JP6698632B2 - 高空隙率のセリウム及びジルコニウム含有酸化物 - Google Patents

高空隙率のセリウム及びジルコニウム含有酸化物 Download PDF

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Description

本発明は高空隙率のセリウム及びジルコニウム含有酸化物に関する。
定義によれば、触媒は、化学反応が平衡状態へと近づく速度を選択的に変化させるがこの平衡状態を変化はしない。触媒は、原料物質が新たな生成物を製造するために利用される効率を高めるために、また、汚染制御の場合のように物質破壊の速度を高めるために日常的に使用されている。基本的には、触媒はその活性、選択性及び耐久性により特徴づけられる。触媒がその高い活性及び選択性を維持するためには、活性部位が高度に分散されていて活性部位シンタリングに抵抗性であることが望ましい。これが達成されるためには、活性物質は通常、厳しい使用条件及びエージング条件の下でさえもその完全性を一定に維持する基材の無機表面において、分散及び係留のうち少なくともいずれか一方がなされる。更に、これらの活性部位支持体表面も、所望される反応のある一定の局面において関与又は増強を為す。従って、これらの支持体表面は、該表面が助触媒になりうるという点で機能的に活性な支持体表面と考えられる。主要な活性物質が反応に直接関与するのに対し、上記の助触媒は活性物質の性能を改変及び改善する。これらの支持体及び助触媒のうち少なくともいずれか一方の特性は、触媒の有効性において重要な役割を果たす。先述のように、それらは活性要素部位を分散させるための安定な表面を提供するだけでなく、その安定性が、分散度を維持しかつ上記活性部位の活性を増強又は改変する助けとなる。加えて、これらの支持体の空隙率は、反応物が活性部位に対して接近及び離隔する物質移動の増強又は妨害において重要な役割を果たす。したがって、支持体は前記触媒の活性及び選択性に影響を及ぼす。本発明の目的は、表面積、耐久性及び空隙率の特性が強化されたそのような機能性支持体について述べることである。
酸化セリウムは、自動車排気触媒作用として長く認識され、また、水性ガス転化反応すなわち、
CO + HO → CO + HO (1)
の有効な触媒としても長く認識されてきた。加えて、酸化セリウムは、ガスセンサ、固体酸化物燃料電池用の電極、酸素ポンプ及びアンペロメトリック酸素モニタにおける有効な材料成分である。これらすべての適用において、セリウムの酸化還元反応特性は重要な役割を果たす。
2CeO ⇔ Ce + 1/2O (2)
CeO粒子の表面上における酸素又は酸素空孔の移動は比較的容易であるが、バルク酸素に関してはそうではない。その結果、上記反応へのバルク酸素の関与はかなり限定される。酸化セリウム(IV)の格子の中へのジルコニウム、又は酸化ジルコニウムの格子の中へのセリウムの導入は、酸素の移動度を増強かつ促進する。この事実は、セリウム及びジルコニウム酸化物(CeO−ZrO)を含有する材料がウォッシュコート成分として遍く使用されている自動車排気汚染制御触媒産業により容易に適応されてきた。セリウム及びジルコニウム酸化物を含有する材料であって、物質移動のために許容される時間が比較的長い定常状態の条件下においてその系の表面及びバルク酸素への接近容易性が非常に高い(物質移動抵抗性が低い)材料が開発されてきた。しかしながら、ストリームの分子組成が急速に変化し、かつ反応速度がかなり速いことを要求される状況においては、上記の系は不完全である。すなわち、酸素全体の収容能力及び利用可能性は高いものの、この酸素が活性中心に対して接近及び離隔するように移動される速度はかなり低い(物質移動が制限される)。
セリウム及びジルコニウム酸化物(CeO−ZrO)系材料はまた、触媒の活性を増強して高いターンオーバー数をもたらすために活性金属触媒を分散させるための支持体として、触媒反応の適用においても使用されてきた。これについて該支持体は、高温及び熱水環境のような厳しい作動条件であっても活性金属触媒の高分散状態を維持する際に重要な役割を果たす。厳しい条件下ではその構造的完全性を維持できない支持体は、活性触媒金属部位の内包又はシンタリングをもたらし、その結果として1分子当たりでの触媒の活性を減少させる可能性がある。これらの触媒の多くは、白金、パラジウム及びロジウムのうち少なくともいずれかのような高価な貴金属を利用するので、触媒金属活性の損失は、所望の触媒活性を維持するために高い貴金属装荷量を使用することを必要とするそのような触媒のコストに直接影響を及ぼす。これに沿えば、構造的に安定な支持体の使用は、触媒活性を維持又は改善すると同時に貴金属使用を低減することを可能にする。
支持体の安定な表面を維持するための上述の必要条件以上に、該表面がさらに活性金属の分散のために可能な限り大きい表面積を有することも必要とされる。すなわち、支持体の構造的完全性が維持される必要があるだけではなく、大きな表面積が維持される必要もある。そのような大きくかつ安定した表面積の提供により、金属の活性及び活性支持体の機能性が維持される。
触媒部位の活性には関係なく、活性部位への反応物の容易な分子輸送と、さらなる反応のために活性部位を利用可能にする活性部位からの反応生成物の輸送は、非常に重要である。触媒選択性を考慮しない場合には、支持体は広く開口した細孔構造であることが望ましい。反応する分子又は生成物の選択性が望まれる場合には、所望の反応物だけが活性部位に到達することを可能とし所望の生成物だけが活性部位から離れることを可能にする、人為設計された多孔性が必要である。例えば、この種の機能は良く知られておりゼオライト材料とともに利用される。したがって、特定の細孔構造を備えた材料は、所望の反応の種類によっては有益である。
セリウム及びジルコニウム酸化物(CeO−ZrO)系材料の生成のための様々な合成方法が報告されてきた。その中でも数例を挙げると、共沈法、熱水法、マイクロエマルジョン法、ゾル−ゲル法、溶液燃焼法、電気化学法、固相反応法、メカノケミカル法、化学蒸着法及びスパッタリング法である。これらはいずれも、それを使用する適用に応じた特有の利点を備えていることが報告されている。例えば共沈法は、典型的には、120m/gもの広い表面積及び約0.73cm/gの細孔容積を備えたナノ結晶の(100nm以下の)セリウム及びジルコニウム酸化物系材料を生成する。酸化セリウム以外の追加の希土類酸化物を備えたいくつかのセリウム及びジルコニウム系材料が生成されているが、これらは表面積の安定性に限界がある。
したがって、本研究の目的は、上記の必須の特性を満たすセリウム及びジルコニウム酸化物(CeO−ZrO)系材料について述べることである。すなわち、触媒/触媒支持体であって、高表面積を有し、厳しいエージング条件下での安定な結晶学的特性を備えて大気下並びに熱水及び酸化還元反応条件下において安定な表面を有し、高い細孔容積を備え、選択的多孔性を有し、より低い温度での高い酸化還元反応活性を備え、かつ低い物質移動抵抗性を備えた高く安定した空隙率を有し、かつ、高い動的酸素吸放出特性を有するものである。
本開示は概して、高温の空気、熱水及び酸化還元反応の条件下のような厳しいエージング条件にさらされた時に安定な表面を有する高表面積を備えた、主成分としてセリウム及びジルコニウムを含んでなる触媒/触媒支持体に関する。これらはさらに、厳しいエージング条件下での安定な結晶学的特性と、高い細孔容積を備え、選択的多孔性を有し、より低い温度での高い酸化還元反応活性を備え、かつ低い物質移動抵抗性を備えた高く安定した空隙率と、高い動的酸素吸放出特性とを有している。
ここで見出されたのは、セリウム及びジルコニウムを主成分として含んでなる水酸化物を含有している水の脱水の際、注意深く選択された温度及び圧力条件を含む特異的合成条件の場合、触媒/触媒支持体の所望の特性を有する酸化物が生じるということである。すなわちそれらは、高温の空気、熱水及び酸化還元反応の条件下のような厳しいエージング条件にさらされた時に安定な表面を有する高表面積を備えている。これらはさらに、厳しいエージング条件下での安定な結晶学的特性と、高い細孔容積を備え、選択的多孔性を有し、より低い温度での高い酸化還元反応活性を備え、かつ低い物質移動抵抗性を備えた高く安定した空隙率と、高い動的酸素吸放出特性とを有している。
いくつかの実施形態によれば、組成物は酸化ジルコニウム及び酸化セリウムを含むことができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化セリウム以外の1以上の他の希土類酸化物を含有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化セリウム及び酸化イットリウム以外の1以上の他の酸化物を含有することができる。
いくつかの実施形態によれば、組成物は、約0.65cc/g(約0.65cm/g)以上、約0.71cc/g(約0.71cm/g)以上、約0.85cc/g(約0.85cm/g)以上、約0.99cc/g(約0.99cm/g)以上、約1.00cc/g(約1.00cm/g)以上、約1.07cc/g(約1.07cm/g)以上、約1.11cc/g(約1.11cm/g)以上、約1.17cc/g(約1.17cm/g)以上、約1.30cc/g(約1.30cm/g)以上、約1.33cc/g(約1.33cm/g)以上、約1.40cc/g(約1.40cm/g)以上、約1.43cc/g(約1.43cm/g)以上、約1.46cc/g(約1.46cm/g)以上、約1.58cc/g(約1.58cm/g)以上、約1.67cc/g(約1.67cm/g)以上、約1.96cc/g(約1.96cm/g)以上、約2.00cc/g(約2.00cm/g)以上、約2.20cc/g(約2.20cm/g)以上、約2.33cc/g(約2.33cm/g)以上、約2.60cc/g(約2.60cm/g)以上、約3.00cc/g(約3.00cm/g)以上、及び約3.23cc/g(約3.23cm/g)以上のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、全細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上、約0.71cc/g以上、約0.85cc/g以上、約0.99cc/g以上、約1.00cc/g以上、約1.07cc/g以上、約1.11cc/g以上、約1.17cc/g以上、約1.30cc/g以上、約1.33cc/g以上、約1.40cc/g以上、約1.43cc/g以上、約1.46cc/g以上、約1.58cc/g以上、約1.67cc/g以上、約1.96cc/g以上、約2.00cc/g以上、約2.20cc/g以上、約2.33cc/g以上、約2.60cc/g以上、約3.00cc/g以上、約3.23cc/g以上、及びこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、全細孔容積を有することができる。典型的には、組成物は、約0.7〜約3.5cc/g、より典型的には約0.65〜約3.20cc/gの全細孔容積を有することができる。
いくつかの実施形態によれば、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼(calcination)の後に、約250μmol/g以上、約287μmol/g以上、約600μmol/g以上、約654μmol/g以上、約900μmol/g以上、約954μmol/g以上、約966μmol/g以上、約967μmol/g以上、約1000μmol/g以上、約1006μmol/g以上、約1022μmol/g以上、又は約1163μmol/g以上、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、昇温還元による水素取込み量(a hydrogen thermal program reduction uptake )を有することができる。いくつかの実施形態によれば、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に、約250μmol/g以上、約287μmol/g以上、約600μmol/g以上、約654μmol/g以上、約900μmol/g以上、約954μmol/g以上、約966μmol/g以上、約967μmol/g以上、約1000μmol/g以上、約1006μmol/g以上、約1022μmol/g以上、約1163μmol/g以上、及びこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、昇温還元による水素取込み量を有することができる。典型的には、組成物は、10時間の摂氏約1000度での仮焼の後に、約200〜約1,500μmol/g、より典型的には約250〜約1,200μmol/gの昇温還元による水素取込み量を有することができる。
いくつかの実施形態によれば、組成物は、10時間の摂氏約1000度での仮焼の後に、約0.54又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.55又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.58又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.59又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.67又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、及び約0.99又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、昇温還元による水素取込み量を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の約1000度での仮焼の後に、約0.54又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.55又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.58又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.59又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.67又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.99又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、及びこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、昇温還元による水素取込み量を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏約1000度での仮焼の後に、約0.5〜約1.1のH消費量/CeOのモル比の、昇温還元による水素取込み量を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に、約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の、昇温還元による水素取込み量を有することができる。
