JP6829992B2 - 光走査高さ測定装置 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 177
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 870
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 47
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 40
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 description 107
- 230000008569 process Effects 0.000 description 100
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 49
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 26
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 19
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 14
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 13
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 11
- 238000013461 design Methods 0.000 description 9
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 8
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 8
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 7
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 5
- 238000011960 computer-aided design Methods 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 240000004050 Pentaglottis sempervirens Species 0.000 description 2
- 235000004522 Pentaglottis sempervirens Nutrition 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/127—Adaptive control of the scanning light beam, e.g. using the feedback from one or more detectors
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/101—Scanning systems with both horizontal and vertical deflecting means, e.g. raster or XY scanners
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0608—Height gauges
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/9515—Objects of complex shape, e.g. examined with use of a surface follower device
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/0004—Microscopes specially adapted for specific applications
- G02B21/002—Scanning microscopes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/123—Multibeam scanners, e.g. using multiple light sources or beam splitters
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- G—PHYSICS
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
- G02B27/0031—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration for scanning purposes
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
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- Physics & Mathematics (AREA)
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Description
以下、本発明の実施の形態に係る光走査高さ測定装置について図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の一実施の形態に係る光走査高さ測定装置の全体構成を示すブロック図である。図2は、図1のスタンド部100を示す外観斜視図である。図1に示すように、光走査高さ測定装置400は、スタンド部100、測定ヘッド200および処理装置300を備える。
