JP5821944B2 - 搬送装置、製造システム - Google Patents

Description

本発明は、搬送装置、製造システムに関する。
本願は、２０１１年２月２４日に出願された米国特許仮出願６１／４４６，１５０号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

ディスプレイ装置などの表示装置を構成する表示素子として、例えば液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子が知られている。現在、これらの表示素子では、各画素に対応して基板表面に薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）を形成する能動的素子（アクティブデバイス）が主流となってきている。

近年では、シート状の基板（例えばフィルム部材など）上に表示素子を形成する技術が提案されている。このような技術として、例えばロール・トゥ・ロール方式（以下、単に「ロール方式」と表記する）と呼ばれる手法が知られている（例えば、特許文献１参照）。ロール方式は、基板供給側の供給用ローラーに巻かれた１枚のシート状の基板（例えば、帯状のフィルム部材）を送り出すと共に送り出された基板を基板回収側の回収用ローラーで巻き取りながら、供給用ローラーと回収用ローラーとの間に設置された処理装置により基板に所望の加工を施していくものである。

基板が送り出されてから巻き取られるまでの間に、例えば複数の搬送ローラー等を用いて基板が搬送され、複数の処理装置(ユニット)を用いてＴＦＴを構成するゲート電極、ゲート絶縁膜、半導体膜、ソース・ドレイン電極等を形成し、基板の被処理面上にフレキシブル・ディスプレー用の表示素子の構成要素を順次形成する。例えば、有機ＥＬの素子を形成する場合には、発光層、陽極、陰極、電気回路等を基板上に順次形成する。

国際公開第２００６／１００８６８号

しかしながら、上記の構成においては、送り出されてから巻き取られるまで掛け渡される基板の寸法が長くなるため、基板の管理が困難になる場合がある。

本発明の態様は、搬送時における基板の管理負担を低減できる搬送装置を提供することを目的とする。

本発明の態様に従えば、帯状に形成された可撓性の基板を処理装置に搬送する搬送装置であって、前記基板が巻かれた供給ローラーを保持し、前記処理装置に前記供給ローラーからの基板を帯状の方向に送り出す基板送り出し機構と、前記基板を巻き取る回収ローラーを保持し、前記供給ローラーから送り出されて前記処理装置を通った前記基板を回収する基板巻き取り機構と、前記基板送り出し機構を、前記基板の送り方向と交差する交差方向に移動させる第一駆動部と、前記基板巻き取り機構を前記交差方向に移動させる第二駆動部と、基台に設けられ、前記基板送り出し機構の前記交差方向への移動を案内する第一レールと、前記基台の前記第一レールから離れた位置に設けられ、前記基板巻き取り機構の前記交差方向への移動を案内する第二レールと、前記基板の送り方向に関する前記供給ローラーと前記回収ローラーの間隔を変える為に、前記第一レールと前記第二レールとのうち少なくとも一方を駆動して、前記基板送り出し機構と前記基板巻き取り機構とが互いに接近又は離間させるレール駆動部と、前記供給ローラーから前記回収ローラーに、前記基板の先端部を送り出す場合に、前記第一レールと前記第二レールとの間が第一距離となるように前記レール駆動部を制御する制御部と、を備える搬送装置が提供される。

本発明の態様によれば、搬送時における基板の管理負担を低減できる。

本発明の実施の形態に係る搬送装置の全体構成を示す斜視図である。 本実施形態に係る搬送装置の一部の構成を示す斜視図である。 本実施形態に係る搬送装置の動作の様子を示す平面図である。 本実施形態に係る搬送装置の動作の様子を示す図である。 本実施形態に係る搬送装置の動作の様子を示す図である。 本発明に係る搬送装置の他の例を示す平面図である。 本発明に係る搬送装置の他の例を示す正面図である。 本発明に係る搬送装置の他の例を示す図である。

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
図１は、本実施形態に係る搬送装置１の全体構成を示す斜視図である。図２は、搬送装置１の一部の構成について、図１とは異なる視点から見たときの状態を示す斜視図である。
図１及び図２に示すように、搬送装置１は、帯状に形成され可撓性を有する基板Ｓを搬送する装置であり、例えば製造工場の床面ＦＬに設けられている。搬送装置１は、基台（ペデスタル）２、第一レール３、第二レール４、基板送り出し機構５、基板巻き取り機構６、レール駆動機構７、ローラー駆動部８及び制御装置ＣＯＮＴを有している。

