JP6773202B1 - 透明導電性フィルム、光学部材、および電子機器 - Google Patents
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Abstract
Description
透明導電フィルムを製造する際や透明導電フィルムを使用して光学部材を製造する際、工業的には長尺の透明導電フィルムを高速で搬送したり、長尺の透明導電フィルムをロール状に巻き取ったり、巻き取ったロールを解いたりする。このような搬送工程や巻き取り工程・巻解き工程において、透明導電層と、結晶性透明フィルムの透明導電層が設けられていない面(透明導電層と接触することとなる)との接触面積が大きすぎると、ブロッキングしてしまう。ブロッキングに抗して搬送したり、巻き取ったり、解いたりすると、透明導電層に傷が入ってしまうという問題があった。
しかし、透明導電フィルムがより長くなることにより、巻き芯に近い部分には過大な負荷がかかることから、ブロッキング防止用のハードコート層にはハードコート層自体が傷つかないよう十分な硬さが求められると共に、ハードコート層の表面が結晶性透明フィルムの表面や透明導電層の表面を傷つけないことが求められる。
しかし、支持体が薄くなるとブロッキング防止用のハードコート層の硬化収縮により、高屈折率層や透明導電層を設ける前の中間体が著しくカールしてしまう。高屈折率層や透明導電層は支持体を挟んでブロッキング防止用のハードコート層の反対側に設けられる層であり、前記中間体がカールしてしまうと、均一な高屈折率層や透明導電層を形成し難くなってしまう。あるいは、前記中間体を引っ張るなどして中間体を平らにしつつ高屈折率層や透明導電層を形成したとしても、高屈折率層や透明導電層を形成した後の透明導電フィルムにおけるハードコート層には硬化収縮の影響が少なからず残ってしまう。
また積層順序を変更して、支持体に先に高屈層や透明導電層を積層して、その後支持体の反対面にブロッキング防止用のハードコート層を成膜させた場合、ハードコート層の硬化収縮が大きいと、先に設けておいた高屈折率層や透明導電層がハードコート層の硬化収縮の影響を受けて収縮し、均一性が損なわれ、組立後のタッチセンシング機能に動作不良を生じるなどの不具合が発生しやすいという問題があった。
また、特許文献1、2に開示されるハードコート層は、カールし易いという問題もあった。
さらに、水酸基含有溶剤を含むハードコート剤を用いることにより攪拌の際に生じる気泡を速やかに消すことができる。これにより工程上、攪拌後すぐに塗工可能であり、また気泡由来の塗膜欠損を大幅に減らし歩留りを高くすることができる。
本発明におけるハードコート層を形成するためのハードコート剤は、少なくともウレタン(メタ)アクリレート(A)を含む成膜性成分、金属酸化物(B)、光重合開始剤(C)を含む。
ウレタン(メタ)アクリレート(A)は、例えば、以下のような方法で得ることができる。
方法1;水酸基を有する(メタ)アクリレート類(a1)とポリイソシアネート(a2)とを反応させる方法。
方法2;ポリオールとポリイソシアネート(a2)とをイソシアネート基過剰の条件下に反応させてなるイソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを、水酸基を有する(メタ)アクリレート類(a1)と反応させる方法。
方法3;ポリオールとポリイソシアネート(a2)とを水酸基過剰の条件下に反応させてなる水酸基含有ウレタンプレポリマーを、イソシアネート基を有する(メタ)アクリレート類と反応させる方法。
方法4;カルボキシル基を有するポリオールとポリイソシアネート(a2)とを水酸基過剰の条件下に反応させてなるカルボキシル基含有ウレタンプレポリマーを、エポキシ基を有する(メタ)アクリレート類と反応させる方法。
合成ステップの数から簡易な合成法である方法1が好ましい。
前記方法1、2で用いられる水酸基を有する(メタ)アクリレート類(a1)としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート,2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸変性ジアクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等の水酸基を有する(メタ)アクリレート類が挙げられる。
