JP6769428B2 - Rh真空脱ガス装置における副原料の添加方法 - Google Patents
Rh真空脱ガス装置における副原料の添加方法 Download PDFInfo
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Description
[1]RH真空脱ガス装置の真空槽に設置された副原料投入口を介してRH真空脱ガス装置で精錬されている真空槽内の溶鋼に副原料を添加する方法であって、
平均単重が20.0g未満の副原料を添加する際は、真空槽内の圧力を上昇させた後に添加し、添加後、真空槽内の圧力を低下させることを特徴とする、RH真空脱ガス装置における副原料の添加方法。
[2]前記副原料の平均単重は5.0g以下であることを特徴とする、上記[1]に記載のRH真空脱ガス装置における副原料の添加方法。
[3]前記副原料投入口の真空槽内壁での開口部下端は、真空槽内を排気する排気ダクトの真空槽内壁での開口部上端よりも鉛直方向上方に設置されていることを特徴とする、上記[1]または上記[2]に記載のRH真空脱ガス装置における副原料の添加方法。
[4]真空槽内の圧力を0.50kPa以上に上昇させて副原料を添加し、副原料の添加後、真空槽内の圧力を0.27kPa以下に低下させることを特徴とする、上記[1]ないし上記[3]のいずれか1項に記載のRH真空脱ガス装置における副原料の添加方法。
2 取鍋
3 溶鋼
4 スラグ
5 真空槽
6 上部槽
7 下部槽
8 上昇側浸漬管
9 下降側浸漬管
10 環流用ガス吹き込み管
11 排気ダクト
12 副原料投入口
13 上吹きランス
Claims (4)
- RH真空脱ガス装置の真空槽に設置された副原料投入口を介してRH真空脱ガス装置で精錬されている真空槽内の溶鋼に副原料を添加する方法であって、
真空槽内の圧力を0.50kPa以上1.33kPa以下に上昇させた後に、平均単重が20.0g未満の副原料を添加し、添加後、真空槽内の圧力を低下させることを特徴とする、RH真空脱ガス装置における副原料の添加方法。 - 前記副原料の平均単重は5.0g以下であることを特徴とする、請求項1に記載のRH真空脱ガス装置における副原料の添加方法。
- 前記副原料投入口の真空槽内壁での開口部下端は、真空槽内を排気する排気ダクトの真空槽内壁での開口部上端よりも鉛直方向上方に設置されていることを特徴とする、請求項1または請求項2に記載のRH真空脱ガス装置における副原料の添加方法。
- 副原料の添加後、真空槽内の圧力を0.27kPa以下に低下させることを特徴とする、請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載のRH真空脱ガス装置における副原料の添加方法。
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