JP5821944B2 - 搬送装置、製造システム - Google Patents

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Description

本発明は、搬送装置、製造システムに関する。
本願は、2011年2月24日に出願された米国特許仮出願61/446,150号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
ディスプレイ装置などの表示装置を構成する表示素子として、例えば液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)素子が知られている。現在、これらの表示素子では、各画素に対応して基板表面に薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor:TFT)を形成する能動的素子(アクティブデバイス)が主流となってきている。
近年では、シート状の基板(例えばフィルム部材など)上に表示素子を形成する技術が提案されている。このような技術として、例えばロール・トゥ・ロール方式(以下、単に「ロール方式」と表記する)と呼ばれる手法が知られている(例えば、特許文献1参照)。ロール方式は、基板供給側の供給用ローラーに巻かれた1枚のシート状の基板(例えば、帯状のフィルム部材)を送り出すと共に送り出された基板を基板回収側の回収用ローラーで巻き取りながら、供給用ローラーと回収用ローラーとの間に設置された処理装置により基板に所望の加工を施していくものである。
基板が送り出されてから巻き取られるまでの間に、例えば複数の搬送ローラー等を用いて基板が搬送され、複数の処理装置(ユニット)を用いてTFTを構成するゲート電極、ゲート絶縁膜、半導体膜、ソース・ドレイン電極等を形成し、基板の被処理面上にフレキシブル・ディスプレー用の表示素子の構成要素を順次形成する。例えば、有機ELの素子を形成する場合には、発光層、陽極、陰極、電気回路等を基板上に順次形成する。
国際公開第2006/100868号
しかしながら、上記の構成においては、送り出されてから巻き取られるまで掛け渡される基板の寸法が長くなるため、基板の管理が困難になる場合がある。
本発明の態様は、搬送時における基板の管理負担を低減できる搬送装置を提供することを目的とする。
本発明の態様に従えば、帯状に形成された可撓性の基板を処理装置に搬送する搬送装置であって、前記基板が巻かれた供給ローラーを保持し、前記処理装置に前記供給ローラーからの基板を帯状の方向に送り出す基板送り出し機構と、前記基板を巻き取る回収ローラーを保持し、前記供給ローラーから送り出されて前記処理装置を通った前記基板を回収する基板巻き取り機構と、前記基板送り出し機構を、前記基板の送り方向と交差する交差方向に移動させる第一駆動部と、前記基板巻き取り機構を前記交差方向に移動させる第二駆動部と、基台に設けられ、前記基板送り出し機構の前記交差方向への移動を案内する第一レールと、前記基台の前記第一レールから離れた位置に設けられ、前記基板巻き取り機構の前記交差方向への移動を案内する第二レールと、前記基板の送り方向に関する前記供給ローラーと前記回収ローラーの間隔を変える為に、前記第一レールと前記第二レールとのうち少なくとも一方を駆動して、前記基板送り出し機構と前記基板巻き取り機構とが互いに接近又は離間させるレール駆動部と、前記供給ローラーから前記回収ローラーに、前記基板の先端部を送り出す場合に、前記第一レールと前記第二レールとの間が第一距離となるように前記レール駆動部を制御する制御部と、を備える搬送装置が提供される。
本発明の態様によれば、搬送時における基板の管理負担を低減できる。
本発明の実施の形態に係る搬送装置の全体構成を示す斜視図である。 本実施形態に係る搬送装置の一部の構成を示す斜視図である。 本実施形態に係る搬送装置の動作の様子を示す平面図である。 本実施形態に係る搬送装置の動作の様子を示す図である。 本実施形態に係る搬送装置の動作の様子を示す図である。 本発明に係る搬送装置の他の例を示す平面図である。 本発明に係る搬送装置の他の例を示す正面図である。 本発明に係る搬送装置の他の例を示す図である。
