JP6730470B2 - エレクトロニクス用途のための4H−イミダゾ[1,2−a]イミダゾール - Google Patents
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センスデバイス、におけるそれらの使用に関する。式Iの化合物は、エレクトロルミネセ
ンスデバイスにおける正孔輸送材料として使用される場合、改良された、効率、安定性、
製造可能性、またはエレクトロルミネセンスデバイスのスペクトル特性を提供し得る。
xeira,Pakistan Journal of Scientific and I
ndustrial Research 43(2000)168−170には、トリアル
キルホスフィット誘導脱酸素化ならびに1−(o−ニトロフェニル)ベンズイミダゾール
および1−(o−アジドフェニル)ベンズイミダゾールの熱分解による、ベンズイミダゾ
[1,2−a]ベンズイミダゾール:
9−10036には、ビス(2−アミノフェニル)アミンから誘導されたビス(イミノホ
スホラン)と2当量のイソシアネートとのアザWittig型の反応から、ベンズイミダ
ゾ[1,2,a]ベンズイミダゾール誘導体が直接得られることが報告されている。
himii 25(1989)1689−95には、5H−ベンズイミダゾ[1,2−a
]ベンズイミダゾール1,2,3,4,7,8,9,10−オクタフルオロ−5−(2,
3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル)の合成について記載されている。
des Societes Chimiques Beiges 96(1987)787
−92には、ベンズイミダゾベンズイミダゾール:
いる。
he Berichte 103(1970)2828−35には、ベンズイミダゾベンズ
イミダゾール
機化合物膜を有する発光層を有し、当該有機化合物膜の少なくとも1つの層が式:
いて記載されている。以下の化合物:
極の間の少なくとも1つの有機層、を含む有機エレクトロルミネセントデバイスに関する
ものである。当該少なくとも1つの有機層は、少なくとも1種の発光材料を含有する発光
層を含む。以下の式:
、nは2以上の整数を表し、Lはn価の結合基を表し、R1、R2、R3、およびR4は、そ
れぞれ独立して、水素原子または置換基を表している。
は、発光層においてホストとして使用される。
青色ルミネセントホスト化合物)を含むイミダゾール環、ならびにそれを使用する有機エ
レクトロルミネセンス(EL)表示デバイスに関するものである。
EL)表示デバイスに関するものである。特に、当該イミダゾール環含有化合物は、エレ
クトロルミネセント層などの有機膜の材料として、単独で、またはドーパントと組み合わ
せて使用することができる。
り、当該素子は、陽極と陰極とによって挟持され、少なくとも発光層を有し、当該発光層
は、一般式1、2、3、または4:
1〜R5=Hまたは置換基;Z1=5または6員環の複素環を形成するために必要な残基;
L1、L2=結合または連結基;ならびにX1〜X16=炭素または窒素。Ar1およびAr2
ならびにAr3およびAr4の一部において、新しい環が形成されてもよい。
機化合物薄層を含む有機エレクトロルミネセンス素子に関するものであり、当該有機エレ
クトロルミネセンス素子における少なくとも1つの層は、式(I)〜(VII):
22、R31、R32、R41、R42、R51、R61、およびR71は、それぞれ独立して、水素原子
または置換基であり;Z1、Z2、Z3、Z4、Z5、Z6、およびZ7は、5または6員環を
形成するために必要な原子団である。式(I)〜(VII)によって表される化合物は、
特に、発光層および/または電子注入/輸送層に加えられる。以下の化合物:
はエレクトロルミネセンスデバイスのスペクトル特性を提供するための、新規の正孔輸送
材料を含む有機発光デバイスが依然として必要とされている。
トロニクスにおけるさらなる用途での使用に好適なさらなる材料を提供することである。
より具体的には、OLEDでの使用のための、正孔輸送材料、電子/励起子ブロッカー材
料、およびマトリックス材料を提供可能であるべきである。当該材料は、とりわけ、少な
くとも1つのリン光発光体、とりわけ、少なくとも1つの緑色発光体または少なくとも1
つの青色発光体、を含むOLEDに好適であるべきである。さらに、当該材料は、良好な
効率、良好な作動寿命、および熱ストレスに対する高い安定性、ならびにOLEDの低い
使用電圧および作動電圧を確保するOLEDの提供に好適であるべきである。
トロルミネセントデバイスでの使用に好適であることが分かっている。特に、ある特定の
イミダゾール誘導体は、好適な正孔輸送材料、あるいは良好な効率および耐久性を有する
リン光発光体のための良好なホスト材料である。
X6は−N=でありかつX7は−NR1−であるか、または、
X7は=N−でありかつX6は−NR1−であり、
R1は、式−A1−(A2)p−(A3)q−(A4)r−R6の基であり、
pは0または1であり、qは0または1であり、rは0または1であり、
A1、A2、A3、およびA4は、互いに独立して、場合によりGで置換されていてもよいC
6〜C24アリーレン基、または場合によりGで置換されていてもよいC2〜C30ヘテロアリ
ーレン基であり、この場合、
基A1、A2、A3、およびA4は、1つ以上の基−(SiR7R8)−で中断されていてもよ
く;
R6は、H、基−(SiR20R21R22)、場合によりGで置換されていてもよいC6〜C24
アリール基、または場合によりGで置換されていてもよいC2〜C30ヘテロアリール基で
あり;
R7およびR8は、互いに独立して、C1〜C25アルキル基またはC6〜C24アリール基であ
り、これらは場合によりGで場合により置換されていてもよく;
X1は、NまたはCR9であり;
X2は、NまたはCR10であり、
R9、R10、R9’、およびR10’は、互いに独立して、H、場合によりEで置換されてい
てもおよび/またはDで中断されていてもよいC1〜C25アルキル基、場合によりGで置
換されていてもよいC6〜C24アリール基、または場合によりGで置換されていてもよい
C2〜C30ヘテロアリール基であり;
あるいは、R9およびR10ならびに/あるいはR9’およびR10’は、一緒に環を形成し、
これは、場合により置換されていてもよく、
R20、R21、およびR22は、互いに独立して、C1〜C25アルキル基またはC6〜C24アリ
ール基であり、これらは、場合によりGで場合により置換されていてもよく;Dは、−C
O−、−COO−、−S−、−SO−、−SO2−、−O−、−NR65−、−SiR70R7
1−、−POR72−、−CR63=CR64−、または−C≡C−であり、
Eは、−OR69、−SR69、−NR65R66、−COR68、−COOR67、−CONR65R
66、−CN、またはハロゲンであり、
Gは、E、またはC1〜C18アルキル基、C6〜C24アリール基、Fで置換されているC6
〜C24アリール基、C1〜C18アルキル、またはOで中断されているC1〜C18アルキル;
C2〜C30ヘテロアリール基、またはFで置換されているC2〜C30ヘテロアリール基、C
1〜C18アルキル、またはOで中断されているC1〜C18アルキルであり;
R63およびR64は、互いに独立して、C6〜C18アリール;C1〜C18アルキル、C1〜C1
8アルコキシ、で置換されているC6〜C18アリール;C1〜C18アルキル;または−O−
で中断されているC1〜C18アルキルであり;
R65およびR66は、互いに独立して、C6〜C18アリール基;C1〜C18アルキルまたはC
1〜C18アルコキシで置換されているC6〜C18アリール;C1〜C18アルキル基;または
−O−で中断されているC1〜C18アルキル基であり;あるいは、
R65およびR66は一緒に、5または6員環を形成し、
R67は、C6〜C18アリール基;C1〜C18アルキルまたはC1〜C18アルコキシで置換さ
れているC6〜C18アリール基;C1〜C18アルキル基;または−O−で中断されているC
1〜C18アルキル基であり、
R68は、H;C6〜C18アリール基;C1〜C18アルキルまたはC1〜C18アルコキシで置
換されているC6〜C18アリール基;C1〜C18アルキル基;または−O−で中断されてい
るC1〜C18アルキル基であり、
R69は、C6〜C18アリール;C1〜C18アルキルまたはC1〜C18アルコキシで置換され
ているC6〜C18アリール基;C1〜C18アルキル基;または−O−で中断されているC1
〜C18アルキル基であり、
R70およびR71は、互いに独立して、C1〜C18アルキル基、C6〜C18アリール基、また
はC1〜C18アルキルで置換されているC6〜C18アリール基であり、ならびに、
R72は、C1〜C18アルキル基、C6〜C18アリール基、またはC1〜C18アルキルで置換
されているC6〜C18アリール基であり;ただし、以下の化合物:
X6は−N=でありかつX7は−NR1−であるか、または
X7は=N−でありかつX6は−NR1−であり、この場合、
R1は、式−A1−(A2)p−(A3)q−(A4)r−R6の基であり、
pは0または1であり、qは0または1であり、rは0または1であり、
A1、A2、A3、およびA4は、互いに独立して、場合によりGで置換されていてもよいC
6〜C24アリーレン基、または場合によりGで置換されていてもよいC2〜C30ヘテロアリ
ーレン基であり、この場合、
基A1、A2、A3、およびA4は、1つ以上の基−(SiR7R8)−で中断されていてもよ
く;
R2、R3、R4、およびR5は、互いに独立して、H、場合によりEで置換されていてもお
よび/またはDで中断されていてもよいC1〜C25アルキル基;場合によりGで置換され
ていてもよいC6〜C24アリール基、または場合によりGで置換されていてもよいC2〜C
30ヘテロアリール基であり;
R6は、H、基−(SiR20R21R22)、場合によりGで置換されていてもよいC6〜C24
アリール基、または場合によりGで置換されていてもよいC2〜C30ヘテロアリール基で
あり;
R7およびR8は、互いに独立して、C1〜C25アルキル基またはC6〜C24アリール基であ
り、これらはGで場合により置換されていてもよく;
X1は、NまたはCR9であり、
X2は、NまたはCR10であり、
R9およびR10は、互いに独立して、H、場合によりEで置換されていてもおよび/また
はDで中断されていてもよいC1〜C25アルキル基;場合によりGで置換されていてもよ
いC6〜C24アリール基、または場合によりGで置換されていてもよいC2〜C30ヘテロア
リール基であり;あるいは、
R9およびR10は、一緒に環を形成し、これは、場合により置換されていてもよく、
R20、R21、およびR22は、互いに独立して、C1〜C25アルキル基またはC6〜C24アリ
ール基であり、これらは、場合によりGで場合により置換されていてもよく;Dは、−C
O−、−COO−、−S−、−SO−、−SO2−、−O−、−NR65−、−SiR70R7
1−、−POR72−、−CR63=CR64−、または−C≡C−であり、
Eは、−OR69、−SR69、−NR65R66、−COR68、−COOR67、−CONR65R
66、−CN、またはハロゲンであり、
Gは、E、またはC1〜C18アルキル基、C6〜C24アリール基、C1〜C18アルキルで置
換されているC6〜C24アリール基であり;
R63およびR64は、互いに独立して、C6〜C18アリール;C1〜C18アルキル、C1〜C1
8アルコキシ、で置換されているC6〜C18アリール;C1〜C18アルキル;または−O−
で中断されているC1〜C18アルキルであり;
R65およびR66は、互いに独立して、C6〜C18アリール基;C1〜C18アルキルまたはC
1〜C18アルコキシで置換されているC6〜C18アリール;C1〜C18アルキル基;または
−O−で中断されているC1〜C18アルキル基であり;あるいは
R65およびR66は一緒に5または6員環を形成し、
R67は、C6〜C18アリール基;C1〜C18アルキルまたはC1〜C18アルコキシで置換さ
れているC6〜C18アリール基;C1〜C18アルキル基;または−O−で中断されているC
1〜C18アルキル基であり、
R68は、H;C6〜C18アリール基;C1〜C18アルキルまたはC1〜C18アルコキシで置
換されているC6〜C18アリール基;C1〜C18アルキル基;または−O−で中断されてい
るC1〜C18アルキル基であり、
R69は、C6〜C18アリール;C1〜C18アルキルまたはC1〜C18アルコキシで置換され
ているC6〜C18アリール;C1〜C18アルキル基;または−O−で中断されているC1〜
C18アルキル基であり、
R70およびR71は、互いに独立して、C1〜C18アルキル基、C6〜C18アリール基、また
はC1〜C18アルキルで置換されているC6〜C18アリール基であり、ならびに
R72は、C1〜C18アルキル基、C6〜C18アリール基、またはC1〜C18アルキルで置換
されているC6〜C18アリール基である]の化合物によって解決される。
イッチング素子、例えば、有機トランジスタ、例えば、有機FETおよび有機TFT、有
機発光電界効果トランジスタ(OLEFET)、画像センサー、色素レーザー、ならびに
エレクトロルミネセントデバイス、例えば、有機発光ダイオード(OLED)、に使用す
ることができる。
としている。当該電子デバイスは、好ましくは、エレクトロルミネセントデバイスである
。
が、好ましくは、ホスト、正孔輸送材料、および電子ブロッキング材料として使用される
。特に、式Iの化合物は、青色光を発するリン光発光体のホスト材料として使用される。
対象とする。
実施形態において、式Iの化合物は、好ましくは、リン光発光体との組み合わせにおいて
ホスト材料として使用される。
とする。
X6は−N=でありかつX7は−NR1−であるか、または
X7は=N−でありかつX6は−NR1−であり、
R2、R3、R4、およびR5は、互いに独立して、H、場合によりEで置換されていてもお
よび/またはDで中断されていてもよいC1〜C25アルキル基;場合によりGで置換され
ていてもよいC6〜C24アリール基、または場合によりGで置換されていてもよいC2〜C
30ヘテロアリール基であり;
X1、X2、R1、E、D、およびGは、上記において定義した通りである]の化合物であ
る。
あるいはX7は=N−でありかつX6は−NR1−である。とりわけ好ましいのは、式Id
の化合物であり、この場合、R9およびR10は一緒に、環:
する。R11、R12、R13、およびR14は、好ましくはHである。R2、R3、R4、および
R5は、好ましくはHである。
している式Id’の化合物である。R11、R12、R13、およびR14は、好ましくはHであ
る。
化合物など、は、2つの異性型:
)48−61に記載されている通りに製造する。4H−イミダゾ[1,2−a]ベンズイ
ミダゾールと1−ブロモ−3−ヨード−ベンゼンとのウルマン反応により、およそ1:1
の比率において2つの異性体が得られる。