前記方法1〜4で用いられるポリイソシアネート(a2)としては、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート等およびこれらの水素添加体、もしくはイソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等およびこれらのトリメチロールプロパンアダクト体、三量化ヌレート体、アロファネート体、ビュレット体等が挙げられる。
前記ポリオールと多塩基酸や多塩基酸無水物との縮重合物が挙げられる。
多塩基酸や多塩基酸無水物としては、フタル酸や無水フタル酸のような芳香族系多塩基酸、アジピン酸やセバシン酸のような脂肪族系多塩基酸が挙げられる。
そして、ウレタン(メタ)アクリレート(A)を含む成膜性成分は、(メタ)アクリロイル基を平均で3〜10個有することが好ましく、4〜8個有することがより好ましい。
方法1を例に説明する。
例えば、原料である水酸基を1個有する(メタ)アクリレート類には水酸基を有しない(メタ)アクリレート類との混合状態で提供されているものもあるので、そのような混合物を用いた場合、前記方法1による生成物には、理想的なウレタン(メタ)アクリレート(A)の他に水酸基を有しない(メタ)アクリレート類も含まれることとなる。また、一般的に水酸基を有する(メタ)アクリレート類は、ポリイソシアネートに比して過剰に用いるので、未反応の水酸基1個を有する(メタ)アクリレート類も方法1による生成物に含まれることとなる。
さら、水酸基を1個有する(メタ)アクリレート類として製造・販売されているものには、水酸基を2個以上有する(メタ)アクリレート類や(メタ)アクリレート類の原料である(メタ)アクリル酸が少量含まれることもある。
そのため、理想的なウレタン(メタ)アクリレート(A)中の(メタ)アクリロイル基の一部に、未反応の水酸基1個を有する(メタ)アクリレート類中の(メタ)アクリロイル基や水酸基を有しない(メタ)アクリレート類中の(メタ)アクリロイル基が次々に反応したものや、水酸基を2個以上有する(メタ)アクリレート類と水酸基を1個有する(メタ)アクリレート類とポリイソシアネートとが反応したものも、方法1による生成物に含まれることとなり、方法1による生成物は様々な構造・分子量の分子の集合体となり、比較的広い分子量分布を呈する。方法2〜4による場合も同様である。
DPPAは1分子当たり水酸基を1個、HDIヌレートは1分子当たりNCO基を3個有するので、DPPA3分子がHDIヌレート1分子と反応すると考えられる。従って、上記組成物2103g中に含まれるDPPAは1000g(約1.91モル)であり、そのうち約0.38モルに相当する約199gのDPPAが上記HDIヌレート(分子量:504)と反応すると考えられ、その結果、生成物は、
理論分子量:2076(=504+524×3)、(メタ)アクリロイル基を15個有するウレタン(メタ)アクリレート(A):約273gと、
(メタ)アクリロイル基を5個有する未反応のDPPA:約801gと、
(メタ)アクリロイル基を6個有するDPHA:約1103gとを含む、と仮定する。
よって、ウレタン(メタ)アクリレート(A)を含む成膜性成分の(メタ)アクリロイル基の平均個数は、(273×15+801×5+1103×6)/(2103+74)=6.8 となる。
つまり、ここでいう成膜性成分の有する(メタ)アクリロイル基の平均個数は理論値である。
そこで、生成物全体としての性質は、上記の理論的な(メタ)アクリロイル基の平均個数と、質量平均分子量(Mw)とによって特定することとする。
質量平均分子量は後述する方法に従い求めることができる。
なお、ここでいう「f」は、上述したウレタン(メタ)アクリレート(A)を含む成膜性成分の(メタ)アクリロイル基の平均個数の意である。
加え得る(メタ)アクリル系化合物としては、DPHAのように(メタ)アクリロイル基以外の官能基を有しないものであっても、水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミド基、シラノール基等の官能基を有するものであってもよい。
(メタ)アクリル系化合物以外の重合性不飽和二重結合基を有する化合物としては、脂肪酸ビニル化合物、アルキルビニルエーテル化合物、α−オレフィン化合物、ビニル化合物、エチニル化合物等を挙げることができる。
具体的には、イソシアネート基を有する成分としてイソシアネート基を2個有するジイソシアネート成分を用いる場合はイソシアネート基/水酸基の比を0.2〜0.6とすることによって、イソシアネート基を有する成分として、イソシアネート基を3個有するトイソシアネート成分を用いる場合はイソシアネート基/水酸基の比を0.1〜0.3とすることによって、ウレタン(メタ)アクリレート(A)の含有率の大きな生成物を得ることができる。
エチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、テトラメチレングリコール(メタ)アクリレート等の、末端に水酸基を有しポリオキシアルキレン鎖を有するモノ(メタ)アクリレート;
メトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、プロポキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、n−ブトキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、n−ペンタキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、テトラプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシテトラプロピレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシテトラプロピレングリコール(メタ)アクリレート、プロポキシテトラプロピレングリコール(メタ)アクリレート、n−ブトキシテトラプロピレングリコール(メタ)アクリレート、n−ペンタキシテトラプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリテトラメチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート等の、末端にアルコキシ基を有しポリオキシアルキレン鎖を有するモノ(メタ)アクリレート;
フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシテトラプロピレンエチレングリコール(メタ)アクリレート等の、末端にフェノキシまたはアリールオキシ基を有するポリオキシアルキレン系(メタ)アクリレートが挙げられる。
ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、等のジアルキルアミノ基を有する不飽和化合物等がある。
グリシジルアクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルアクリレート等のグリシジル基含有アクリレート;
パーフルオロブチルエチレン、パーフルオロヘキシルエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、パーフルオロデシルエチレン等のパーフルオロアルキル、アルキレン類等のパーフルオロアルキル基含有ビニルモノマー等が挙げられる。
成膜性成分は、ウレタン(メタ)アクリレート(A)を含む生成物とさらに加え得る重合性不飽和二重結合基を有する化合物との合計100質量%のうち、ウレタン(メタ)アクリレート(A)を10質量%以上含むことが好ましく、20質量%以上がより好ましく、30質量%以上が更に好ましい。ウレタン(メタ)アクリレート(A)を10質量%以上含むことによりHC性とカール性を両立しやすくなる。
ハードコート層の透明性という点においては、ハードコート剤の主成分となるウレタン(メタ)アクリレート(A)を含む生成物の屈折率nDが1.46〜1.52程度なので、金属酸化物(B)の屈折率nDは1.46〜1.52程度であることが好ましい。このような金属酸化物(B)としては、例えばシリカ(nD=1.47)が挙げられる。シリカを単独で用いてもよいし、他の金属酸化物を含めた二種類以上を混合して用いてもよい。
日本アエロジル(株)製:AEROSILシリーズ(50、90G、130、OX50、TT600)、
日産化学工業(株)製:オルガノシリカゾルシリーズ(MA−ST−M、MA−ST−L、IPA−ST−L、IPA−ST−ZL、MEK−ST−L、MEK−ST−ZL、MIBK−ST−L、MIBK−ST−M、MEK−AC−4130Y、MEK−AC−5140Z、PGM−AC−4130Y、MIBK−SD−L)、
シーアイ化成(株)製:ナノテックSiO2等が挙げられる。
また、金属酸化物(B)の平均一次粒子径の上限としては、凝集して大きすぎる二次粒子となることを防ぐために、大きくとも80nmであり、好ましくは50nm以下である。
金属酸化物(A)の平均一次粒子径は、電子顕微鏡の観察により求めることができる。即ち、走査型電子顕微鏡(日本電子株式会社製「JEM−2800」)を用いて倍率2万倍で観察した際の粒子10個の平均サイズを平均一次粒子径として用いた。
本発明におけるハードコート剤は、光重合開始剤(C)を含む。