いくつかの実施形態によれば、組成物は、10時間の摂氏約1000度での仮焼の後に、約0.54又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.55又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.58又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.59又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.67又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、及び約0.99又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、昇温還元による水素取込み量を有することができる。いくつかの実施形態によれば、組成物は、10時間の摂氏約1000度での仮焼の後に、約0.54又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.55又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.58又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.59又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.67又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.99又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、及びこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、昇温還元による水素取込み量を有することができる。
いくつかの実施形態によれば、組成物は、10時間の摂氏1100度での仮焼の後に、約250μmol/g以上、約287μmol/g以上、約600μmol/g以上、約654μmol/g以上、約900μmol/g以上、約954μmol/g以上、約966μmol/g以上、約967μmol/g以上、約1100μmol/g以上、約1006μmol/g以上、約1022μmol/g以上、又は約1163μmol/g以上、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、昇温還元による水素取込み量を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1100度での仮焼の後に、約250μmol/g以上、約287μmol/g以上、約600μmol/g以上、約654μmol/g以上、約900μmol/g以上、約954μmol/g以上、約966μmol/g以上、約967μmol/g以上、約1100μmol/g以上、約1006μmol/g以上、約1022μmol/g以上、約1163μmol/g以上、及びこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、昇温還元による水素取込み量を有することができる。典型的には、組成物は、10時間の摂氏約1100度での仮焼の後に、約200〜約1,500μmol/g、より典型的には約250〜約1,200μmol/gの、昇温還元による水素取込み量を有することができる。
いくつかの実施形態によれば、組成物は、10時間の摂氏約1100度での仮焼の後に、約0.54又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.55又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.58又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.59又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.67又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、及び約0.99又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、昇温還元による水素取込み量を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の約1100度での仮焼の後に、約0.54又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.55又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.58又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.59又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.67又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.99又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、及びこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、昇温還元による水素取込み量を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏約1100度での仮焼の後に、約0.5〜約1.1のH消費量/CeOのモル比の、昇温還元による水素取込み量を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1100度での仮焼の後に、約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の、昇温還元による水素取込み量を有することができる。
いくつかの実施形態によれば、組成物は、10時間の摂氏約1100度での仮焼の後に、約0.54又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.55又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.58又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.59又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.67又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、及び約0.99又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、昇温還元による水素取込み量を有することができる。いくつかの実施形態によれば、組成物は、10時間の摂氏約1100度での仮焼の後に、約0.54又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.55又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.58又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.59又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.67又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.99又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、及びこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、昇温還元による水素取込み量を有することができる。
いくつかの実施形態によれば、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に、約250μmol/g以上、約287μmol/g以上、約600μmol/g以上、約654μmol/g以上、約900μmol/g以上、約954μmol/g以上、約966μmol/g以上、約967μmol/g以上、約1200μmol/g以上、約1006μmol/g以上、約1022μmol/g以上、又は約1163μmol/g以上、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、昇温還元による水素取込み量を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に、約250μmol/g以上、約287μmol/g以上、約600μmol/g以上、約654μmol/g以上、約900μmol/g以上、約954μmol/g以上、約966μmol/g以上、約967μmol/g以上、約1200μmol/g以上、約1006μmol/g以上、約1022μmol/g以上、約1163μmol/g以上、及びこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、昇温還元による水素取込み量を有することができる。典型的には、組成物は、10時間の摂氏約1200度での仮焼の後に、約200〜約1,500μmol/g、より典型的には約250〜約1,200μmol/gの、昇温還元による水素取込み量を有することができる。
いくつかの実施形態によれば、組成物は、10時間の摂氏約1200度での仮焼の後に、約0.54又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.55又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.58又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.59又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.67又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、及び約0.99又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、昇温還元による水素取込み量を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の約1200度での仮焼の後に、約0.54又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.55又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.58又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.59又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.67又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.99又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、及びこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、昇温還元による水素取込み量を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏約1200度での仮焼の後に、約0.5〜約1.1のH消費量/CeOのモル比の、昇温還元による水素取込み量を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に、約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の、昇温還元による水素取込み量を有することができる。
いくつかの実施形態によれば、組成物は、10時間の摂氏約1200度での仮焼の後に、約0.54又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.55又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.58又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.59又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.67又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、及び約0.99又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、昇温還元による水素取込み量を有することができる。いくつかの実施形態によれば、組成物は、10時間の摂氏約1200度での仮焼の後に、約0.54又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.55又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.58又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.59又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.67又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.99又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、及びこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、昇温還元による水素取込み量を有することができる。