ル、n−プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、t−
ブチル、2−メチルブチル、n−ペンチル、イソペンチル、n−ヘキシル、2−エチルヘ
キシル、またはn−ヘプチル、C6〜C14アリール、例えば、フェニル、ナフチル、また
はビフェニリル、あるいは、Gで置換されているC6〜C14アリール、例えば、−C6H4
OCH3、−C6H4OCH2CH3、−C6H3(OCH3)2もしくは−C6H3(OCH2CH
3)2、−C6H4CH3、−C6H3(CH3)2、−C6H2(CH3)3、または−C6H4Bu
である。
、ナフチル、またはビフェニリル(場合により1つ以上のC1〜C8アルキル基で置換され
ていてもよい);またはC2〜C30ヘテロアリール、例えば、ジベンゾフラニル(場合に
より1つ以上のC1〜C8アルキル基で置換されていてもよい)、である。
X6は−N=でありかつX7は−NR1−であるか、または
X7は=N−でありかつX6は−NR1−であり、
R11、R12、R13、およびR14は、互いに独立して、H、場合によりEで置換されていて
もおよび/またはDで中断されていてもよいC1〜C25アルキル基;場合によりGで置換
されていてもよいC6〜C24アリール基、または場合によりGで置換されていてもよいC2
〜C30ヘテロアリール基であり、ならびにE、D、G、R1、R2、R3、R4、およびR5
は、上記において定義される通りである]の化合物を対象とする。
で置換されていてもよいC2〜C30ヘテロアリール基であってもよい。
ル、4−メチルフェニル、4−メトキシフェニル、ナフチル、とりわけ1−ナフチルもし
くは2−ナフチル、ビフェニリル、ターフェニリル、ピレニル、2−もしくは9−フルオ
レニル、フェナントリル、またはアントリルであり、これらは、非置換であってもまたは
置換されていてもよい。
員環原子または縮合環系を表しており、この場合、窒素、酸素、または硫黄が、可能なヘ
テロ原子であり、ならびに、典型的には、少なくとも6つの共役π電子を有する5〜30
個の原子を有する複素環基、例えば、チエニル、ベンゾチオフェニル、ジベンゾチオフェ
ニル、チアントレニル、フリル、フルフリル、2H−ピラニル、ベンゾフラニル、イソベ
ンゾフラニル、ジベンゾフラニル、フェノキシチエニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラ
ゾリル、ピリジル、ビピリジル、トリアジニル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニ
ル、インドリジニル、イソインドリル、インドリル、インダゾリル、プリニル、キノリジ
ニル、キノリル、イソキノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナ
ゾリニル、シンノリニル、プテリジニル、カルボリニル、ベンゾトリアゾリル、ベンゾオ
キサゾリル、フェナントリジニル、アクリジニル、ピリミジニル、フェナントロリニル、
フェナジニル、イソチアゾリル、フェノチアジニル、イソキサゾリル、フラザニル、4−
イミダゾ[1,2−a]ベンズイミダゾイル、5−ベンズイミダゾ[1,2−a]ベンズ
イミダゾイル、カルバゾリル、またはフェノキサジニル、であり、これらは、非置換であ
ってもまたは置換されていてもよい。さらに、C2〜C30ヘテロアリール基R6は、4H−
[1,2,4]トリアゾロ[1,5−a]ベンズイミダゾイルを含み、これは、非置換で
あってもまたは置換されていてもよい。
てもよく、ならびに、好ましくは、1つ以上のC1〜C8アルキル基で置換されている。
−イミダゾ[1,2−a]ベンズイミダゾイル、5−ベンズイミダゾ[1,2−a]ベン
ズイミダゾイル、カルバゾリル、ジベンゾフラニルであり、これらは、非置換であっても
よく、あるいは、とりわけC6〜C10アリール、またはC1〜C4アルキルで置換されてい
るC6〜C10アリール、またはC2〜C5ヘテロアリールで置換されていてもよい。4H−
[1,2,4]トリアゾロ[1,5−a]ベンズイミダゾイルも、好ましいC2〜C30ヘ
テロアリール基R6を表す。
C6〜C24アリーレン基、または場合によりGで置換されていてもよいC2〜C30ヘテロア
リーレン基である。場合によりGで置換されていてもよいC6〜C24アリーレン基A1、A
2、A3、およびA4は、典型的には、フェニレン、4−メチルフェニレン、4−メトキシ
フェニレン、ナフチレン、とりわけ、1−ナフチレンもしくは2−ナフチレン、ビフェニ
リレン、ターフェニリレン、ピレニレン、2−もしくは9−フルオレニレン、フェナント
リレン、またはアントリレンであり、これらは、非置換であってもまたは置換されていて
もよい。
よびA4は、5〜7員環原子または縮合環系を表しており、この場合、窒素、酸素、また
は硫黄が、可能なヘテロ原子であり、ならびに、典型的には、少なくとも6つの共役π電
子を有する5〜30個の原子を有する複素環基、例えば、チエニレン、ベンゾチオフェニ
レン、ジベンゾチオフェニレン、チアントレニレン、フリレン、フルフリレン、2H−ピ
ラニレン、ベンゾフラニレン、イソベンゾフラニレン、ジベンゾフラニレン、フェノキシ
チエニレン、ピロリレン、イミダゾリレン、ピラゾリレン、ピリジレン、ビピリジレン、
トリアジニレン、ピリミジニレン、ピラジニレン、ピリダジニレン、インドリジニレン、
イソインドリレン、インドリレン、インダゾリレン、プリニレン、キノリジニレン、キノ
リレン、イソキノリレン、フタラジニレン、ナフチリジニレン、キノキサリニレン、キナ
ゾリニレン、シンノリニレン、プテリジニレン、カルボリニレン、ベンゾトリアゾリレン
、ベンゾキサゾリレン、フェナントリジニレン、アクリジニレン、ピリミジニレン、フェ
ナントロリニレン、フェナジニレン、イソチアゾリレン、フェノチアジニレン、イソキサ
ゾリレン、フラザニレン、カルバゾリレン、またはフェノキサジニレンなど、であり、こ
れらは、非置換であってもまたは置換されていてもよい。
、3,3’−m−ターフェニレン、2−もしくは9−フルオレニレン、フェナントリレン
であり、これらは、非置換であってもまたは置換されていてもよい。
レン、カルバゾリレン、ジベンゾフラニレンであり、これらは、非置換であっても、ある
いは、とりわけ、C6〜C10アリール、またはC1〜C4アルキルもしくはC2〜C5ヘテロ
アリールで置換されているC6〜C10アリール、で置換されていてもよい。
レンであり、場合によりこれらは、場合により1つ以上のC1〜C4アルキル基で置換され
ていてもよいC6〜C10アリールで置換されていてもよい。
ていてもよく、ならびに、好ましくは、1つ以上のC1〜C8アルキル基で置換されている
。
は=N−でありかつX6’は−N<である。m3は、0または1〜4の整数である。m4
は、0または1〜3の整数である。
R6、−A1−A2−R6、−A1−A2−A3−R6、−A1−A2−A3−A4−R6、または
m5は、0または1〜4の整数であり、
m2は、0または1〜3の整数であり、
X3は、−O−、−S−、または−NR15−であり、
R7およびR8は、C1〜C18アルキル基であり、
R15は、C1〜C18アルキル基;−O−で中断されているC1〜C18アルキル基;C6〜C1
8アリール基;1つ以上のC1〜C18アルキル基またはC1〜C18アルコキシ基で置換され
ているC6〜C18アリール基;C2〜C20ヘテロアリール基、または1つ以上のC1〜C18
アルキル基で置換されているC2〜C20ヘテロアリール基であり、
R41は、各場合において同じかまたは異なっていてもよく、ならびに、F,C1〜C18ア
ルキル、Eで置換されおよび/またはDで中断されているC1〜C18アルキル、C6〜C24
アリール、Gで置換されているC6〜C24アリール、C2〜C20ヘテロアリール、またはG
で置換されているC2〜C20ヘテロアリールであり、ならびにR6、p、q、r、E、D、
およびGは、上記または下記において定義される通りである。
キル基で置換されているC6〜C18アリール基である。
よびA4のうちの少なくとも1つは、式:
において定義される通りである。基−A1−(A2)p−(A3)q−(A4)r−がより好ま
しく、この場合、A1、A2、A3、およびA4のうちの少なくとも1つは、式:
6の基、例えば、−A1−R6、−A1−A2−R6、−A1−A2−A3−R6、または−A1−
A2−A3−A4−R6、であり、基A1、A2、A3、およびA4のうちの少なくとも1つは、
式:
キル基で置換されているC6〜C18アリール基である。好ましい基−A1−(A2)p−(A
3)q−(A4)r−の例を以下に示す。
R12、R13、およびR14は、互いに独立して、H、場合によりEで置換されていてもおよ
び/またはDで中断されていてもよいC1〜C25アルキル基;場合によりGで置換されて
いてもよいC6〜C24アリール基、または場合によりGで置換されていてもよいC2〜C30
ヘテロアリール基であり、
R16は、C6〜C18アリール基;または1つ以上のC1〜C18アルキル基で置換されている
C6〜C18アリール基であり、
R20、R21、およびR22は、互いに独立して、C6〜C18アリール基;または1つ以上の
C1〜C18アルキル基で置換されているC6〜C18アリール基であり、
R43は、各場合において同じかまたは異なっていてもよく、ならびに、F、C1〜C18ア
ルキル、Eで置換されおよび/またはDで中断されているC1〜C18アルキル、C6〜C24
アリール、Gで置換されているC6〜C24アリール、C2〜C20ヘテロアリール、またはG
で置換されているC2〜C20ヘテロアリールであり、
m3は、0または1〜4の整数であり、m4は、0または1〜3の整数であり、ならびに
E、D、およびGは、上記において、または下記において定義される通りである。
−NR65−であり、R65は、C1〜C18アルキル、例えば、メチル、エチル、n−プロピ
ル、iso−プロピル、n−ブチル、イソブチル、またはsec−ブチル、あるいはC6
〜C14アリール、例えば、フェニル、トリル、ナフチル、またはビフェニリル、である。
−CONR65R65;または−CNであり、この場合、R65、R67、R68、およびR69は、
互いに独立して、C1〜C18アルキル、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、iso
−プロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、ヘキシル、オクチル、または2
−エチル−ヘキシル、あるいはC6〜C14アリール、例えば、フェニル、トリル、ナフチ
ル、またはビフェニリル、である。
、エチル、n−プロピル、iso−イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブ
チル、ヘキシル、オクチル、または2−エチル−ヘキシル、であるか、あるいは、C1〜
C18ペルフルオロアルキル、例えば、−CF3、である。
フチル、またはビフェニリルなど、であり、これらは場合により置換されていてもよい。
は1、最も好ましくは0である。
は1、最も好ましくは0である。
A1、A2、A3、およびA4は、互いに独立して、式:
R6は、式:
R15は、式:
rは、上記において定義される通りである]の化合物を対象とする。
、式:
、式:
)、(IVb)、(IVe)、(IVl)、(IVk)、(IVs)、(IVv)、およ
び(VIj)の基である。
1〜A−19、ならびに下記の表に示される化合物A−21〜A−32である。
A1、A2、A3、およびA4のうちの少なくとも1つは、式:
R15は、式:
は、上記において定義される通りである]の化合物を対象とする。
)、(IVb)、(IVe)、(IVl)、(IVk)、(IVs)、(IVv)、およ
び(Vlj)の基である。
子ブロッキング材料として使用される場合、
式:
−(A3)q−(A4)r−は、それほど好ましくない。
であり、この場合、A1、A2、A3、およびA4は、互いに独立して、式:
R6は、式:
R15およびR16は、式:
は、上記において定義される通りである。さらに、A1、A2、A3、およびA4は、式:
の基は、とりわけ、式:
B−4、ならびに、下記の表に示される化合物B−6〜B−35である。
〜K−35、ならびにL−1〜L−35である。
の基であり;ならびにA1、A2、A3、A4、R2、R3、R4、R5、p、q、およびrは、
上記において定義される通りである。
m5は、0または1〜4の整数であり、
m2は、0または1〜3の整数であり、
X3は、−O−、−S−、または−NR15−であり、
R7およびR8は、C1〜C18アルキル基であり、
R15は、C1〜C18アルキル基;−O−で中断されているC1〜C18アルキル基;C6〜C1
8アリール基;1つ以上のC1〜C18アルキルまたはC1〜C18アルコキシ基で置換されて
いるC6〜C18アリール基;C2〜C20ヘテロアリール基、または1つ以上のC1〜C18ア
ルキル基で置換されているC2〜C20ヘテロアリール基であり、ならびに、
R41は、各場合において同じかまたは異なっていてもよく、ならびに、F、C1〜C18ア
ルキル、Eで置換されおよび/またはDで中断されているC1〜C18アルキル、C6〜C24
アリール、Gで置換されているC6〜C24アリール、C2〜C20ヘテロアリール、またはG
で置換されているC2〜C20ヘテロアリールである]の基である。
アルキル、Eで置換されおよび/またはDで中断されているC1〜C18アルキル、C6〜C
24アリール、Gで置換されているC6〜C24アリール、C2〜C20ヘテロアリール、または
Gで置換されているC2〜C20ヘテロアリールであり、
m3は、0または1〜4の整数である。E、D、G、R11、R12、R13、およびR14は、
上記において定義される通りである。
キル基で置換されているC6〜C18アリール基である。
け、式(IVa)、(IVb)、(IVc)、(IVd)、(IVe)、(IVf)、(
IVg)、(IVh)、(IVi)、(IVj)、(IVk)、(IVl)、(IVm)
、(IVn)、(IVo)、(IVp)、
)、(IVx)、(IVy)、(IVz)、(VIa)、(Vlb)、(VIc)、(V
Id)、(VIe)、(VIf)、(VIg)、(VIh)、(VIi)、(VIj)、
(VIk)、(VIl)、(VIm)、(VIn)、(VIo)、(VIp)、(VIq
)、(VIr)、(VIs)、(VIt)、または(VIu)の基である。現時点で最も
好ましい式−A1−(A2)p−(A3)q−(A4)r−の基は、式(IVa)、(IVb)
、(IVe)、(IVl)、(IVk)、(IVs)、(IVv)、および(VIj)の
基である。
183、ならびにH−1〜H−264である。
あり;この場合、A1、A2、およびA3は、互いに独立して、式:
キル基で置換されているC6〜C18アリール基であり、
A4は、式:
R6は、式:
式−A1−(A2)p−(A3)q−の基は、とりわけ、式(IVa)、(IVb)、(IV