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
図1は、本実施形態に係る搬送装置1の全体構成を示す斜視図である。図2は、搬送装置1の一部の構成について、図1とは異なる視点から見たときの状態を示す斜視図である。
図1及び図2に示すように、搬送装置1は、帯状に形成され可撓性を有する基板Sを搬送する装置であり、例えば製造工場の床面FLに設けられている。搬送装置1は、基台(ペデスタル)2、第一レール3、第二レール4、基板送り出し機構5、基板巻き取り機構6、レール駆動機構7、ローラー駆動部8及び制御装置CONTを有している。
搬送装置1は、帯状に形成され可撓性を有する基板Sの表面に各種処理を実行するロール・トゥ・ロール方式(以下、単に「ロール方式」と表記する)のシステムに用いられる。このようなロール方式のシステムは、基板S上に例えば有機EL素子、液晶表示素子等の表示素子(電子デバイス)を形成する場合に用いられる。勿論、これらの素子以外(例えば、ソーラーセル、カラーフィルター、タッチパネル等)の素子を形成するシステムにおいて搬送装置1を用いても構わない。
以下、本実施形態に係る搬送装置1の構成を説明するにあたり、XYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。以下の図においては、XYZ直交座標系のうち床面FLに平行な平面をXY平面としている。XY平面のうち基板Sがロール方式によって移動する方向(長尺方向)をY方向とし、Y方向に直交する方向をX方向としている。また、床面FL(XY平面)に垂直な方向をZ軸方向としている。
基板処理装置PAにおいて処理対象となる基板Sとしては、例えば樹脂フィルムやステンレス鋼などの箔(フォイル)を用いることができる。例えば、樹脂フィルムは、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ステンレス箔などの材料を用いることができる。
基板Sの短尺方向の寸法は例えば50cm〜2m程度に形成されており、長尺方向の寸法(1ロール分の寸法)は例えば10m以上に形成されている。勿論、この寸法は一例に過ぎず、これに限られることは無い。例えば基板Sの短尺方向の寸法が1m以下、又は50cm以下であっても構わないし、2m以上であっても構わない。本実施形態においては、短尺方向の寸法が2mを超える基板Sを用いても構わない。また、基板Sの長尺方向の寸法が10m以下であっても構わない。
基板Sは、例えば1mm以下の厚みを有し、可撓性を有するように形成されている。ここで可撓性とは、例えば基板に少なくとも自重程度の所定の力を加えても線断したり破断したりすることはなく、この基板を撓めることが可能な性質をいう。また、例えば上記所定の力によって屈曲する性質も可撓性に含まれる。また、上記可撓性は、この基板の材質、大きさ、厚さ、又は温度、湿度などの環境、等に応じて変わる。なお、基板Sとしては、1枚の帯状の基板を用いても構わないが、複数の単位基板を接続して帯状に形成される構成としても構わない。
基板Sは、比較的高温(例えば200℃程度)の熱を受けても寸法が実質的に変わらない(熱変形が小さい)ように熱膨張係数が比較的小さい方が好ましい。例えば、無機フィラーを樹脂フィルムに混合して熱膨張係数を小さくすることができる。無機フィラーの例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ケイ素などが挙げられる。