図3は、スタンド部100および測定ヘッド200の構成を示すブロック図である。図3では、昇降部130、光学部230および導光部240の詳細な構成が示される。図3に示すように、昇降部130は、駆動部131、駆動回路132および読取部133を含む。
図5は、参照部250の構成を示す模式図である。図5に示すように、参照部250は、固定部251、直線状に延びるリニアガイド251g、可動部252a,252b、固定ミラー253、可動ミラー254a,254b,254c、駆動部255a,255b、駆動回路256a,256bおよび読取部257a,257bを含む。固定部251およびリニアガイド251gは、測定ヘッド200の本体に固定される。可動部252a,252bは、リニアガイド251gが延びる方向に沿って移動可能にリニアガイド251gに取り付けられる。
図6は、合焦部260の構成を示す模式図である。図6に示すように、合焦部260は、固定部261、可動部262、可動レンズ263、駆動部264、駆動回路265および読取部266を含む。可動部262は、一方向に沿って移動可能に固定部261に取り付けられる。可動レンズ263は、可動部262に取り付けられる。可動レンズ263は、対物レンズとして用いられ、自己を通過する測定光に焦点を付与する。
図7は、走査部270の構成を示す模式図である。図7に示すように、走査部270は、偏向部271,272、駆動回路273,274および読取部275,276を含む。偏向部271は、例えばガルバノミラーにより構成され、駆動部271aおよび反射部271bを含む。駆動部271aは、例えば略垂直方向の回転軸を有するモータである。反射部271bは、駆動部271aの回転軸に取り付けられる。図3の光ファイバ244から合焦部260を通過した測定光は、反射部271bに導かれる。駆動部271aが回転することにより、反射部271bで反射される測定光の反射角度が略水平面内で変化する。
図1の光走査高さ測定装置400は、複数の動作モードから使用者により選択された動作モードで動作する。具体的には、動作モードは、設定モード、測定モードおよびハイトゲージモードを含む。図8は、光走査高さ測定装置400の表示部340に表示される選択画面341の一例を示す図である。
(a)制御系の全体構成
図10は、図1の光走査高さ測定装置400の制御系を示すブロック図である。図10に示すように、制御系410は、基準画像取得部1、位置情報取得部2、駆動制御部3、基準面取得部4、許容値取得部5、登録部6、偏向方向取得部7、検出部8および画像解析部9を含む。また、制御系410は、参照位置取得部10、受光信号取得部11、距離情報算出部12、座標算出部13、判定部14、高さ算出部15、測定画像取得部16、補正部17、検査部18および報告書作成部19をさらに含む。
測定管理者は、所望の測定対象物Sを図2の光学定盤111上に載置し、図3の撮像部220により測定対象物Sを撮像する。基準画像取得部1は、撮像部220により生成される画像データを基準画像データとして取得し、取得された基準画像データに基づく画像を基準画像として図1の表示部340に表示させる。表示部340に表示される基準画像は、静止画像であってもよく、順次更新される動画像であってもよい。測定管理者は、表示部340に表示された基準画像上において、測定すべき部分を測定点として指定するとともに、基準点を指定することができる。基準点は、測定対象物Sの高さを算出する際の基準となる基準面を定めるための点である。
測定作業者は、設定モードにおいて登録情報が登録された測定対象物Sと同一種類の測定対象物Sを図2の光学定盤111上に載置し、図3の撮像部220により撮像する。測定画像取得部16は、撮像部220により生成される画像データを測定画像データとして取得し、取得された測定画像データに基づく画像を測定画像として図1の表示部340に表示させる。
使用者は、所望の測定対象物Sを図2の光学定盤111上に載置し、図3の撮像部220により測定対象物Sを撮像する。基準画像取得部1は、撮像部220により生成される画像データを取得し、取得された画像データに基づく画像を図1の表示部340に表示させる。使用者は、表示部340に表示された画像上において、測定すべき部分を測定点として指定する。
図12〜図15は、図1の光走査高さ測定装置400において実行される光走査高さ測定処理の一例を示すフローチャートである。以下に示す一連の処理は、光走査高さ測定装置400の電源がオン状態にあるときに、制御部310および制御基板210により一定周期で実行される。なお、光走査高さ測定処理には、後述する指定測定処理および実測定処理が含まれる。以下の説明では、光走査高さ測定処理のうち指定測定処理および実測定処理が制御基板210により実行され、光走査高さ測定処理のうち他の処理が制御部310により実行されるが、本発明はこれに限定されない。例えば光走査高さ測定処理の全ての処理が制御基板210または制御部310により実行されてもよい。
図16および図17は、制御基板210による指定測定処理の一例を示すフローチャートである。図18および図19は、図16および図17の指定測定処理を説明するための説明図である。図18(a),(b),(c)および図19(a),(b)の各々では、左側に光学定盤111上に載置される測定対象物Sと撮像部220および走査部270との位置関係が側面図で示されるとともに、右側に撮像部220の撮像により表示部340に表示される画像が示される。表示部340に表示される画像には、測定対象物Sの画像SIが含まれる。以下の説明では、表示部340に表示される画像上の平面座標を画面座標と呼ぶ。
図20および図21は、制御基板210による指定測定処理の他の例を示すフローチャートである。図22は、図20および図21の指定測定処理を説明するための説明図である。図22(a),(b)の各々では、左側に光学定盤111上に載置される測定対象物Sと撮像部220および走査部270との位置関係が側面図で示されるとともに、右側に撮像部220の撮像により表示部340に表示される画像が示される。
制御基板210は、制御部310から実測定処理の指令を受けることにより、実測定処理を開始する。実測定処理が開始されると、制御基板210は、まず制御部310から指令とともに与えられる測定点の座標(Xc,Yc,Zc)を取得する。