c)、(IVd)、(IVe)、(IVf)、(IVg)、(IVi)、(IVj)、(
IVk)、(IVl)、(IVm)、(IVn)、(IVo)、(IVp)、(IVq)
、(IVr)、(IVs)、(IVt)、(IVu)、(IVv)、(IVw)、(IV
x)、(IVy)、(IVz)、(VIa)、(VIb)、(VIc)、(VId)、(
VIe)、(VIf)、(VIg)、(VIh)、(VIi)、(VIj)、(VIk)
、(VIl)、(VIm)、(VIn)、(VIo)、(VIp)、(VIq)、(VI
r)、(VIs)、(VIt)、または(VIu)の基である。現時点で最も好ましい式
−A1−(A2)p−(A3)q−の基は、式(IVa)、(IVb)、(IVe)、(IV
l)、(IVk)、(IVs)、(IVv)、および(VIj)の基である。
子ブロッキング材料として使用される場合、式:
び(IVr)の基は、それほど好ましくない。好ましい化合物の例は、下記の表に示され
る化合物F−1〜F−62、G−1〜G−62である。
1)L1=
3)点線は、それぞれ、式:
4)点線は、式:
は分岐鎖状である。その例は、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、2−ペンチル、3
−ペンチル、2,2−ジメチルプロピル、1,1,3,3−テトラメチルペンチル、n−
ヘキシル、1−メチルヘキシル、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル、n−
ヘプチル、イソヘプチル、1,1,3,3−テトラメチルブチル、1−メチルヘプチル、
3−メチルヘプチル、n−オクチル、1,1,3,3−テトラメチルブチル、および2−
エチルヘキシル、n−ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシ
ル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、またはオクタデシルである。C1〜C8
アルキルは、典型的には、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、
sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、2−ペンチル、3−ペ
ンチル、2,2−ジメチル−プロピル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、1
,1,3,3−テトラメチルブチル、および2−エチルヘキシルである。C1〜C4アルキ
ルは、典型的には、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec
−ブチル、イソブチル、tert−ブチルである。
シ基、例えば、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、
sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシもしくはte
rt−アミルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、イソオクチルオキシ、ノニルオ
キシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ、テトラデシルオキシ、ペンタ
デシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、ヘプタデシルオキシ、およびオクタデシルオキシで
ある。C1〜C8アルコキシの例は、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキ
シ、n−ブトキシ、sec−ブトキシ、イソブトキシ、tert−ブトキシ、n−ペンチ
ルオキシ、2−ペンチルオキシ、3−ペンチルオキシ、2,2−ジメチルプロポキシ、n
−ヘキシルオキシ、n−ヘプチルオキシ、n−オクチルオキシ、1,1,3,3−テトラ
メチルブトキシ、および2−エチルヘキシルオキシであり、好ましくはC1〜C4アルコキ
シ、例えば、典型的には、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−
ブトキシ、sec−ブトキシ、イソブトキシ、tert−ブトキシ、である。
、C5〜C12シクロアルキル、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチ
ル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシル、シクロドデシル
、好ましくはシクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、またはシクロオクチル
などであり、これらは、非置換であってもまたは置換されていてもよい。
的には、フェニル、4−メチルフェニル、4−メトキシフェニル、ナフチル、とりわけ1
−ナフチルもしくは2−ナフチル、ビフェニリル、ターフェニリル、ピレニル、2−もし
くは9−フルオレニル、フェナントリル、またはアントリルであり、これらは、非置換で
あってもまたは置換されていてもよい。
、窒素、酸素、または硫黄が、可能なヘテロ原子であり、ならびに、典型的には、少なく
とも6つの共役π電子を有する5〜30個の原子を有する複素環基、例えば、チエニル、
ベンゾチオフェニル、ジベンゾチオフェニル、チアントレニル、フリル、フルフリル、2
H−ピラニル、ベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、ジベンゾフラニル、フェノキシチ
エニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ビピリジル、トリアジニル、
ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、インドリジニル、イソインドリル、インドリ
ル、インダゾリル、プリニル、キノリジニル、キノリル、イソキノリル、フタラジニル、
ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、プテリジニル、カルバ
ゾリル、カルボリニル、ベンゾトリアゾリル、ベンゾオキサゾリル、フェナントリジニル
、アクリジニル、ピリミジニル、フェナントロリニル、フェナジニル、イソチアゾリル、
フェノチアジニル、イソオキサゾリル、フラザニル、4−イミダゾ[1,2−a]ベンズ
イミダゾイル、5−ベンズイミダゾ[1,2−a]ベンズイミダゾイル、カルバゾリル、
またはフェノキサジニルなど、であり、これらは、非置換であってもまたは置換されてい
てもよい。
しくは、1つ以上のC1〜C8アルキル基で置換されている。
ち、O−C6〜24アリール、例えば、フェノキシまたは4−メトキシフェニルなど、であ
る。
カプト基、C1〜C8アルコキシ、C1〜C8アルキルチオ、ハロゲン、ハロ−C1〜C8アル
キル、またはシアノ基である。
おいて異なっていてもよい。
得ることを意味する。
たは所望であればDで中断されていてもよい。割り込みは、当然のことながら、単結合で
互いに接続されている少なくとも2つの炭素原子を有する基の場合にのみ可能であり、C
6〜C18アリールは、割り込まれず;中断されているアリールアルキルは、アルキル部分
にユニットDを含有する。1つ以上のEで置換されおよび/または1つ以上の単位Dで中
断されているC1〜C18アルキルは、例えば、(CH2CH2O)1〜9−Rxであり、この場
合、Rxは、H、またはC1〜C10アルキル、またはC2〜C10アルカノイル(例えば、C
O−CH(C2H5)C4H9)、CH2−CH(ORy’)−CH2−O−Ryであり、この場
合、Ryは、C1〜C18アルキル、C5〜C12シクロアルキル、フェニル、C7〜C15フェニ
ルアルキルであり、Ry’は、Ryと同じ定義を包含するか、または、H;C1〜C8アルキ
レン−COO−Rz、例えば、CH2COORz、CH(CH3)COORz、C(CH3)2
COORz(この場合、Rzは、H、C1〜C18アルキル、(CH2CH2O)1〜9−Rxであ
り、Rxは、上記に示した定義を包含する);CH2CH2−O−CO−CH=CH2;CH
2CH(OH)CH2−O−CO−C(CH3)=CH2である。
Bulletin des Societes Chimiques Beiges 96(
1987)787−92に記載されている。
当業者に既知のプロセスによって得られる。国際公開第2010/079051号および
欧州特許第1885818号を参照されたい。
骨格、2、8位(ジベンゾフランおよびジベンゾチオフェン)または3、6位(カルバゾ
ール)、の3位および6位(二臭素化)あるいは3位または6位(一臭素化)での臭素化
およびヨウ素化が選好される。
ゾールは、氷酢酸中またはクロロホルム中で、臭素またはNBSにより、2、8位(ジベ
ンゾフランおよびジベンゾチオフェン)において、または3、6位(カルバゾール)にお
いて二臭素化してもよい。例えば、Br2による臭素化は、低温、例えば0℃、において
、氷酢酸中またはクロロホルム中で実施することができる。好適なプロセスは、例えば、
M.Park,J.R.Buck,C.J.Rizzo,Tetrahedron,54
(1998)12707−12714(X=NPhの場合)、およびW.Yang et
al.,J.Mater.Chem.13(2003)1351(X=Sの場合)に記載
されている。さらに、3,6−ジブロモカルバゾール、3,6−ジブロモ−9−フェニル
カルバゾール、2,8−ジブロモジベンゾチオフェン、2,8−ジブロモジベンゾフラン
、2−ブロモカルバゾール、3−ブロモジベンゾチオフェン、3−ブロモジベンゾフラン
、3−ブロモカルバゾール、2−ブロモジベンゾチオフェン、および2−ブロモジベンゾ
フランは、市販されている。
えば、J.Am.Chem.Soc.1984,106,7150に記載されている。ジ
ベンゾフラン(ジベンゾチオフェン)は、ニトロ化、還元、およびそれに続くザンドマイ
ヤー反応を含む、当業者に既知の手順により、3位において一臭素化することができる。
ルの3位における一臭素化は、臭素またはNBSを1当量のみ加えることを除いて、二臭
素化と同様に実施される。
を用いることも可能である。当該製造については、とりわけ、Tetrahedron.
Lett.47(2006)6957−6960、Eur.J.Inorg.Chem.
24(2005)4976−4984、J.Heterocyclic Chem.39
(2002)933−941、J.Am.Chem.Soc.124(2002)119
00−11907、J.Heterocyclic Chem,38(2001)77−
87に記載されている。
およびカルバゾールが必要である。塩素化については、とりわけ、J.Heterocy
clic Chemistry,34(1997)891−900、Org.Lett.
,6(2004)3501−3504;J.Chem.Soc.[Section]C:
Organic,16(1971)2775−7、Tetrahedron Lett.
25(1984)5363−6、J.Org.Chem.69(2004)8177−8
182に記載されている。フッ素化については、J.Org.Chem.63(1998
)878−880およびJ.Chem.Soc.,Perkin Trans.2,5(
2002)953−957に記載されている。
しくは、アルカリ金属水酸化物およびアルカリ土類金属水酸化物、例えば、NaOH、K
OH、Ca(OH)2、アルカリ金属水素化物、例えば、NaH、KH、アルカリ金属ア
ミド、例えば、NaNH2、アルカリ金属炭酸塩またはアルカリ土類金属炭酸塩、例えば
、K2CO3またはCs2CO3、ならびにアルカリ金属アルコキシド、例えば、NaOMe
、NaOEt、からなる群より選択される。さらに、前述の塩基の混合物も好適である。
特に好ましいのは、NaOH、KOH、NaH、K2CO3である。
ヘテロアリール化は、例えば、
応)。
N−アリール化については、例えば、H.Gilman and D.A.Shirley
,J.Am.Chem.Soc.66(1944)888;D.Li et al.,Dy
es and Pigments 49(2001)181−186、ならびにEur.J
.Org.Chem.(2007)2147−2151に記載されている。当該反応は、
溶媒中または溶融物中において実施することができる。好適な溶媒は、例えば、(極性)
非プロトン性溶媒、例えば、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、NMP、ト
リデカン、またはアルコール、である。
−8−ヨード−ジベンゾフラン:
れたい。
ルバゾールは、増加する多くの経路によって容易に製造することができる。当該合成経路
の概要については、例えば、Angew.Chem.Int.Ed.48(2009)9
240−9261に記載されている。
カルバゾールは、1つの一般的な経路によって、ハロゲン化されたジベンゾフラン、ジベ
ンゾチオフェン、およびカルバゾールを、(Y1O)2B−B(OY1)2、
/またはトルエンなど、において、触媒、例えば、[1,1’−ビス(ジフェニルホスフ
ィノ)フェロセン]ジクロロパラジウム(II)、錯体(Pd(Cl)2(dppf))
、および塩基、例えば、酢酸カリウム、の存在下で反応させることによって得られ(Pr
asad Appukkuttan et al.,Synlett 8(2003)120
4を参照のこと)、この場合、Y1は、独立して各場合において、C1〜C18アルキル基で
あり、Y2は、独立して各場合において、C2〜C10アルキレン基、例えば、−CY3Y4−
CY5Y6−または−CY7Y8−CY9Y10−CY11Y12−、であり、この場合、Y3、Y4
、Y5、Y6、Y7、Y8、Y9、Y10、Y11、およびY12は、互いに独立して、水素、また
はC1〜C18アルキル基、とりわけ、−C(CH3)2C(CH3)2−、−C(CH3)2C
H2C(CH3)2−、または−CH2C(CH3)2CH2−であり、ならびにY13およびY1
4は、互いに独立して、水素またはC1〜C18アルキル基である。
カルバゾールは、ハロゲン化されたジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、およびカルバ
ゾールを、アルキルリチウム試薬、例えば、n−ブチルリチウムまたはt−ブチルリチウ
ム、と反応させ、続いて、ボロン酸エステル、例えば、B(イソプロポキシ)3、B(メ
トキシ)3、または
42−446を参照のこと)。
ジボロン酸もしくはジボロネート基含有ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、およびカ
ルバゾールは、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、およびカルバゾールを、リチウム
アミド、例えば、リチウムジイソプロピルアミド(LDA)、と反応させ、続いて、ボロ