光重合開始剤としては、光励起によってウレタン(メタ)アクリレート(A)を含む成膜性成分中の(メタ)アクリロイル基等の活性エネルギー線硬化性官能基の重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルホスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物等が使用できる。
アセトフェノン化合物としては、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、ジエトキシアセトフェノン、ジブトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2,2−ジエトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタン−1−オン、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム等が挙げられる。
特に、活性エネルギー線硬化後の耐黄変の観点で、Omnirad184やエサキュアワンが好ましい。
光重合開始剤の使用量に関しては、特に制限はされないが、ウレタン(メタ)アクリレート(A)を含む成膜性成分100質量部に対して、1〜20質量部の範囲内で使用することが好ましい。増感剤として、公知の有機アミン等を加えることもできる。
さらに、上記ラジカル重合用開始剤のほかに、カチオン重合用の開始剤を併用することもできる。
添加剤としては、例えば、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤、スリップ剤、消泡剤、界面活性剤、抗菌剤、アンチブロッキング剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、酸化防止剤、シランカップリング剤、導電性ポリマー、導電性界面活性剤、無機充填剤、顔料、染料等が挙げられる。
溶剤としては、特に制限されるものでなく、様々な公知の有機溶剤を用いることができる。具体的には例えば、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、アセトン、アセチルアセトン、トルエン、キシレン、n−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、エタノール、メタノール、3−メトキシ−1−ブタノール、3−メトキシ−2−ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノn−ブチルエーテル、2−エトキシエタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、ジアセトンアルコール、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、2−エトキシエチルアセテート、ブチルアセテート、テトラヒドロフラン、メチルピロリドン等が挙げられる。これらの有機溶剤は、2種類以上を併用しても差し支えない。
全溶剤100質量%中の水酸基含有溶剤含有量は、5〜70質量%であることが好ましく、10〜50質量%であることがより好ましく、15〜40質量%であることが更に好ましい。具体的には、水酸基含有溶剤としては、n−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、エタノール、メタノール、3−メトキシ−1−ブタノール、3−メトキシ−2−ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノn−ブチルエーテル、2−エトキシエタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。特に、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルは、消泡性と遅口溶剤としての揮発性に優れ塗面がより良好となることから好ましい。
本発明の透明導電フィルムは、透明フィルムの片面(I面)に、前述の本発明のハードコート剤により形成されたハードコート層を、前記透明フィルムの反対面(II面)に高屈折率層、透明導電層が積層されてなるものである。