基台2は、ベース部2a、脚部2b及び支持台2cを有している。ベース部2aは床面FLに載置されている。脚部2bは、ベース部2a上に複数設けられており、支持台2cを支持している。支持台2cは、例えば矩形に形成されており、X方向に、処理装置PAが取り付けられる開口部と、その開口部を挟むように設けられた3つの開口部2dが設けられている。すなわち、支持台2cには、X方向に沿って3つの開口部2dが設けられている。3つの開口部2d内には、Y軸方向に平行に延在する案内レール7rが設けられている。案内レール7rは、各開口部2dについてX方向に2つ平行に並んで設けられている。
第一レール3は、支持台2cの+Y側の辺に沿って配置されている。第一レール3は、3つの単位レール3A〜3Cに分割されている。各単位レール3A〜3Cは、支持台2cの3つの開口部2dのそれぞれに対応する位置に配置されている。単位レール3A〜3CのX方向の寸法は、各開口部2dのX方向の寸法に対応した値となっている。
第二レール4は、支持台2cの−Y側の辺に沿って配置されている。第二レール4は、3つの単位レール4A〜4Cに分割されている。各単位レール4A〜4Cは、上記の単位レール3A〜3Cと同様、支持台2cの3つの開口部2dのそれぞれに対応する位置に配置されている。単位レール4A〜4CのX方向の寸法は、各開口部2dのX方向の寸法に対応した値となっており、上記の単位レール3A〜3CのX方向の寸法と同一の寸法になっている。
第一レール3の単位レール3A〜3C及び第二レール4の単位レール4A〜4Cは、各開口部2dに設けられ、かつY方向に延びた案内レール7rにそれぞれ支持されている。図1に示す構成では、単位レール3A〜3Cが案内レール7rの+Y側端部に支持されており、単位レール4A〜4Cが案内レール7rの−Y側端部に支持されている。
第一レール3の単位レール3A〜3Cと、第二レール4の単位レール4A〜4Cとは、それぞれX軸方向に平行に配置されている。また、案内レール7rがY軸方向に平行に延在しているため、単位レール3A〜3C及び単位レール4A〜4Cは、互いに平行な状態を維持しつつ案内レール7r上をY方向に移動可能に設けられている。このように、第一レール3及び第二レール4は、案内レール7rによってXY平面に平行な平面上を直線状に移動可能な構成となっている。
基板送り出し機構5は、第一レール3上に配置されている。基板送り出し機構5は、ローラー支持部5a及び供給ローラー5bを有している。ローラー支持部5aは、第一レール3上に接続されており、第一レール3に沿ってX方向に移動(案内)可能に設けられている。ローラー支持部5aは、第一レール3を構成する単位レール3A〜3Cに亘って移動可能である。
供給ローラー5bは、ローラー支持部5aに回転可能に支持されている。供給ローラー5bは、回転軸の方向がX方向に平行な方向に一致するように支持されている。供給ローラー5bには基板Sがロール状に巻きつけられている。供給ローラー5bが回転することにより、前記供給ローラー5bに巻きつけられた基板Sが−Y方向に送り出されるようになっている。供給ローラー5aは、モータ等によって回転可能である。
基板巻き取り機構6は、第二レール4上に配置されている。基板巻き取り機構6は、ローラー支持部6a及び回収ローラー6bを有している。ローラー支持部6aは、第二レール4上に接続されており、第二レール4に沿ってX方向に移動(案内)可能に設けられている。ローラー支持部6aは、第二レール4を構成する単位レール4A〜4Cに亘って移動可能である。
回収ローラー6bは、ローラー支持部6aに回転可能に支持されている。回収ローラー6bは、回転軸の方向がX方向に平行な方向に一致するように支持されている。回収ローラー6bには基板Sがロール状に巻きつけられている。回収ローラー6bが回転することにより、この回収ローラー6bに基板Sが巻きつけられるようになっている。回収ローラー6bは、モータ等によって回転可能である。