ン酸エステル、例えば、B(イソプロポキシ)3、B(メトキシ)3、または
)2176−2181を参照のこと)。
カルバゾール、例えば、
ゾール、例えば、
媒は、μ−ハロ(トリイソプロピルホスフィン)(η3−アリル)パラジウム(II)タ
イプのものであり得る(例えば、国際公開第99/47474号を参照のこと)。
性有機溶媒、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、もしくはジ
オキサン、またはそれらの混合物など、最も好ましくはトルエン、の存在下において実施
される。通常、溶媒の量は、ボロン酸誘導体1モル当たり1〜10Lの範囲において選択
される。さらに好ましくは、当該反応は、不活性雰囲気下、例えば、窒素またはアルゴン
雰囲気下、において実施される。さらに、当該反応を水性塩基、例えば、アルカリ金属水
酸化物または炭酸塩、例えば、NaOH、KOH、Na2CO3、K2CO3、Cs2CO3、
の存在下において実施することも好ましく、好ましくはK2CO3水溶液が選択される。通
常、当該塩基とボロン酸もしくはボロン酸エステル誘導体とのモル比は、0.5:1〜5
0:1の範囲において選択され、特段には1:1である。概して、当該反応温度は、40
〜180℃の範囲において選択され、好ましくは還流条件下である。好ましくは、反応時
間は、1〜80時間、より好ましくは20〜72時間の範囲において選択される。好まし
い実施形態において、カップリング反応または重縮合反応のための通常の触媒、好ましく
はPdベースの触媒、が使用され、それについては、国際公開第2007/101820
号に記載されている。パラジウム化合物は、閉じられるべき結合の数に基づいて、1:1
0000〜1:50、好ましくは1:5000〜1:200の比率において加えられる。
好ましいのは、例えば、パラジウム(II)塩、例えば、PdAc2またはPd2dba3
、の使用であり、ならびに、
この場合、
らに好ましくは、当該触媒は、溶液または懸濁液として加えられる。好ましくは、適切な
有機溶媒、例えば、上記において説明したものなど、好ましくは、ベンゼン、トルエン、
キシレン、THF、ジオキサン、より好ましくはトルエン、またはそれらの混合物が使用
される。溶媒の量は、通常、ボロン酸誘導体1モル当たり1〜10Lの範囲において選択
される。有機塩基、例えば、水酸化テトラアルキルアンモニウム、および相間移動触媒、
例えば、TBAB、は、ホウ素の活性を促進することができる(例えば、Leadbea
ter & Marco;Angew.Chem.Int.Ed.Eng.42(2003
)1407およびそこに引用されている文献を参照のこと)。反応条件の他のバリエーシ
ョンは、T.I.Wallow and B.M.Novak,J.Org.Chem.5
9(1994)5034−5037;M.Remmers,M.Schulze,G.W
egner,Macromol.Rapid Commun.17(1996)239−
252;G.A.Molander und B.Canturk,Angew.Chem
.,121(2009)9404−9425に記載されている。
化合物A−1の可能な合成経路を、以下の反応スキームに示す。
においてtBuLi/THFにより行われる。そのような化合物の合成について記載され
ている国際公開第2010/079051号を参照されたい。
び1,10−フェナントロリン;塩基、例えば、酢酸ナトリウム(NaOAc)、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸カリウム、および炭酸水素ナトリウム;
溶媒、例えば、o−、m−、およびp−キシレン、ならびに酸素(1気圧)、の存在下に
おいて、高温、とりわけ、100〜160℃にて、1〜72時間、反応させることによっ
ても合成することができる。X.Wang et al.,Org.Lett.14(20
12)452−455[2011年12月29日にウェブ上で公開]を参照されたい。
に本発明のさらなる主題を形成する。X6’は−N=でありかつX7’は−NR1’−であ
るか、あるいはX7’は=N−でありかつX6’は−NR1’−であり、R1’は、式−A1
−(A2)p−(A3)q−(A4)r−(R6’)tの基であり、tは、1または2、とりわけ
1であり;p、q、r、A1、A2、A3、A4、X1、X2、R2、R3、R4、およびR5は、
上記において定義される通りである。
一実施形態において、R6’は、ハロゲン、とりわけ、Cl、Br、またはJ;−OS(
O)2CF3、−OS(O)2−アリール、とりわけ
、R207、R208、およびR209は、同じかまたは異なっており、ならびにHまたはC1〜C
6アルキルであり、この場合、2つの基は、場合により、共通の環を形成し、これらの基
は、場合により分岐または非分岐であり;ならびに、X12は、ハロゲン原子、とりわけ、
IまたはBr;−B(OH)2、−B(OY1)2、
C1〜C10アルキル基であり、ならびに、Y2は、独立して各場合において、C2〜C10ア
ルキレン基、例えば、−CY3Y4−CY5Y6−または−CY7Y8−CY9Y10−CY11Y1
2−、であり、この場合、Y4、Y5、Y6、Y7、Y8、Y9、Y10、Y11、およびY12は、
互いに独立して、水素、またはC1〜C10アルキル基、とりわけ−C(CH3)2C(CH3
)2−、−C(CH3)2CH2C(CH3)2−、または−CH2C(CH3)2CH2−であり
、ならびに、Y13およびY14は、互いに独立して、水素またはC1〜C10アルキル基であ
る。p、q、r、A1、A2、A3、A4、X1、X2、R2、R3、R4、およびR5に関して、
式Iの化合物と同じ選好性が適用される。中間体の例を以下に示す。
反応、またはNegishiカップリング反応によって、中間体および好適な共反応体か
ら出発することにより得られる。
おいて定義される通りである]の化合物の製造方法は、(a)H3PO4、ポリリン酸、C
H3SO3H/P2O5、CH3SO3H、または硫酸中において、式:
を含み得る。工程b)のための様々な例が上記に示されている。工程a)では、溶媒、ま
たは140℃を超える沸点を有する溶媒、例えばキシレンまたはメシチルエン、の混合物
が存在し得る。式Xの化合物を、不活性ガス、例えば、窒素またはアルゴン、の雰囲気下
で、140℃を超える、好ましくは160℃を超える、より好ましくは180℃を超える
温度において、30分〜3週間、好ましくは1〜48時間撹拌する。
、例えば、スイッチング素子、例えば有機トランジスタ、例えば、有機FETおよび有機
TFT、有機太陽電池、ならびに有機発光ダイオード(OLED)から選択される、有機
エレクトロニクス用途での使用に特に好適であり、式Iの化合物は、OLEDにおいて、
とりわけリン光発光体との組み合わせにおいて、発光層におけるマトリックス材料として
、ならびに/あるいは正孔および/または励起子ブロッカー材料として、ならびに/ある
いは電子および/または励起子ブロッカー材料として、特に好適であることが見出された
。OLEDにおいて式Iの本発明の化合物を使用する場合、良好な効率と長い耐用期間を
有しかつ特に低い使用電圧および作動電圧において作動可能なOLEDが得られる。式I
の本発明の化合物は、青色および緑色発光体、例えば淡青色または深青色発光体など(こ
れらは、とりわけリン光発光体である)、のマトリックスおよび/または正孔/励起子ブ
ロッカー材料としての使用にとりわけ好適である。さらに、式Iの化合物は、スイッチン
グ素子および有機太陽電池から選択される有機エレクトロニクス用途における導電体/補
助材料として使用することができる。
/または電子/励起子ブロッカー材料および/または正孔注入材料および/または電子注
入材料および/または正孔伝導体材料(正孔輸送材料)および/または電子伝導体材料(
電子輸送材料)として、好ましくは、有機エレクトロニクス用途において、とりわけ、O
LEDにおいて、マトリックス材料および/または電子/励起子ブロッカーおよび/また
は正孔輸送材料として、使用することができる。式Iの本発明の化合物は、より好ましく
は、有機エレクトロニクス用途において、とりわけ、OLEDにおいて、マトリックス材
料として使用される。
発光体材料を、式Iの化合物のマトリックス材料および、例えば良好な正孔伝導体(正孔
輸送)特性を有するさらなるマトリックス材料、と組み合わせることも可能である。これ
により、この発光層の高い量子効率が達成される。
カー材料および/または電子/励起子ブロッカー材料として使用される場合、材料の化学
的同一性または類似性から、発光層と隣接する正孔/励起子ブロッカー材料および/また
は電子/励起子ブロッカー材料との間において改良された界面が得られ、これにより、同
じ輝度を得るための電圧が低下し、OLEDの寿命が延長され得る。さらに、正孔/励起
子ブロッカー材料および/または電子/励起子ブロッカー材料と、発光層のマトリックス
とに同じ材料を使用することで、式Iの化合物のうちの1つの材料の蒸着プロセスに同じ
供給源を使用することができ、OLEDの製造プロセスを簡素化することが可能である。
層から形成された半導体層;導電層から形成されたゲート電極;および半導体層と導電層
との間に導入された絶縁層、を含む。ソース電極およびドレイン電極をこの配置の上に取
り付けて、トランジスタ素子を製造する。加えて、当業者に公知のさらなる層が、当該有
機トランジスタに存在していてもよい。
電極の間に存在する有機層を含む。当該有機層は、くし形電極上に構成され得る。有機層
の場所に関して特に制限はなく、電極の材料に関しても特に制限はない。しかしながら、
平行に配置されたプレートタイプの電極が使用される場合、少なくとも一方の電極は、好
ましくは、透明電極、例えば、ITO電極またはフッ素ドーピングされた酸化スズ電極、
から形成される。当該有機層は、2つの副層、すなわち、p型半導体特性または正孔輸送
能を有する層と、n型半導体特性または電子輸送能を有するように形成された層、から形
成されている。さらに、当業者に公知のさらなる層が当該有機太陽電池に存在することも
可能である。正孔輸送能を有する層は、式Iの化合物を含み得る。
ロッキング層(電子/励起子ブロッカーとして)の両方に存在することも、同様に可能で
ある。
された発光層E、ならびに、適切であれば、正孔/励起子に対する少なくとも1つのブロ
ッキング層、電子/励起子に対する少なくとも1つのブロッキング層、少なくとも1つの
正孔注入層、少なくとも1つの正孔伝導体層、少なくとも1つの電子注入層、および少な
くとも1つの電子伝導体層からなる群より選択される少なくとも1つのさらなる層を含み
、式Iの少なくとも1種の化合物が、発光層Eおよび/または当該さらなる層のうちの少
なくとも1つに存在する、有機発光ダイオードを提供する。式Iの少なくとも1種の化合
物は、好ましくは、発光層および/または正孔に対するブロッキング層に存在する。
本発明のOLEDの構造
したがって、本発明の有機発光ダイオード(OLED)は、概して、以下の構造:
陽極(An)および陰極(Ka)ならびに陽極(An)と陰極(Ka)との間に配置され
た発光層E
を有する。
1.陽極
2.正孔伝導体層
3.発光層
4.正孔/励起子に対するブロッキング層
5.電子伝導体層
6.陰極
から形成され得る。
、言及された層のいずれかを有していないことも可能であり、例えば、層(1)(陽極)
、(3)(発光層)、および(6)陰極を有するOLEDは、層(2)(正孔伝導体層)
および(4)(正孔/励起子に対するブロッキング層)および(5)(電子伝導体層)の
機能が隣接する層によって担われる場合、同様に好適である。層(1)、(2)、(3)
、および(6)、あるいは層(1)、(3)、(4)、(5)、および(6)を有するO
LEDも同様に好適である。さらに、当該OLEDは、正孔伝導体層(2)と発光層(3
)との間に電子/励起子に対するブロッキング層を有していてもよい、
複数の前述の機能(電子/励起子ブロッカー、正孔/励起子ブロッカー、正孔注入、正
孔伝導、電子注入、電子伝導)を1つの層において組み合わせて、例えば、この層中に存
在する単一の材料が担うことも、さらに可能である。例えば、正孔伝導体層において使用
される材料は、一実施形態において、同時に励起子および/または電子を遮蔽し得る。
ら形成することもできる。例えば、正孔伝導体層は、電極から正孔が注入される層と、正
孔注入層から発光層へ正孔を輸送する層とから形成してもよい。電子伝導層も同様に、複
数の層、例えば、電極によって電子が注入される層、および電子注入層から電子を受け取
ってそれを発光層へと輸送する層、からなっていてもよい。言及されたこれらの層は、そ
れぞれ、エネルギーレベル、耐熱性、および電荷キャリア移動度、ならびに有機層または
金属電極によって指定される層のエネルギー差などの因子に従って選択される。当業者は
、OLEDの構造を選択することができるので、OLEDの構造は、本発明により発光体
物質として使用される有機化合物に最適に適合される。
る場合には、正孔伝導体層のHOMO(最高被占分子軌道)は、陽極の仕事関数に適合し
ているべきであり、ならびに電子伝導体層のLUMO(最低空分子軌道)は、陰極の仕事
関数に適合しているべきである。
金属の混合物、金属合金、金属酸化物、または様々な金属酸化物の混合物を含む材料から
形成することができる。あるいは、陽極は、導電性ポリマーであってもよい。好適な金属
は、主族の金属および金属の合金、遷移金属、ランタノイド金属、とりわけ、元素周期表
のIb族、IVa族、Va族、およびVIa族の金属ならびにVIIIa族の遷移金属を
含む。陽極が透明であるべき場合、概して、元素周期表(IUPAC版)のIIb族、I
IIb族、およびIVb族の混合金属酸化物、例えば、インジウムスズ酸化物(ITO)
、が使用される。陽極(1)が、例えば、Nature,Vol.357,pages4
77 to 479(June 11,1992)に記載されているように、有機材料、例
えばポリアニリン、を含むことも同様に可能である。陽極または陰極の少なくとももどち
らかは、形成された光を放出可能であるように、少なくとも部分的に透明であるべきであ
る。陽極(1)に使用される材料は、好ましくは、ITOである。
er Encyclopedia of Chemical Technology,4th
edition,Vol.18,pages 837 to 860,1996に開示され
ている。正孔輸送分子およびポリマーの両方を、正孔輸送材料として使用することができ
る。通常使用される正孔輸送分子は、トリス[N−(1−ナフチル)−N−(フェニルア
ミノ)]トリフェニルアミン(1−NaphDATA)、4,4’−ビス[N−(1−ナ
フチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(α−NPD)、N,N’−ジフェニル−N
,N’−ビス(3−メチルフェニル)[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(
