JP6750769B1 - スピン素子及びリザボア素子 - Google Patents
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Abstract
Description
Access Memory)、ReRAM(Resistance Randome
Access Memory)、PCRAM(Phase Change Random Access Memory)等が次世代の不揮発性メモリとして知られている。
図1は、第1実施形態にかかる磁気記録アレイ200の構成図である。磁気記録アレイ200は、複数の磁気抵抗効果素子100と、複数の書き込み配線Wp1〜Wpnと、複数の共通配線Cm1〜Cmnと、複数の読み出し配線Rp1〜Rpnと、複数の第1スイッチング素子110と、複数の第2スイッチング素子120と、複数の第3スイッチング素子130と、を備える。磁気記録アレイ200は、例えば、磁気メモリ等に利用できる。磁気抵抗効果素子100は、スピン素子の一例である。
第1元素がPt、第2元素がAu、第3元素がAlである。
第1元素がPt、第2元素がAg、第3元素がAlである。
第1元素がPt、第2元素がCo、第3元素がAlである。
第1元素がW、第2元素がMo、第3元素がCoである。
第1元素がPt、第2元素がTa、第3元素がAlである。
第1元素がPt、第2元素がHf、第3元素がAlである。
第1元素がPt、第2元素がMo、第3元素がCoである。
第1元素がPt、第2元素がW、第3元素がCoである。
図10は、第2実施形態に係る磁化回転素子104の断面図である。図10は、配線20のy方向の幅の中心を通るxz平面で磁気抵抗効果素子100を切断した断面である。第2実施形態に係る磁化回転素子104は、非磁性層3及び第2強磁性層2を有さない点が、第1実施形態に係る磁気抵抗効果素子100と異なる。その他の構成は、第1実施形態に係る磁気抵抗効果素子100と同様であり、説明を省く。
図11は、第3実施形態に係る磁気抵抗効果素子105の断面図である。図11は、配線21のy方向の幅の中心を通るxz平面で磁気抵抗効果素子105を切断した断面である。磁気抵抗効果素子105は、積層体11が配線21に近い側から非磁性層5及び第1強磁性層4からなる点が、磁気抵抗効果素子100と異なる。磁気抵抗効果素子100と同様の構成は、同様の符号を付し、説明を省く。
図12は、第4実施形態にかかるリザボア素子106の斜視図である。リザボア素子106は、複数の磁化回転素子104と、複数の磁化回転素子104の第1強磁性層1の間を繋ぐスピン伝導層70と、を備える。スピン伝導層70は、例えば、非磁性の導電体からなる。スピン伝導層70は、第1強磁性層1から染みだしたスピン流を伝播する。
2 第2強磁性層
3,5 非磁性層
10,11 積層体
20,21 配線
20a 第1面
20b 第2面
21A 第1磁区
21B 第2磁区
30 第1導電部
40 第2導電部
50,51,52 第1中間層
60,61,62 第2中間層
70 スピン伝導層
90,91,92 絶縁層
100,101,102,103,105 磁気抵抗効果素子
104 磁化回転素子
106 リザボア素子
110 第1スイッチング素子
120 第2スイッチング素子
130 第3スイッチング素子
200 磁気記録アレイ
C1,C2,C3,C4 中心
Cm1〜Cmn 共通配線
Cw 導電部
D ドレイン
E 導電層
G ゲート電極
GI ゲート絶縁膜
Rp1〜Rpn 読み出し配線
S ソース
Sub 基板
Tr トランジスタ
Wp1〜Wpn 書き込み配線
Claims (15)
- 配線と、
前記配線に積層された第1強磁性層を含む積層体と、
積層方向からの平面視で、前記第1強磁性層を挟む第1導電部と第2導電部と、
前記第1導電部と前記配線との間で、前記配線に接する第1中間層と、を備え、
前記配線を構成する第1元素に対する前記第1中間層を構成する第2元素の拡散係数は、前記第1元素に対する前記第1導電部を構成する第3元素の拡散係数より小さい、
又は、
前記第2元素に対する前記第3元素の拡散係数は、前記第1元素に対する前記第3元素の拡散係数より小さい、
スピン素子。 - 前記第1元素、前記第2元素及び前記第3元素はそれぞれ異なる元素であり、
前記第1元素は、Au、Hf、Mo、Pt、W、Taからなる群から選択されるいずれか一つであり、
前記第2元素は、Co、Al、Ag、Au、Mo、Hf、Pt、W、Taからなる群から選択されるいずれか一つであり、
前記第3元素は、Ag、Cu、Co、Al、Auからなる群から選択されるいずれか一つである、請求項1に記載のスピン素子。 - 配線と、
前記配線に積層された第1強磁性層を含む積層体と、
積層方向からの平面視で、前記第1強磁性層を挟む第1導電部と第2導電部と、
前記第1導電部と前記配線との間で、前記配線に接する第1中間層と、を備え、