図23〜図28は、設定モードにおける光走査高さ測定装置400の操作例を説明するための図である。以下では、光走査高さ測定装置400の使用者を測定管理者と測定作業者とに区別して説明する。
図35は、第1の変形例に係る光走査高さ測定装置400の制御系410を示すブロック図である。図35の制御系410について、図10の制御系410と異なる点を説明する。図35に示すように、第1の変形例においては、制御系410は、幾何要素取得部20および幾何要素算出部21をさらに含む。
図36は、第2の変形例に係る光走査高さ測定装置400の光学部230の構成を示す模式図である。図36に示すように、光学部230は、例えば可視領域の光を出射するガイド光源233をさらに含む。ガイド光源233により出射される光をガイド光と呼ぶ。また、導光部240は、ハーフミラー247をさらに含む。
本実施の形態に係る光走査高さ測定装置400においては、使用者は、測定対象物Sの基準画像上で測定点を指定することができる。また、基準画像上で指定された測定点に対応する測定対象物Sの部分の高さが自動的に算出される。そのため、使用者が熟練していない場合でも、測定対象物Sの所望の部分を画像上で指定することにより、当該部分の高さの算出結果を画一的に取得することができる。
(a)高さ算出部15は、光走査高さ測定装置400に定義された固有の三次元座標系における原点を基準とする測定対象物Sの部分の高さを算出してもよい。この場合、使用者は、固有の三次元座標系における測定対象物Sの部分の高さの絶対値を取得することができる。また、高さ算出部15は、基準面を基準とする高さの相対値を算出する相対値算出モードと、固有の三次元座標系における高さの絶対値を算出する絶対値算出モードとで選択的に動作可能であってもよい。絶対値算出モードにおいては、基準面が必要ないので、基準点が指定されてなくてもよい。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
2 位置情報取得部
3 駆動制御部
4 基準面取得部
5 許容値取得部
6 登録部
7 偏向方向取得部
8 検出部
9 画像解析部
10 参照位置取得部
11 受光信号取得部
12 距離情報算出部
13 座標算出部
14 判定部
15 高さ算出部
16 測定画像取得部
17 補正部
18 検査部
19 報告書作成部
20 幾何要素取得部
21 幾何要素算出部
100 スタンド部
110 設置部
111 光学定盤
120 保持部
130 昇降部
131,255a,255b,264,271a,272a 駆動部
132,256a,256b,265,273,274 駆動回路
133,257a,257b,266,275,276 読取部
200 測定ヘッド
210 制御基板
220 撮像部
230 光学部
231 光出射部
232 測定部
232a,232c,246 レンズ
232b 分光部
232d 受光部
233 ガイド光源
240 導光部
241〜244 光ファイバ
245 ファイバカプラ
245a〜245d ポート
245e 本体部
247 ハーフミラー
250 参照部
251,261 固定部
251g リニアガイド
252a,252b,262 可動部
253 固定ミラー
254a〜254c 可動ミラー
260 合焦部
263 可動レンズ
270 走査部
271,272 偏向部
271b,272b 反射部
300 処理装置
310 制御部
320 記憶部
330 操作部
340 表示部
341 選択画面
341a 設定ボタン
341b,362b 測定ボタン
341c ハイトゲージボタン
350 設定画面
351 画像表示領域
352 ボタン表示領域
352a サーチ領域ボタン
352b パターン画像ボタン
352c 設定完了ボタン
352d 点指定ボタン
352e 基準面設定ボタン
352g 許容値ボタン
352h 基準点設定ボタン
352i 測定点設定ボタン
360 測定画面
361 画像表示領域
362 ボタン表示領域
362a ファイル読込ボタン
400 光走査高さ測定装置
410 制御系
420 報告書
421 名称表示欄
422 画像表示欄
423 状況表示欄
424 結果表示欄
425 保証表示欄
MI 測定画像
P0 点
P1,P3 仮想点
P2 照射位置
PI パターン画像
RF 基準面
RI 基準画像
S 測定対象物
SI 画像
SR サーチ領域
V 測定領域
Claims (14)
- 測定対象物の画像を取得する画像取得部と、
前記画像取得部により取得される測定対象物の画像上の測定点の指定を受け付ける位置情報取得部と、
光を出射する光出射部と、
前記光出射部から出射された光を偏向して測定対象物に照射する偏向部と、
測定対象物からの光を受光し、受光量を示す受光信号を出力する受光部と、
前記測定点に対応する測定対象物の部分に光が照射されるように前記偏向部を制御する駆動制御部と、
前記偏向部の偏向方向または前記偏向部により偏向された光の照射位置を検出する検出部と、
前記検出部により検出される前記偏向部の偏向方向または前記偏向部により偏向された光の照射位置と前記受光部により出力される受光信号とに基づいて、前記測定点に対応する測定対象物の部分の高さを算出する高さ算出部と、
測定対象物と測定対象物上の光とを撮像する撮像部と
前記撮像部による撮像画像における光の照射位置を特定する第1の位置特定部と、
前記第1の位置特定部により特定された光の照射位置が前記測定点から予め定められた範囲内にあるか否かを判定する第1の判定部とを備え、
前記画像取得部は、前記撮像部による撮像結果に基づいて画像を取得し、
前記駆動制御部は、前記第1の判定部による判定結果に基づいて前記偏向部を制御する、光走査高さ測定装置。 - 測定対象物の画像を取得する画像取得部と、
前記画像取得部により取得される測定対象物の画像上の測定点の指定を受け付ける位置情報取得部と、
光を出射する光出射部と、
前記光出射部から出射された光を偏向して測定対象物に照射する偏向部と、