TPD)、1,1−ビス[(ジ−4−トリルアミノ)フェニル]シクロヘキサン(TAP
C)、N,N’−ビス(4−メチルフェニル)−N,N’−ビス(4−エチルフェニル)
−[1,1’−(3.3’−ジメチル)ビフェニル]−4,4’−ジアミン(ETPD)
、テトラキス(3−メチルフェニル)−N,N,N’,N’−2,5−フェニレンジアミ
ン(PDA)、α−フェニル−4−N,N−ジフェニルアミノスチレン(TPS)、p−
(ジエチルアミノ)ベンズアルデヒドジフェニルヒドラゾン(DEH)、トリフェニルア
ミン(TPA)、ビス[4−(N,N−ジエチルアミノ)−2−メチルフェニル)(4−
メチルフェニル)メタン(MPMP)、1−フェニル−3−[p−(ジエチルアミノ)ス
チリル]−5−[p−(ジエチルアミノ)フェニル]ピラゾリン(PPRまたはDEAS
P)、1,2−トランス−ビス(9H−カルバゾール−9−イル)シクロブタン(DCZ
B)、N,N,N’,N’−テトラキス(4メチルフェニル)−(1,1’−ビフェニル
)−4,4’−ジアミン(TTB)、4,4’,4’’−トリス(N,N−ジフェニルア
ミノ)トリフェニルアミン(TDTA)、4,4’,4’’−トリス(N−カルバゾリル
)トリフェニルアミン(TCTA)、N,N’−ビス(ナフタレン−2−イル)−N,N
’−ビス(フェニル)ベンジジン(β−NPB)、N,N’−ビス(3−メチルフェニル
)N,N’−ビス(フェニル)−9,9−スピロビフルオレン(スピロ−TPD)、N,
N’−ビス(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ビス(フェニル)−9,9−スピロビ
フルオレン(スピロ−NPB)、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビ
ス(フェニル)−9,9−ジメチルフルオレン(DMFL−TPD)、ジ[4−(N,N
−ジトリルアミノ)フェニル]シクロヘキサン、N,N’−ビス(ナフタレン−1−イル
)−N,N’−ビス(フェニル)−9,9−ジメチルフルオレン、N,N’−ビス(ナフ
タレン−1−イル)−N,N’−ビス(フェニル)−2,2−ジメチルベンジジン、N,
N’−ビス(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ビス(フェニル)ベンジジン、N,N
’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス(フェニル)ベンジジン、2,3,5
,6−テトラフルオロ−7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン(F4−TCNQ)
、4,4’,4’’−トリス(N−3−メチルフェニル−N−フェニルアミノ)トリフェ
ニルアミン、4,4’,4’’−トリス(N−(2−ナフチル)−N−フェニル−アミノ
)トリフェニルアミン、ピラジノ[2,3−f][1,10]フェナントロリン−2,3
−ジカルボニトリル(PPDN)、N,N,N’,N’−テトラキス(4−メトキシフェ
ニル)ベンジジン(MeO−TPD)、2,7−ビス[N,N−ビス(4−メトキシフェ
ニル)アミノ]−9,9−スピロビフルオレン(MeO−スピロ−TPD)、2,2’−
ビス[N,N−ビス(4−メトキシフェニル)アミノ]−9,9−スピロビフルオレン(
2,2’−MeO−スピロ−TPD)、N,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(4−N,
N−ジトリルアミノ)フェニル]ベンジジン(NTNPB)、N,N’−ジフェニル−N
,N’−ジ[4−N,N−ジフェニルアミノ)フェニル]ベンジジン(NPNPB)、N
,N’−ジ(ナフタレン−2−イル)−N,N’−ジフェニルベンゼン−1,4−ジアミ
ン(β−NPP)、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス(フェニル
)−9,9−ジフェニルフルオレン(DPFL−TPD)、N,N’−ビス(ナフタレン
−1−イル)−N,N’−ビス(フェニル)−9,9−ジフェニルフルオレン(DPFL
−NPB)、2,2’,7,7’−テトラキス(N,N−ジフェニルアミノ)−9,9’
−スピロビフルオレン(スピロ−TAD)、9,9−ビス[4−(N,N−ビス(ビフェ
ニル−4−イル)アミノ)フェニル]−9H−フルオレン(BPAPF)、9,9−ビス
[4−(N,N−ビス(ナフタレン−2−イル)アミノ)フェニル]−9H−フルオレン
(NPAPF)、9,9−ビス[4−N,N−ビス(ナフタレン−2−イル)−N,N’
−ビスフェニルアミノ)フェニル]−9H−フルオレン(NPBAPF)、2,2’,7
,7’−テトラキス[N−ナフタレニル(フェニル)アミノ]−9,9’−スピロビフル
オレン(スピロ−2NPB)、N,N’−ビス(フェナントレン−9−イル)−N,N’
−ビス(フェニル)ベンジジン(PAPB)、2,7−ビス[N,N−ビス(9,9−ス
ピロビフルオレン−2−イル)アミノ]−9,9−スピロビフルオレン(スピロ−5)、
2,2’−ビス[N,N−ビス(ビフェニル−4−イル)アミノ]−9,9−スピロビフ
ルオレン(2,2’−スピロ−DBP)、2,2’−ビス(N,N−ジフェニルアミノ)
−9.9−スピロビフルオレン(スピロ−BPA)、2,2’,7,7’−テトラ(N,
N−ジトリル)アミノスピロビフルオレン(スピロ−TTB)、N,N,N’,N’−テ
トラナフタレン−2−イルベンジジン(TNB)、ポルフィリン化合物、およびフタロシ
アニン、例えば、銅フタロシアニンおよび酸化チタンフタロシアニン、からなる群より選
択される。通常使用される正孔輸送ポリマーは、ポリビニルカルバゾール、(フェニルメ
チル)ポリシラン、およびポリアニリンからなる群より選択される。正孔輸送分子を、ポ
リマー、例えば、ポリスチレンおよびポリカーボネート、にドープすることによって正孔
輸送ポリマーを得ることも、同様に可能である。好適な正孔輸送分子は、上記において既
に言及されている分子である。
さらに、一実施形態において、正孔伝導体材料としてカルベン錯体を使用することが可
能であり、少なくとも1種の正孔伝導体材料のバンドギャップは、概して、使用される発
光体材料のバンドギャップより大きい。本出願の文脈において、「バンドギャップ」は、
三重項エネルギーを意味すると理解される。好適なカルベン錯体は、例えば、国際公開第
2005/019373(A2)号、国際公開第2006/056418(A2)号、国
際公開第2005/113704号、国際公開第2007/115970号、国際公開第
2007/115981号、および国際公開第2008/000727号に記載されてい
るようなカルベン錯体である。好適なカルベン錯体の一例は、式:
に開示されている。原則として、正孔伝導体層が、正孔伝導体材料として式Iの少なくと
も1種の化合物を含むことは可能である。
はリン光発光体であり得、好適な発光体材料は、当業者に公知である。当該少なくとも1
種の発光体材料は、好ましくは、リン光発光体である。選好的に使用されるリン光発光体
化合物は、金属錯体、とりわけ、金属Ru、Rh、Ir、Pd、およびPtの錯体、をベ
ースとしており、特にIrの錯体は重要である。式Iの化合物は、発光層においてマトリ
ックスとして使用することができる。
0910(A1)号、米国特許出願公開第2001/0015432(A1)号、米国特
許出願公開第2001/0019782(A1)号、米国特許出願公開第2002/00
55014(A1)号、米国特許出願公開第2002/0024293(A1)号、米国
特許出願公開第2002/0048689(A1)号、欧州特許出願公開第119161
2(A2)号、欧州特許出願公開第1191613(A2)号、欧州特許出願公開第12
11257(A2)号、米国特許出願公開第2002/0094453(A1)号、国際
公開第02/02714(A2)号、国際公開第00/70655(A2)号、国際公開
第01/41512(A1)号、国際公開第02/15645(A1)号、国際公開第2
005/019373(A2)号、国際公開第2005/113704(A2)号、国際
公開第2006/115301(A1)号、国際公開第2006/067074(A1)
号、国際公開第2006/056418号、国際公開第2006/121811(A1)
号、国際公開第2007/095118(A2)号、国際公開第2007/115970
号、国際公開第2007/115981号、国際公開第2008/000727号、国際
公開第2010/129323号、国際公開第2010/056669号、および国際公
開第10/086089号に記載されている。
)イリジウム(III)、イリジウム(III)トリス(2−(4−トリル)ピリジナト
−N,C2’)、ビス(2−フェニルピリジン)(アセチルアセトナト)イリジウム(I
II)、イリジウム(III)トリス(1−フェニルイソキノリン)、イリジウム(II
I)ビス(2,2’−ベンゾチエニル)ピリジナト−N,C3’)(アセチルアセトネー
ト)、トリス(2−フェニルキノリン)イリジウム(III)、イリジウム(III)ビ
ス(2−(4,6−ジフルオロフェニル)ピリジナト−N,C2)ピコリネート、イリジ
ウム(III)ビス(1−フェニルイソキノリン)(アセチルアセトネート)、ビス(2
−フェニルキノリン)(アセチルアセトナト)イリジウム(III)、イリジウム(II
I)ビス(ジ−ベンゾ[f,h]キノキサリン)(アセチルアセトネート)、イリジウム
(III)ビス(2−メチルジベンゾ[f,h]キノキサリン)(アセチルアセトネート
)、およびトリス(3−メチル−1−フェニル−4−トリメチルアセチル−5−ピラゾリ
ノ)テルビウム(III)、ビス[1−(9,9−ジメチル−9H−フルオレン−2−イ
ル)イソキノリン](アセチルアセトナト)イリジウム(III)、ビス(2−フェニル
ベンゾチアゾラト)(アセチルアセトナト)イリジウム(III)、ビス(2−(9,9
−ジヘキシルフルオレニル)−1−ピリジン)(アセチルアセトナト)イリジウム(II
I)、ビス(2−ベンゾ[b]チオフェン−2−イルピリジン)(アセチルアセトナト)
イリジウム(III)である。
ン)ユウロピウム(III)、トリス(ジベンゾイルメタン)モノ(フェナントロリン)
ユウロピウム(III)、トリス(ジベンゾイルメタン)モノ(5−アミノフェナントロ
リン)ユウロピウム(III)、トリス(ジ−2−ナフトイルメタン)モノ(フェナント
ロリン)ユウロピウム(III)、トリス(4−ブロモベンゾイルメタン)モノ(フェナ
ントロリン)ユウロピウム(III)、トリス(ジ(ビフェニル)メタン)モノ(フェナ
ントロリン)ユウロピウム(III)、トリス(ジベンゾイルメタン)モノ(4,7−ジ
フェニルフェナントロリン)ユウロピウム(III)、トリス(ジベンゾイルメタン)モ
ノ(4,7−ジ−メチルフェナントロリン)ユウロピウム(III)、トリス(ジベンゾ
イルメタン)モノ(4,7−ジメチルフェナントロリンジスルホン酸)ユウロピウム(I
II)二ナトリウム塩、トリス[ジ(4−(2−(2−エトキシエトキシ)エトキシ)ベ
ンゾイルメタン)]モノ(フェナントロリン)ユウロピウム(III)およびトリス[ジ
[4−(2−(2−エトキシエトキシ)エトキシ)ベンゾイルメタン)]モノ(5−アミ
ノフェナントロリン)ユウロピウム(III)、オスミウム(II)ビス(3−(トリフ
ルオロメチル)−5−(4−tert−ブチルピリジル)−1,2,4−トリアゾラト)
ジフェニルメチルホスフィン、オスミウム(II)ビス(3−(トリフルオロメチル)−
5−(2−ピリジル)−1,2,4−トリアゾール)ジメチルフェニルホスフィン、オス
ミウム(II)ビス(3−(トリフルオロメチル)−5−(4−tert−ブチルピリジ
ル)−1,2,4−トリアゾラト)ジメチルフェニルホスフィン、オスミウム(II)ビ
ス(3−(トリフルオロメチル)−5−(2−ピリジル)ピラゾラト)ジメチルフェニル
ホスフィン、トリス[4,4’−ジ−tert−ブチル(2,2’)−ビピリジン]ルテ
ニウム(III)、オスミウム(II)ビス(2−(9,9−ジブチルフルオレニル)−
1−イソキノリン(アセチルアセトネート)が好適である。
り、この場合、符号は、以下の意味を有する:
Mは、それぞれの金属原子において可能な任意の酸化状態である、Co、Rh、Ir、N
b、Pd、Pt、Fe、Ru、Os、Cr、Mo、W、Mn、Tc、Re、Cu、Ag、
およびAuからなる群より選択され;
carbeneは、無電荷かまたはモノアニオン性の一座配位、二座配位、または三座配
位であり得るカルベン配位子であり、当該カルベン配位子は、ビスカルベン配位子または
トリスカルベン配位子であることも可能であり;
Lは、モノアニオン性またはジアニオン性配位子であり、これは、一座配位または二座配
位であってもよく;
Kは、ホスフィン;ホスホン酸塩およびその誘導体、ヒ酸塩およびそれらの誘導体;亜リ
ン酸塩;CO;ピリジン;ニトリル、およびM1を有するπ錯体を形成する共役ジエンか
らなる群より選択される無電荷の一座または二座配位子であり;
n1は、カルベン配位子の数であり、この場合、n1は少なくとも1であり、ならびに、
n1>1の場合、式Iの錯体におけるカルベン配位子は、同じかまたは異なっていてもよ
く;
m1は、配位子Lの数であり、この場合、m1は0または≧1であってもよく、ならびに
、m1>1の場合、配位子Lは、同じかまたは異なっていてもよく;
oは、配位子Kの数であり、この場合、oは0または≧1であってもよく、ならびに、o
>1の場合、配位子Kは、同じかまたは異なっていてもよく;
n1+m1+oの合計は、酸化状態、金属原子の配位数、および配位子カルベン、L、お
よびKの配座数、ならびに配位子、カルベン、およびLの電荷に依存しており、ただし、
n1は少なくとも1である。
8(A2)号、国際公開第2005/113704号、国際公開第2007/11597
0号、国際公開第2007/115981号、および国際公開第2008/000727
号、国際公開第2009/050281号、国際公開第2009/050290号、国際
公開第2011/051404号、および国際公開第2011/073149号に記載さ
れている。
/323885号、および欧州特許出願公開第10187176.2号(PCT/EP2
010/069541)に記載されており、この場合、M、n1、Y、A2、A3、A4、
A5、R51、R52、R53、R54、R55、R56、R57、R58、R59、K、L、m1、および
oは、それぞれ、以下において定義される通りであり:
Mは、IrまたはPtであり、
n1は、1、2、および3から選択される整数であり、
Yは、NR51、O、S、またはC(R25)2であり、
A2、A3、A4、およびA5は、それぞれ独立して、NまたはCであり、2つのA=窒素原
子の場合、少なくとも1つの炭素原子が、環の2つの窒素原子の間に存在し、
R51は、場合により少なくとも1つのヘテロ原子で中断されていてもよく、場合により少
なくとも1つの官能基を有していてもよく、および1〜20個の炭素原子を有している直