搬送装置１は、帯状に形成され可撓性を有する基板Ｓの表面に各種処理を実行するロール・トゥ・ロール方式（以下、単に「ロール方式」と表記する）のシステムに用いられる。このようなロール方式のシステムは、基板Ｓ上に例えば有機ＥＬ素子、液晶表示素子等の表示素子（電子デバイス）を形成する場合に用いられる。勿論、これらの素子以外（例えば、ソーラーセル、カラーフィルター、タッチパネル等）の素子を形成するシステムにおいて搬送装置１を用いても構わない。

以下、本実施形態に係る搬送装置１の構成を説明するにあたり、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。以下の図においては、ＸＹＺ直交座標系のうち床面ＦＬに平行な平面をＸＹ平面としている。ＸＹ平面のうち基板Ｓがロール方式によって移動する方向（長尺方向）をＹ方向とし、Ｙ方向に直交する方向をＸ方向としている。また、床面ＦＬ（ＸＹ平面）に垂直な方向をＺ軸方向としている。

基板処理装置ＰＡにおいて処理対象となる基板Ｓとしては、例えば樹脂フィルムやステンレス鋼などの箔（フォイル）を用いることができる。例えば、樹脂フィルムは、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ステンレス箔などの材料を用いることができる。

基板Ｓの短尺方向の寸法は例えば５０ｃｍ〜２ｍ程度に形成されており、長尺方向の寸法（１ロール分の寸法）は例えば１０ｍ以上に形成されている。勿論、この寸法は一例に過ぎず、これに限られることは無い。例えば基板Ｓの短尺方向の寸法が１ｍ以下、又は５０ｃｍ以下であっても構わないし、２ｍ以上であっても構わない。本実施形態においては、短尺方向の寸法が２ｍを超える基板Ｓを用いても構わない。また、基板Ｓの長尺方向の寸法が１０ｍ以下であっても構わない。

基板Ｓは、例えば１ｍｍ以下の厚みを有し、可撓性を有するように形成されている。ここで可撓性とは、例えば基板に少なくとも自重程度の所定の力を加えても線断したり破断したりすることはなく、この基板を撓めることが可能な性質をいう。また、例えば上記所定の力によって屈曲する性質も可撓性に含まれる。また、上記可撓性は、この基板の材質、大きさ、厚さ、又は温度、湿度などの環境、等に応じて変わる。なお、基板Ｓとしては、１枚の帯状の基板を用いても構わないが、複数の単位基板を接続して帯状に形成される構成としても構わない。

基板Ｓは、比較的高温（例えば２００℃程度）の熱を受けても寸法が実質的に変わらない（熱変形が小さい）ように熱膨張係数が比較的小さい方が好ましい。例えば、無機フィラーを樹脂フィルムに混合して熱膨張係数を小さくすることができる。無機フィラーの例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ケイ素などが挙げられる。

基台２は、ベース部２ａ、脚部２ｂ及び支持台２ｃを有している。ベース部２ａは床面ＦＬに載置されている。脚部２ｂは、ベース部２ａ上に複数設けられており、支持台２ｃを支持している。支持台２ｃは、例えば矩形に形成されており、Ｘ方向に、処理装置ＰＡが取り付けられる開口部と、その開口部を挟むように設けられた３つの開口部２ｄが設けられている。すなわち、支持台２ｃには、Ｘ方向に沿って３つの開口部２ｄが設けられている。３つの開口部２ｄ内には、Ｙ軸方向に平行に延在する案内レール７ｒが設けられている。案内レール７ｒは、各開口部２ｄについてＸ方向に２つ平行に並んで設けられている。

第一レール３は、支持台２ｃの＋Ｙ側の辺に沿って配置されている。第一レール３は、３つの単位レール３Ａ〜３Ｃに分割されている。各単位レール３Ａ〜３Ｃは、支持台２ｃの３つの開口部２ｄのそれぞれに対応する位置に配置されている。単位レール３Ａ〜３ＣのＸ方向の寸法は、各開口部２ｄのＸ方向の寸法に対応した値となっている。