測定対象物からの光を受光し、受光量を示す受光信号を出力する受光部と、
前記測定点に対応する測定対象物の部分に光が照射されるように前記偏向部を制御する駆動制御部と、
前記偏向部の偏向方向または前記偏向部により偏向された光の照射位置を検出する検出部と、
前記検出部により検出される前記偏向部の偏向方向または前記偏向部により偏向された光の照射位置と前記受光部により出力される受光信号とに基づいて、前記測定点に対応する測定対象物の部分の高さを算出する高さ算出部と、
前記検出部の検出結果と前記受光部により出力される受光信号とに基づいて光が照射される測定対象物上の平面位置を特定する第2の位置特定部と、
前記第2の位置特定部により特定された測定対象物上の平面位置が前記測定点に対応する位置から予め定められた範囲内にあるか否かを判定する第2の判定部とを備え、
前記駆動制御部は、前記第2の判定部による判定結果に基づいて前記偏向部を制御する、光走査高さ測定装置。 - 前記偏向部から測定対象物に照射される光と重なるように測定対象物に照射されるガイド光を出射するガイド光源をさらに備える、請求項1または2記載の光走査高さ測定装置。
- 測定対象物の画像を取得する画像取得部と、
前記画像取得部により取得される測定対象物の画像上の測定点の指定を受け付ける位置情報取得部と、
光を出射する光出射部と、
前記光出射部から出射された光を偏向して測定対象物に照射する偏向部と、
測定対象物からの光を受光し、受光量を示す受光信号を出力する受光部と、
前記測定点に対応する測定対象物の部分に光が照射されるように前記偏向部を制御する駆動制御部と、
前記偏向部の偏向方向または前記偏向部により偏向された光の照射位置を検出する検出部と、
前記検出部により検出される前記偏向部の偏向方向または前記偏向部により偏向された光の照射位置と前記受光部により出力される受光信号とに基づいて、前記測定点に対応する測定対象物の部分の高さを算出する高さ算出部と、
前記偏向部から測定対象物に照射される光と重なるように測定対象物に照射されるガイド光を出射するガイド光源とを備える、光走査高さ測定装置。 - 前記位置情報取得部は、受け付けられた前記測定点の位置を示す指標を前記画像取得部により取得された測定対象物の画像上に重畳表示する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の光走査高さ測定装置。
- 前記位置情報取得部が第1の測定点および第2の測定点の指定を順次受け付ける場合において、
前記駆動制御部は、前記位置情報取得部が前記第1の測定点の指定を受け付けた後、前記第2の測定点の指定を受け付ける前に、前記第1の測定点に対応する測定対象物の部分に光が照射されるように前記偏向部を制御可能である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の光走査高さ測定装置。 - 位置情報取得部は、前記画像取得部により取得される測定対象物の画像上の1または複数の基準点の指定をさらに受け付け、
前記駆動制御部は、前記1または複数の基準点に対応する測定対象物の部分に光が照射されるように前記偏向部を制御し、
前記光走査高さ測定装置は、
前記検出部の検出結果と前記受光部により出力される受光信号とに基づいて、前記位置情報取得部により受け付けられた画像上の位置に対応する座標を算出する座標算出部と、
前記座標算出部により算出された前記1または複数の基準点に対応する座標に基づいて基準面を取得する基準面取得部とをさらに備え、
前記高さ算出部は、前記座標算出部により算出された前記測定点に対応する座標に基づいて、前記基準面取得部により取得された基準面を基準とする測定対象物の部分の高さを算出する、請求項1〜6のいずれか一項に記載の光走査高さ測定装置。 - 予め定められた固有の座標系を有し、
前記高さ算出部は、前記固有の座標系における原点を基準とする測定対象物の部分の高さを算出する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の光走査高さ測定装置。 - 第1の移動軸に沿って移動可能に配置された参照体と、
前記光出射部により出射された光を測定光として前記偏向部に導くとともに前記光出射部により出射された光を参照光として前記参照体に導き、前記偏向部で反射された測定対象物からの測定光と前記参照体で反射された参照光との干渉光を生成し、生成された干渉光を前記受光部に導く導光部と、
前記参照体の位置を取得する参照位置取得部と、
前記導光部により生成された干渉光を分光する分光部とをさらに備え、
前記光出射部は、時間的に低コヒーレントな光を出射し、
前記偏向部は、前記導光部により導かれた測定光を偏向して測定対象物に照射するとともに、測定対象物からの測定光を前記導光部に反射し、
前記受光部は、前記分光部により分光された干渉光を受光し、干渉光の受光量を示す受光信号を出力し、
前記高さ算出部は、前記参照位置取得部により取得される前記参照体の位置と、前記受光部から出力される受光信号における干渉光の受光量とに基づいて測定対象物の部分の高さを算出する、請求項1〜8のいずれか一項に記載の光走査高さ測定装置。 - 設定モードと測定モードとで選択的に動作するように構成され、
登録部をさらに備え、
前記位置情報取得部は、前記設定モードにおいて、第1の測定対象物の画像上の前記測定点を受け付け、
前記登録部は、前記設定モードにおいて、前記位置情報取得部により受け付けられた前記測定点を登録し、
前記駆動制御部は、前記測定モードにおいて、前記登録部により登録された前記測定点に対応する第2の測定対象物の部分に光が照射されるように前記偏向部を制御し、
前記検出部は、前記測定モードにおいて、前記偏向部の偏向方向または前記偏向部により偏向された光の照射位置を検出し、
前記高さ算出部は、前記測定モードにおいて、前記測定点に対応する第2の測定対象物の部分の高さを算出する、請求項1〜9のいずれか一項に記載の光走査高さ測定装置。 - 前記設定モードにおいて、前記測定点の位置に関する幾何要素の指定を受け付け、受け付けられた幾何要素を前記測定点と関連付けて前記登録部に登録させる幾何要素取得部と、
