JP6808734B2 - 方向性電磁鋼板用絶縁被膜組成物、これを利用した方向性電磁鋼板の絶縁被膜形成方法、及び方向性電磁鋼板 - Google Patents
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Description
このような方向性電磁鋼板は、スラブの加熱後、熱間圧延、熱延板焼鈍、冷間圧延により、通常0.15〜0.35mmの最終厚さに圧延した後、1次再結晶焼鈍と2次再結晶形成のために高温焼鈍を経て製造される。
第一に、コイル形態での熱処理によってコイルの外巻部と内巻部との温度偏差が発生して各部分で同一の熱処理パターンを適用できず、外巻部と内巻部との磁性バラツキが発生する。
第三に、脱炭焼鈍済みの脱炭板をコイル状に巻いた後、高温焼鈍し、その後再度平坦化焼鈍を経て絶縁コーティングをするため、生産工程が3段階に分けられることによって実歩留まりが低下するという問題が発生する。
金属シリケートは、ナトリウムシリケート、カリウムシリケート、カルシウムシリケート、マグネシウムシリケート、マンガンシリケート及びストロンチウムシリケートの中から選択される1種以上であり、有機シリケートは、テトラアルキルオルソシリケートでありうる。
無機ナノ粒子は、平均粒径が1〜100nmであってもよい。
無機ナノ粒子は、粒径が1nm〜10nm未満の無機ナノ粒子及び粒径が10nm〜100nmの無機ナノ粒子を含んでもよい。
溶媒を10〜25重量部更に含んでもよい。
金属リン酸塩を10〜50重量部更に含んでもよい。
最終焼鈍段階は、900℃〜1000℃の温度及び露点温度55℃〜65℃で焼鈍を実施する第1段階と、1000℃〜1200℃の温度及びH2 75体積%以上の雰囲気で実施する第2段階とを含むことができる。
方向性電磁鋼板用絶縁被膜組成物が塗布された方向性電磁鋼板を250〜950℃で熱処理することができる。
{110}<001>方位から15度以内の方位を有する結晶粒のうち、大きさが30〜1000μmの結晶粒の比率が80%以上であってもよい。
粒径が10nm〜100nmの無機ナノ粒子は、粒径が10nm〜30nm未満の無機ナノ粒子5〜20重量部及び粒径が30nm〜100nmの無機ナノ粒子5〜20重量部を含んでもよい。
クロム酸化物は、三酸化クロム、酸化第二クロム、及び酸化第一クロムの中から選択される1種以上であってもよい。
溶媒を10〜25重量部更に含んでもよい。
最終焼鈍段階は、900℃〜1000℃の温度及び露点温度55℃〜65℃で焼鈍を実施する第1段階と、1000℃〜1200℃の温度及びH2 75体積%以上の雰囲気で実施する第2段階とを含むことができる。
方向性電磁鋼板用絶縁被膜組成物が塗布された方向性電磁鋼板を250〜950℃で熱処理することができる。
{110}<001>方位から15度以内の方位を有する結晶粒のうち、大きさが30〜1000μmの結晶粒の比率が80%以上であってもよい。
また、本発明の他の一実施形態によれば、方向性電磁鋼板の表面に密着性に優れた絶縁被膜を形成することができる。
以下、本発明の実施形態について、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳しく説明する。しかし、本発明は様々な異なる形態で実現可能であり、ここで説明する実施形態に限定されない。
金属シリケート又は有機シリケートは、素地鉄との密着性を画期的に改善し、高い引張応力を付与するために添加される。具体的には、金属シリケートは、ナトリウムシリケート(Sodium silicate)、カリウムシリケート(Potassium silicate)、カルシウムシリケート(Calcium silicate)、マグネシウムシリケート、マンガンシリケート、及びストロンチウムシリケートの中から選択される1種以上であってもよく、また、有機シリケートはテトラアルキルオルソシリケートであってもよく、より具体的には、テトラエチルオルソシリケート(Tetraethyl orthosilicate)及びテトラメチルオルソシリケート(Tetramethyl orthosilicate)の中から選択される1種以上であってもよい。
具体的には、金属リン酸塩は、金属水酸化物の金属原子がリン酸のリンと置換反応して単結合、二重結合、又は三重結合を形成してなるものであり、未反応の遊離リン酸(H3PO4)の量が35%以下の化合物からなる。