いくつかの実施形態によれば、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約2.4m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約2.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約3.6m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約3.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.0m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.1m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.5m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.6m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約5.3m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約26m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約28m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約29m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約53m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約54m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約58m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上、及び酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約63m/g、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約約1.9m/g、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約2.4m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約2.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約3.6m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約3.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.0m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.1m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.5m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.6m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約5.3m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に24m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約26m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約28m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約29m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約53m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約54m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約58m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約63m/g以上、及びこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.0〜約6.0m/gの、1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.9〜約5.2m/gの、1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.0〜約6.0m/gの、1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.9〜約5.2m/gの、1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約20m/g〜約30m/gの、1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g〜約29m/gの、1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約45m/g〜約70m/gの、1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g〜約65m/gの、1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は2.00cc/g以上の全細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は1.30cc/g以上の全細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に0.65cc/g以上の全細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に1.00cc/g以上の全細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に1.4cc/g以上の全細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は2.00cc/g以上又は1.30cc/g以上のうち一方の全細孔容積を有することが可能であり、かつ、該組成物に含有される1以上の他の希土類酸化物は、酸化ランタンと、酸化イットリウム及び酸化ネオジムのうち一方又は両方とであってよい。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に、0.65cc/g以上、1.00cc/g以上、1.4cc/g以上のうち1つの全細孔容積を有することが可能であり、かつ、1以上の他の希土類酸化物は、酸化ランタンと、酸化イットリウム及び酸化ネオジムのうち一方又は両方とであってよい。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.6〜約2.00cc/gの全細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.65〜約2.00cc/gの全細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.6〜約2.00cc/gのうち1つの全細孔容積を有することが可能であり、かつ、該組成物に含有される1以上の他の希土類酸化物は、酸化ランタンと、酸化イットリウム及び酸化ネオジムのうち一方又は両方とであってよい。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.6〜約2.00cc/gの全細孔容積を有することが可能であり、かつ、組成物に含有される1以上の他の希土類酸化物は、酸化ランタンと、酸化イットリウム及び酸化ネオジムのうち一方又は両方とであってよい。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65〜約2.00cc/gのうち1つの全細孔容積を有することが可能であり、かつ、該組成物に含有される1以上の他の希土類酸化物は、酸化ランタンと、酸化イットリウム及び酸化ネオジムのうち一方又は両方とであってよい。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.65〜約2.00cc/gの全細孔容積を有することが可能であり、かつ、組成物に含有される1以上の他の希土類酸化物は、酸化ランタンと、酸化イットリウム及び酸化ネオジムのうち一方又は両方とであってよい。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に0.65cc/g以上の全細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に1.00cc/g以上の全細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に1.4cc/g以上の全細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、2.00cc/g以上又は1.30cc/g以上のうち一方の全細孔容積を有することが可能であり、かつ、該組成物に含有される1以上の他の希土類酸化物は、酸化ランタンと、酸化イットリウム及び酸化ネオジムのうち一方又は両方とであってよい。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に、0.65cc/g以上、1.00cc/g以上、1.4cc/g以上のうち1つの全細孔容積を有することが可能であり、かつ、1以上の他の希土類酸化物は、酸化ランタンと、酸化イットリウム及び酸化ネオジムのうち一方又は両方とであってよい。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約0.6〜約2.00cc/gの全細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約0.65〜約2.00cc/gの全細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.6〜約2.00cc/gのうち1つの全細孔容積を有することが可能であり、かつ、該組成物に含有される1以上の他の希土類酸化物は、酸化ランタンと、酸化イットリウム及び酸化ネオジムのうち一方又は両方とであってよい。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に、約0.6〜約2.00cc/gの全細孔容積を有することが可能であり、かつ、組成物に含有される1以上の他の希土類酸化物は、酸化ランタンと、酸化イットリウム及び酸化ネオジムのうち一方又は両方とであってよい。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65〜約2.00cc/gのうち1つの全細孔容積を有することが可能であり、かつ、該組成物に含有される1以上の他の希土類酸化物は、酸化ランタンと、酸化イットリウム及び酸化ネオジムのうち一方又は両方とであってよい。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に、約0.65〜約2.00cc/gの全細孔容積を有することが可能であり、かつ、組成物に含有される1以上の他の希土類酸化物は、酸化ランタンと、酸化イットリウム及び酸化ネオジムのうち一方又は両方とであってよい。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に0.65cc/g以上の全細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に1.00cc/g以上の全細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に1.4cc/g以上の全細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、2.00cc/g以上又は1.30cc/g以上のうち一方の全細孔容積を有することが可能であり、かつ、該組成物に含有される1以上の他の希土類酸化物は、酸化ランタンと、酸化イットリウム及び酸化ネオジムのうち一方又は両方とであってよい。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に、0.65cc/g以上、1.00cc/g以上、1.4cc/g以上のうち1つの全細孔容積を有することが可能であり、かつ、1以上の他の希土類酸化物は、酸化ランタンと、酸化イットリウム及び酸化ネオジムのうち一方又は両方とであってよい。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.6〜約2.00cc/gの全細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.65〜約2.00cc/gの全細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.6〜約2.00cc/gのうち1つの全細孔容積を有することが可能であり、かつ、該組成物に含有される1以上の他の希土類酸化物は、酸化ランタンと、酸化イットリウム及び酸化ネオジムのうち一方又は両方とであってよい。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に、約0.6〜約2.00cc/gの全細孔容積を有することが可能であり、かつ、組成物に含有される1以上の他の希土類酸化物は、酸化ランタンと、酸化イットリウム及び酸化ネオジムのうち一方又は両方とであってよい。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65〜約2.00cc/gのうち1つの全細孔容積を有することが可能であり、かつ、該組成物に含有される1以上の他の希土類酸化物は、酸化ランタンと、酸化イットリウム及び酸化ネオジムのうち一方又は両方とであってよい。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に、約0.65〜約2.00cc/gの全細孔容積を有することが可能であり、かつ、組成物に含有される1以上の他の希土類酸化物は、酸化ランタンと、酸化イットリウム及び酸化ネオジムのうち一方又は両方とであってよい。