透明フィルムとしては、薄膜でロール状に巻取り可能なフィルム状のガラス、もしくは各種プラスチックフィルムが挙げられ、ハードコート層のHC性を高いレベルで発現できるものが好ましい。各種プラスチックフィルムとしては、具体的には、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリブチレンテレフタレート(PBT)フィルム、ポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム、ポリアミド(PA)フィルム等の結晶性プラスチックフィルムや、ポリ塩化ビニル(PVC)フィルム、ポリカーボネート(PC)フィルム、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)フィルムのような非結晶性のフィルムが挙げられ、結晶性プラスチック類が好ましい。非結晶性のフィルムは、本発明の効果を阻害しない範囲で使用することができる。
本発明においては、商業的にも汎用性の高いPETフィルムを用いることが好ましい。
また、形成されるハードコート層の密着性の観点から、透明フィルム上に易接着層またはコロナ処理などの易接着処理がなされていることが好ましい。
透明フィルムの厚みは、好ましくは25μm〜500μm、より好ましくは50μm〜300μm、更に好ましくは75μm〜200μmである。
硬化処理は、透明フィルムにハードコート剤を塗工し、自然または強制乾燥させたあとに活性エネルギー線を照射し硬化する。
紫外線および波長400〜500nmの可視光線の線源(光源)には、例えば高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ガリウムランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ等を使用することができる。電子線源には、熱電子放射銃、電解放射銃等を使用することができる。これらの活性エネルギー線照射に、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱処理を併用することができる。
なお、電子線で硬化させる場合は、水による硬化阻害または有機溶剤の残留による塗膜の強度低下を防ぐため、自然または強制乾燥させたあとに硬化処理を行なう方がより好ましい。硬化処理のタイミングは、塗工と同時でもよいし、塗工後でもよい。
ハードコート層の厚みは、好ましくは0.5μm〜5μm、より好ましくは0.7μm〜4μm、更に好ましくは1μm〜3μmである。
高屈折率層は、当該高屈折率層上に形成される透明導電層がパターニングされた後、パターニング形状を見えにくくする目的で積層される、屈折率の高い層であり、具体的には屈折率の高い金属酸化物粒子と活性エネルギー線硬化性成分とを含む組成物の硬化物である。透明導電層は、後述するように導電性金属化合物によって形成されるので、その屈折率は1.55〜1.90程度である。従って、高屈折率層の屈折率はできるだけ透明導電層の屈折率に近しいことが好ましい。
前記屈折率の高い金属酸化物粒子および活性エネルギー線硬化性成分は既知の材料を用いて得ることができる。例えば、屈折率の高い金属酸化物粒子としては、酸化チタン(nD=2.72)、酸化ジルコニウム(nD=2.22)、酸化アルミニウム(nD=1.77)等が挙げられる。また、活性エネルギー線硬化性成分としては、前述のハードコート剤に含まれるウレタン(メタ)アクリレート(A)やその他の硬化性成分を同様に例示できる。
高屈折率層の厚みは、好ましくは0.03μm〜30μm、より好ましくは0.05μm〜10μmである。
透明導電層は、高屈折率層の上に積層される層であり、具体的には真空を利用した成膜法により形成された層である。真空を利用した成膜法としては、例えば、真空蒸着法(物理的蒸着法または化学的蒸着法)、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを用いることができる。これらの方法により、高屈折率層に導電性金属化合物を付着させ透明導電層を形成できる。透明導電層は、高屈折率層の全面に設けられた後、エッチング等の方法により所望の形状にパターニングすることによって、回路や電極とすることができる。
透明導電層の厚みは、導電性向上、および高屈折率層との密着性向上の点から、1nm〜数十nmの範囲内であることが好ましく、さらには0.01〜1μmの範囲内であることがより好ましい。
透明導電層の形成に用いられる導電性金属化合物としては、酸化インジウムスズ、酸化スズ、酸化亜鉛、銀または銅ナノワイヤー等が挙げられる。
高屈折率層と透明導電層とが接する前述の場合と同様にして、まず、透明フィルム上に高屈折率層を形成する。次いで、高屈折率層上にアンカー層を形成した後、透明導電層を形成する。
光学部材は、前述の通り、少なくともハードコート層、透明フィルム、高屈折率層、透明導電層を有する積層体の透明導電層をエッチング処理等によりパターニング化することにより得られるタッチセンサーを備えた部材である。