もし、金属水酸化物が70:100の重量比率を超えて含まれる場合には、化学的な反応が完結しなくて沈殿物が生じるという問題が発生することがあり、金属水酸化物が1:100の重量比率未満で含まれる場合には、耐食性が劣るという問題が発生することがあるので、上述した範囲に限定する。
金属リン酸塩は10〜50重量部含まれることができる。
これは、上述した特性を有する方向性電磁鋼板用絶縁被膜組成物を使用して方向性電磁鋼板の表面に絶縁被膜を形成する方法に該当する。以下、方向性電磁鋼板の絶縁被膜形成方法の各段階についてより詳しく説明する。
方向性電磁鋼板用絶縁被膜組成物に関する説明は前述の通りであるので、説明を繰り返すのは省略する。
次いで、熱延鋼板を熱延板焼鈍する。この時、熱延板焼鈍は850℃〜1000℃の温度で実施すればよい。また、この時、露点温度は50〜70℃で実施すればよい。上述した範囲の温度及び露点温度で脱炭焼鈍が容易で表層部のGoss結晶粒が中心部に拡散する効果がある。
本発明の一実施形態では、結晶粒成長抑制剤を使用せずに方向性電磁鋼板を製造することができ、脱炭過程を通してGossを成長させるため、別途のインヒビターを形成する浸窒焼鈍を省略することができる。
通常、冷間圧延は、90%に近い高圧下率で1回実施することが効果的と知られている。これは1次再結晶粒中のGoss結晶粒のみが粒子成長するのに有利な環境を作るからである。これに対し本発明の一実施形態による方向性電磁鋼板の製造方法は、Goss方位の結晶粒の異常な粒子成長を利用するのはなく、脱炭焼鈍及び冷間圧延によって発生した表層部のGoss結晶粒を内部拡散させるものであるため、表層部でGoss方位の結晶粒を多数分布するように形成することが有利である。従って、50%〜70%圧下率で2回以上冷間圧延する。脱炭焼鈍及び冷間圧延は、2回以上繰り返して実施すればよい。
本発明の一実施形態による方向性電磁鋼板の製造方法では、従来のバッチ(Batch)方式とは異なり、冷間圧延に続いて、連続で最終焼鈍を実施すればよい。すなわち、最終焼鈍を迅速に実施すればよい。具体的には、最終焼鈍を1〜30分間実施すればよい。このように最終焼鈍を連続的に実施可能な理由は、従来の異常粒成長技術とは異なり、Goss単結晶を形成して正常粒成長を誘導するためである。
方向性電磁鋼板用絶縁被膜組成物及び方向性電磁鋼板に関する説明は前述の通りであるから、説明を繰り返すのを省略する。
具体的には、金属リン酸塩は第1リン酸アルミニウム、第1リン酸マグネシウム及び第1リン酸カルシウムの中から選択される1種以上であってもよい。
具体的には、金属リン酸塩は、金属水酸化物の金属原子がリン酸のリンと置換反応して単結合、二重結合、又は三重結合を形成してなるものであり、未反応の遊離リン酸(H3PO4)の量が35%以下の化合物からなる。
あり、1:100の重量比率未満の金属水酸化物含む場合には、耐食性が劣るという問題が発生することがあので、上述した範囲に限定する。
より具体的には、粒径が互いに異なる2種類以上の無機ナノ粒子を混合でき、粒径が10nm〜100nmの無機ナノ粒子が、粒径が10nm〜30nm未満の無機ナノ粒子5〜20重量部及び粒径が30nm〜100nmの無機ナノ粒子5〜20重量部を含んでもよい。上述した範囲で溶液の安定性が長時間維持され、表面充填性が向上し絶縁特性も優れている。
まず、段階(S10)は、方向性電磁鋼板及び方向性電磁鋼板用絶縁被膜組成物をそれぞれ準備する。
方向性電磁鋼板は、重量%で、Si:2.0〜4.0%、C:0.002%以下(但し0%を含まない)及びSb0.01〜0.06%を含み、残部はFe及びその他不可避不純物からなる。
次いで、熱延鋼板を熱延板焼鈍する。この時、熱延板焼鈍は850℃〜1000℃の温度で実施すればよい。また、この時、露点温度は50〜70℃で実施すればよい。上述した範囲の温度及び露点温度で脱炭焼鈍が容易で表層部のGoss結晶粒が中心部に拡散する効果がある。
本発明の一実施形態では、結晶粒成長抑制剤を使用せずに方向性電磁鋼板を製造でき、脱炭過程を通してGossを成長させるため、別途のインヒビターを形成する浸窒焼鈍を省略することができる。
通常、冷間圧延は、90%に近い高圧下率で1回実施することが効果的であると知られている。これは、1次再結晶粒中のGoss結晶粒のみが粒子成長するのに有利な環境を作るからである。