第二レール４は、支持台２ｃの−Ｙ側の辺に沿って配置されている。第二レール４は、３つの単位レール４Ａ〜４Ｃに分割されている。各単位レール４Ａ〜４Ｃは、上記の単位レール３Ａ〜３Ｃと同様、支持台２ｃの３つの開口部２ｄのそれぞれに対応する位置に配置されている。単位レール４Ａ〜４ＣのＸ方向の寸法は、各開口部２ｄのＸ方向の寸法に対応した値となっており、上記の単位レール３Ａ〜３ＣのＸ方向の寸法と同一の寸法になっている。

第一レール３の単位レール３Ａ〜３Ｃ及び第二レール４の単位レール４Ａ〜４Ｃは、各開口部２ｄに設けられ、かつＹ方向に延びた案内レール７ｒにそれぞれ支持されている。図１に示す構成では、単位レール３Ａ〜３Ｃが案内レール７ｒの＋Ｙ側端部に支持されており、単位レール４Ａ〜４Ｃが案内レール７ｒの−Ｙ側端部に支持されている。

第一レール３の単位レール３Ａ〜３Ｃと、第二レール４の単位レール４Ａ〜４Ｃとは、それぞれＸ軸方向に平行に配置されている。また、案内レール７ｒがＹ軸方向に平行に延在しているため、単位レール３Ａ〜３Ｃ及び単位レール４Ａ〜４Ｃは、互いに平行な状態を維持しつつ案内レール７ｒ上をＹ方向に移動可能に設けられている。このように、第一レール３及び第二レール４は、案内レール７ｒによってＸＹ平面に平行な平面上を直線状に移動可能な構成となっている。

基板送り出し機構５は、第一レール３上に配置されている。基板送り出し機構５は、ローラー支持部５ａ及び供給ローラー５ｂを有している。ローラー支持部５ａは、第一レール３上に接続されており、第一レール３に沿ってＸ方向に移動（案内）可能に設けられている。ローラー支持部５ａは、第一レール３を構成する単位レール３Ａ〜３Ｃに亘って移動可能である。

供給ローラー５ｂは、ローラー支持部５ａに回転可能に支持されている。供給ローラー５ｂは、回転軸の方向がＸ方向に平行な方向に一致するように支持されている。供給ローラー５ｂには基板Ｓがロール状に巻きつけられている。供給ローラー５ｂが回転することにより、前記供給ローラー５ｂに巻きつけられた基板Ｓが−Ｙ方向に送り出されるようになっている。供給ローラー５ａは、モータ等によって回転可能である。

基板巻き取り機構６は、第二レール４上に配置されている。基板巻き取り機構６は、ローラー支持部６ａ及び回収ローラー６ｂを有している。ローラー支持部６ａは、第二レール４上に接続されており、第二レール４に沿ってＸ方向に移動（案内）可能に設けられている。ローラー支持部６ａは、第二レール４を構成する単位レール４Ａ〜４Ｃに亘って移動可能である。

回収ローラー６ｂは、ローラー支持部６ａに回転可能に支持されている。回収ローラー６ｂは、回転軸の方向がＸ方向に平行な方向に一致するように支持されている。回収ローラー６ｂには基板Ｓがロール状に巻きつけられている。回収ローラー６ｂが回転することにより、この回収ローラー６ｂに基板Ｓが巻きつけられるようになっている。回収ローラー６ｂは、モータ等によって回転可能である。

レール駆動機構７は、案内レール７ｒに沿って第一レール３及び第二レール４をＹ方向に移動させる。レール駆動機構７は、第一レール３を単位レール３Ａ〜３Ｃごとに駆動可能であると共に、第二レール４を単位レール４Ａ〜４Ｃごとに駆動可能である。制御装置ＣＯＮＴは、レール駆動機構７による駆動量、駆動速度及び駆動のタイミングなどを制御可能である。レール駆動機構７は、案内レール７ｒに沿って、単位レール３Ａと単位レール４Ａとを互いに近づけたり、互いに離したりすることが可能である。また、レール駆動機構７は、案内レール７ｒに沿って、単位レール３Ｂと単位レール４Ｂとを互いに近づけたり、互いに離したりすることが可能である。また、レール駆動機構７は、案内レール７ｒに沿って、単位レール３Ｃと単位レール４Ｃとを互いに近づけたり、互いに離したりすることが可能である。