レール駆動機構7は、案内レール7rに沿って第一レール3及び第二レール4をY方向に移動させる。レール駆動機構7は、第一レール3を単位レール3A〜3Cごとに駆動可能であると共に、第二レール4を単位レール4A〜4Cごとに駆動可能である。制御装置CONTは、レール駆動機構7による駆動量、駆動速度及び駆動のタイミングなどを制御可能である。レール駆動機構7は、案内レール7rに沿って、単位レール3Aと単位レール4Aとを互いに近づけたり、互いに離したりすることが可能である。また、レール駆動機構7は、案内レール7rに沿って、単位レール3Bと単位レール4Bとを互いに近づけたり、互いに離したりすることが可能である。また、レール駆動機構7は、案内レール7rに沿って、単位レール3Cと単位レール4Cとを互いに近づけたり、互いに離したりすることが可能である。
ローラー駆動部8は、第一駆動部83及び第二駆動部84を有している。第一駆動部83は、ローラー支持部5aを第一レール3に沿ってX方向に移動させると共に、供給ローラー5bを回転させる。第二駆動部84は、ローラー支持部6aを第二レール4に沿ってX方向に移動させると共に、回収ローラー6bを回転させる。制御装置CONTは、第一駆動部83及び第二駆動部84を個別にあるいは同期させて制御することができるようになっている。また、制御装置CONTは、第一駆動部83及び第二駆動部84における駆動量、駆動速度、駆動のタイミングなどを制御可能である。
次に、図3等を参照して、上記のように構成された搬送装置1の動作を説明する。図3は、搬送装置1の動作を示す平面図である。
まず、供給ローラー5bと回収ローラー6bとの間に基板Sを掛け渡す動作を行う場合について説明する。
この場合、制御装置CONTは、基板送り出し機構5を第一レール3の単位レール3A上に配置させると共に、基板巻き取り機構6を第二レール4の単位レール4A上に配置させる。この動作により、供給ローラー5bと回収ローラー6bとがY方向に対向するように、かつ、平行に配置される。
次に、供給ローラー5bにロール状に巻かれた基板Sを取り付ける。基板Sの先端Sfには、例えば図3に示す構成ではリーダLfが取り付けられているが、このリーダLfが省略された構成であっても構わない。供給ローラー5bにロール状の基板Sを取り付けた後、制御装置CONTは、第二レール4の単位レール4Aを+Y方向へ移動させる。この動作により、供給ローラー5bと回収ローラー6bとが近づく。
制御装置CONTは、供給ローラー5bと回収ローラー6bとの距離が第一距離D1になった場合、第一駆動部83によって供給ローラー5bを回転させる。この動作により、基板Sの先端Sfが回収ローラー6b側へ送り出され、基板Sの先端Sfが回収ローラー6bに到達してこの回収ローラー6bに巻き掛けられる。なお、基板Sの先端Sfを回収ローラー6bに巻きかける操作は、自動化されていてもよいが、人手によって、先端Sfを回収ローラー6bに、固定テープ等を用いて貼り付けてもよい。
制御装置CONTは、基板Sの先端Sfが回収ローラー6bに掛けられた後、供給ローラー5bを回転させると共に、供給ローラー5bと回収ローラー6bとの距離が第二距離(基板巻き取り機構6が元の位置に到達する距離)まで、単位レール4Aを−Y方向へ移動させる。この動作により、基板Sの先端Sfが回収ローラー6bに掛けられた状態で−Y方向へ引き出される。
基板巻き取り機構6が元の位置に到達した後、制御装置CONTは、前記基板巻き取り機構6の移動を停止させる。その後、制御装置CONTは、図4に示すように、第一駆動部83及び第二駆動部84によって基板送り出し機構5及び基板巻き取り機構6を同期させて、それぞれ単位レール3B上及び単位レール4B上へ移動させる。なお、この動作に先立って、単位レール3Bと単位レール4Bとの間に処理装置PAを配置させておく。このとき、供給ローラー5bと回収ローラー6bとの間に掛け渡された基板Sが、Y方向に適度なテンションを与えられて平坦に張るように、基板送り出し機構5と基板巻き取り機構6を制御する。
この処理装置PAは、基板Sの被処理面Saに対して例えば有機EL素子を形成するための各種処理部を有している。このような処理部としては、例えば被処理面Sa上に隔壁を形成するための隔壁形成装置、有機EL素子を駆動するための電極を形成するための電極形成装置、発光層を形成するための発光層形成装置などが設けられる。