前記測定モードにおいて、前記検出部により検出された前記偏向部の偏向方向または前記偏向部により偏向された光の照射位置に基づいて、前記登録部に登録された幾何要素に対応する前記測定点の位置に関する幾何要素の値を算出する幾何要素算出部とをさらに備える、請求項10記載の光走査高さ測定装置。 - 表示部をさらに備え、
前記駆動制御部は、前記設定モードにおいて、前記測定点に対応する第1の測定対象物の部分に光が照射されるように前記偏向部を制御し、
前記検出部は、前記設定モードにおいて、前記偏向部の偏向方向または前記偏向部により偏向された光の照射位置を検出し、
前記高さ算出部は、前記設定モードにおいて、前記測定点に対応する第1の測定対象物の部分の高さを算出し、算出された高さを前記表示部に表示させる、請求項10または11記載の光走査高さ測定装置。 - 前記高さ算出部は、前記設定モードにおいて、前記測定点に対応する第1の測定対象物の部分の高さを算出できないときには、エラーメッセージを前記表示部に表示させる、請求項12記載の光走査高さ測定装置。
- 前記設定モードにおいて、前記測定点に対応する第1の測定対象物の部分の高さの許容値の入力を受け付け、受け付けられた許容値を前記測定点と関連付けて前記登録部に登録させる許容値取得部と、
前記測定モードにおいて、前記高さ算出部により算出された第2の測定対象物の部分の高さと前記登録部により登録された許容値とに基づいて、第2の測定対象物の良否を判定する検査部とをさらに備える、請求項10〜13のいずれか一項に記載の光走査高さ測定装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016256610A JP6829992B2 (ja) | 2016-12-28 | 2016-12-28 | 光走査高さ測定装置 |
US15/808,911 US10739580B2 (en) | 2016-12-28 | 2017-11-10 | Optical-scanning-height measuring device |
DE102017223344.3A DE102017223344A1 (de) | 2016-12-28 | 2017-12-20 | Optische abtasthöhenmessvorrichtung |
CN201711459225.3A CN108253891B (zh) | 2016-12-28 | 2017-12-28 | 光学扫描高度测量装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016256610A JP6829992B2 (ja) | 2016-12-28 | 2016-12-28 | 光走査高さ測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018109540A JP2018109540A (ja) | 2018-07-12 |
JP6829992B2 true JP6829992B2 (ja) | 2021-02-17 |
Family
ID=62510480
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016256610A Active JP6829992B2 (ja) | 2016-12-28 | 2016-12-28 | 光走査高さ測定装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10739580B2 (ja) |
JP (1) | JP6829992B2 (ja) |
CN (1) | CN108253891B (ja) |
DE (1) | DE102017223344A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6306230B1 (ja) * | 2017-02-09 | 2018-04-04 | Ckd株式会社 | 半田印刷検査装置、半田印刷検査方法、及び、基板の製造方法 |
JP2019074476A (ja) | 2017-10-18 | 2019-05-16 | 株式会社キーエンス | 形状測定装置 |
JP7219055B2 (ja) * | 2018-11-09 | 2023-02-07 | 株式会社キーエンス | 変位測定装置 |
CN115451867B (zh) * | 2022-09-16 | 2024-10-11 | 南京工程学院 | 基于分布式线结构光的滑轨扫描重建基准的装置及方法 |
Family Cites Families (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2992075B2 (ja) * | 1990-11-30 | 1999-12-20 | シチズン時計株式会社 | 光ビームの走査装置 |
JPH05288523A (ja) * | 1992-04-07 | 1993-11-02 | Citizen Watch Co Ltd | 光学的表面形状測定装置 |
JPH08145645A (ja) * | 1994-11-28 | 1996-06-07 | Nikon Corp | 傾き検出装置 |
JPH10104524A (ja) * | 1996-08-08 | 1998-04-24 | Nikon Corp | 微分干渉顕微鏡 |
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JP4209709B2 (ja) | 2003-03-20 | 2009-01-14 | 株式会社キーエンス | 変位計 |
JP4216679B2 (ja) | 2003-09-25 | 2009-01-28 | 株式会社キーエンス | 変位計および変位測定方法 |
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US20080118886A1 (en) | 2006-11-21 | 2008-05-22 | Rongguang Liang | Apparatus for dental oct imaging |