これに対し、本発明の一実施形態による方向性電磁鋼板の製造方法は、Goss方位の結晶粒の異常な粒子成長を利用するのはなく、脱炭焼鈍及び冷間圧延によって発生した表層部のGoss結晶粒を内部拡散させるものであるため、表層部でGoss方位の結晶粒が多数分布するように形成することが有利である。従って、50%〜70%圧下率で2回以上冷間圧延する。脱炭焼鈍及び冷間圧延は、2回以上繰り返して実施すればよい。
本発明の一実施形態による方向性電磁鋼板の製造方法では、従来のバッチ(Batch)方式とは異なり、冷間圧延に続いて、連続して最終焼鈍を実施すればよい。すなわち、最終焼鈍を迅速に実施すればよい。具体的には、最終焼鈍を1〜30分間実施すればよい。このように最終焼鈍を連続的に実施可能な理由は、既存の異常粒成長技術とは異なり、Goss単結晶を形成して正常粒成長を誘導するためである。
方向性電磁鋼板用絶縁被膜組成物及び方向性電磁鋼板に関する説明は前述の通りであるので、説明を繰り返すのを省略する。
実施例1
重量%で、Si:2.0%、C:0.20%及びSb:0.05%を含有し、残部Fe及び不可避不純物からなるスラブを1150℃の温度で220分間加熱した後、3mm厚さに熱間圧延し、次に、焼鈍温度900℃、露点温度60℃で150秒間熱延板焼鈍を実施して冷却した後、酸洗を実施し、60%の圧下率で冷間圧延した。
絶縁被膜組成物は、平均粒径7nmのアルミナナノ粒子35重量部、ナトリウムシリケート40重量部、水酸化コバルト5重量部、及び水20重量部を十分に混合して製造した。
最終焼鈍が完了した方向性電磁鋼板の表面に、4.2g/m2の量で絶縁被膜組成物を塗布し、850℃で30秒間熱処理を実施して、絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板を得た。絶縁被膜の厚さは2μmであった。
実施例2
実施例1と同一の方式で絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板を製造するが、ナトリウムシリケートの代わりにマグネシウムシリケートを使用した。
実施例2で製造した絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板の磁束密度、鉄損、絶縁性、被膜張力及び耐食性を下記の方法で評価して、下記表1に整理した。
実施例1と同一の方式で絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板を製造するが、ナトリウムシリケートの代わりにカルシウムシリケートを使用した。
実施例3で製造した絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板の磁束密度、鉄損、絶縁性、被膜張力及び耐食性を下記の方法で評価して、下記表1に整理した。
実施例1と同一の方式で絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板を製造するが、ナトリウムシリケートの代わりにマンガンシリケートを使用した。
実施例4で製造した絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板の磁束密度、鉄損、絶縁性、被膜張力及び耐食性を下記の方法で評価して、下記表1に整理した。
実施例1と同一の方式で絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板を製造するが、ナトリウムシリケートの代わりにストロンチウムシリケートを使用した。
実施例5で製造した絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板の磁束密度、鉄損、絶縁性、被膜張力及び耐食性を下記の方法で評価して、下記表1に整理した。
周波数50Hzの磁場を1.7Teslaまで交流で磁化した時に示す電力損失を測定した。
電磁鋼板の周囲を巻き取った捲線に800A/mの大きさの電流量を流した時、電磁鋼板に流れる磁束密度値を測定した。
ASTM A717国際規格により、Franklin測定器を活用して300PSI圧力下で電圧0.5V、電流1.0Aを通過した時の収納電流値を測定した。
表面に形成された絶縁被膜による引張応力付与で一方向に歪むようになり、このような歪みの程度を測定して絶縁被膜による被膜張力を評価した。
試験例5:耐食性の測定方法