いくつかの実施形態によれば、以下のうち2以上が組成物について真であることができる。すなわち、組成物は、約0.65cc/g以上、約0.71cc/g以上、約0.85cc/g以上、約0.99cc/g以上、約1.00cc/g以上、約1.07cc/g以上、約1.11cc/g以上、約1.17cc/g以上、約1.30cc/g以上、約1.33cc/g以上、約1.40cc/g以上、約1.43cc/g以上、約1.46cc/g以上、約1.58cc/g以上、約1.67cc/g以上、約1.96cc/g以上、約2.00cc/g以上、約2.20cc/g以上、約2.33cc/g以上、約2.60cc/g以上、約3.00cc/g以上、若しくは約3.23cc/g以上、及びこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの全細孔容積を有することができる。そして、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に、約250μmol/g以上、約287μmol/g以上、約600μmol/g以上、約654μmol/g以上、約900μmol/g以上、約954μmol/g以上、約966μmol/g以上、約967μmol/g以上、約1000μmol/g以上、約1006μmol/g以上、約1022μmol/g以上、又は約1163μmol/g以上、及びこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの昇温還元による水素取込み量を有することができる。そして、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約2.4m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約2.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約3.6m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約3.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.0m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.1m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.5m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.6m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約5.3m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約26m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約28m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約29m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約53m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約54m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約58m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上、又は酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約63m/g以上、及びこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。
いくつかの実施形態によれば、以下のうち2以上が組成物について真であることができる。すなわち、組成物は、約0.65cc/g以上、約0.71cc/g以上、約0.85cc/g以上、約0.99cc/g以上、約1.00cc/g以上、約1.07cc/g以上、約1.11cc/g以上、約1.17cc/g以上、約1.30cc/g以上、約1.33cc/g以上、約1.40cc/g以上、約1.43cc/g以上、約1.46cc/g以上、約1.58cc/g以上、約1.67cc/g以上、約1.96cc/g以上、約2.00cc/g以上、約2.20cc/g以上、約2.33cc/g以上、約2.60cc/g以上、約3.00cc/g以上、若しくは約3.23cc/g以上、及びこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの全細孔容積を有することができる。そして、組成物は、10時間の摂氏1000度(並びに摂氏1100度及び/又は摂氏1200度のうち少なくともいずれか)での仮焼の後に、約0.54又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.55又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.58又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.59又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.67又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、約0.99又はそれ以上のH消費量/CeOのモル比、及びこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの昇温還元による水素取込み量モル比を有することができる。そして、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約2.4m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約2.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約3.6m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約3.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.0m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.1m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.5m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.6m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約5.3m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約26m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約28m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約29m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約53m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約54m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約58m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上、及び酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約63m/g以上、並びにこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。
いくつかの実施形態によれば、以下のうち2以上が組成物について真であることができる。すなわち、組成物は、約0.7〜約3.5cc/g及び約0.65〜約3.20cc/gcc/gのうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの全細孔容積を有することができる。そして、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に、約0.5〜約1.1のH消費量/CeOのモル比及び約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの昇温還元による水素取込み量を有することができる。そして、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.0〜約6.0m/g、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.9〜約5.2m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約20m/g〜約30m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g〜約29m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約45m/g〜約70m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度の仮焼の後に約50m/g〜約65m/g、及びこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。
いくつかの実施形態によれば、以下のうち2以上が組成物について真であることができる。すなわち、組成物は、約0.7〜約3.5cc/g及び約0.65〜約3.20cc/gcc/gのうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、全細孔容積を有することができる。そして、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に、約200〜約1,500μmol/g、より典型的には約250〜約1,200μmol/g、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの昇温還元による水素取込み量を有することができる。そして、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.0〜約6.0m/g、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.9〜約5.2m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約20m/g〜約30m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g〜約29m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約45m/g〜約70m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度の仮焼の後に約50m/g〜約65m/g、及びこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。
いくつかの実施形態によれば、以下のうち2以上が組成物について真であることができる。すなわち、組成物は、約0.65cc/g以上、約0.71cc/g以上、約0.85cc/g以上、約0.99cc/g以上、約1.00cc/g以上、約1.07cc/g以上、約1.11cc/g以上、約1.17cc/g以上、約1.30cc/g以上、約1.33cc/g以上、約1.40cc/g以上、約1.43cc/g以上、約1.46cc/g以上、約1.58cc/g以上、約1.67cc/g以上、約1.96cc/g以上、約2.00cc/g以上、約2.20cc/g以上、約2.33cc/g以上、約2.60cc/g以上、約3.00cc/g以上、又は約3.23cc/g以上、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの全細孔容積を有することができる。そして、組成物は、約250μmol/g以上、約287μmol/g以上、約600μmol/g以上、約654μmol/g以上、約900μmol/g以上、約954μmol/g以上、約966μmol/g以上、約967μmol/g以上、約1000μmol/g以上、約1006μmol/g以上、約1022μmol/g以上、又は約1163μmol/g以上、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの昇温還元による水素取込み量を有することができる。そして、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約2.4m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約2.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約3.6m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約3.