鎖状または分岐鎖状のアルキル基、場合により少なくとも1つのヘテロ原子で中断されて
いてもよく、場合により少なくとも1つの官能基を有していてもよく、および3〜20個
の炭素原子を有しているシクロアルキル基、場合により少なくとも1つのヘテロ原子で中
断されていてもよく、場合により少なくとも1つの官能基を有していてもよく、および6
〜20個の炭素原子を有している置換または非置換のアリール基、ならびに、場合により
少なくとも1つのヘテロ原子で中断されていてもよく、場合により少なくとも1つの官能
基を有していてもよく、および5〜18個の炭素原子および/またはヘテロ原子を有して
いる、置換または非置換のヘテロアリール基、であり、
R52、R53、R54、およびR55は、それぞれ、A2、A3、A4、および/またはA5がNの
場合には自由電子対であり、またはA2、A3、A4、および/またはA5がCの場合には、
それぞれ独立して水素、場合により少なくとも1つのヘテロ原子で中断されていてもよく
、場合により少なくとも1つの官能基を有していてもよく、および1〜20個の炭素原子
を有している直鎖状または分岐鎖状のアルキル基、場合により少なくとも1つのヘテロ原
子で中断されていてもよく、場合により少なくとも1つの官能基を有していてもよく、お
よび3〜20個の炭素原子を有しているシクロアルキル基、場合により少なくとも1つの
ヘテロ原子で中断されていてもよく、場合により少なくとも1つの官能基を有していても
よく、および6〜30個の炭素原子を有している置換または非置換のアリール基、場合に
より少なくとも1つのヘテロ原子で中断されていてもよく、場合により少なくとも1つの
官能基を有していてもよく、および5〜18個の炭素原子および/またはヘテロ原子を有
している置換または非置換のヘテロアリール基、ならびに、ドナーまたはアクセプター作
用を有する基、であり、あるいは、
R53およびR54は、A3およびA4と一緒に、場合により少なくとも1つのさらなるヘテロ
原子で中断されていてもよく、および合計で5〜8個の炭素原子および/またはヘテロ原
子を有する、場合により置換されていてもまたは非置換であってもよい環、を形成し、
R56、R57、R58、およびR59は、それぞれ独立して、水素、場合により少なくとも1つ
のヘテロ原子で中断されていてもよく、場合により少なくとも1つの官能基を有していて
もよく、および1〜20個の炭素原子を有している直鎖状または分岐鎖状のアルキル基、
場合により少なくとも1つのヘテロ原子で中断されていてもよく、場合により少なくとも
1つの官能基を有していてもよく、および3〜20個の炭素原子を有しているシクロアル
キル基、場合により少なくとも1つのヘテロ原子で中断されていてもよく、場合により少
なくとも1つの官能基を有していてもよく、および3〜20個の炭素原子を有しているシ
クロヘテロアルキル基、場合により少なくとも1つのヘテロ原子で中断されていてもよく
、場合により少なくとも1つの官能基を有していてもよく、および6〜30個の炭素原子
を有している置換または非置換のアリール基、場合により少なくとも1つのヘテロ原子で
中断されていてもよく、場合により少なくとも1つの官能基を有していてもよく、合計5
〜18個の炭素原子および/またはヘテロ原子を有している置換または非置換のヘテロア
リール基、ならびに、ドナーまたはアクセプター作用を有する基、であり、あるいは、
R56およびR57、R57およびR58、あるいはR58およびR59は、それらが結合している炭
素原子と一緒に、飽和、不飽和、または芳香族の、場合により少なくとも1つのヘテロ原
子で中断されていてもよく、ならびに合計で5〜8個の炭素原子および/またはヘテロ原
子を有する、場合により置換されていてもよい環、を形成し、
A5がCの場合、R55およびR56は一緒に、場合によりヘテロ原子、芳香族ユニット、ヘ
テロ芳香族ユニット、および/または官能基を含んでいてもよくかつ合計で1〜30個の
炭素原子および/またはヘテロ原子を有する飽和または不飽和の直鎖状または分岐鎖状の
ブリッジを形成し、当該ブリッジは、場合により、飽和または不飽和の、炭素原子および
/またはヘテロ原子を含む5〜8員環に縮合していてもよく、
R25は、独立して、場合により少なくとも1つのヘテロ原子で中断されていてもよく、場
合により少なくとも1つの官能基を有していてもよく、および1〜20個の炭素原子を有
している直鎖状または分岐鎖状のアルキル基、場合により少なくとも1つのヘテロ原子で
中断されていてもよく、場合により少なくとも1つの官能基を有していてもよく、および
3〜20個の炭素原子を有しているシクロアルキル基、場合により少なくとも1つのヘテ
ロ原子で中断されていてもよく、場合により少なくとも1つの官能基を有していてもよく
、および6〜30個の炭素原子を有している置換または非置換のアリール基、場合により
少なくとも1つのヘテロ原子で中断されていてもよく、場合により少なくとも1つの官能
基を有していてもよく、および5〜18個の炭素原子および/またはヘテロ原子を有して
いる置換または非置換のヘテロアリール基、であり、
Kは、無電荷の一座または二座配位子であり、
Lは、モノアニオン性またはジアニオン性配位子、好ましくはモノアニオン性配位子であ
り、これは、一座配位または二座配位であってもよく、
m1は、0、1、または2であり、m1が2の場合、K配位子は同じかまたは異なってい
てもよく、
oは、0、1、または2であり、oが2の場合、L配位子は同じかまたは異なっていても
よい。
異性体の形態において存在し得、フェイシャル異性体が選好される。
フェイシャル異性体が選好される。
の発光色を変えるために、蛍光染料が、発光層中に存在していてもよい。さらに、好まし
い実施形態では、マトリックス材料を使用することができる。このマトリックス材料は、
ポリマー、例えば、ポリ(N−ビニルカルバゾール)またはポリシラン、であり得る。し
かしながら、当該マトリックス材料は、小分子、例えば、4,4’−N,N’−ジカルバ
ゾールビフェニル(CDP=CBP)、または第三級芳香族アミン、例えば、TCTA、
であってもよい。本発明の好ましい実施形態において、式Iの少なくとも1種の化合物が
、マトリックス材料として使用される。
%の、前述の発光体材料うちの少なくとも1種と、60〜98質量%、好ましくは75〜
95質量%の、前述のマトリックス材料のうちの少なくとも1つ(一実施形態において、
式Iの少なくとも1種の化合物)とから形成され、この場合、発光体材料およびマトリッ
クス材料の合計は100質量%までになる。
は5〜35質量%の、
でになる。
ー材料および/または電子/励起子ブロッカー材料および/または正孔注入材料および/
または電子注入材料および/または正孔伝導体材料および/または電子伝導体材料として
の、好ましくはマトリックス材料および/または正孔/励起子ブロッカー材料としての式
Iの化合物と一緒の使用に好適な金属錯体の例として、国際公開第2005/01937
3(A2)号、国際公開第2006/056418(A2)号、国際公開第2005/1
13704号、国際公開第2007/115970号、国際公開第2007/11598
1号、および国際公開第2008/000727号に記載されているカルベン錯体も挙げ
られる。引用された国際公開出願の開示についてここで明確に言及しており、これらの開
示内容は、本出願の内容に組み入れられると見なされるべきである。
、OLEDは、正孔に対するブロッキング層が存在する場合、OLEDにおいて典型的に
使用される正孔ブロッカー材料、例えば、2,6−ビス(N−カルバゾリル)ピリジン(
mCPy)、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(バ
ソクプロイン、(BCP))、ビス(2−メチル−8−キノリナト)−4−フェニルフェ
ニラト)アルミニウム(III)(BAlq)、フェノチアジンS,S−ジオキシド誘導
体、および1,3,5−トリス(N−フェニル−2−ベンジルイミダゾリル)ベンゼン)
(TPBI)、を有し、TPBIは、電子伝導性材料としても好適である。さらに好適な
正孔ブロッカーおよび/または電子伝導体材料は、2,2’,2’’−(1,3,5−ベ
ンゼントリイル)トリス(1−フェニル−1−H−ベンズイミダゾール)、2−(4−ビ
フェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール
、8−ヒドロキシキノリノラトリチウム、4−(ナフタレン−1−イル)−3,5−ジフ
ェニル−4H−1,2,4−トリアゾール、1,3−ビス[2−(2,2’−ビピリジン
−6−イル)−1,3,4−オキサジアゾ−5−イル]ベンゼン、4,7−ジフェニル−
1,10−フェナントロリン、3−(4−ビフェニリル)−4−フェニル−5−tert
−ブチルフェニル−1,2,4−トリアゾール、6,6’−ビス[5−(ビフェニル−4
−イル)−1,3,4−オキサジアゾ−2−イル]−2,2’−ビピリジル、2−フェニ
ル−9,10−ジ(ナフタレン−2−イル)アントラセン、2,7−ビス[2−(2,2
’−ビピリジン−6−イル)−1,3,4−オキサジアゾ−5−イル]−9,9−ジメチ
ルフルオレン、1,3−ビス[2−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オ
キサジアゾ−5−イル]ベンゼン、2−(ナフタレン−2−イル)−4,7−ジフェニル
−1,10−フェナントロリン、トリス(2,4,6−トリメチル−3−(ピリジン−3
−イル)フェニル)ボラン、2,9−ビス(ナフタレン−2−イル)−4,7−ジフェニ
ル−1,10−フェナントロリン、1−メチル−2−(4−(ナフタレン−2−イル)フ
ェニル)−1H−イミダゾ[4,5−f][1,10]フェナントロリンである。さらな
る実施形態において、国際公開第2006/100298号に開示されているカルボニル
基、例えばPCT出願PCT/EP2008/058207およびPCT/EP2008
/058106(これらは、本出願の優先日においてまだ公開されていない)に指定され
る、ジシリルカルバゾール、ジシリルベンゾフラン、ジシリルベンゾチオフェン、ジシリ
ルベンゾホスホール、ジシリルベンゾチオフェンS−オキシド、およびジシリルベンゾチ
オフェンS,S−ジオキシドからなる群より選択されるジシリル化合物、ならびに、国際
公開第2008/034758号に開示されているジシリル化合物、を含む基によって連
結された芳香族環またはヘテロ芳香族環を含む化合物を、電子/励起子に対するブロッキ
ング層(4)として、または発光層(3)におけるマトリックス材料として、使用するこ
とが可能である。
、2,2’,2’’−(1,3,5−フェニレン)トリス[1−フェニル−1H−ベンズ
イミダゾール](TPBI)、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq3)、
フェナントロリンベースの化合物、例えば、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1
,10−フェナントロリン(DDPA=BCP)、または4,7−ジフェニル−1,10
−フェナントロリン(DPA)、ならびにアゾール化合物、例えば、2−(4−ビフェニ
リル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(PBD)、
および3−(4−ビフェニリル)−4−フェニル−5−(4−t−ブチルフェニル)−1
,2,4−トリアゾール(TAZ)、8−ヒドロキシキノリノラトリチウム(Liq)、
4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(BPhen)、ビス(2−メチル−
8−キノリノラト)−4−(フェニルフェノラト)アルミニウム(BAlq)、1,3−
ビス[2−(2,2’−ビピリジン−6−イル)−1,3,4−オキサジアゾ−5−イル
]ベンゼン(Bpy−OXD)、6,6’−ビス[5−(ビフェニル−4−イル)−1,
3,4−オキサジアゾ−2−イル]−2,2’−ビピリジル(BP−OXD−Bpy)、
4−(ナフタレン−1−イル)−3,5−ジフェニル−4H−1,2,4−トリアゾール
(NTAZ)、2,9−ビス(ナフタレン−2−イル)−4,7−ジフェニル−1,10
−フェナントロリン(NBphen)、2,7−ビス[2−(2,2’−ビピリジン−6
−イル)−1,3,4−オキサジアゾ−5−イル]−9,9−ジメチルフルオレン(Bb
y−FOXD)、1,3−ビス[2−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−
オキサジアゾ−5−イル]ベンゼン(OXD−7)、トリス(2,4,6−トリメチル−
3−(ピリジン−3−イル)フェニル)ボラン(3TPYMB)、1−メチル−2−(4
−(ナフタレン−2−イル)フェニル)−1H−イミダゾ[4,5−f][1,10]フ
ェナントロリン(2−NPIP)、2−フェニル−9,10−ジ(ナフタレン−2−イル
)アントラセン(PADN)、2−(ナフタレン−2−イル)−4,7−ジフェニル−1
,10−フェナントロリン(HNBphen)、に対してキレートした金属を含む。層(
5)は、電子輸送を容易にするため、およびOLEDの層の界面での励起子のクエンチン
グを防ぐためにバッファー層またはバリア層として機能し得る。層(5)は、好ましくは
、電子の移動度を向上させ、励起子のクエンチングを減じる。好ましい実施形態において
、TPBIは、電子伝導体材料として使用される。別の好ましい実施形態において、BC
Pは、電子伝導体材料として使用される。原則として、電子伝導体層は、電子伝導体材料
として式Iの少なくとも1種の化合物を含むことが可能である。
は、複数の機能を満たし得る。例えば、いくつかの電子伝導性材料は、低いHOMOを有
する場合、同時に正孔ブロッキング材料でもある。これらは、例えば、正孔/励起子に対
するブロッキング層(4)において使用することができる。しかしながら、正孔/励起子
ブロッカーとしての機能も層(5)に担わせることも同様に可能であり、これにより、層
(4)を省くことができる。
第二にデバイスの作動電圧を最小にするため、電子的にドープすることで当該材料の輸送
特性を向上させることもできる。例えば、正孔伝導体材料は、電子アクセプターでドープ
することができ;例えば、フタロシアニンまたはアリールアミン、例えば、TPDまたは
TDTA、は、テトラフルオロテトラシアノキノジメタン(F4−TCNQ)またはMo
O3もしくはWO3でドープすることができる。電子伝導体材料は、例えば、アルカリ金属
、例えば、リチウムを有するAlq3、でドープすることができる。さらに、電子伝導体
は、Cs2CO3または8−ヒドロキシキノリラトリチウム(Liq)などの塩でドープす
ることができる。電子ドーピングは、当業者に公知であり、例えば、W.Gao,A.K
ahn,J.Appl.Phys.,Vol.94,No.1,1 July 2003(
p−ドープされた有機層);A.G.Werner,F.Li,K.Harada,M.