より具体的には、液滴塗布装置(例えばインクジェット型塗布装置、スプレーコート型塗布装置、グラビア印刷機など)、蒸着装置、スパッタリング装置などの成膜装置や、露光装置、現像装置、表面改質装置、洗浄装置などが挙げられる。処理装置PAとして、有機EL素子を形成するための処理部に限られず、他の素子を形成する処理部を有する処理装置を配置させても勿論構わない。
制御装置CONTは、基板送り出し機構5及び基板巻き取り機構6をそれぞれ単位レール3B及び4B上に配置させた後、処理装置PAの処理のタイミングに合わせて供給ローラー5b及び回収ローラー6bを回転させる。この動作により、供給ローラー5bから基板Sが矢印K2のように送り出されると共に、回収ローラー6bで基板Sが巻き取られる状態となり、この状態で処理装置PAによる処理が基板Sの被処理面Saに対して行われることになる。
制御装置CONTは、処理装置PAの処理速度に応じて、供給ローラー5bから回収ローラー6bへと移動する基板Sの移動速度を調整する。例えば、供給ローラー5bに巻かれた基板Sの巻き径R1と、回収ローラー6bに巻かれた基板Sの巻き径R2と、に応じて、第一駆動部83及び第二駆動部84における駆動速度を調整させる。この動作により、搬送速度が一定のまま基板Sが搬送されることになる。
制御装置CONTは、処理装置PAの処理位置やY方向の寸法などに応じて、供給ローラー5bと回収ローラー6bとの距離を調整しても構わない。この場合、制御装置CONTは、レール駆動機構7によって例えば単位レール3Bあるいは単位レール4BをY方向にそれぞれ移動させるようにする。処理装置PAにより、表示素子の構成要素の一部あるいは全部が基板S上に順次形成される。
基板Sに対する処理が完了した後、制御装置CONTは、第一駆動部83及び第二駆動部84により、基板送り出し機構5及び基板巻き取り機構6を同期させて、それぞれ単位レール3C上及び単位レール4C上へと移動させる。図5に示すように、基板送り出し機構5及び基板巻き取り機構6が単位レール3C上及び単位レール4C上に配置された後、基板送り出し機構5及び基板巻き取り機構6の移動を停止させる。この際、供給ローラー5bと回収ローラー6bとの間に掛け渡された基板Sは、撓むことなく、水平に張られていることが望ましい。
制御装置CONTは、基板送り出し機構5及び基板巻き取り機構6の移動を停止させた後、回収ローラー6bを回転させつつ単位レール4Cを+Y方向へ移動させる。この動作により、回収ローラー6bが基板Sを巻き取りながら供給ローラー5bと回収ローラー6bとが再び近づく。
制御装置CONTは、供給ローラー5bと回収ローラー6bとの距離が第三距離D2になった後、図5に示すように、第一駆動部83によって供給ローラー5bを回転させる。この場合、第三距離D2については、例えば上記の第一距離D1と等しい距離とすることができる。この動作により、基板Sの後端Seが回収ローラー6b側へ送り出され、基板Sの後端Seは回収ローラー6bに到達してこの回収ローラー6bに巻き掛けられる。なお、基板Sの後端Seには、例えば図5に示す構成ではリーダLeが取り付けられているが、このリーダLeが省略された構成であっても構わない。
制御装置CONTは、基板Sの後端Seが回収ローラー6bに掛けられた後、供給ローラー5bと回収ローラー6bとの距離が第二距離(基板巻き取り機構6が元の位置に到達する距離)まで、単位レール4Cを−Y方向へ移動させる。基板巻き取り機構6が元の位置へ戻った後、回収ローラー6bに巻かれたロール状の基板Sは、次の処理装置へと移動される。あるいは、基板Sに対してすべての処理が行われている場合には、前記回収ローラー6bから取り外されて回収される。
以上のように、本実施形態によれば、基台2に第一レール3及び第二レール4が設けられ、第一レール3には前記第一レール3上を移動可能な供給ローラー5bが設けられており、第二レール4には前記第二レール4上を移動可能な回収ローラー6bが設けられており、第一レール3及び第二レール4はレール駆動機構7によって駆動可能であるため、供給ローラー5bと回収ローラー6bとの間で基板Sをコンパクトに搬送できる。これにより、送り出されてから巻き取られるまで掛け渡される基板Sの寸法が長くなることを抑えることができるため、搬送時の基板Sの管理負担を低減できる。