前記配線は、Au、Hf、Mo、Pt、W、Taからなる群から選択されるいずれか一つを第1元素として含み、
前記第1中間層は第2元素を含み、
前記第1導電部は第3元素を含み、
前記第1元素がAuかつ前記第3元素がCuの場合、前記第2元素はAg、Co、Hfからなる群から選択されるいずれか一つであり、
前記第1元素がAuかつ前記第3元素がAgの場合、前記第2元素はCo又はHfであり、
前記第1元素がAuかつ前記第3元素がCoの場合、前記第2元素はHfであり、
前記第1元素がHfかつ前記第3元素がCoの場合、前記第2元素はAlであり、
前記第1元素がMoかつ前記第3元素がCoの場合、前記第2元素はWであり、
前記第1元素がPtかつ前記第3元素がAlの場合、前記第2元素はAu、Ag、Coからなる群から選択されるいずれか一つであり、
前記第1元素がPtかつ前記第3元素がAuの場合、前記第2元素はAg又はCoであり、
前記第1元素がPtかつ前記第3元素がAgの場合、前記第2元素はCoであり、
前記第1元素がTaかつ前記第3元素がAlの場合、前記第2元素はHfであり、
前記第1元素がWかつ前記第3元素がCoの場合、前記第2元素はHf、Moからなる群から選択されるいずれか一つであり、
前記第1元素がAuかつ前記第3元素がAgの場合、前記第2元素はPtであり、
前記第1元素がAuかつ前記第3元素がCoの場合、前記第2元素はPt、Mo、Wからなる群から選択されるいずれか一つであり、
前記第1元素がHfかつ前記第3元素がCoの場合、前記第2元素はAu、Pt、Mo、Wからなる群から選択されるいずれか一つであり、
前記第1元素がMoかつ前記第3元素がCoの場合、前記第2元素はWであり、
前記第1元素がPtかつ前記第3元素がAlの場合、前記第2元素はTa又はHfであり、
前記第1元素がPtかつ前記第3元素がCoの場合、前記第2元素はMo又はWであり、
前記第1元素がTaかつ前記第3元素がAlの場合、前記第2元素はHfである、スピン素子。 - 前記第1中間層の周囲長は、前記第1導電部の周囲長より小さく、
前記積層方向からの平面視で、前記第1中間層は、前記第1導電部に内包される、請求項1〜3のいずれか一項に記載のスピン素子。 - 前記第1中間層の周囲長は、前記第1導電部の周囲長より小さく、
前記積層方向からの平面視で、前記第1中間層の幾何中心と前記第1強磁性層の幾何中心との距離は、前記第1導電部の幾何中心と前記第1強磁性層の幾何中心との距離よりも短い、請求項1〜4のいずれか一項に記載のスピン素子。 - 前記第1中間層の側面と前記第1導電部の側面とが連続する、請求項1〜3のいずれか一項に記載のスピン素子。
- 前記配線は、前記第1強磁性層側の第1面から前記第1面と反対の第2面に向うに従い、周囲長が長くなる、請求項1〜6のいずれか一項に記載のスピン素子。
- 前記配線が延びる第1方向及び前記積層方向と直交する第2方向において、前記配線の幅は、前記第1中間層の前記第2方向における幅より狭い、請求項1〜7のいずれか一項に記載のスピン素子。
- 前記第2導電部と前記配線との間で、前記配線に接する第2中間層と、を備え、
前記第1元素に対する前記第2中間層を構成する第5元素の拡散係数は、前記第1元素に対する前記第2導電部を構成する第4元素の拡散係数より小さい、
又は、
前記第5元素に対する前記第4元素の拡散係数は、前記第1元素に対する前記第4元素の拡散係数より小さい、請求項1〜8のいずれか一項に記載のスピン素子。 - 前記積層体は、前記第1強磁性層からなり、
前記配線は、電流が流れる際のスピンホール効果によってスピン流を発生させる機能を有する金属、合金、金属間化合物、金属硼化物、金属炭化物、金属珪化物、金属燐化物のいずれかである、請求項1〜9のいずれか一項に記載のスピン素子。 - 前記積層体は、前記配線に近い側から前記第1強磁性層と非磁性層と第2強磁性層とを含み、
前記配線は、電流が流れる際のスピンホール効果によってスピン流を発生させる機能を有する金属、合金、金属間化合物、金属硼化物、金属炭化物、金属珪化物、金属燐化物のいずれかである、請求項1〜9のいずれか一項に記載のスピン素子。 - 前記第1中間層と前記第1強磁性層との最短距離が、前記第1元素のスピン拡散長の5倍以下である、請求項10又は11に記載のスピン素子。
- 前記第1元素と前記第2元素のスピンホール角の符号が同一である、請求項10又は11に記載のスピン素子。
- 前記積層体は、前記配線に近い側から非磁性層と前記第1強磁性層とを含み、
前記配線は、内部に磁壁を有することができる強磁性層である、請求項1〜9のいずれか一項に記載のスピン素子。 - 複数の請求項10に記載のスピン素子と、
複数の前記スピン素子の前記第1強磁性層を繋ぐスピン伝導層と、を備える、リザボア素子。
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