた円形ドラム１３４を含む。ドラムによるウェブの吸引によって、ドラムは、搬送方向に回転した場合に、搬送方向にウェブを搬送または移動可能である。ドラムの吸引孔は、吸引を付与する真空ポンプ（図示せず）に接続されており、この真空ポンプは、ウェブテンショナに用いられるものと同じ真空ポンプであり得る。いくつかの実施形態において、ドラムの吸引は、ウェブテンショナのバキュームプレート１２６の吸引と異なっていてもよい。一例として、バキュームプレートの吸引は、ドラムの吸引より小さくてもよい。この差の理由として、ドラムの吸引では、ウェブをドラムに固定できればよいことから、最大化可能である。これに対して、バキュームプレートの吸引は、ウェブがこの吸引部分の上を移動する場合に、一定の保持力を生成してウェブに対する張力を生成するのに用いられるため、ドラムの吸引未満とすることができる。ドラムは、回転のため、制御された様態で当該ドラムを回転可能なモータ等の１つまたは複数の駆動機構に接続されている。いくつかの実施形態において、ドラムは、ウェブの横方向の動きを制御するため、図１の両方向矢印１３８で示すように、搬送方向に対する横方向、すなわち搬送方向に直交する方向に移動するようにさらに構成されている。

ウェブインデクサ１１６は、ドラム１３４を回転させることによって、ウェブ１０２のインデキシング（すなわち、ピッチ間隔でのウェブの搬送）が可能であり、これを図４に示す。図４に示すように、ウェブインデクサのドラムは、（矢印１３６で示す）搬送方向に対応する時計回りの方向に回転し、これによって、ウェブも同じ方向に移動する。本実施形態において、ウェブは、ウェブの特定の部位（たとえば、アンテナ構造２０４（図２参照）のうちの１つの上のダイ配置位置）が特定の瞬間に処理位置４００へと移動するように、ドラムの回転によって搬送される。特に、ウェブは、その所望の領域が処理位置で順次停止して処理可能となるように、ドラムによって断続的に搬送または移動される。一例として、ウェブは、１秒間に複数回、停止および始動するようになっていてもよい。ウェブは、その所望の領域が適切なタイミングで処理位置に停止するように、ドラムによって正確に搬送する必要がある。

ウェブ１０２の正確な搬送は、ウェブの正確な位置測定およびウェブインデクサ１１６の正確な制御によって得られる。ウェブインデクサの正確な位置制御は、高帯域制御ループおよび正確なフィードフォワードによって得られる。フィードフォワードは、加速力および摩擦力等の既知の力を補償する。ただし、摩擦力は、図５に示すストライベック曲線（Stribeck curve）で規定されるように、非常に複雑な速度依存であるため、補償が難しい。ストライベック曲線は、低速（図５の領域１および２）での摩擦力が完全に非線形で再現不可能であることを示している。ただし、一定の速度を超えると、摩擦力は速度に対して完全に線形である（図５の領域３）。

フィードフォワードによって補償する必要がある摩擦力は、ウェブテンショナ１１４の速度とウェブインデクサ１１６の回転速度（すなわち、ドラム表面の速度）との間の相対速度によって決まる。ウェブテンショナが、実現が最も容易な静止したバキュームプレートを用いる場合、ウェブテンショナとウェブインデクサとの間の相対速度は、図６に示すように、ゼロから最大搬送速度まで変化する。この場合、摩擦力は、通常のストライベック挙動となるが、これは、ゼロ速度、すなわちウェブインデクサが停止している場合の非反復挙動のため、補償が難しい。すなわち、ウェブは、初めに高摩擦でウェブテンショナに張り付き、ウェブがウェブテンショナに対する一定の速度を実現した後、低摩擦に切り替わることになる。