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
上記実施形態では、第一レール3及び第二レール4がXY平面に平行な方向へ移動する構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば、第一レール3及び第二レール4がZ方向に移動可能な構成としても構わない。
図6は搬送装置1の他の例を示す平面図であり、図7は図6の搬送装置1の例を示す側面図である。
図6及び図7に示すように、搬送装置1の基台2に相当する構成は、本例では、4つの支持台20A〜20Dを有する構成となっている。支持台20Aには、単位レール3A及び4Aが配置されている。単位レール3Aと単位レール4Aとの間に第一処理装置PA1が接続されるようになっている。
支持台20Bには、単位レール3B及び単位レール4Bが配置されている。支持台20Bは、支持台20A、支持台20C及び支持台20Dとは分離されている。支持台20Bは、昇降機構9によってZ方向に単独で移動可能に設けられている。昇降機構9は、支持柱9a、案内柱9b及びアクチュエータ9cを有している。アクチュエータ9cの駆動により、支持台20Bは支持柱9aに支持された状態で、案内柱9bに沿ってZ方向に移動するようになっている。アクチュエータ9cの駆動量、駆動速度及び駆動のタイミングについては、例えば第二制御装置CONT2によって制御可能となっている。なお、制御装置CONTにおいてまとめて行わせても構わない。
支持台20C及び支持台20Dは、Z方向に並んで配置されている。支持台20Cは+Z側、支持台20Dは−Z側に、それぞれ設けられている。支持台20Cには、単位レール3C及び4Cが設けられている。この単位レール3Cと単位レール4Cとの間には、第二処理装置PA2が接続可能である。第二処理装置PA2では、例えば第一処理装置PA1の後工程処理が行われる。
支持台20Dには、単位レール3D及び4Dが設けられている。この単位レール3Dと単位レール4Dとの間には、第三処理装置PA3が接続可能である。第三処理装置PA3では、第二処理装置PA2と同一の処理(ここでは、第一処理装置PA1の後工程処理)が行われる。
なお、図6及び図7で示す実施形態では、第二処理装置PA2及び第三処理装置PA3において、同一の処理(第一処理装置PA1の後工程処理)が行われる例に挙げて説明するが、これに限られることは無い。例えば、第二処理装置PA2及び第三処理装置PA3では、それぞれ別々の処理が行われる構成としても構わない。
さらに、第二処理装置PA2と第三処理装置PA3を、構成上は全く同一の装置とし、装置によって処理条件(温度や湿度、処理時間、基板の送り速度、テンション量等)を異ならせて設定するような構成としても構わない。
支持台20Bは、昇降機構9によってそれぞれ支持台20C及び支持台20Dと等しいZ位置に移動可能に設けられている。支持台20Bと支持台20Cとが等しいZ位置に配置された場合には、単位レール3B及び4Bと、単位レール3C及び4Cとが接続可能となる。この場合、制御装置CONTは、単位レール3Bと単位レール4Bとの距離を、単位レール3Cと単位レール4Cとの距離に等しくなるように調整させる。
同様に、支持台20Bと支持台20Dとが等しいZ位置に配置された場合には、単位レール3B及び4Bと、単位レール3D及び4Dとが接続可能となる。この場合、制御装置CONTは、単位レール3Bと単位レール4Bとの距離を、単位レール3Dと単位レール4Dとの距離に等しくなるように調整させる。
このような構成に係る搬送装置1を作動させる場合、上記実施形態と同様に、第一レール3には基板送り出し機構5を配置させ、第二レール4には基板巻き取り機構6を配置させ、供給ローラー5bと回収ローラー6bとの間に基板Sを掛け渡してこの2つのローラー間で基板Sを搬送させる。