5重量%、35℃、NaCl溶液に8時間、試験片のサビ発生の有無を評価するものであり、本試験では、サビ発生面積が5%以下の場合は優秀、20%以下の場合は良好、20〜50%の場合はやや不良、50%以上の場合は不良と表示した。
実施例1と同一の方式で絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板を製造するが、アルミナナノ粒子の代わりに平均粒径5nmのシリカナノ粒子を使用した。
実施例6で製造した絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板の磁束密度、鉄損、絶縁性、被膜張力及び耐食性を上述した方法で評価して、下記表2に整理した。
実施例1と同一の方式で絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板を製造するが、アルミナナノ粒子の代わりに平均粒径12nmのシリカナノ粒子を使用した。
実施例7で製造した絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板の磁束密度、鉄損、絶縁性、被膜張力及び耐食性を上述した方法で評価して、下記表2に整理した。
実施例1と同一の方式で絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板を製造するが、アルミナナノ粒子の代わりに平均粒径50nmのシリカナノ粒子を使用した。
実施例8で製造した絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板の磁束密度、鉄損、絶縁性、被膜張力及び耐食性を上述した方法で評価して、下記表2に整理した。
実施例1と同一の方式で絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板を製造するが、アルミナナノ粒子の代わりに平均粒径5nmのシリカナノ粒子15重量部及び平均粒径15nmのシリカナノ粒子20重量部を使用した。
実施例9で製造した絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板の磁束密度、鉄損、絶縁性、被膜張力及び耐食性を上述した方法で評価して、下記表2に整理した。
実施例1と同一の方式で絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板を製造するが、アルミナナノ粒子の代わりに平均粒径5nmのシリカナノ粒子10重量部、平均粒径25nmのシリカナノ粒子10重量部及び平均粒径40nmのシリカナノ粒子15重量部を使用した。
実施例10で製造した絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板の磁束密度、鉄損、絶縁性、被膜張力及び耐食性を上述した方法で評価して、下記表2に整理した。
重量%で、Si:2.0%、C:0.20%及びSb:0.05%を含有し、残部Fe及び不可避不純物からなるスラブを1150℃の温度で220分間加熱した後、3mm厚さに熱間圧延し、次に、焼鈍温度900℃、露点温度60℃で150秒間熱延板焼鈍を実施して冷却した後、酸洗を実施し、60%の圧下率で冷間圧延した。
最終焼鈍が完了した方向性電磁鋼板の表面に、4.2g/m2の量で絶縁被膜組成物を塗布し、850℃で30秒間熱処理を実施して、絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板を得た。絶縁被膜の厚さは2μmであった。
実施例11で製造した絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板の磁束密度、鉄損、絶縁性、被膜張力及び耐食性を上述した方法で評価して、下記表3に整理した。
実施例11と同一の方式で絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板を製造するが、シリカナノ粒子を平均粒径5nmのシリカナノ粒子10重量部、平均粒径25nmのシリカナノ粒子10重量部及び平均粒径40nmのシリカナノ粒子15重量部を使用した。
実施例12で製造した絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板の磁束密度、鉄損、絶縁性、被膜張力及び耐食性を上述した方法で評価して、下記表3に整理した。