この困難を克服するため、ウェブテンショナ１１４のバキュームプレート１２６は、ウェブテンショナとウェブインデクサ１１６との間の相対速度を非ゼロ速度に保つことができるように、特定の速度プロファイルで逆搬送方向に移動する。相対速度が一定の閾値を上回る非ゼロである場合、摩擦力は、最終的により良い位置精度をもたらす簡単かつ予測可能な線形補償によって補償可能である。すなわち、相対速度の閾値がストライベック曲線の線形領域、すなわちストライベック曲線の領域３に維持されている場合、摩擦力の補償は、極めて容易である。このため、ウェブに処理を行えるようにウェブインデクサのドラム１３４が停止している場合、ウェブテンショナのバキュームプレートは、搬送方向の反対方向に移動して、ウェブとバキュームプレートとの間の一定速度を保つ。これにより、ウェブインデクサのドラムが移動を再開した場合、ウェブテンショナにおける摩擦力は、依然としてストライベック曲線の線形領域にある。ウェブインデクサのドラムが停止した際、ウェブテンショナにおける摩擦力がストライベック線形領域に維持されている場合、処理システム１００による次のサイクル（すなわち、ウェブが再度停止した場合）の正確なウェブ位置は、極めて容易に実現可能である。

一実施形態において、処理システム１００は、ウェブインデクサ１１６の移動（すなわち、ドラム１３４の回転移動）と同期するウェブテンショナ１１４のバキュームプレート１２６の運動プロファイルを作成することにより、ウェブテンショナとウェブインデクサとの間の相対速度を制御する設定値発生器（setpoint generator）１４０を備える。運動プロファイルは、ウェブテンショナの平均速度がゼロであり、ウェブインデクサの速度がゼロである場合に、ウェブテンショナの速度がゼロ未満、すなわち、マイナス搬送方向に移動するように生成される。本明細書において、ウェブテンショナの速度は、ウェブテンショナのバキュームプレート１２６の速度を表し、ウェブインデクサの速度は、ウェブインデクサのドラム１３４の回転速度を表す。また、運動プロファイルは、ウェブインデクサとウェブテンショナとの間の相対速度が一定の閾値を超えて維持され、ウェブテンショナとウェブとの間の摩擦力がストライベック曲線の線形領域、すなわちストライベック曲線の領域３にあるように生成される。図７は、所望の閾値速度を超えて維持されたウェブインデクサとウェブテンショナとの間の相対速度のほか、ウェブインデクサおよびウェブテンショナの位置および速度を示している。

図１に戻って、処理システム１００の処理装置１１８は、デバイスをウェブインデクサ１１６のドラム１３４上のウェブ１０２上で処理するように動作する。特に、処理装置１１８は、図４に示すように、ウェブの所望の部位が処理位置４００へと移動する間に、当該処理位置に対してデバイスを処理する。いくつかの実施形態において、処理装置は、ＩＣチップ等の電子部品をウェブの所望の部位に載せるピックアンドプレース装置である。ただし、他の実施形態において、処理装置は、ウェブインデクサまたはその近傍において、任意の処理をウェブに行える任意の処理装置であってもよい。

処理システム１００の巻き上げユニット１２０は、処理装置１１８により処理済みのウェブ１０２を別の末端リール１４２に巻き上げるように動作する。巻き外しユニット１１２と同様に、巻き上げユニットは、処理済みのウェブが末端リール１４２に巻き上げ可能となるように末端リール１４２を保持および回転する機構（図示せず）を含む。ウェブ全体が処理され、末端リール１４２に巻き上げられた後、処理済みのウェブを有する末端リールは、処理システムから取り外すことができる。

処理システム１００のコントローラ１２２は、巻き外しユニット１１２、ウェブテンショナ１１４、ウェブインデクサ１１６、処理装置１１８、および巻き上げユニット１２０等、システムのさまざまな構成要素を制御するように動作する。特に、コントローラは、ウェブインデクサの速度または回転のほか、ウェブテンショナの速度を制御する。いくつかの実施形態において、コントローラは、設定値発生器１４０により生成された運動プロファイルを用いて、ウェブインデクサとウェブテンショナとの間の相対速度を制御する。一実施形態において、設定値発生器は、コントローラ上で動作するコンピュータプログラムであってもよい。他の実施形態において、設定値発生器は、ソフトウェア、ハードウェア、およびファームウェアの任意の組み合わせにて実装されていてもよい。コントローラは、情報を処理するとともに処理システムのさまざまな構成要素を制御する１つもしくは複数のプロセッサおよび／または１つもしくは複数のマイクロコントローラを備えていてもよい。