この場合、支持台20Bが支持台20C及び支持台20Dの両方に選択的にアクセス可能な構成であるため、第一処理装置PA1を経た基板Sが第二処理装置PA2と第三処理装置PA3とへ交互に移動するように基板Sの移動先を設定できる。これにより、例えば第二処理装置PA2及び第三処理装置PA3での基板Sの搬送速度が第一処理装置PA1での基板Sの搬送速度に比べて遅い場合、基板Sが第二処理装置PA2及び第三処理装置PA3の前で処理待ち状態となってしまうのを防ぐことができる。
なお、基板送り出し機構5及び基板巻き取り機構6の各々に、供給ローラー5b、回収ローラー6bの高さを調節するエレベータを設けることにより、基板送り出し機構5から基板巻き取り機構6に渡る基板Sの高さ又は傾斜を調整できる。なお、供給ローラー5bと回収ローラー6bとの間に基板Sを掛け渡した状態を、基板セット(ロールセット)と称する。
以上のように、第1処理装置PA1で第1基板セットの基板Sに対する処理が終了し、第1基板セットの回収ローラー及び供給ローラーを支持台20B上に移動させた後、新たな処理対象となる第2基板セットの供給ローラー及び回収ローラーを第1処理装置PA1に搬入できる。
すなわち、第1基板セットを第2処理装置PA2又は第3処理装置PA3のいずれか一方に搬入するタイミングと、第2基板セットを第1処理装置PA1に搬入するタイミングとを調整できるため、複数の基板セットを順次処理することが可能になる。
また、第2処理装置PA2、第3処理装置PA3の後にも、支持台20Bのような構成を設けることにより、次の処理工程の装置(PA4)に、基板セットを搬入できる。
さらに、本実施形態の構成では、送り出し機構5と巻き取り機構6との間に基板Sを掛け渡した状態で、基板Sを処理装置PA(PA1、PA2、PA3)間をX方向に移動させることができる。この場合、各処理装置(PA)の一例として、図8のように、上部ユニット100Aと下部ユニット100Bに分離可能な構成とし、Y方向のテンションが加えられた状態で、基板送り出し機構5と基板巻き取り機構6との間に掛け渡された基板Sが上部ユニット100Aと下部ユニット100Bの間の空間をX方向に通過できる形態にする。
上部ユニット100A,下部ユニット100Bの基板Sの投入口側と退出口側には、基板Sを案内する為のローラー101a,101b、102a,102bが設けられる。各処理装置PAは、上部ユニット100Aと下部ユニット100Bの何れか一方、又は両方が不図示の昇降機構によって必要量だけZ方向に移動可能である。このような処理装置PAとしては、印刷機(インクジェットプリンターも含む)、プラズマ装置、蒸着装置、露光装置などを用いることができる。
1…搬送装置 2…基台 3…第一レール 3A〜3D…単位レール 4…第二レール 4A〜4D…単位レール 5b…供給ローラー 6b…回収ローラー 7…レール駆動機構 7r…案内レール 8…ローラー駆動部 9…昇降機構 9c…アクチュエータ 20A〜20D…支持台 83…第一駆動部 84…第二駆動部 上部ユニット…100A 下部ユニット…100B CONT…制御装置 CONT2…第二制御装置 D1…第一距離 D2…第三距離 PA(PA1、PA2、PA3)…処理装置 S…基板 Sf…基板Sの先端 Se…基板Sの後端

Claims (13)

  1. 帯状に形成された可撓性の基板を処理装置に搬送する搬送装置であって、
    前記基板が巻かれた供給ローラーを保持し、前記処理装置に前記供給ローラーからの基板を帯状の方向に送り出す基板送り出し機構と、
    前記基板を巻き取る回収ローラーを保持し、前記供給ローラーから送り出されて前記処理装置を通った前記基板を回収する基板巻き取り機構と、
    前記基板送り出し機構を、前記基板の送り方向と交差する交差方向に移動させる第一駆動部と、
    前記基板巻き取り機構を前記交差方向に移動させる第二駆動部と、