ローラー駆動部８は、第一駆動部８３及び第二駆動部８４を有している。第一駆動部８３は、ローラー支持部５ａを第一レール３に沿ってＸ方向に移動させると共に、供給ローラー５ｂを回転させる。第二駆動部８４は、ローラー支持部６ａを第二レール４に沿ってＸ方向に移動させると共に、回収ローラー６ｂを回転させる。制御装置ＣＯＮＴは、第一駆動部８３及び第二駆動部８４を個別にあるいは同期させて制御することができるようになっている。また、制御装置ＣＯＮＴは、第一駆動部８３及び第二駆動部８４における駆動量、駆動速度、駆動のタイミングなどを制御可能である。

次に、図３等を参照して、上記のように構成された搬送装置１の動作を説明する。図３は、搬送装置１の動作を示す平面図である。
まず、供給ローラー５ｂと回収ローラー６ｂとの間に基板Ｓを掛け渡す動作を行う場合について説明する。

この場合、制御装置ＣＯＮＴは、基板送り出し機構５を第一レール３の単位レール３Ａ上に配置させると共に、基板巻き取り機構６を第二レール４の単位レール４Ａ上に配置させる。この動作により、供給ローラー５ｂと回収ローラー６ｂとがＹ方向に対向するように、かつ、平行に配置される。

次に、供給ローラー５ｂにロール状に巻かれた基板Ｓを取り付ける。基板Ｓの先端Ｓｆには、例えば図３に示す構成ではリーダＬｆが取り付けられているが、このリーダＬｆが省略された構成であっても構わない。供給ローラー５ｂにロール状の基板Ｓを取り付けた後、制御装置ＣＯＮＴは、第二レール４の単位レール４Ａを＋Ｙ方向へ移動させる。この動作により、供給ローラー５ｂと回収ローラー６ｂとが近づく。

制御装置ＣＯＮＴは、供給ローラー５ｂと回収ローラー６ｂとの距離が第一距離Ｄ１になった場合、第一駆動部８３によって供給ローラー５ｂを回転させる。この動作により、基板Ｓの先端Ｓｆが回収ローラー６ｂ側へ送り出され、基板Ｓの先端Ｓｆが回収ローラー６ｂに到達してこの回収ローラー６ｂに巻き掛けられる。なお、基板Ｓの先端Ｓｆを回収ローラー６ｂに巻きかける操作は、自動化されていてもよいが、人手によって、先端Ｓｆを回収ローラー６ｂに、固定テープ等を用いて貼り付けてもよい。

制御装置ＣＯＮＴは、基板Ｓの先端Ｓｆが回収ローラー６ｂに掛けられた後、供給ローラー５ｂを回転させると共に、供給ローラー５ｂと回収ローラー６ｂとの距離が第二距離（基板巻き取り機構６が元の位置に到達する距離）まで、単位レール４Ａを−Ｙ方向へ移動させる。この動作により、基板Ｓの先端Ｓｆが回収ローラー６ｂに掛けられた状態で−Ｙ方向へ引き出される。

基板巻き取り機構６が元の位置に到達した後、制御装置ＣＯＮＴは、前記基板巻き取り機構６の移動を停止させる。その後、制御装置ＣＯＮＴは、図４に示すように、第一駆動部８３及び第二駆動部８４によって基板送り出し機構５及び基板巻き取り機構６を同期させて、それぞれ単位レール３Ｂ上及び単位レール４Ｂ上へ移動させる。なお、この動作に先立って、単位レール３Ｂと単位レール４Ｂとの間に処理装置ＰＡを配置させておく。このとき、供給ローラー５ｂと回収ローラー６ｂとの間に掛け渡された基板Ｓが、Ｙ方向に適度なテンションを与えられて平坦に張るように、基板送り出し機構５と基板巻き取り機構６を制御する。

この処理装置ＰＡは、基板Ｓの被処理面Ｓａに対して例えば有機ＥＬ素子を形成するための各種処理部を有している。このような処理部としては、例えば被処理面Ｓａ上に隔壁を形成するための隔壁形成装置、有機ＥＬ素子を駆動するための電極を形成するための電極形成装置、発光層を形成するための発光層形成装置などが設けられる。

より具体的には、液滴塗布装置（例えばインクジェット型塗布装置、スプレーコート型塗布装置、グラビア印刷機など）、蒸着装置、スパッタリング装置などの成膜装置や、露光装置、現像装置、表面改質装置、洗浄装置などが挙げられる。処理装置ＰＡとして、有機ＥＬ素子を形成するための処理部に限られず、他の素子を形成する処理部を有する処理装置を配置させても勿論構わない。