実施例11と同一の方式で絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板を製造するが、シリカナノ粒子を平均粒径5nmのシリカナノ粒子5重量部、平均粒径12nmのシリカナノ粒子10重量部及び平均粒径25nmのシリカナノ粒子10重量部を使用した。
実施例13で製造した絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板の磁束密度、鉄損、絶縁性、被膜張力及び耐食性を上述した方法で評価して、下記表3に整理した。
実施例11と同一の方式で絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板を製造するが、シリカナノ粒子は平均粒径が5nmのシリカナノ粒子35重量部を使用した。
比較例1で製造した絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板の磁束密度、鉄損、絶縁性、被膜張力及び耐食性を上述した方法で評価して、下記表3に整理した。
実施例11と同一の方式で絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板を製造するが、シリカナノ粒子は平均粒径が12nmのシリカナノ粒子35重量部を使用した。
比較例2で製造した絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板の磁束密度、鉄損、絶縁性、被膜張力及び耐食性を上述した方法で評価して、下記表3に整理した。
実施例11と同一の方式で絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板を製造するが、シリカナノ粒子は平均粒径が50nmのシリカナノ粒子35重量部を使用した。
比較例3で製造した絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板の磁束密度、鉄損、絶縁性、被膜張力及び耐食性を上述した方法で評価して、下記表3に整理した。
実施例11と同一の方式で絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板を製造するが、リン酸アルミニウムの代わりにリン酸マグネシウムを使用した。
実施例14で製造した絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板の磁束密度、鉄損、絶縁性、被膜張力及び耐食性を上述した方法で評価して、下記表4に整理した。
実施例11と同一の方式で絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板を製造するが、リン酸アルミニウムの代わりにリン酸カルシウムを使用した。
実施例15で製造した絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板の磁束密度、鉄損、絶縁性、被膜張力及び耐食性を上述した方法で評価して、下記表4に整理した。
実施例11と同一の方式で絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板を製造するが、リン酸アルミニウムの代わりにリン酸マンガンを使用した。
実施例16で製造した絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板の磁束密度、鉄損、絶縁性、被膜張力及び耐食性を上述した方法で評価して、下記表4に整理した。
実施例11と同一の方式で絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板を製造するが、リン酸アルミニウムの代わりにリン酸ストロンチウムを使用した。
実施例17で製造した絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板の磁束密度、鉄損、絶縁性、被膜張力及び耐食性を上述した方法で評価して、下記表4に整理した。
Claims (15)
- ナトリウムシリケート、カリウムシリケート、カルシウムシリケート、マグネシウムシリケート、マンガンシリケート及びストロンチウムシリケートの中から選択される金属シリケート10〜50重量部、アルミナ(Al 2 O 3 )又はシリカ(SiO 2 )でなる無機ナノ粒子20〜70重量部及び水酸化コバルト0.1〜20重量部を含むことを特徴とする方向性電磁鋼板用絶縁被膜組成物。