    基台に設けられ、前記基板送り出し機構の前記交差方向への移動を案内する第一レールと、
    前記基台の前記第一レールから離れた位置に設けられ、前記基板巻き取り機構の前記交差方向への移動を案内する第二レールと、
    前記基板の送り方向に関する前記供給ローラーと前記回収ローラーの間隔を変える為に、前記第一レールと前記第二レールとのうち少なくとも一方を駆動して、前記基板送り出し機構と前記基板巻き取り機構とが互いに接近又は離間させるレール駆動部と、
    前記供給ローラーから前記回収ローラーに、前記基板の先端部を送り出す場合に、前記第一レールと前記第二レールとの間が第一距離となるように前記レール駆動部を制御する制御部と、
    を備える搬送装置。
  2. 前記処理装置に対して、前記基板を前記交差方向に移動させるときは、前記第一駆動部と前記第二駆動部とを同期駆動する
    請求項1に記載の搬送装置。
  3. 前記レール駆動部は、前記第一レールと前記第二レールとを前記基板の送り方向に互いに接近又は離間するように前記第一レール及び前記第二レールのうち少なくとも一方を案内する案内部を有する、
    請求項に記載の搬送装置。
  4. 前記制御部は、前記基板の前記先端部が前記回収ローラーに巻き取られた後、前記第一レールと前記第二レールとの間が第二距離となるように前記レール駆動部を制御する
    請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の搬送装置。
  5. 前記制御部は、前記回収ローラーによって前記基板の後端部まで巻き取る場合に、前記第一レールと前記第二レールとの間が第三距離となるように前記レール駆動部を制御する
    請求項1から請求項3のうちのいずれか一項に記載の搬送装置。
  6. 前記制御部は、前記基板の前記後端部が前記回収ローラーに巻き取られた後、前記第一レールと前記第二レールとの間が第二距離となるように前記レール駆動部を制御する
    請求項に記載の搬送装置。
  7. 前記制御部は、前記レール駆動部を制御して、前記供給ローラーと前記回収ローラーとの間で前記基板が掛け渡されている状態において前記基板のうち掛け渡された部分の長さを調整する
    請求項1から請求項4のうちのいずれか一項に記載の搬送装置。
  8. 前記レール駆動部は、前記第一レール及び前記第二レールを重力方向に沿って案内する第二案内部を有する
    請求項1から請求項3のうちのいずれか一項に記載の搬送装置。
  9. 前記レール駆動部による前記第二案内部を介した駆動を制御する第二制御部を更に備え、
    前記第二制御部は、前記基板送り出し機構から前記基板巻き取り機構へと移動する前記基板の移動速度に応じて、重力方向に沿って設定された複数の高さ位置の間を前記第一レール及び前記第二レールが移動するように、前記レール駆動部による駆動量を調整する
    請求項8に記載の搬送装置。
  10. 前記第一レール及び前記第二レールは、複数の単位レールに分割されており、
    前記レール駆動部は、前記単位レールごとに駆動可能である
    請求項1から請求項3のうちのいずれか一項に記載の搬送装置。
  11. 前記第一レールと前記第二レールは、前記供給ローラーから前記回収ローラーへ向けて搬送される前記基板の前記送り方向に関して、前記処理装置を挟んで設置される
    請求項1から請求項3のうちのいずれか一項に記載の搬送装置。
  12. 前記処理装置は、前記基板上に異なる処理を施す為の複数の処理装置を含み、
    該複数の処理装置は前記第一レールと前記第二レールの延設する前記交差方向に並べて配置される
    請求項11に記載の搬送装置。
  13. 請求項12に記載の搬送装置と前記複数の処理装置を床上に設置して、前記基板上に可撓性の表示デバイス、又は可撓性の電子回路を形成する製造システム。
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