制御装置ＣＯＮＴは、基板送り出し機構５及び基板巻き取り機構６をそれぞれ単位レール３Ｂ及び４Ｂ上に配置させた後、処理装置ＰＡの処理のタイミングに合わせて供給ローラー５ｂ及び回収ローラー６ｂを回転させる。この動作により、供給ローラー５ｂから基板Ｓが矢印Ｋ２のように送り出されると共に、回収ローラー６ｂで基板Ｓが巻き取られる状態となり、この状態で処理装置ＰＡによる処理が基板Ｓの被処理面Ｓａに対して行われることになる。

制御装置ＣＯＮＴは、処理装置ＰＡの処理速度に応じて、供給ローラー５ｂから回収ローラー６ｂへと移動する基板Ｓの移動速度を調整する。例えば、供給ローラー５ｂに巻かれた基板Ｓの巻き径Ｒ１と、回収ローラー６ｂに巻かれた基板Ｓの巻き径Ｒ２と、に応じて、第一駆動部８３及び第二駆動部８４における駆動速度を調整させる。この動作により、搬送速度が一定のまま基板Ｓが搬送されることになる。

制御装置ＣＯＮＴは、処理装置ＰＡの処理位置やＹ方向の寸法などに応じて、供給ローラー５ｂと回収ローラー６ｂとの距離を調整しても構わない。この場合、制御装置ＣＯＮＴは、レール駆動機構７によって例えば単位レール３Ｂあるいは単位レール４ＢをＹ方向にそれぞれ移動させるようにする。処理装置ＰＡにより、表示素子の構成要素の一部あるいは全部が基板Ｓ上に順次形成される。

基板Ｓに対する処理が完了した後、制御装置ＣＯＮＴは、第一駆動部８３及び第二駆動部８４により、基板送り出し機構５及び基板巻き取り機構６を同期させて、それぞれ単位レール３Ｃ上及び単位レール４Ｃ上へと移動させる。図５に示すように、基板送り出し機構５及び基板巻き取り機構６が単位レール３Ｃ上及び単位レール４Ｃ上に配置された後、基板送り出し機構５及び基板巻き取り機構６の移動を停止させる。この際、供給ローラー５ｂと回収ローラー６ｂとの間に掛け渡された基板Ｓは、撓むことなく、水平に張られていることが望ましい。

制御装置ＣＯＮＴは、基板送り出し機構５及び基板巻き取り機構６の移動を停止させた後、回収ローラー６ｂを回転させつつ単位レール４Ｃを＋Ｙ方向へ移動させる。この動作により、回収ローラー６ｂが基板Ｓを巻き取りながら供給ローラー５ｂと回収ローラー６ｂとが再び近づく。

制御装置ＣＯＮＴは、供給ローラー５ｂと回収ローラー６ｂとの距離が第三距離Ｄ２になった後、図５に示すように、第一駆動部８３によって供給ローラー５ｂを回転させる。この場合、第三距離Ｄ２については、例えば上記の第一距離Ｄ１と等しい距離とすることができる。この動作により、基板Ｓの後端Ｓｅが回収ローラー６ｂ側へ送り出され、基板Ｓの後端Ｓｅは回収ローラー６ｂに到達してこの回収ローラー６ｂに巻き掛けられる。なお、基板Ｓの後端Ｓｅには、例えば図５に示す構成ではリーダＬｅが取り付けられているが、このリーダＬｅが省略された構成であっても構わない。

制御装置ＣＯＮＴは、基板Ｓの後端Ｓｅが回収ローラー６ｂに掛けられた後、供給ローラー５ｂと回収ローラー６ｂとの距離が第二距離（基板巻き取り機構６が元の位置に到達する距離）まで、単位レール４Ｃを−Ｙ方向へ移動させる。基板巻き取り機構６が元の位置へ戻った後、回収ローラー６ｂに巻かれたロール状の基板Ｓは、次の処理装置へと移動される。あるいは、基板Ｓに対してすべての処理が行われている場合には、前記回収ローラー６ｂから取り外されて回収される。

以上のように、本実施形態によれば、基台２に第一レール３及び第二レール４が設けられ、第一レール３には前記第一レール３上を移動可能な供給ローラー５ｂが設けられており、第二レール４には前記第二レール４上を移動可能な回収ローラー６ｂが設けられており、第一レール３及び第二レール４はレール駆動機構７によって駆動可能であるため、供給ローラー５ｂと回収ローラー６ｂとの間で基板Ｓをコンパクトに搬送できる。これにより、送り出されてから巻き取られるまで掛け渡される基板Ｓの寸法が長くなることを抑えることができるため、搬送時の基板Ｓの管理負担を低減できる。