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.0m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.1m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.5m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.6m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約5.3m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約26m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約28m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約29m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約53m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約54m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約58m/g以上、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上、及び酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約63m/g以上、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択される、のうち少なくともいずれかの1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.0〜約6.0m/g、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.9〜約5.2m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に20m/g〜約30m/gから選択される1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g〜約29m/gから選択される1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度(及び摂氏1200度のうち少なくともいずれか一方)での仮焼の後に約45m/g〜約70m/gから選択される1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度(並びに摂氏1100度及び/又は摂氏1200度のうち少なくともいずれか)での仮焼の後に約50m/g〜約65m/gから選択される1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上及び2.00cc/g以上のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、全細孔容積と、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約2.4m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約2.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約3.6m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約3.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.0m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.1m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.5m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.6m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約5.3m/g以上、及びこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.3cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約2.4m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約2.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約3.6m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約3.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.0m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.1m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.5m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.6m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約5.3m/g以上、及びこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.0〜約6.0m/g、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.9〜約5.2m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約20m/g〜約30m/gから選択される1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g〜約29m/gから選択される1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約45m/g〜約70m/gから選択される1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g〜約65m/gから選択される1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約2.4m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約2.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約3.6m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約3.9m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.0m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.1m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.5m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約4.6m/g以上、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約5.3m/g以上、及びこれらの組み合わせ、のうち1以上を含んでなるか、前記で構成されている群から選択されるか、前記で本質的に構成されている群から選択されるか、のうち少なくともいずれかの、1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.0〜約6.0m/g、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.9〜約5.2m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に20m/g〜約30m/gから選択される1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g〜約29m/gから選択される1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約45m/g〜約70m/gから選択される1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g〜約65m/gから選択される1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.0〜約6.0m/g、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.9〜約5.2m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約20m/g〜約30m/gから選択される1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g〜約29m/gから選択される1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約45m/g〜約70m/gから選択される1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g〜約65m/gから選択される1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.0〜約6.0m/g、酸化性環境における10時間又はそれ以上の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.9〜約5.2m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約20m/g〜約30m/gから選択される1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g〜約29m/gから選択される1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約45m/g〜約70m/gから選択される1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g〜約65m/gから選択される1以上のBET及び見かけ表面積を有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約600μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約1000μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.55以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.58以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.59以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.67以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.99以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約600μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約1000μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.55以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.58以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.59以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.67以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.99以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約600μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約1000μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.55以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.58以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.59以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.67以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.99以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約0.65cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約0.65cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約600μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約0.65cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約1000μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.55以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.58以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.59以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.67以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.99以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約250μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約600μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約1000μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.54以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.55以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