電子機器は、前述のタッチセンサーを備えた各種機器、例えば、スマートフォン、タブレット、PC、テレビ、カーナビや、その他商業施設等の案内板や交通券売機などの機器のことをいう。これら機器において前述のタッチセンサーはタッチパネルとして機能する。
質量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)法により測定した。測定条件は以下の通りである。なお、MwおよびMnはいずれも、ポリスチレン換算値である。
装置:SHIMADZU Prominence(株式会社島津製作所製)、
カラム:SHODEX LF−804(昭和電工株式会社製)を3本直列に接続、
検出器:示差屈折率検出器、
溶媒:テトラヒドロフラン(THF)、
流速:1.0mL/分、
溶媒温度:40℃、
試料濃度:0.2%、
試料注入量:100μL。
(合成例1)
(A1):攪拌機、還流冷却器、窒素導入管、温度計、滴下漏斗を備えた4口フラスコに、アロニックスM403:2103g(分子量:524のジペンタエリスリトールペンタアクリレート(DPPA)1000g(約1.91モル)と、分子量:578のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)1103g(約1.91モル)とを含む組成物。東亞合成(株)社製)、ネオスタンU−810(錫触媒、日東化成(株)社製)0.1g、酢酸ブチル815gを入れ、液温を50℃にした後、イソシアネート基を約21.8質量%含むヘキサメチレンジイソシアネートのヌレート体:74g(イソシアネート基を約0.38molを含む)を滴下漏斗から30分間かけて滴下した。昇温が収まった後、80℃に昇温し3時間反応させ、FT−IR上でイソシアネート基のピークが無くなったことを確認後、冷却しながら酢酸ブチルを加え、希釈し、DPPAとHDI−ヌレート体とのウレタン(メタ)アクリレートを含む生成物A1の固形分70質量%の溶液を得た。
DPPAとHDI−ヌレート体とのウレタン(メタ)アクリレートを含む生成物A1の質量平均分子量は1930、前述の方法で求めた平均官能基数(fC=C)は6.8、生成物のアクリル当量Mw/fは285であった。なお、生成物A1は理論的には約50.7質量%のDPHAを含む。
合成例2〜11も合成例1と同様の方法で表1の配合比に従って、ウレタン(メタ)アクリレートを含む生成物A2〜A11を合成した。
使用した材料は、以下の通りである。
<水酸基を有する(メタ)アクリレート(a1)>
(a1−1)アロニックスM403(分子量:524のジペンタエリスリトールペンタアクリレート(DPPA)と、分子量:578のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)とを含む組成物。ペンタ/ヘキサ=1/1(モル比)、東亞合成(株)社製)。
(a1−2)(x2)A−TMPT(分子量:298のペンタエリスリトールトリアクリレート、新中村化学(株)社製)。
(a2−1)スミジュールN3300(ヘキサメチレンジイソシアネート−ヌレート体、NCO%=21.8(固形分100%)、住化コベストロウレタン(株)社製)、
(a2−2)デスモジュールI(イソホロンジイソシアネート、NCO%=37.5(固形分100%)、住化コベストロウレタン(株)社製)、
(a2−3)デスモジュールZ4470BA(イソホロンジイソシアネート−ヌレート体の酢酸ブチル溶液、NCO%=16.9(固形分100%換算)、住化コベストロウレタン(株)社製)。
合成例1で合成したウレタン(メタ)アクリレートを含む生成物A1を100質量部(不揮発分)、金属酸化物として平均一次粒子径が30nmの(B3)を10質量部、光重合開始剤としてエサキュアワン(IGM−Resins B.V.社製)を5質量部、レベリング剤としてBYK349(シリコーン系添加剤、ビックケミー・ジャパン(株)社製)を0.1質量部、希釈溶剤として不足分のポリエチレングリコールモノエチルエーテル(PGME)を20部、および酢酸ブチルを60部、混合・分散して、ハードコート剤1を得た。
後述する方法に従って、ハードコート剤の消泡性、ハードコート層を設けた中間積層体のカール性、ハードコート層の表面粗さ、ハードコート層の硬さ(HC性)を評価した。
合成例1で合成したウレタン(メタ)アクリレートを含む生成物A1の代わりに、合成例2〜10で合成したウレタン(メタ)アクリレートを含む生成物A2〜A11を用いた以外は実施例1と同様にしてハードコート剤1〜11を得、同様に評価した。
平均一次粒子径が30nmの金属酸化物(B3)の量を、1部、3部、5部、15部、30部、50部とした以外は実施例3と同様にしてハードコート剤12〜17を得、同様に評価した。表3には実施例3も合わせて記載する。