他の実施形態において、ウェブインデクサ１１６は、リニアウェブインデクサ（linear web indexer）等、異なる種類のウェブインデキシング装置であってもよい。図８は、ウェブインデクサ１１６の代わりに処理システム１００に使用可能なリニアウェブインデクサ８００の一例を示している。図示のように、リニアウェブインデクサは、支持構造８０２および一対のローラ８０４を含む。支持構造８０２は、矢印１２８で示すようにウェブ１０２が搬送方向に沿って直線的に搬送される場合にウェブを支持する。ローラ８０４は、点線矢印８０６で示すように、ウェブの所望の各部位または領域が処理位置へと移動した場合にウェブが処理可能となるように、搬送方向に沿ってウェブを断続的に移動させるように動作する。処理システムには、ウェブを正確に搬送可能な他の種類のウェブインデキシング装置が用いられるようになっていてもよい。

図９は、本発明の一実施形態に係る、ウェブ１０２等の可撓性基板を処理する方法の処理フロー図である。ブロック９０２においては、可撓性基板がバキュームプレート上を搬送されるように、ウェブテンショナ１１４等のバキュームプレートを備えたウェブテンショナを介して、ウェブインデクサ１１６等のインデクサに可撓性基板を供給する。ブロック９０４においては、搬送方向に沿って、可撓性基板を断続的に移動させて処理する。ブロック９０６においては、可撓性基板（たとえば、ウェブ）が停止した場合であっても、すべての作動状態において、インデクサとテンショナのバキュームプレートとの間の相対速度が所定の閾値を超えて維持されるように、搬送方向に沿ってテンショナのバキュームプレートを移動させる。

本明細書の方法の工程は、特定の順序で図示および説明しているが、各方法の工程の順序が変更されて、特定の工程が逆の順序で実行されてもよいし、特定の工程の少なくとも一部が他の工程と同時に実行されてもよい。別の実施形態においては、異なる工程の命令または副工程が断続的および交互に、あるいは断続的もしくは交互に行われるようになっていてもよい。

上記説明においては、種々実施形態の具体的詳細を提供している。ただし、いくつかの実施形態を実現するために、これら具体的詳細をすべて用いなくてもよい。他の事例では、簡略化および明瞭化のため、本発明の種々実施形態が可能となる程度の詳しさで、特定の方法、手順、構成要素、構造、および／または機能が説明される。

以上、本発明の具体的な実施形態を説明および図示したが、本発明は、このように説明および図示した具体的な形態または部品配置に限定されない。本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲およびその均等物によって規定されるものとする。

Claims (18)