本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
上記実施形態では、第一レール３及び第二レール４がＸＹ平面に平行な方向へ移動する構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば、第一レール３及び第二レール４がＺ方向に移動可能な構成としても構わない。

図６は搬送装置１の他の例を示す平面図であり、図７は図６の搬送装置１の例を示す側面図である。
図６及び図７に示すように、搬送装置１の基台２に相当する構成は、本例では、４つの支持台２０Ａ〜２０Ｄを有する構成となっている。支持台２０Ａには、単位レール３Ａ及び４Ａが配置されている。単位レール３Ａと単位レール４Ａとの間に第一処理装置ＰＡ１が接続されるようになっている。

支持台２０Ｂには、単位レール３Ｂ及び単位レール４Ｂが配置されている。支持台２０Ｂは、支持台２０Ａ、支持台２０Ｃ及び支持台２０Ｄとは分離されている。支持台２０Ｂは、昇降機構９によってＺ方向に単独で移動可能に設けられている。昇降機構９は、支持柱９ａ、案内柱９ｂ及びアクチュエータ９ｃを有している。アクチュエータ９ｃの駆動により、支持台２０Ｂは支持柱９ａに支持された状態で、案内柱９ｂに沿ってＺ方向に移動するようになっている。アクチュエータ９ｃの駆動量、駆動速度及び駆動のタイミングについては、例えば第二制御装置ＣＯＮＴ２によって制御可能となっている。なお、制御装置ＣＯＮＴにおいてまとめて行わせても構わない。

支持台２０Ｃ及び支持台２０Ｄは、Ｚ方向に並んで配置されている。支持台２０Ｃは＋Ｚ側、支持台２０Ｄは−Ｚ側に、それぞれ設けられている。支持台２０Ｃには、単位レール３Ｃ及び４Ｃが設けられている。この単位レール３Ｃと単位レール４Ｃとの間には、第二処理装置ＰＡ２が接続可能である。第二処理装置ＰＡ２では、例えば第一処理装置ＰＡ１の後工程処理が行われる。

支持台２０Ｄには、単位レール３Ｄ及び４Ｄが設けられている。この単位レール３Ｄと単位レール４Ｄとの間には、第三処理装置ＰＡ３が接続可能である。第三処理装置ＰＡ３では、第二処理装置ＰＡ２と同一の処理（ここでは、第一処理装置ＰＡ１の後工程処理）が行われる。
なお、図６及び図７で示す実施形態では、第二処理装置ＰＡ２及び第三処理装置ＰＡ３において、同一の処理（第一処理装置ＰＡ１の後工程処理）が行われる例に挙げて説明するが、これに限られることは無い。例えば、第二処理装置ＰＡ２及び第三処理装置ＰＡ３では、それぞれ別々の処理が行われる構成としても構わない。
さらに、第二処理装置ＰＡ２と第三処理装置ＰＡ３を、構成上は全く同一の装置とし、装置によって処理条件（温度や湿度、処理時間、基板の送り速度、テンション量等）を異ならせて設定するような構成としても構わない。

支持台２０Ｂは、昇降機構９によってそれぞれ支持台２０Ｃ及び支持台２０Ｄと等しいＺ位置に移動可能に設けられている。支持台２０Ｂと支持台２０Ｃとが等しいＺ位置に配置された場合には、単位レール３Ｂ及び４Ｂと、単位レール３Ｃ及び４Ｃとが接続可能となる。この場合、制御装置ＣＯＮＴは、単位レール３Ｂと単位レール４Ｂとの距離を、単位レール３Ｃと単位レール４Ｃとの距離に等しくなるように調整させる。

同様に、支持台２０Ｂと支持台２０Ｄとが等しいＺ位置に配置された場合には、単位レール３Ｂ及び４Ｂと、単位レール３Ｄ及び４Ｄとが接続可能となる。この場合、制御装置ＣＯＮＴは、単位レール３Ｂと単位レール４Ｂとの距離を、単位レール３Ｄと単位レール４Ｄとの距離に等しくなるように調整させる。