合成例1で合成したウレタン(メタ)アクリレートを含む生成物A1の代わりに、合成例4で合成したウレタン(メタ)アクリレートを含む生成物A4を用い、金属酸化物として平均一次粒子径が20nmの(B1)、22nmの(B2)、30nmの(B3)、50nmの(B4)、80nmの(B5)をそれぞれ10部用いた以外は実施例4と同様にしてハードコート剤18〜21を得、同様に評価した。
希釈溶剤としてポリエチレングリコールモノエチルエーテル(PGME)を用いず、酢酸ブチルを80部とした実施例3と同様にしてハードコート剤22を得、同様に評価した。
エサキュアワンの代わりに光重合開始剤としてOmnirad184(IGM Resins B.V.社製)を用いた以外は実施例1と同様にしてハードコート剤23を得、同様に評価した。
金属酸化物を用いなかった以外は実施例3と同様にしてハードコート剤を得、同様に評価した。
金属酸化物として平均一次粒子径が30nmの(B3)を100部とした以外は実施例3と同様にしてハードコート剤を得、同様に評価した。
金属酸化物として平均一次粒子径が10nmの(B6)を10部用いた以外は実施例4と同様にしてハードコート剤を得、同様に評価した。
ウレタン(メタ)アクリレートを含む生成物の代わりに、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを100部、金属酸化物として平均一次粒子径が30nmの(B3)を10部用いた以外は実施例1と同様にしてハードコート剤を得、同様に評価した。
使用した材料は、以下の通りである。
(x’1)DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ダイセル・オルネクス(株)社製、分子量:578、M/f=96.3)
(B1)AEROSIL130(シリカ、平均一次粒子径16nm、日本アエロジル(株)社製)、
(B2)CHO−ST−M(シリカ、平均一次粒子径22nm、日産化学(株)社製)、
(B3)AEROSIL50(シリカ、平均一次粒子径30nm、日本アエロジル(株)社製)、
(B4)MEK−AC−4130Y(シリカ、平均一次粒子径45nm、日産化学(株)社製)、
(B5)MEK−AC−5140Z(シリカ、平均一次粒子径85nm、日産化学(株)社製)、
(B6)MEK−ST(シリカ、平均一次粒子径10nm、日産化学(株)社製)。
(C1)エサキュアワン(IGM Resins B.V.社製)、
(C2)Omnirad184(IGM Resins B.V.社製)
ハードコート剤20質量部を70mLの蓋付き容器に入れて封をした後、容器ごと激しく10回振って実験台に静置した際、気泡がなくなるまでの時間を計測した。評価基準は以下の通り。
<評価基準>
◎:静置した際に気泡がない、優良。
〇:静置した後2秒以内に消泡した、良好。
△:静置した後2秒〜10秒以内に消泡した、使用可。
×:静置した後10秒経っても消泡しない、不良。
100μm厚の易接着処理ポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡(株)製「コスモシャインA4100」上に、バーコーターを用いて、実施例・比較例で得られた各ハードコート剤を塗工し、乾燥して有機溶剤を除去した後、高圧水銀ランプを用いて200mJ/cm2の紫外線を照射し、2μmのハードコート層を形成し、中間体1を得た。
前記中間体1のほぼ中心部を10cm四方に切り取り、ハードコート層を形成後30分以内に、100℃1分間加熱した。そのときの端部のカール浮きの高さを評価した。評価基準は以下の通り。
◎:カール浮き高さが0mm、優良。
〇:カール浮き高さが0〜5mm、良好。
△:カール浮き高さが5〜10mm、使用可。
×:カール浮き高さが10mm超え、不良。
前記中間体1のハードコート面の表面粗さについて、3次元構造解析顕微鏡(ZYGOシステムキヤノン・マーケティング・ジャパン(株)社製)を用いて測定した。表面粗さ(Ra)とは、JIS B0601・JIS B0031に定義される算術平均粗さを示す。
◎:表面粗さ(Ra)が0.5nm未満、優良。
〇:表面粗さ(Ra)が0.5nm以上、1.0nm未満、良好。
△:表面粗さ(Ra)が1.0nm以上、1.5nm未満、使用可。
×:表面粗さ(Ra)が1.5nm以上、不良。
JIS−K−5600の試験方法に則り、前記中間体1のハードコート面の硬度を求めた。評価基準は以下の通り。
◎:3H、優良。
〇:2H、良好。
△:H、使用可。
×:F、不良。
<透明導電フィルムの作成>