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JP2009270937A (ja) * | 2008-05-07 | 2009-11-19 | Hideo Fujii | 3次元形状計測装置 |
JP5587469B2 (ja) * | 2008-07-07 | 2014-09-10 | キヤノン株式会社 | 光干渉断層法を用いる撮像装置及び撮像方法 |
JP5403972B2 (ja) | 2008-08-12 | 2014-01-29 | 株式会社東京精密 | 寸法測定装置 |
JP5124424B2 (ja) | 2008-11-17 | 2013-01-23 | 株式会社キーエンス | 光学式変位計 |
JP2012021856A (ja) | 2010-07-14 | 2012-02-02 | Keyence Corp | 干渉膜厚計 |
JP4821934B1 (ja) * | 2011-04-14 | 2011-11-24 | 株式会社安川電機 | 3次元形状計測装置およびロボットシステム |
NL2009273A (en) * | 2011-08-31 | 2013-03-04 | Asml Netherlands Bv | Level sensor arrangement for lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method. |
JP5947169B2 (ja) * | 2012-09-14 | 2016-07-06 | 株式会社キーエンス | 外観検査装置、外観検査法およびプログラム |
JP6071042B2 (ja) | 2012-10-25 | 2017-02-01 | 株式会社東京精密 | 寸法測定装置 |
DE102013008269C5 (de) | 2013-05-15 | 2019-01-24 | Precitec Optronik Gmbh | Bearbeitungskopf für eine Laserbearbeitungsvorrichtung |
JP6119981B2 (ja) * | 2013-06-03 | 2017-04-26 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 校正治具および光干渉測定装置の校正方法 |
KR101882591B1 (ko) * | 2013-06-17 | 2018-08-24 | 프레시텍 옵트로닉 게엠베하 | 거리에 있어서 차이들을 기록하기 위한 광학 측정 장치 및 광학 측정 방법 |
CN103900488A (zh) * | 2013-11-26 | 2014-07-02 | 深圳市唯特视科技有限公司 | 一种3d扫描技术 |
CN203785627U (zh) * | 2014-03-03 | 2014-08-20 | 常州晨凯快速制造技术有限公司 | 一种三维激光扫描仪 |
JP6310792B2 (ja) * | 2014-06-30 | 2018-04-11 | 株式会社トプコン | 皮膚性状評価装置 |
US10393509B2 (en) * | 2014-07-30 | 2019-08-27 | Hitachi High-Technologies Corporation | Pattern height measurement device and charged particle beam device |
CN105783766A (zh) * | 2014-12-23 | 2016-07-20 | 北京云星宇交通科技股份有限公司 | 物体轮廓检测系统 |
JP6009005B2 (ja) * | 2015-01-20 | 2016-10-19 | 株式会社キーエンス | 共焦点顕微鏡システム、画像処理方法および画像処理プログラム |
JP5957575B1 (ja) * | 2015-06-12 | 2016-07-27 | Ckd株式会社 | 三次元計測装置 |
US10557701B2 (en) * | 2016-03-25 | 2020-02-11 | Thorlabs, Inc. | MEMS tunable VCSEL powered swept source OCT for 3D metrology applications |
-
2016
- 2016-12-28 JP JP2016256610A patent/JP6829992B2/ja active Active
-
2017
- 2017-11-10 US US15/808,911 patent/US10739580B2/en active Active
- 2017-12-20 DE DE102017223344.3A patent/DE102017223344A1/de not_active Withdrawn
- 2017-12-28 CN CN201711459225.3A patent/CN108253891B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN108253891A (zh) | 2018-07-06 |
US20180180876A1 (en) | 2018-06-28 |
DE102017223344A1 (de) | 2018-06-28 |
US10739580B2 (en) | 2020-08-11 |
JP2018109540A (ja) | 2018-07-12 |
CN108253891B (zh) | 2021-10-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190910 |
|
A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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