このような構成に係る搬送装置１を作動させる場合、上記実施形態と同様に、第一レール３には基板送り出し機構５を配置させ、第二レール４には基板巻き取り機構６を配置させ、供給ローラー５ｂと回収ローラー６ｂとの間に基板Ｓを掛け渡してこの２つのローラー間で基板Ｓを搬送させる。

この場合、支持台２０Ｂが支持台２０Ｃ及び支持台２０Ｄの両方に選択的にアクセス可能な構成であるため、第一処理装置ＰＡ１を経た基板Ｓが第二処理装置ＰＡ２と第三処理装置ＰＡ３とへ交互に移動するように基板Ｓの移動先を設定できる。これにより、例えば第二処理装置ＰＡ２及び第三処理装置ＰＡ３での基板Ｓの搬送速度が第一処理装置ＰＡ１での基板Ｓの搬送速度に比べて遅い場合、基板Ｓが第二処理装置ＰＡ２及び第三処理装置ＰＡ３の前で処理待ち状態となってしまうのを防ぐことができる。

なお、基板送り出し機構５及び基板巻き取り機構６の各々に、供給ローラー５ｂ、回収ローラー６ｂの高さを調節するエレベータを設けることにより、基板送り出し機構５から基板巻き取り機構６に渡る基板Ｓの高さ又は傾斜を調整できる。なお、供給ローラー５ｂと回収ローラー６ｂとの間に基板Ｓを掛け渡した状態を、基板セット（ロールセット）と称する。

以上のように、第１処理装置ＰＡ１で第１基板セットの基板Ｓに対する処理が終了し、第１基板セットの回収ローラー及び供給ローラーを支持台２０Ｂ上に移動させた後、新たな処理対象となる第２基板セットの供給ローラー及び回収ローラーを第１処理装置ＰＡ１に搬入できる。

すなわち、第１基板セットを第２処理装置ＰＡ２又は第３処理装置ＰＡ３のいずれか一方に搬入するタイミングと、第２基板セットを第１処理装置ＰＡ１に搬入するタイミングとを調整できるため、複数の基板セットを順次処理することが可能になる。
また、第２処理装置ＰＡ２、第３処理装置ＰＡ３の後にも、支持台２０Ｂのような構成を設けることにより、次の処理工程の装置（ＰＡ４）に、基板セットを搬入できる。

さらに、本実施形態の構成では、送り出し機構５と巻き取り機構６との間に基板Ｓを掛け渡した状態で、基板Ｓを処理装置ＰＡ（ＰＡ１、ＰＡ２、ＰＡ３）間をＸ方向に移動させることができる。この場合、各処理装置（ＰＡ）の一例として、図８のように、上部ユニット１００Ａと下部ユニット１００Ｂに分離可能な構成とし、Ｙ方向のテンションが加えられた状態で、基板送り出し機構５と基板巻き取り機構６との間に掛け渡された基板Ｓが上部ユニット１００Ａと下部ユニット１００Ｂの間の空間をＸ方向に通過できる形態にする。

上部ユニット１００Ａ，下部ユニット１００Ｂの基板Ｓの投入口側と退出口側には、基板Ｓを案内する為のローラー１０１ａ，１０１ｂ、１０２ａ，１０２ｂが設けられる。各処理装置ＰＡは、上部ユニット１００Ａと下部ユニット１００Ｂの何れか一方、又は両方が不図示の昇降機構によって必要量だけＺ方向に移動可能である。このような処理装置ＰＡとしては、印刷機（インクジェットプリンターも含む）、プラズマ装置、蒸着装置、露光装置などを用いることができる。

１…搬送装置 ２…基台 ３…第一レール ３Ａ〜３Ｄ…単位レール ４…第二レール ４Ａ〜４Ｄ…単位レール ５ｂ…供給ローラー ６ｂ…回収ローラー ７…レール駆動機構 ７ｒ…案内レール ８…ローラー駆動部 ９…昇降機構 ９ｃ…アクチュエータ ２０Ａ〜２０Ｄ…支持台 ８３…第一駆動部 ８４…第二駆動部 上部ユニット…１００Ａ 下部ユニット…１００Ｂ ＣＯＮＴ…制御装置 ＣＯＮＴ２…第二制御装置 Ｄ１…第一距離 Ｄ２…第三距離 ＰＡ（ＰＡ１、ＰＡ２、ＰＡ３）…処理装置 Ｓ…基板 Ｓｆ…基板Ｓの先端 Ｓｅ…基板Ｓの後端