25μm厚の易接着処理ポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人フィルムソリューション(株)社製「テトロンフィルムHPE25」)上に、バーコーターを用いて、実施例・比較例で得られた得られたハードコート剤を塗工し、乾燥して有機溶剤を除去した後、高圧水銀ランプを用いて200mJ/cm2の紫外線を照射し、5μmのハードコート層を形成し、中間体2を得た。
次いで、得られた中間体2のハードコート層とは反対面の前記ポリエステルフィルム上(II面)に、酸化ジルコニウムを含有する塗料(硬化物の屈折率:1.70)を塗工・照射し、高屈折率層を得た。
得られた高屈折率層上にマグネトロンスパッタ装置((株)真空デバイス製「MSP−30Tマグネトロンスパッタ」)により、酸化インジウムスズをスパッタリングして、25nmの透明導電層を形成し、透明導電フィルムを得た。
学振試験機の試験片台に、透明導電層が試験面となるように透明導電フィルムをセットする。別途、学振試験機の摩擦子に、ハードコート層が前記試験片台にセットした透明導電層側に向くように、1cm×1cmにカットした透明導電フィルムをセットする。
荷重200gの条件で、透明導電層の表面をハードコート層で10往復擦った。
透明導電層の表面をハードコート層で擦る前後における透明導電層の表面抵抗値を以下の方法で測定し、試験前の表面抵抗値に対する試験後の表面抵抗値の変化を評価した。
<導電層の表面抵抗値測定方法>
測定装置に(株)三菱ケルカルアナリテック製「ロレスターGX MCP−T600」と一列に並んだ4つの端子を有するプローブを用いて、透明電導電層の表面抵抗値を求めた。試験後の場合は、前記プローブの前記端子群が、擦った方向を横切るように、透明導電層に前記プローブを押し当て透明電導電層の表面抵抗値を求めた。
<評価基準>
〇:試験後の表面抵抗値が試験前の抵抗値の10倍未満、良好。
△:試験後の表面抵抗値が試験前の抵抗値の10倍以上、100倍未満、使用可。
×:試験後の表面抵抗値が試験前の抵抗値の100倍以上、不良
Claims (12)
- 透明フィルムの片面(I面)にハードコート層を、反対面(II面)に高屈折率層、透明導電層が積層されてなる透明導電性フィルムαであって、
前記ハードコート層がウレタン(メタ)アクリレート(A)を含む成膜性成分、金属酸化物(B)、および光重合開始剤(C)を含むハードコート剤の硬化物であり、表面粗さRaが0.1〜1.5nm未満であり、
前記ウレタン(メタ)アクリレート(A)を含む成膜性成分は、(a1)水酸基を有する(メタ)アクリレートと(a2)ポリイソシアネートの反応生成物であり、NCO/OH比が0.2〜0.6であり、
膜厚100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、前記ハードコート剤を用いて膜厚2μmのハードコート層を形成した10cm×10cmの正方形の試験片を、ハードコート層を形成後30分以内に100℃の環境下に1分間静置した際の前記試験片の四隅のカール浮き高さの平均が10mm以下である、
透明導電性フィルムα。 - 成膜性成分が(メタ)アクリロイル基を平均で3〜10個有する、請求項1記載の透明導電性フィルムα。
- 成膜性成分の質量平均分子量が1000〜6000である、請求項1または2記載の透明導電性フィルムα。
- 成膜性成分の平均(メタ)アクリロイル基当量が200〜900である、請求項1〜3いずれか1項に記載の透明導電性フィルムα。
- ウレタン(メタ)アクリレート(A)が(メタ)アクリロイル基を9個以上有する、請求項1〜4いずれか1項に記載の透明導電性フィルムα。
- ウレタン(メタ)アクリレート(A)が、脂環構造を有する、請求項1〜5いずれか1項に記載の透明導電性フィルムα。
- ウレタン(メタ)アクリレート(A)が、ヌレート環構造を有する、請求項1〜6いずれか1項に記載の透明導電性フィルムα。
- 前記金属酸化物(B)の量が、ウレタン(メタ)アクリレート(A)を含む成膜性成分100質量部に対して1〜50質量部である、請求項1〜7いずれか1項に記載の透明導電性フィルムα。
- 前記金属酸化物(B)の平均一次粒子径が、20〜50nmである、請求項1〜8いずれか1項に記載の透明導電性フィルムα。
- 請求項1〜9いずれか1項に記載の透明導電性フィルムαにおける透明導電層をパターニングしてなる透明導電性フィルムβ。
- 請求項10記載の透明導電性フィルムβを備える光学部材。
- 請求項11記載の光学部材を備える電子機器。
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