.58以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.59以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.67以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.99以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約250μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約600μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約1000μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.54以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.55以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.58以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.59以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.67以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.99以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約250μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約600μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約1000μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.54以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.55以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.58以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.59以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.67以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.99以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約0.65cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約250μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約0.65cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約600μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約0.65cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約1000μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.54以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.55以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.58以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.59以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.67以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.99以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1100度及び1200度のうち少なくともいずれか一方での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約600μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約1000μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.55以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.58以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.59以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.67以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.99以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約600μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約1000μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.55以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.58以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.59以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.67以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.99以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約600μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約1000μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.55以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.58以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.59以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.67以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.99以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約600μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約1000μmol/g以上の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.55以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.58以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.59以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.67以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.99以上のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の水素昇温還元(hydrogen thermal program reduction)と、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、約の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約3.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約2.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.30cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の水素昇温還元(hydrogen thermal program reduction)と、約0.65cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、約の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.00cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約250、600又は1000μmol/g以上のうちの1つの昇温還元による水素取込み量と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54、0.55、0.58、0.59、0.67、0.99以上のうちの1つのH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約50m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約55m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約60m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約24m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、10時間の摂氏1200度での仮焼の後に約0.54〜約0.99のH消費量/CeOのモル比の昇温還元による水素取込み量と、約1.40cc/g以上の全細孔容積と、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に約27m/g以上の1以上のBET及び見かけ表面積とを有することができる。
いくつかの実施形態によれば、組成物は1以上の他の希土類酸化物を含有することができる。いくつかの実施形態では、1以上の希土類酸化物は、酸化ランタンと、酸化イットリウム及び酸化ネオジムのうち一方又は両方とであってよい。いくつかの実施形態では、1以上の他の希土類酸化物は、酸化ランタンと、酸化イットリウム及び酸化ネオジムのうち一方又は両方とであってよい。いくつかの実施形態では、組成物は約1.5〜約6重量%の酸化ランタンを含有することができる。
いくつかの実施形態によれば、組成物を作製する方法であって、水溶性のジルコニウム塩及びセリウム塩を適切な比率で、任意選択でセリウム以外の1以上の水溶性希土類塩とともに、組み合わせるステップを含む方法がある。該方法はさらに、水溶性のジルコニウム塩及びセリウム塩並びに任意選択のセリウム以外の1以上の水溶性希土類塩を、蒸留脱イオン水中に溶解して金属含有溶液を形成するステップを含むことができる。該方法はさらに、金属含有溶液に過酸化水素を添加するステップを含むことができる。いくつかの実施形態では、該方法はさらに、金属含有溶液への過酸化水素の添加の後に、金属含有溶液にアンモニア水のような塩基を添加することを含むことができる。いくつかの実施形態では、該方法はさらに、金属含有溶液への過酸化水素の添加の後に、金属含有溶液にアンモニア水のような塩基を添加すること若しくはアンモニア水溶液のような塩基に金属含有溶液を添加すること、又は金属含有溶液及びアンモニア水のような塩基を同時に添加することにより、金属含有溶液中の少なくとも大部分の金属を沈殿させることを含むことができる。該方法はさらに、沈殿させた金属を金属含有溶液から分離することを含むことができる。いくつかの実施形態では、該方法は、沈殿させた金属を金属含有溶液から分離した後に、沈殿させた金属を最初に蒸留脱イオン水で洗浄し、その後に水で洗浄し、エタノール又はイソプロパノールのようなアルコールで洗浄することを含むことができる。いくつかの実施形態において、洗浄された金属沈殿物は、エタノール又はイソプロパノールのようなアルコール中に分散させて反応器に装填されることができる。いくつかの実施形態によれば、反応器への装填後、装填済みの反応器は不活性ガス(アルゴン又は窒素など)でパージされ、その後該不活性ガスを用いて装填済み反応器を加圧すること、及び該反応器に約25バール(約25×10Pa)の圧力を(摂氏150度の温度で)自生させることが可能である。いくつかの実施形態では、反応器に圧力を自生させた後、該方法は、摂氏約150度の温度に反応器を加熱する一方で反応器の排気を行うことと、反応器の圧力を約7〜約10バール(約7×10〜約10×10Pa)に維持することとを含むことができる。該方法はさらに、ほぼ全てのエタノールが反応器から排出されて金属を沈殿させるまで、反応器の温度を摂氏150度に維持しながら加圧反応器を約1バール(約1×10Pa)まで排気することを含むことができる。いくつかの実施形態では、該方法は、反応器から全てのアルコールをほぼ排出して金属を沈殿させた後、沈殿した金属を酸化性環境において摂氏約950度で約5時間仮焼して組成物を形成するステップを含むことができる。いくつかの実施形態では、該方法は、組成物を、試験及びエージングのうち少なくともいずれか一方のために、酸化性環境において約10時間、それぞれ摂氏約1000度、約1100度又は1200度のうちの1つでさらに仮焼することを含むことができる。
いくつかの実施形態によれば、組成物はその中に酸化セリウム以外の1以上の他の希土類酸化物を含有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化セリウム以外の1以上の希土類酸化物を約5〜約20重量%含有することができる。
いくつかの実施形態によれば、酸化セリウム以外の1以上の他の希土類酸化物は、酸化ランタンであってよい。いくつかの実施形態では、組成物は約1.5〜約6重量%の酸化ランタンを含有することができる。