Claims (13)

1. 帯状に形成された可撓性の基板を処理装置に搬送する搬送装置であって、
   前記基板が巻かれた供給ローラーを保持し、前記処理装置に前記供給ローラーからの基板を帯状の方向に送り出す基板送り出し機構と、
   前記基板を巻き取る回収ローラーを保持し、前記供給ローラーから送り出されて前記処理装置を通った前記基板を回収する基板巻き取り機構と、
   前記基板送り出し機構を、前記基板の送り方向と交差する交差方向に移動させる第一駆動部と、
   前記基板巻き取り機構を前記交差方向に移動させる第二駆動部と、
   基台に設けられ、前記基板送り出し機構の前記交差方向への移動を案内する第一レールと、
   前記基台の前記第一レールから離れた位置に設けられ、前記基板巻き取り機構の前記交差方向への移動を案内する第二レールと、
   前記基板の送り方向に関する前記供給ローラーと前記回収ローラーの間隔を変える為に、前記第一レールと前記第二レールとのうち少なくとも一方を駆動して、前記基板送り出し機構と前記基板巻き取り機構とが互いに接近又は離間させるレール駆動部と、
   前記供給ローラーから前記回収ローラーに、前記基板の先端部を送り出す場合に、前記第一レールと前記第二レールとの間が第一距離となるように前記レール駆動部を制御する制御部と、
   を備える搬送装置。
2. 前記処理装置に対して、前記基板を前記交差方向に移動させるときは、前記第一駆動部と前記第二駆動部とを同期駆動する
   請求項１に記載の搬送装置。
3. 前記レール駆動部は、前記第一レールと前記第二レールとを前記基板の送り方向に互いに接近又は離間するように前記第一レール及び前記第二レールのうち少なくとも一方を案内する案内部を有する、
   請求項２に記載の搬送装置。
4. 前記制御部は、前記基板の前記先端部が前記回収ローラーに巻き取られた後、前記第一レールと前記第二レールとの間が第二距離となるように前記レール駆動部を制御する
   請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の搬送装置。
5. 前記制御部は、前記回収ローラーによって前記基板の後端部まで巻き取る場合に、前記第一レールと前記第二レールとの間が第三距離となるように前記レール駆動部を制御する
   請求項１から請求項３のうちのいずれか一項に記載の搬送装置。
6. 前記制御部は、前記基板の前記後端部が前記回収ローラーに巻き取られた後、前記第一レールと前記第二レールとの間が第二距離となるように前記レール駆動部を制御する
   請求項５に記載の搬送装置。
7. 前記制御部は、前記レール駆動部を制御して、前記供給ローラーと前記回収ローラーとの間で前記基板が掛け渡されている状態において前記基板のうち掛け渡された部分の長さを調整する
   請求項１から請求項４のうちのいずれか一項に記載の搬送装置。
8. 前記レール駆動部は、前記第一レール及び前記第二レールを重力方向に沿って案内する第二案内部を有する
   請求項１から請求項３のうちのいずれか一項に記載の搬送装置。
9. 前記レール駆動部による前記第二案内部を介した駆動を制御する第二制御部を更に備え、
   前記第二制御部は、前記基板送り出し機構から前記基板巻き取り機構へと移動する前記基板の移動速度に応じて、重力方向に沿って設定された複数の高さ位置の間を前記第一レール及び前記第二レールが移動するように、前記レール駆動部による駆動量を調整する
   請求項８に記載の搬送装置。
10. 前記第一レール及び前記第二レールは、複数の単位レールに分割されており、
    前記レール駆動部は、前記単位レールごとに駆動可能である
    請求項１から請求項３のうちのいずれか一項に記載の搬送装置。
11. 前記第一レールと前記第二レールは、前記供給ローラーから前記回収ローラーへ向けて搬送される前記基板の前記送り方向に関して、前記処理装置を挟んで設置される
    請求項１から請求項３のうちのいずれか一項に記載の搬送装置。
12. 前記処理装置は、前記基板上に異なる処理を施す為の複数の処理装置を含み、
    該複数の処理装置は前記第一レールと前記第二レールの延設する前記交差方向に並べて配置される
    請求項１１に記載の搬送装置。
13. 請求項１２に記載の搬送装置と前記複数の処理装置を床上に設置して、前記基板上に可撓性の表示デバイス、又は可撓性の電子回路を形成する製造システム。

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