1. 処理システムであって、
   バキュームプレートを含むテンショナであって、前記テンショナは、搬送方向に沿って可撓性基板が前記バキュームプレート上を搬送される場合に前記可撓性基板に張力を付与するように構成され、前記可撓性基板は、ウェブであり、前記バキュームプレートが、搬送方向に沿って移動するように構成された、前記テンショナと、
   前記可撓性基板を断続的に移動させて処理するように構成されたインデクサであって、前記可撓性基板が配置される搬送面を含む前記インデクサと、
   前記インデクサが停止した場合に、前記インデクサ上の可撓性基板に処理を行う処理装置と、
   前記可撓性基板が停止した場合であっても、すべての作動状態において、前記インデクサの搬送面の速度と前記テンショナのバキュームプレートの速度との間の相対速度が所定の閾値を超えて維持されて該相対速度をストライベック曲線の線形領域に維持するように、前記テンショナおよび前記インデクサを制御するように構成されたコントローラと、を備える処理システム。
2. 前記コントローラが、前記インデクサが停止した場合に、前記テンショナのバキュームプレートを搬送方向の反対方向に移動させるように構成された、請求項１に記載の処理システム。
3. 前記コントローラが、前記インデクサと前記テンショナのバキュームプレートとの間の相対速度がストライベック曲線の線形領域に維持されるように、前記テンショナのバキュームプレートを移動させるように構成された、請求項１に記載の処理システム。
4. 前記処理装置が、デバイスを前記可撓性基板上に配置するピックアンドプレース装置である、請求項１に記載の処理システム。
5. 前記インデクサが、吸引孔を有するドラムを含むことにより、前記ドラムの回転時にウェブを移動させる、請求項１に記載の処理システム。
6. 前記インデクサが、リニアインデクサである、請求項１に記載の処理システム。
7. 前記テンショナが、回転方向に移動可能な曲面を有する、請求項１に記載の処理システム。
8. 前記可撓性基板が、紙、プラスチック、または金属製である、請求項１に記載の処理システム。
9. 可撓性基板を処理する方法であって、
   可撓性基板がバキュームプレート上を搬送されるように、前記バキュームプレートを含むテンショナを介して前記可撓性基板をインデクサの搬送面上に供給するステップであって、前記可撓性基板は、ウェブである、前記供給するステップと、
   搬送方向に沿って、前記可撓性基板を断続的に移動させて処理するステップと、
   前記可撓性基板が停止した場合であっても、すべての作動状態において、前記インデクサの搬送面の速度と前記テンショナのバキュームプレートの速度との間の相対速度が所定の閾値を超えて維持されてストライベック曲線の線形領域に維持するように、搬送方向に沿って前記テンショナのバキュームプレートを移動させるステップと、
   前記インデクサが停止した場合に、処理装置によって前記インデクサ上の可撓性基板に処理を行うステップと、を備える方法。
10. 前記テンショナのバキュームプレートを移動させるステップが、
    前記インデクサが停止した場合に、前記テンショナのバキュームプレートを搬送方向の反対方向に移動させるステップを含む、請求項９に記載の方法。
11. 前記テンショナのバキュームプレートを移動させるステップが、
    前記インデクサと前記テンショナのバキュームプレートとの間の相対速度がストライベック曲線の線形領域に維持されるように、前記テンショナのバキュームプレートを移動させるステップを含む、請求項９に記載の方法。
12. 前記可撓性基板を処理するステップが、
    デバイスを前記可撓性基板上に配置するステップを含む、請求項９に記載の方法。
13. 前記インデクサにおいて前記可撓性基板を断続的に移動させるステップが、
    前記インデクサの吸引孔を有するドラムを回転させて前記可撓性基板を移動させるステップを含む、請求項９に記載の方法。
14. 前記インデクサにおいて前記可撓性基板を断続的に移動させるステップが、
    前記インデクサにおいて前記可撓性基板を直線的に移動させるステップを含む、請求項９に記載の方法。
15. 処理システムであって、
    バキュームプレートを含むウェブテンショナであって、前記ウェブテンショナは、搬送方向に沿ってウェブが前記バキュームプレート上を搬送される場合に前記ウェブに張力を付与するように構成され、前記バキュームプレートが、搬送方向に沿って移動するように構成された、前記ウェブテンショナと、
    吸引孔を有するドラムを含むウェブインデクサであって、前記ドラムが、断続的な回転によって前記ウェブを移動させるように構成された、前記ウェブインデクサと、
    前記ウェブインデクサのドラム上で前記ウェブを処理するように構成された処理装置と、
    前記ウェブが停止した場合であっても、すべての作動状態において、前記ウェブインデクサのドラム表面の速度と前記ウェブテンショナのバキュームプレートの速度との間の相対速度が所定の閾値を超えて維持されてストライベック曲線の線形領域に維持するように、前記ウェブテンショナおよび前記ウェブインデクサを制御するように構成されたコントローラと、を備える処理システム。
16. 前記コントローラが、前記ウェブインデクサのドラムが停止した場合に、前記バキュームプレートを前記搬送方向の反対方向に移動させるように構成された、請求項１５に記載の処理システム。
17. 前記コントローラが、前記ウェブインデクサのドラムと前記ウェブテンショナのバキュームプレートとの間の相対速度がストライベック曲線の線形領域に維持されるように、前記ウェブテンショナのバキュームプレートを移動させるように構成された、請求項１５に記載の処理システム。
18. 前記処理装置が、デバイスを前記ウェブインデクサのドラム上のウェブ上に配置するピックアンドプレース装置である、請求項１５に記載の処理システム。