- 前記無機ナノ粒子は平均粒径が1〜100nmであることを特徴とする請求項1に記載の方向性電磁鋼板用絶縁被膜組成物。
- 前記無機ナノ粒子は、粒径が1nm〜10nm未満の無機ナノ粒子及び粒径が10nm〜100nmの無機ナノ粒子を含むことを特徴とする請求項2に記載の方向性電磁鋼板用絶縁被膜組成物。
- 前記無機ナノ粒子は、粒径が1nm〜10nm未満の無機ナノ粒子、粒径が10nm〜30nm未満の無機ナノ粒子、及び粒径が30nm〜100nmの無機ナノ粒子を含むことを特徴とする請求項2に記載の方向性電磁鋼板用絶縁被膜組成物。
- 溶媒を10〜25重量部更に含むことを特徴とする請求項1に記載の方向性電磁鋼板用絶縁被膜組成物。
- 方向性電磁鋼板及び方向性電磁鋼板用絶縁被膜組成物をそれぞれ準備する段階と、
前記方向性電磁鋼板用絶縁被膜組成物を前記方向性電磁鋼板の表面に塗布する段階と、
前記方向性電磁鋼板用絶縁被膜組成物が塗布された方向性電磁鋼板を熱処理する段階と、
表面に絶縁被膜が形成された方向性電磁鋼板を収得する段階と、を含み、
前記方向性電磁鋼板用絶縁被膜組成物は、ナトリウムシリケート、カリウムシリケート、カルシウムシリケート、マグネシウムシリケート、マンガンシリケート及びストロンチウムシリケートの中から選択される金属シリケート10〜50重量部、アルミナ(Al2O3)又はシリカ(SiO2)でなる無機ナノ粒子20〜70重量部、及び水酸化コバルト0.1〜20重量部を含むことを特徴とする方向性電磁鋼板の絶縁被膜形成方法。 - 前記方向性電磁鋼板は、重量%で、Si:2.0〜4.0%、C:0.002%以下(但し0%を含まない)及びSb:0.01〜0.06%を含み、残部はFe及びその他不可避不純物からなることを特徴とする請求項6に記載の方向性電磁鋼板の絶縁被膜形成方法。
- 前記方向性電磁鋼板は、
重量%で、Si:2.0%〜4.0%、C:0.1%〜0.4%及びSb:0.01%〜0.06%を含み、残部はFe及びその他不可避不純物からなるスラブを提供する段階と、
前記スラブを再加熱する段階と、
前記スラブを熱間圧延して熱延鋼板を製造する段階と、
前記熱延鋼板を熱延板焼鈍する段階と、
前記熱延板焼鈍された熱延鋼板を冷間圧延する段階と、
前記冷間圧延された鋼板を脱炭焼鈍する段階と、
前記脱炭焼鈍が完了した鋼板を冷間圧延する段階と、
前記冷間圧延が完了した鋼板を最終焼鈍する段階と、を含んで製造されることを特徴とする請求項6に記載の方向性電磁鋼板の絶縁被膜形成方法。 - 前記脱炭焼鈍は、850℃〜1000℃の温度及び50℃〜70℃の露点温度で実施することを特徴とする請求項8に記載の方向性電磁鋼板の絶縁被膜形成方法。
- 前記最終焼鈍する段階は、900℃〜1000℃の温度及び露点温度55℃〜65℃で焼鈍を実施する第1段階と、1000℃〜1200℃の温度及びH2 75体積%以上の雰囲気で実施する第2段階と、を含むことを特徴とする請求項8に記載の方向性電磁鋼板の絶縁被膜形成方法。
- 前記方向性電磁鋼板用絶縁被膜組成物を前記方向性電磁鋼板の表面に0.5〜7g/m2塗布することを特徴とする請求項9に記載の方向性電磁鋼板の絶縁被膜形成方法。
- 前記方向性電磁鋼板用絶縁被膜組成物が塗布された方向性電磁鋼板を250〜950℃で熱処理することを特徴とする請求項6に記載の方向性電磁鋼板の絶縁被膜形成方法。
- 方向性電磁鋼板と方向性電磁鋼板の表面に形成された絶縁被膜とを含み、
前記絶縁被膜は、ナトリウムシリケート、カリウムシリケート、カルシウムシリケート、マグネシウムシリケート、マンガンシリケート及びストロンチウムシリケートの中から選択される金属シリケート10〜50重量部、アルミナ(Al 2 O 3 )又はシリカ(SiO 2 )でなる無機ナノ粒子20〜70重量部、及び水酸化コバルト0.1〜20重量部を含むことを特徴とする方向性電磁鋼板。 - 前記方向性電磁鋼板は、{110}<001>方位から15度以内の方位を有する結晶粒の体積分率が90%以上であることを特徴とする請求項13に記載の方向性電磁鋼板。
- 前記{110}<001>方位から15度以内の方位を有する結晶粒中、大きさが30〜1000μmの結晶粒の比率が80%以上であることを特徴とする請求項14に記載の方向性電磁鋼板。
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