いくつかの実施形態によれば、組成物は、酸化セリウム又は酸化イットリウム以外の1以上の他の希土類酸化物を含有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化セリウム又は酸化イットリウム以外の1以上の他の希土類酸化物を約0.1〜約30重量%含有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化セリウム又は酸化イットリウム以外の1以上の他の希土類酸化物を約5〜約20重量%含有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化セリウム又は酸化イットリウム以外の1以上の他の希土類酸化物を約4〜約9重量%含有することができる。
いくつかの実施形態によれば、組成物は酸化ジルコニウムを含有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は約1〜約99重量%の酸化ジルコニウムを含有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は約60〜約85重量%の酸化ジルコニウムを含有することができる。
いくつかの実施形態によれば、組成物は酸化セリウムを含有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は約1〜約99重量%の酸化セリウムを含有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は約5〜約30重量%の酸化セリウムを含有することができる。
上記及びその他の利点は、本明細書中に含められた態様、実施形態、及び構成の開示から明らかになろう。
本明細書中で使用されるように、「少なくとも1つ」、「1以上」、及び「及び〜のうち少なくともいずれか」は、連言及び選言のいずれにおいても用いられる制約のない表現である。例えば、「A、B及びCのうち少なくとも1つ」、「A、B又はCのうち少なくとも1つ」、「A、B及びCのうち1以上」、「A、B又はCのうち1以上」、「A、B、及びCのうち少なくともいずれか」という表現はそれぞれ、A単独、B単独、C単独、A及びB共に、A及びC共に、B及びC共に、又は、A、B及びC共に、を意味する。上記の表現におけるA、B及びCのうちそれぞれ1つが例えばX、Y及びZのような要素を指すか、又は例えばX〜X、Y〜Y及びZ〜Zのような要素群を指す場合、上記の言い回しは、X、Y及びZから選択される単一の要素、同一の群から選択される要素の組み合わせ(例えばX及びX)並びに2以上の群から選択される要素の組み合わせ(例えばY及びZ)を指すように意図される。
用語「1つの(a )」又は「1つの(an)」実体とは、1以上のその実体を指していることに注意すべきである。そのようなものとして、該用語「1つの(a )」(又は「1つの(an)」)、「1以上」及び「少なくとも1つ」は、本明細書中で互換的に使用されることが可能である。さらに、用語「含んでなる」、「含んでいる」、及び「有している」が互換的に使用されることが可能であることにも注意すべきである。
本明細書中で使用されるような用語「手段」は、米国特許法第112条第6段落に従い該用語の可能な限り広い解釈を与えられるものとする。従って、用語「手段」が組み込まれている請求項は、本明細書中に述べられた全ての構造物、物質、又は行為、及びこれらの等価物の全てを対象とするものとする。さらに、それらの構造物、物質又は行為及びこれらの等価物には、本発明の概要、図面の簡単な説明、詳細な説明、要約、及び特許請求の範囲自体に記載されたもの全てが含まれるものとする。
別途注記のないかぎり、全ての成分又は組成物のレベルはその成分又は組成物の活性な部分に関するものであって、不純物、例えばそのような成分又は組成物の市販の供給源に存在しうる残存溶媒又は副産物を除外する。
別途指摘のないかぎり、全ての百分率(%)及び比率は組成物全体の重量によって計算される。
本開示を通じて与えられたすべての最大数値の限定は、代替値として、より小さいあらゆる数値の限定を、あたかもそのような小さい数値の限定が本明細書中に明示的に記されているかのように、含んでいるものと見なされることが理解されよう。本開示を通じて与えられたすべての最小数値の限定は、代替値として、より大きいあらゆる数値の限定を、あたかもそのような大きい数値の限定が本明細書中に明示的に記されているかのように、含んでいるものと見なされる。本開示を通じて与えられたすべての数値範囲は、そのような広い数値範囲の範囲内にあるあらゆるより狭い数値範囲を、あたかもそのような狭い数値範囲が本明細書中に全て明示的に記されているかのように、含んでいるものと見なされる。例を挙げると、約2〜約4という語句には、整数及び約2〜約3、約3〜約4の整数範囲のうち少なくともいずれか、並びに実数(例えば、無理数及び有理数のうち少なくともいずれか)に基づいた個々の可能な範囲、例えば約2.1〜約4.9、約2.1〜約3.4など、が含まれる。
前述は、本開示のいくつかの態様についての理解を提供するための、本開示の単純化された概要である。この概要は、本開示並びに本開示の様々な態様、実施形態、及び構成の広範な概観でも網羅的な概観でもない。この概要は、本開示の主要な要素又は重大な要素を同定するのでも本開示の範囲を明記するのでもなく、以下に提示されるより詳細な説明への導入として本開示の選択された概念を単純な形で示すように意図されている。本開示のその他の態様、実施形態、及び構成は、上述又は以下に詳細に説明される特徴のうち1以上を、単独又は組み合わせとして、利用することが可能であることが理解されよう。さらに、本開示は典型的な実施形態に関して示されているが、当然ながら本開示の個々の態様について別々に特許請求されることが可能である。
本明細書に組み込まれて本明細書の一部を構成する添付の図面は、本開示の実施形態を、上記に示された本開示の概略的説明及び下記に示された詳細な説明と共に例証し、本開示の原理について説明する役割を果たす。
本開示のいくつかの実施形態による組成物についての昇温還元によるH成分を示す図。 本開示のいくつかの実施形態による累積及び差分細孔容積分布を示す図。
本開示は、上記に言及された必要性に対処する特性を有する組成物について述べる。したがって、本開示の目的は、セリウム及びジルコニウムに基づいた酸化物であって、大きくかつ熱的に安定な表面積と、高くかつ熱的に安定な空隙率と、大きな細孔開口部と、高いバルク酸素移動度とを有し、可逆的に還元及び酸化される酸化物を提供すること、並びにそのような酸化物の合成のための方法を提供することである。本開示のいくつかの実施形態によれば、組成物は、約10時間の摂氏約1000度での酸化性環境における仮焼の後に約50m/g以上となりうる表面積を有する粒子状物質の形をとることが可能である。いくつかの実施形態では、該粒子状物質は、酸化性環境における約10時間の摂氏約1100度での仮焼の後に24m/g以上の表面積を有することができる。
本開示のいくつかの実施形態によれば、組成物は酸化物を含んでなることができる。酸化物は、粒子状物質の形をとることができる。さらに、組成物は約1.33cc/g以上の細孔容積を有することができる。いくつかの実施形態では、組成物は、酸化性環境における約10時間の摂氏約1100度での仮焼の後に約0.65cc/g以上の細孔容積を有することができる。
本開示のいくつかの実施形態によれば、酸化物は粒子状物質の形をとることができる。いくつかの実施形態では、粒子状物質は細孔開口部を有することができる。いくつかの実施形態では、細孔開口部は約130Å〜約1000Åであってよい。いくつかの実施形態では、細孔開口部は、酸化性環境における約10時間の摂氏約1100度での仮焼の後に約200Å〜約2μmであってよい。典型的には、細孔開口部は二峰性の分布を有しうる。第1のモードは約100Å〜約1000Åの中央値を有することができる。第2のモードはやや幅広であってよく、かつ約1.2μm〜約2.5μmの中央値を有することができる。より典型的には、細孔開口部は酸化性環境における約10時間の摂氏約1100度での仮焼の後に200Å〜1μmの中央値を有することができる。
本開示のいくつかの実施形態によれば、酸化物は、酸化セリウム(IV)を含有することができる粒子状物質の形をとることができる。さらに、酸化セリウム(IV)は、昇温還元法(TPR)によって測定されるような約0.5以上のH/CeOの消費量比を有することができる。
本開示のいくつかの実施形態によれば、酸化物は、摂氏約400度未満の温度での昇温還元による(H)成分を有することができる粒子状物質の形をとることができる。さらに、酸化物は摂氏約400度より高い温度での昇温還元による水素(H)成分値を有することができる。
本開示のいくつかの実施形態によれば、組成物を作製するためのプロセスがある。典型的には、組成物は2以上の金属酸化物を含んでなることができる。該プロセスは、2以上の金属の水溶性の塩を穏やかに撹拌しながら塩基と組み合わせることにより沈殿物を得るステップを含むことができる。2以上の金属の水溶性の塩はその2以上の金属塩の任意の形態であってよい。典型的には、2以上の金属塩はそれぞれ約2g/Lを超える水への溶解度を有する。より典型的には、2以上の金属塩はそれぞれ、約5g/Lを超える水への溶解度、さらにより典型的には約10g/Lを超える水への溶解度を有する。さらになお典型的には2以上の金属塩は硝酸塩を含んでなる。プロセスは、得られた沈殿物を洗浄するステップを含むことができる。更に、該プロセスは、沈殿物をアルコール系溶液中に分散させてアルコール系分散物を形成するステップを含むことができる。いくつかの実施形態では、プロセスは反応器にアルコール系分散物を装填することを含むことができる。さらに、該プロセスは、反応器に入ったアルコール系分散物の温度及び圧力のうち一方又は両方を上昇させるステップを含むことができる。典型的には、アルコール系分散物を約150℃以上の温度にまで上昇させ、かつ約1バールの圧力にまで上昇させる。プロセスのいくつかの実施形態には、温度を維持しながら圧力を大気圧に低下させるステップが含まれる。プロセスのいくつかの実施形態は、温度を低下させるステップを含むことができる。さらに、該プロセスは生成直後の(fresh)組成物を回収するステップを含むことができる。いくつかの実施形態では、プロセスは生成直後の組成物を仮焼するステップを含むことができる。典型的には、生成直後の組成物は、摂氏約300度以上の温度で仮焼されることができる。より典型的には、生成直後の組成物は、酸化性雰囲気下、還元性雰囲気下、不活性雰囲気下、又はこれらの雰囲気の連続的な組み合わせのうち1つのもとで、摂氏約300度以上の温度で仮焼されることができる。
本開示の本質及び目的は次の実施例によってさらに例証されるが、該実施例の提供は単に例証を目的としており、特許請求の範囲によって定義されるような本開示を限定するためではない。次の実施例は、本開示のある一定の態様、実施形態及び構成を例証するために提供されており、添付の特許請求の範囲において述べたような本開示に対する限定として解釈されるべきではない。全ての割合及び百分率(%)は別段の定めがない限り重量によるものである。
実施例1: 60重量%のZrO ;30重量%のCeO ;6重量%のLa ;4重量%のY
約60重量%のZrO、約30重量%のCeO、約6重量%のLa、及び約4重量%のYに相当する酸化物の組成を備えた混合酸化物は、次の方法によって合成された。硝酸ジルコニル、硝酸セリウム(III)、硝酸ランタン及び硝酸イットリウムの溶液は、目的とされるジルコニウム、セリウム、ランタン及びイットリウムの元素組成を達成するために適切な比率で組み合わされた。その後、酸化物ベースで約100グラム/リットルの金属の相対的総濃度となるように、蒸留脱イオン水が添加された。この調整に続いて、約10mlの過酸化水素(H、約32重量%)が溶液に添加された。次いでこの溶液は、連続的に撹拌されたアンモニア水溶液(約1000mlの約4.5MのNHOH)にゆっくり添加された。反応温度は摂氏約25度に維持された。結果として生じた沈殿物は次いで濾別され、摂氏55度の蒸留脱イオン水で徹底的に洗浄された。その後、濾別された固形物は約1200mlのエタノール(約99%)で洗浄された。この最後のステップに続いて、固形物は濾別され、撹拌式のパール(Parr)の反応器モデル番号4530においてエタノール(約99%)中に分散させて約675mlの総体積とした。結果として生じたスラリーの入った反応器はその後、アルゴンで完全にパージされた。このパージステップに続いて、反応器はアルゴンで約10バールに加圧された。続いて、反応器は自生圧力が約25バールに達するまで(摂氏約150度の温度に)加熱され、この時点で反応器の圧力は排気により低下され、排気と同時に加熱が摂氏約150度の温度に継続されることにより約7〜約10バールに維持された。その時、反応器の圧力は排気により約1バールにまで低下され、加熱は全てのエタノールが物質及び反応器からほぼ除去されるまで摂氏約150度の温度に維持された。その後反応器は室温に冷却され、結果として生じた粉状物質は空気中摂氏約950度で約5時間仮焼された。結果として生じた物質は生成直後の状態の物質として定義される。この生成直後の物質は次いで試験(エージング条件として規定)のために空気中でそれぞれ摂氏約1000度、約1100度、又は約1200度のうちの1つ(表を参照のこと)で10時間、さらに仮焼された。
実施例2: 60重量%のZrO ;30重量%のCeO ;6重量%のLa ;4重量%のY
約60重量%のZrO、約30重量%のCeO、約6重量%のLa、及び約4重量%のYに相当する酸化物の組成を備えた混合酸化物は、次の方法によって合成された。硝酸ジルコニル、硝酸セリウム(III)、硝酸ランタン及び硝酸イットリウムの溶液は、目的とされるジルコニウム、セリウム、ランタン及びイットリウムの元素組成を達成するために適切な比率で組み合わされた。その後、酸化物ベースで約100グラム/リットルの金属の相対的総濃度となるように、蒸留脱イオン水が添加された。この調整に続いて、約10mlの過酸化水素(H、約32重量%)が溶液に添加された。次いでこの溶液は連続的に撹拌されたアンモニア水溶液(約1000mlの約4.5MのNHOH)にゆっくり添加された。反応温度は摂氏約25度に維持された。結果として生じた沈殿物は次いで濾別され、摂氏約55度の蒸留脱イオン水で徹底的に洗浄された。その後、濾別された固形物は約1200mlのエタノール(約99%)で洗浄された。この最後のステップに続いて、固形物は濾別され、撹拌式のパールの反応器モデル番号4530においてエタノール(約99%)中に分散させて約675mlの総体積とした。結果として生じたスラリーの入った反応器はその後、アルゴンで完全にパージされた。このパージステップに続いて、反応器はアルゴンで約10バールに加圧された。続いて、反応器は自生圧力が約30バールの最大圧力に(摂氏約180度で)、より具体的には約20〜約25バールに(摂氏約180度で)達するまで加熱され、この時点で反応器の圧力は排気により低下され、かつ約17〜約25バールに維持され、同時に加熱は摂氏約180度の温度を維持するように継続された。その時、反応器は1バールにまで排気され、加熱は継続されて全てのエタノールが物質及び反応器からほぼ除去されるまで摂氏約180度の温度に維持された。その後反応器は室温に冷却され、結果として生じた粉状物質は空気中摂氏約950度で約5時間仮焼された。結果として生じた物質は生成直後の状態の物質として定義される。この生成直後の物質は次いで、試験(エージング条件として規定)のために空気中でそれぞれ摂氏約1000度、約1100度、及び約1200度のうちの1つで約10時間(表を参照のこと)、さらに仮焼された。