Pfeiffer,T.Fritz,K.Leo.Appl.Phys.Lett.,V
ol.82,No.25,23 June 2003、Pfeiffer et al.,O
rganic Electronics 2003,4,89−103に開示されている。
例えば、正孔伝導体層は、カルベン錯体、例えばlr(dpbic)3、以外に、MoO3
またはWO3でドープしてもよい。例えば、電子伝導体層は、Cs2CO3でドープされた
BCPを含み得る。
、元素周期表(旧IUPAC版)の、Ia族のアルカリ金属、例えば、Li、Cs、II
a族のアルカリ土類金属、例えば、カルシウム、バリウム、またはマグネシウム、IIb
族の金属、ならびにランタノイドおよびアクチニド、例えばサマリウム、からなる群より
選択される。さらに、アルミニウムもしくはインジウムなどの金属、および言及されたす
べての金属の組み合わせを使用することも可能である。さらに、アルカリ金属、とりわけ
、リチウムを含む有機金属化合物、またはアルカリ金属フッ化物、例えば、LiF、Cs
F、またはKF、は、有機層と陰極との間に適用することで、作動電圧を下げることがで
きる。
えば、正電荷の輸送を促進する、および/または、層のバンドギャップを互いに適合させ
る層を、層(2)と発光層(3)との間に適用してもよい。あるいは、このさらなる層は
、保護層として機能し得る。類似の方法において、負電荷の輸送を促進する、および/ま
たは層間のバンドギャップを互いに適合させるために、さらなる層が、発光層(3)と層
(4)との間に存在していてもよい。あるいは、この層は、保護層として機能し得る。
言及する層:
・2〜100nm、好ましくは5〜50nmの厚さを有する、陽極(1)と正孔輸送層(
2)との間の正孔注入層;
・正孔輸送層(2)と発光層(3)との間の、電子に対するブロッキング層;
・電子輸送層(5)と陰極(6)との間の電子注入層
のうちの少なくとも1つを含む。
フェニル−N−フェニルアミノ)トリフェニルアミン(m−MTDATA)、4,4’,
4’’−トリス(N−(2−ナフチル)−N−フェニルアミノ)トリフェニルアミン(2
T−NATA)、4,4’,4’’−トリス(N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミ
ノ)トリフェニルアミン(1T−NATA)、4,4’,4’’−トリス(N,N−ジフ
ェニルアミノ)トリフェニルアミン(NATA)、酸化チタンフタロシアニン、2,3,
5,6−テトラフルオロ−7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン(F4−TCNQ
)、ピラジノ[2,3−f][1,10]フェナントロリン−2,3−ジカルボニトリル
(PPDN)、N,N,N’,N’−テトラキス(4−メトキシフェニル)ベンジジン(
MeO−TPD)、2,7−ビス[N,N−ビス(4−メトキシフェニル)アミノ]−9
,9−スピロビフルオレン(MeO−スピロ−TPD)、2,2’−ビス[N,N−ビス
(4−メトキシフェニル)アミノ]−9,9−スピロビフルオレン(2,2’−MeO−
スピロ−TPD)、N,N’−ジフェニル−N,N’−ジ−[4−(N,N−ジトリルア
ミノ)フェニル]ベンジジン(NTNPB)、N,N’−ジフェニル−N,N’−ジ−[
4−(N,N−ジフェニルアミノ)フェニル]ベンジジン(NPNPB)、N,N’−ジ
(ナフタレン−2−イル)−N,N’−ジフェニルベンゼン−1,4−ジアミン(α−N
PP)、から選択され得る。原則として、正孔注入層が、正孔注入材料として式Iの化合
物の少なくとも1種の化合物を含むことは可能である。さらに、ポリマー性正孔注入材料
、例えば、ポリ(N−ビニルカルバゾール)(PVK)、ポリチオフェン、ポリピロール
、ポリアニリン、自己ドーピングポリマー、例えば、スルホン化ポリ(チオフェン−3−
[2[(2−メトキシエトキシ)エトキシ]−2,5−ジイル)(Plextronic
sから市販されているPlexcore(登録商標) OC Conducting In
ks)、およびコポリマー例えば、PEDOT/PSSとも呼ばれるポリ(3,4−エチ
レンジオキシチオフェン)/ポリ(4−スチレンスルホネート)、を使用することができ
る。
注入層が、電子注入材料として式Iの化合物の少なくとも1種の化合物を含むことは可能
である。
気化学の研究に基づいて)。個々の層に好適な材料は、当業者に公知であり、ならびに、
例えば、国際公開第00/70655号に開示されている。
る層のいくつかを表面処理しておくことは可能である。言及された層のそれぞれに対する
材料の選択は、好ましくは、高効率および長寿命のOLEDが得られるように特定される
。
発明のOLEDは、個々の層を好適な基材上に連続的に蒸着することによって製造される
。好適な基材は、例えば、ガラス、無機半導体、またはポリマーフィルムである。蒸着に
は、慣例の技術、例えば、熱蒸発、化学蒸着(CVD)、物理蒸着(PVD)、を使用す
ることが可能である。代替のプロセスにおいて、OLEDの有機層は、当業者に公知のコ
ーティング技術を用いて、好適な溶媒における溶液または分散液から適用することができ
る。
200nm;正孔伝導層(2)5〜100nm、好ましくは20〜80nm;発光層(3
)1〜100nm、好ましくは10〜80nm;正孔/励起子に対するブロッキング層(
4)2〜100nm、好ましくは5〜50nm;電子伝導層(5)5〜100nm、好ま
しくは20〜80nm;陰極(6)20〜1000nm、好ましくは30〜500nm、
を有する。陰極に関する、本発明のOLEDにおける正孔および電子の再結合領域の相対
位置、したがってOLEDの発光スペクトルは、いくつかある因子の中でも特に、各層の
相対厚さによって影響され得る。これは、電子輸送層の厚さは、好ましくは、当該再結合
領域の位置がダイオードの光学的共振器特性に、したがって、発光体の発光波長に適合す
るよう選択されるべきであることを意味している。当該OLEDの個々の層の層厚の比率
は、使用する材料に依存する。使用する任意の追加の層の層厚は、当業者に公知である。
電子伝導層および/または正孔伝導層が、それらが電気的にドープされる場合に指定され
る層厚より厚い層厚を有することは可能である。
材料として)および/または正孔/励起子に対するブロッキング層において、式Iの化合
物を使用することにより、高い効率と低い使用電圧および作動電圧とを有するOLEDが
得られる。さらに、式Iの化合物を使用して得られるOLEDは長寿命である。OLED
の効率は、さらに、OLEDの他の層を最適化することによって向上させることができる
。例えば、LiFの中間層との組み合わせにおいて適切であれば、高効率の陰極、例えば
、CaまたはBa、を使用することができる。成形基材ならびに、作動電極の低下または
量子効率の増加を生じる新規の正孔輸送材料も同様に、本発明のOLEDにおいて使用可
能である。さらに、異なる層のエネルギーレベルを調節するため、ならびにエレクトロル
ミネセンスを促進するために、OLEDに追加の層が存在していてもよい。
の発光全体は、少なくとも2つの発光層の発光で構成され得、ならびに白色光も含み得る
。
る。好適なデバイスは、好ましくは、定置型または可動型視覚的表示装置ならびに照明装
置から選択される。定置型視覚的表示装置は、例えば、コンピュータの視覚的表示装置、
テレビ、プリンタの視覚的表示装置、台所用電化製品、ならびに広告パネル、照明パネル
、および情報パネルなどである。可動型視覚的表示装置は、例えば、携帯電話、タブレッ
ト型PC、ラップトップ、デジタルカメラ、MP3プレーヤー、自動車、ならびにバスお
よび車両の目的地表示の視覚的表示装置である。本発明のOLEDを使用可能なさらなる
デバイスは、例えば、キーボード;衣類のアイテム;家具;壁紙である。
テレビ、プリンタの視覚的表示装置、台所用電化製品、ならびに広告パネル、照明パネル
、情報パネル、ならびに可動型視覚的表示装置、例えば、携帯電話、タブレット型PC、
ラップトップ、デジタルカメラ、MP3プレーヤー、自動車、ならびにバスおよび電車の
行先表示の視覚的表示装置;照明装置;キーボード;衣服のアイテム;家具;壁紙、から
なる群より選択されるデバイスであって、少なくとも1つの本発明の有機発光ダイオード
または少なくとも1つの本発明の発光層を有する、デバイスに関する。
。特に明記しない限り、全ての部および百分率は、質量を基準とする。
おける16.4ml(27.9mmol)のt−ブチル−リチウムを、アルゴン下、−7
8℃において、無水テトラヒドロフラン(THF)中における5.00g(12.1mm
ol)の9−(8−ブロモジベンゾフラン−2−イル)カルバゾールの溶液に加える。1
5分後、2.93g(15.8mmol)の2−イソプロポキシ−4,4,5,5−テト
ラメチル−1,3,2−ジオキサボロランをゆっくりと加える。当該反応混合物を、アル
ゴン下において−78℃で3時間撹拌し、水に注いで、当該水相をジエチルエーテルで抽
出する。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を除去する。エーテルから結晶化さ
せ、2.57gの化合物1を得る(収率:46%)。
ミダゾール−2−オンを、180℃で、50gのポリリン酸に加える。当該反応混合物を
、窒素下において220℃で3時間撹拌し、水に注ぐ。当該生成物をろ別し、水およびメ
タノールで洗浄する。50mlの30%水酸化ナトリウム溶液を、200mlのTHF中
における当該生成物の懸濁液に加える。当該混合物を30分間撹拌し、有機相を分離して
、硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を蒸留除去する。9.26gの化合物2が得られる
(収率:89%)。
ニル)−1H−ベンズイミダゾール−2−オンの合成は、Bull.Soc.Chem.
Belg.96(1987)787に記載されている。
mmol)の2−ブロモ−8−ヨード−ジベンゾフラン、8.74g(26.8mmol
)の炭酸セシウム、255mg(1.34mmol)のヨウ化銅(I)、および309m
g(2.68mmol)のL−プロリンを、窒素下において、75mlのジメチルホルム
アミド中における2.78g(13.4mmol)の5H−ベンズイミダゾ[1,2−a
]ベンズイミダゾールに加える。当該反応混合物を、150℃で19時間加熱し、THF
によりHyflo Super Cel(登録商標)媒体、Fluka 56678、CA
S[9105339−3]においてろ過する。有機相を水で洗浄する。溶媒を蒸留除去す
る。トルエン/酢酸エチル(19/1)を用いたシリカゲルのカラムクロマトグラフィに
より、化合物3を得る(収量:2.29g(37.7%))。
ol)の三塩基性リン酸カリウム一水和物、15mlのジオキサン、60mlのトルエン
、および12mlの水を、1.50g(3.32mmol)の化合物3に加える。当該混
合物を、アルゴンで脱ガス処理する。81mg(0.199mmol)の2−ジシクロヘ
キシルホスフィノ−2’,6’−ジメトキシビフェニル(SPhos)、および74mg
(0.033mmol)の酢酸パラジウム(II)を加える。当該反応混合物をアルゴン
で脱ガス処理し、アルゴン下において100℃で4.5時間撹拌する。40mlの1%シ
アン化ナトリウム溶液を加え、当該反応混合物を1時間還流させる。ジクロロメタンを加
え、有機相を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させる。トルエンおよび次にトルエン
/酢酸エチル(9/1)を用いたシリカゲルのカラムクロマトグラフィにより、化合物A
−1を得る(収量:1.42g(61%))。
4H−イミダゾ[1,2−a]ベンズイミダゾールの合成は、ARKIVOC 200
2(v)48−61に記載されている。
mmol)の4H−イミダゾ[1,2−a]ベンズイミダゾール、15.9g(56.1
mmol)の1−ブロモ−3−ヨード−ベンゼン、33.2g(102mmol)の炭酸
セシウム、1.94g(10.2mol)のヨウ化銅(I)、および2.35g(20.
4mol)のL−プロリンを、100℃で24時間撹拌する。固体をろ別し、ジクロロメ
タンで洗浄する。有機相を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させる。当該溶媒を蒸留
除去する。トルエンおよび次にトルエン/酢酸エチル(20/1)を用いたカラムクロマ
トグラフィにより、生成混合物(3.89g(24%)の異性体Aおよび4.46g(2
8%)の異性体B)を得る。2つの異性体の分離は、トルエン/酢酸エチル(トルエン(
100%)、トルエン/酢酸エチル(95/5)、トルエン/酢酸エチル(90/10)
、および酢酸エチル(100%))を用いた勾配カラムクロマトグラフィにより達成され
る。
陽極として使用されるITO基板を、超音波槽において、最初に、LCD製造用の市販
の洗浄剤(Deconex(登録商標) 20NS、および25ORGAN−ACID(
登録商標)中和剤)により、次いで、アセトン/イソプロパノール混合物中において清浄
化する。可能性のあるあらゆる有機残留物を排除するために、基板を、さらに25分間、
オゾンオーブン中において連続するオゾン流に晒す。この処理は、ITOの正孔注入特性
も向上させる。次いで、Plexcore(登録商標) OC AJ20−1000(Pl
extronics Inc.から市販されている)をスピンコーティングし、乾燥させ
て、正孔注入層(約40nm)を形成する。
−7〜10−9mbarにおいて、およそ0.5〜5nm/分の速度で被着させる。正孔輸
送および励起子ブロッカー、
(調製については、出願国際公開第2005/019373号におけるIr錯体(7)を
参照のこと)を、厚さ20nmで当該基板に適用し、最初の10nmにMoOx(約10
%)をドープして導電性を向上させる。
密封する。
発光層が30質量%の化合物:
施例1と同じOLEDの製造および構成。
ルミネッセンススペクトルを記録する。加えて、放出された光出力と組み合わせて、電流
−電圧特性を測定する。当該光出力は、光度計を用いて較正することにより、光度測定パ
ラメータに変換することができる。寿命を特定するために、OLEDを、一定電流密度に
おいて作動させ、光出力の減少を記録する。寿命は、輝度が初期の輝度の半分に低下する
までの経過時間として定義される。
ol)の炭酸セシウム、1,90g(1.00mmol)のヨウ化銅(I)、および2.
30g(20.0mmol)のL−プロリンを、窒素下において、100mlのジメチル
スルホキシド(DMSO)中における4.56g(22.0mmol)mmol)の5H
−ベンズイミダゾ[1,2−a]ベンズイミダゾールに加える。当該反応混合物を、10
0℃で5時間撹拌する。当該反応混合物を水に注ぎ、生成物をろ別する。当該生成物をト
ルエンから2回結晶化させる。収量1.6g(48%)。MS(APCI(正イオン):
m/z=489(M+1)。
50.0mmol)炭酸セシウム、1.24g(6.50mmol)のヨウ化銅(I)、
および1.50g(13.0mmol)のL−プロリンを、窒素下において、100ml
のジメチルスルホキシド(DMSO)中における5.18g(25.0mmol)mmo
l)の5H−ベンズイミダゾ[1,2−a]ベンズイミダゾールに加える。当該反応混合
物を、100℃で18時間撹拌する。当該反応混合物を水に注ぐ。有機相をジクロロメタ
ンで抽出する。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥させる。溶媒を蒸留除去する。トルエン
を用いたシリカゲルのカラムクロマトグラフィにより、生成物を得る。収量8.35g(
92%)。
成物、690mg(2.70mmol)の4,4,5,5−テトラメチル−2−(4,4
,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−1,3,2−ジ
オキサボロラン、5.86g(1.80mmol)の炭酸カリウムを、アルゴンで脱ガス
処理する。1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン)ジクロロパラジウム(
II)を加え、当該反応混合物をアルゴンで脱ガス処理する。当該反応混合物を、80℃
で18時間撹拌する。当該生成物をろ別し、ジメチルホルムアミド(DMF)、水、およ
びメタノールで洗浄する。収量370mg(44%)。
成物、12.16g(47.8mmol)の4,4,5,5−テトラメチル−2−(4,
4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−1,3,2−
ジオキサボロラン、12.5g(0.128mol)の酢酸カリウムを、アルゴンで脱ガ
ス処理する。1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン)ジクロロパラジウム
(II)を加え、当該反応混合物をアルゴンで脱ガス処理する。当該反応混合物を60℃
で22時間撹拌し、塩化ナトリウムの飽和水溶液に注ぐ。水相をテトラヒドロフラン(T
HF)で抽出し、有機相を硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を蒸留除去する。生成物を
ジエチルエーテルおよびシクロヘキサンから結晶化させる。収量3.62g(59%)。
ベンズイミダゾロ[1,2−a]ベンズイミダゾール、ならびに6.92g(3.01m
mol)の三塩基性リン酸カリウム一水和物、27mlのジオキサン、100mlのトル
エン、および21mlの水を、3.20g(7.82mmol)の5−[3−(4,4,
5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)フェニル]ベンズイ
ミダゾロ[1,2−a]ベンズイミダゾールに加える。当該混合物を、アルゴンで脱ガス
処理する。148mg(0.361mmol)の2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2’
,6’−ジメトキシビフェニル(SPhos)および135mg(0.060mmol)
の酢酸パラジウム(II)を加える。当該混合物をアルゴンで脱ガス処理し、アルゴン下
において100℃で22時間撹拌する。110mlの1%シアン化ナトリウム溶液を加え
、当該反応混合物を1時間還流させる。ジクロロメタンを加え、有機相を水で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥させる。生成物をメタノールで煎じる(収量:1.62g(41%
))。
モ−5−フルオロ−ベンゼン、16.3g(78.8mmol)の6H−ベンズイミダゾ
ロ[1,2−a]ベンズイミダゾール、および43.5g(0.315mmol)の炭酸
カリウムを、170℃で17時間撹拌する。当該反応混合物を熱ろ過し、冷却後、母液か
らの沈殿物を濾過する。当該生成物を、水およびエタノールで洗浄し、ジエチルエーテル
およびエタノールで煎じる。収量21.2g(61%)。
ダゾロ[1,2−a]ベンズイミダゾール、ならびに4.15g(3.00mmol)の
炭酸カリウム、27mlのジオキサン、100mlのトルエン、および21mlの水を、
3.20g(7.82mmol)の2−ジベンゾフラン−2−イル−4,4,5,5−テ
トラメチル−1,3,2−ジオキサボロランに加える。当該混合物をアルゴンで脱ガス処
理する。37mg(0.090mmol)の2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2’,6
’−ジメトキシビフェニル(SPhos)および10mg(0.0045mmol)の酢
酸パラジウム(II)を加える。当該反応混合物をアルゴンで脱ガス処理し、アルゴン下
において120℃で19時間撹拌する。110mlの1%シアン化ナトリウム溶液を加え
、当該反応混合物を1時間還流させる。当該溶媒を蒸留除去する。30mlのトルエンを
加え、生成物をろ別し、水およびシクロヘキサンで洗浄し、メチルブチルケトン(MEK
)から結晶化させる。収率1.84g(66%)。
ズイミダゾロ[1,2−a]ベンズイミダゾール、ならびに10.3g(4.26mmo
l)の三塩基性リン酸カリウム一水和物、20mlのジオキサン、80mlのキシレン、
および16mlの水を、2.01g(4.09mmol)の4,4,5,5−テトラメチ
ル−2−[3−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−
イル)フェニル]−1,3,2−ジオキサボロランに加える。当該混合物をアルゴンで脱
ガス処理する。210mg(0.511mmol)の2−ジシクロヘキシルホスフィノ−
2’,6’−ジメトキシビフェニル(SPhos)および191mg(0.085mmo
l)の酢酸パラジウム(II)を加える。当該混合物をアルゴンで脱ガス処理し、アルゴ
ン下において100℃で22時間撹拌する。110mlの1%シアン化ナトリウム溶液を
加え、当該反応混合物を1時間還流させる。ジクロロメタンを加える。有機相を水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥させる。当該生成物をジエチルエーテルで煎じる。収率1.
31(39%)。
施例13に従って調製し、シクロヘキサンからの結晶化により精製する。
0mmol)の炭酸セシウム、1.90g(1.00mmol)のヨウ化銅(I)、およ
び2.30g(20.0mmol)のL−プロリンを、窒素下において、100mlのジ
メチルスルホキシド(DMSO)中における4.56g(22.0mmol)mmol)
の5H−ベンズイミダゾ[1,2−a]ベンズイミダゾールに加える。当該反応混合物を
100℃で24時間撹拌し、ろ過し、ジクロロメタンで洗浄する。有機層を硫酸マグネシ
ウムで乾燥させ、溶媒を蒸留除去する。当該生成物をエーテルから結晶化させる。収量4
.7g(81%)。
997)1348に従って調製し、tert−ブチルメチルエーテル(TBME)からの
結晶化により精製する。
乾燥THFに溶解させ、アルゴン下において−78℃に冷却する。1時間以内に、リチウ
ムジイソプロピルアミド(LDA;250mlの乾燥THF中における81.2ml(0
.219mol)のn−ブチルリチウム(ヘプタン中において2.7M)および20.1
8g(0.199mol)のジイソプロピルアミンから調製する)を加え、温度を−73
℃未満に維持する。得られた黄色溶液を−78℃で2時間撹拌する。次いで、150ml
の乾燥THFに溶解させた50.6g(0.199mol)のヨウ素の溶液を50分以内
に加え、温度を−73℃未満に維持する。得られた茶色溶液を室温まで温め、500ml
の緩衝液(pH=7)に注ぎ、2NのHClでpH=7に中和する。有機溶媒を蒸発させ
、水相を酢酸エチルで3回抽出する。収集した有機層を水で3回洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥させ、ろ過し、溶媒を蒸発させる。シクロヘキサン/TBME=1:1からの2
回の結晶化により、35.0gの2−ブロモ−4−ヨード−ジベンゾフランを得る(収率
:45.6%)。
1に従って調製し、メタノールからの結晶化により精製する。
0号の実施例1に従って調製し、2−プロパノールからの結晶化により精製する。
.75g(5.36mmol)の炭酸セシウム、130mg(0.67mmol)のヨウ
化銅(I)、および150mg(1.34mmol)のL−プロリンを、窒素下において
、20mlのDMSO中における670mg(3.22mmol)の5H−ベンズイミダ
ゾ[1,2−a]ベンズイミダゾールに加える。当該反応混合物を、100℃で18時間
撹拌し、ろ過する。THFおよびトルエンを有機相に加え、当該有機相を水で洗浄する。
有機層を硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を蒸留除去する。当該生成物は、さらなる精
製を行わずに工程b)において使用することができる(収量=650mg(78%))。
S(APCI(正イオン)、m/z):615.5(M+1)。
ル)フェニル]カルバゾールの合成については、Chem.Mater.20(2008
)1691−1693に記載されている。実施例21の生成物を、実施例5において説明
した手順と同様にして調製する。
cal Research,Miniprint 10(1999)2501に従って調製
し、メタノールからの結晶化により精製する。
)から出発して、実施例11において説明した手順と同様にして調製し、2−プロパノー
ルからの結晶化によって精製する(収率:80%)。
g(32.2mmol)の炭酸セシウム、2.36g(12.4mmol)ヨウ化銅(I
)、および2.85g(24.7mmol)のL−プロリンを、窒素下において、80m
lのDMSO中における5.13g(24.7mmol)mmol)の5H−ベンズイミ
ダゾ[1,2−a]ベンズイミダゾールに加える。当該反応混合物を、100℃で15時
間および150℃で4時間撹拌し、ジクロロメタンによりHyfloにおいてろ過する。
有機相を水で洗浄する。当該有機相を硫酸マグネシウムで乾燥させる。生成物をジエチル
エーテルおよびメチルエチルケトン(MEK)で煎じる。収量:2.90g(77%)。
する。
。
S(APCI(正イオン)、m/z):615(M+1)。
6g(16.2mmol)の炭酸セシウム、190mg(0.101mmol)ヨウ化銅
(I)、および233mg(2.02mmol)のL−プロリンを、窒素下において、4
0mlのDMSO中における1.84g(8.89mmol)の5H−ベンズイミダゾ[
1,2−a]ベンズイミダゾールに加える。当該反応混合物を150℃で10時間撹拌し
、Hyflo Super Cel(登録商標)媒体(Fluka 56678、CAS[
91053−39−3])においてろ過し、ジクロロメタンで洗浄する。有機相を硫酸マ
グネシウムで乾燥させ、溶媒を蒸留除去する。シクロヘキサン/トルエン(シクロヘキサ
ン100%、シクロヘキサン/トルエン(10/1)、シクロヘキサン/トルエン(4/
1))による勾配カラムクロマトグラフィにより、生成物を得る(収量:70mg(3%
))。MS(APCI(正イオン)、m/z):654(M+1)。
する。4H−[1,2,4]トリアゾロ[1,5−a]ベンズイミダゾールの合成および
その合成のために使用される出発材料に関しては、J.Heterocyclic Co
mpounds(1989)168およびJ.Org.Chem 42(1977)54
2を参照されたい。MS(MALDI−MS(、m/z):403(M+1)。
る。
ズイミダゾール、20,6g(63,2mmol)の炭酸セシウム、1,5g(7.9m
mol)ヨウ化銅(I)、および910mg(7.9mmol)のL−プロリンを、窒素
下において、60mLのDMSO中における17.8g(8mL)(63.2mmol)
の1−ブロモ−3−ヨードベンゼンに加える。当該反応混合物を、85℃で15時間撹拌
する。当該反応混合物を、ジクロロメタンを用いてシリカゲルによりろ過する。有機相を
水、NaCl溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させる。生成物をジエチルエーテル
で煎じる(収量:8.0g(80%))。
ニル)−[1,2,4]トリアゾロ[1,5−a]ベンズイミダゾール、2,4g(5,
2mmol)の9−[8−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロ
ラン−2−イル)ジベンゾフラン−2−イル]カルバゾール、および4.3g(20mm
ol)リン酸カリウムを、アルゴン下において、ジオキサン/水40mL/10mL中に
おける90mg(0.03mmol)の酢酸パラジウム(II)、100mg(0.24
mmol)の2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2,6−ジメトキシビフェニル(SPh
os)に加える。当該反応混合物を85℃で15時間撹拌し、ジクロロエタンを用いてセ
ライトによりろ過する。有機相を水、NaCl溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させ
る(収量:1.75g(77%))。
ンゼンおよび170mg(1.06mmol)の4H−[1,2,4]トリアゾロ[1,
5−a]ベンズイミダゾールを、アルゴン下において15分間撹拌する。625mg(1
.9mmol)の炭酸セシウム、120mg(1.06mmol)のL−プロリン、およ
び90mg(0.48mmol)のヨウ化銅(I)を加える。当該反応混合物を100℃
で15時間撹拌し、ジクロロエタンを用いてセライトによりろ過する。有機相を水、Na
Cl溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させる。生成物をイソプロパノールから結晶化
させる(収量:130mg(69%))。
ランおよび840mg(5.3mmol)の4H−[1,2,4]トリアゾロ[1,5−
a]ベンズイミダゾールを、アルゴン下において、15分間撹拌する。3.1gmg(9
.6mmol)の炭酸セシウム、550mg(4.8mmol)のL−プロリン、および
460mg(2.4mmol)のヨウ化銅(I)を加える。茶色の反応混合物を100℃
で15時間撹拌する。当該反応混合物に水を加え、ろ過し、メタノールで洗浄する。生成
物をトルエンから結晶化させる(収量:330mg(28%))。
9−(9H−カルバゾール−3−イル)−9H−カルバゾールを、文献の手順(J.O
rg.Chem,2008,73,1809)に従って調製する。
iO2、シクロヘキサン/CH2Cl2(4:1)。収率:85%。
,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)フェニル]ベ
ンズイミダゾロ[1,2−a]ベンズイミダゾール(133mg、0.33mmol)、
ジオキサン(5mL)中における実施例24a)の生成物(144mg、0.25mmo
l)、およびNaOH(3M、0.25mL)の、脱ガス処理(Ar)した混合物に加え
る。当該反応混合物を、80℃で8時間加熱し、セライトによりろ過し、FC(SiO2
、CH2Cl2)により、生成物を得る(収量:50mg、26%)。
ITO基板の準備ならびにその後の完成したダイオードの特性評価は、以下の層の組成
物が異なっていることを除いて、適用実施例1と同じである。
板に適用し、導電性を向上させるために、最初の10nmにMoO3(約10%)をドー
プする。続いて、30質量%の発光体化合物:
続いて、化合物A−10を、正孔ブロッカーとして、蒸着により、厚さ5nmで被着させ
る。続いて、50質量%の材料:
子注入層として被着し、100nm厚のAl電極によりデバイスを完成させる。
OLEDの製造および構成は、以下を除き、適用実施例3と同じである。正孔輸送層に
おけるIr(dpbic)3中へのMoO3のドーピング濃度は、5質量%である。発光層
は、30質量%の化合物:
ある
OLEDの製造および構成は、以下を除いて、適用実施例3と同じである。MoO3お
よびIr(dpbic)3を有する正孔輸送層は15nmであり、非ドープ電子ブロッカ
ーのIr(dpbic)3は、5nm厚のみである。発光層は、30質量%の化合物:
OLEDの製造および構成は、以下を除いて、適用実施例3と同じである。発光層は、
30質量%の化合物:
OLEDの製造および構成は、以下を除いて、適用実施例4と同じである。発光層は、
30質量%の化合物:
適用比較例3
OLEDの製造および構成は、以下を除いて、適用実施例1と同じである。発光層は、
30質量%の化合物:
OLEDの製造および構成は、以下を除いて、適用実施例3と同じである。発光層は、
30質量%の化合物:
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