実施例3: 60重量%のZrO ;30重量%のCeO ;6重量%のLa ;4重量%のY
約60重量%のZrO、約30重量%のCeO、約6重量%のLa、及び約4重量%のYに相当する酸化物の組成を備えた混合酸化物は、次の方法によって合成された。硝酸ジルコニル、硝酸セリウム(III)、硝酸ランタン及び硝酸イットリウムの溶液は、目的とされるジルコニウム、セリウム、ランタン及びイットリウムの元素組成を達成するために適切な比率で組み合わせられた。その後、酸化物ベースで約100グラム/リットルの金属の相対的総濃度となるように、蒸留脱イオン水が添加された。この調整に続いて、約10mlの過酸化水素(H、約32重量%)が溶液に添加された。次いでこの溶液は連続的に撹拌されたアンモニア水溶液(約1000mlの約4.5MのNH)にゆっくり添加された。反応温度は摂氏約25度に維持された。結果として生じた沈殿物は次いで濾別され、摂氏約55度の蒸留脱イオン水で徹底的に洗浄された。その後、濾別された固形物は約1200mlのエタノール(約99%)で洗浄された。この最後のステップに続いて、固形物は濾別され、撹拌式のパールの反応器モデル番号4530においてエタノール(約99%)中に分散させて約675mlの総体積とした。結果として生じたスラリーの入った反応器はその後、アルゴンで完全にパージされた。このパージステップに続いて、反応器はアルゴンで約10バールに加圧された。続いて、反応器は自生圧力が約50バールの最大圧力に(摂氏約200度で)、より具体的には約40〜約50バールに(摂氏約200度で)達するまで加熱され、この時点で反応器の圧力は排気により低下され、かつ排気と同時に加熱が摂氏約200度の温度に継続されることにより約25〜約35バールに維持された。その時、反応器は約1バールにまで排気され、加熱は継続されて、温度は全てのエタノールが物質及び反応器からほぼ除去されるまで摂氏約200度に維持された。その後反応器は室温に冷却され、結果として生じた粉状物質は空気中摂氏約950度で約5時間仮焼された。結果として生じた物質は生成直後の状態の物質として定義される。この生成直後の物質は次いで、試験(エージング条件として規定)のために空気中でそれぞれ摂氏約1000度、約1100度、及び約1200度のうちの1つで約10時間(表を参照のこと)、さらに仮焼された。
実施例4: 72.2重量%のZrO ;20.8重量%のCeO ;1.7重量%のLa ;5.3重量%のNd
約72.2重量%のZrO、約20.8重量%のCeO、約1.7重量%のLa、及び約5.3重量%のNdに相当する酸化物の組成を備えた混合酸化物は、次の方法によって合成された。硝酸ジルコニル、硝酸セリウム(III)、硝酸ランタン及び硝酸イットリウムの溶液は、目的とされるジルコニウム、セリウム、ランタン及びネオジムの元素組成を達成するために適切な比率で組み合わせられた。その後、酸化物ベースで約100グラム/リットルの金属の相対的総濃度となるように、蒸留脱イオン水が添加された。この調整に続いて、約7mlの過酸化水素(H、約32重量%)が溶液に添加された。次いでこの溶液は連続的に撹拌されたアンモニア水溶液(約1000mlの約4.5MのNHOH)にゆっくり添加された。反応温度は摂氏約25度の温度に維持された。結果として生じた沈殿物は次いで濾別され、摂氏約55度の温度の蒸留脱イオン水で徹底的に洗浄された。その後、濾別された固形物は約1200mlのエタノール(約99%)で洗浄された。この最後のステップに続いて、固形物は濾別され、撹拌式のパールの反応器モデル番号4530においてエタノール(約99%)中に分散させて約675mlの総体積とした。結果として生じたスラリーの入った反応器はその後、アルゴンで完全にパージされた。このパージステップに続いて、反応器はアルゴンで約10バールに加圧された。続いて、反応器は自生圧力が約140バールに達するまで加熱され、この時点で反応器の圧力は、排気と同時に加熱が摂氏約300度の温度に継続されることにより約130〜約140バールの圧力に維持された。その時、反応器は約1バールにまで排気され、加熱は全てのエタノールが物質及び反応器から除去されるまで継続された。その後反応器は室温に冷却され、結果として生じた粉状物質は空気中摂氏約950度の温度で約5時間仮焼された。結果として生じた物質は生成直後の状態の物質として定義される。この生成直後の物質は次いで、試験(エージング条件として規定)のために空気中でそれぞれ摂氏約1000度、約1100度、及び約1200度のうちの1つで約10時間(表を参照のこと)、さらに仮焼された。
実施例5: 60重量%のZrO ;30重量%のCeO ;6重量%のLa ;4重量%のY
約60重量%のZrO、30重量%のCeO、6重量%のLa、及び約4重量%のYに相当する酸化物の組成を備えた混合酸化物は、実施例4に記載されたのと同じ方法によって合成された。評価結果は表中に示されている。
実施例6: 84重量%のZrO ;5重量%のCeO ;2.5重量%のLa ;8.5重量%のNd
約84重量%のZrO、約5重量%のCeO、約2.5重量%のLa、及び約8.5重量%のNdに相当する酸化物の組成を備えた混合酸化物は、実施例4に記載されたのと同じ方法によって合成された。評価結果は表中に示されている。
実施例7: 40重量%のZrO ;50重量%のCeO ;5重量%のLa ;5重量%のY
約40%のZrO、約50重量%のCeO、約5重量%のLa、及び約5重量%のYに相当する酸化物の組成を備えた混合酸化物は、実施例4に記載されたのと同じ方法によって合成された。評価結果は表中に示されている。
実施例8: 60重量%のZrO ;30重量%のCeO ;6重量%のLa ;4重量%のY
約60重量%のZrO、約30重量%のCeO、約6重量%のLa、及び約4重量%のYに相当する酸化物の組成を備えた混合酸化物は、次の方法によって合成された。硝酸ジルコニル、硝酸セリウム(III)、硝酸ランタン及び硝酸イットリウムの溶液は、目的とされるジルコニウム、セリウム、ランタン及びイットリウムの元素組成を達成するために適切な比率で組み合わされた。その後、酸化物ベースで約100グラム/リットルの金属の相対的総濃度となるように、蒸留脱イオン水が添加された。この調整に続いて、約10mlの過酸化水素(H、約32重量%)が溶液に添加された。次いでこの溶液は連続的に撹拌されたアンモニア水溶液(約1000mlの約4.5MのNHOH)にゆっくり添加された。反応温度は摂氏約25度の温度に維持された。結果として生じた沈殿物は次いで濾別され、摂氏約55度の温度の蒸留脱イオン水で徹底的に洗浄された。その後、濾別された固形物は約1200mlのエタノール(約70%)で洗浄された。この最後のステップに続いて、固形物は濾別され、撹拌式のパールの反応器モデル番号4530においてエタノール(約70%)中に分散させて約675mlの総体積とした。結果として生じたスラリーの入った反応器はその後、アルゴンで完全にパージされた。このパージステップに続いて、反応器はアルゴンで約10バールの圧力に加圧された。続いて、反応器は自生圧力が約140バールに達するまで加熱され、この時点で反応器の圧力は、排気と同時に加熱が摂氏約300度の温度に継続されることにより約130〜約140バールの自生圧力に維持された。その時、反応器は約1バールにまで排気され、加熱は全てのエタノールが物質及び反応器からほぼ除去されるまで継続された。その後反応器は室温に冷却され、結果として生じた粉状物質は空気中摂氏約950度で約5時間仮焼された。結果として生じた物質は生成直後の状態の物質として定義される。この生成直後の物質は次いで、試験(エージング条件として規定)のために空気中でそれぞれ摂氏約1000度、1100度、及び約1200度のうちの1つで約10時間(表を参照のこと)、さらに仮焼された。
実施例9: 60重量%のZrO ;30重量%のCeO ;6重量%のLa ;4重量%のY
約60重量%のZrO、約30重量%のCeO、約6重量%のLa、及び約4重量%のYに相当する酸化物の組成を備えた混合酸化物は、次の方法によって合成された。硝酸ジルコニル、硝酸セリウム(III)、硝酸ランタン及び硝酸イットリウムの溶液は、目的とされるジルコニウム、セリウム、ランタン及びイットリウムの元素組成を達成するために適切な比率で組み合わせられた。その後、酸化物ベースで約100グラム/リットルの金属の相対的総濃度となるように、蒸留脱イオン水が添加された。この調整に続いて、約10mlの過酸化水素(H、約32重量%)が溶液に添加された。次いでこの溶液は連続的に撹拌されたアンモニア水溶液(約1000mlの約4.5MのNHOH)にゆっくり添加された。反応温度は摂氏約25度の温度に維持された。結果として生じた沈殿物は次いで濾別され、摂氏約55度の温度の蒸留脱イオン水で徹底的に洗浄された。その後、濾別された固形物は約1200mlのイソプロパノール(約99%)で洗浄された。この最後のステップに続いて、固形物は濾別され、撹拌式のパールの反応器モデル番号4530においてイソプロパノール(約99%)中に分散させて約675mlの総体積とした。結果として生じたスラリーの入った反応器はその後、アルゴンで完全にパージされた。このパージステップに続いて、反応器はアルゴンで約10バールに加圧された。続いて、反応器は自生圧力が約140バールに達するまで加熱され、この時点で反応器の圧力は、排気と同時に加熱が摂氏約300度の温度に継続されることにより約130〜約140バールに維持された。その時、反応器は約1バールにまで排気され、加熱はほぼ全てのイソプロパノールが物質及び反応器から除去されるまで継続された。その後反応器は室温に冷却され、結果として生じた粉状物質は空気中摂氏約950度で約5時間仮焼された。結果として生じた物質は生成直後の状態の物質として定義される。この生成直後の物質は次いで、試験(エージング条件として規定)のために空気中でそれぞれ摂氏約1000度、約1100度、及び約1200度のうちの1つで約10時間(表を参照のこと)、さらに仮焼された。
実施例10: 60重量%のZrO ;30重量%のCeO :6重量%のLa :4重量%のY
約60重量%のZrO、約30重量%のCeO、約6重量%のLa、及び約4重量%のYに相当する酸化物の組成を備えた混合酸化物は、次の方法によって合成された。硝酸ジルコニル、硝酸アンモニウムセリウム、硝酸ランタン及び硝酸イットリウムの溶液は、目的とされるジルコニウム、セリウム、ランタン及びネオジムの元素組成を達成するために適切な比率で組み合わされた。その後、酸化物ベースで約100グラム/リットルの金属の相対的総濃度となるように、蒸留脱イオン水が添加された。次いでこの溶液は連続的に撹拌されたアンモニア水溶液(約1000mlの約4.5MのNHOH)にゆっくり添加された。反応温度は摂氏約25度の温度に維持された。結果として生じた沈殿物は次いで濾別され、摂氏約55度の温度の蒸留脱イオン水で徹底的に洗浄された。その後、濾別された固形物は約1200mlのエタノール(約99%)で洗浄された。この最後のステップに続いて、固形物は濾別され、撹拌式のパールの反応器モデル番号4530においてエタノール(約99%)中に分散させて約675mlの総体積とした。結果として生じたスラリーの入った反応器はその後、アルゴンで完全にパージされた。このパージステップに続いて、反応器はアルゴンで約10バールに加圧された。続いて、反応器は自生圧力が約140バールに達するまで加熱され、この時点で反応器の圧力は、排気と同時に加熱が摂氏約300度の温度に継続されることにより約130〜約140バールの圧力に維持された。その時、反応器は約1バールにまで排気され、加熱は全てのエタノールが物質及び反応器から除去されるまで継続された。その後反応器は室温に冷却され、結果として生じた粉状物質は空気中摂氏約950度の温度で約5時間仮焼された。この生成直後の物質は次いで、試験(エージング条件として規定)のために空気中でそれぞれ摂氏約1000度、約1100度、及び約1200度のうちの1つで約10時間(表を参照のこと)、さらに仮焼された。図1は、摂氏約100〜約1100度の温度範囲にわたるHの昇温還元成分を示しており、摂氏300〜500度の間では2つの成分が明らかであり、一方の成分は摂氏400度以下の温度にあり、他方は摂氏400度より高い温度にある。
空隙率及び全細孔容積は、マイクロメリティックス(Micromeritics)のAutopore(商標)IV9500システムを使用して測定された。ASTMインターナショナルの試験方法D4284−07に概説された手順は以下のとおりである。試料サイズは0.5グラム、水銀接触角は130°、水銀表面張力は0.485N/m(4845d/cm)であった。最適な圧力上昇は、10秒/ステップの保圧時間での段階的上昇であった。さらなる詳細は以下に示される。実施例1の結果生じた生成直後の物質の累積細孔容積分布をグラフで示す例は図2に示されており、同図は実施例1の生成直後の物質についての累積及び差分細孔容積分布を示している。該物質の見かけ表面積は、マイクロメリティックスのASAP(登録商標)2000システム及び約77ケルビンの窒素を使用することにより決定された。ASTMインターナショナルの試験方法D3663−03(2008年再承認版)に概説された手順が、1点の重要な例外とともに使用された。「BET表面積」の決定は微小空洞を含有する物質については難しいことは良く知られている。該表面積は近似値であるということを認識して、報告される値には「BET表面積」の値ではなく「見かけ表面積」の値との表示が付される。一般に容認された手順である見かけ表面積の決定に準拠して、BET式の適用は、式のn(1−P/Po)項がP/Poとともに連続的に増大する圧力範囲に限定された。試料のガス抜きは窒素下にて摂氏約300度で約2時間行われた。
各試料の被還元性は、アルタミラ・インスツルメンツ(Altamira Instruments)のAMI−390昇温還元(TPR)装置を使用して、酸化体ガスとして空気、及び還元ガスとして水素を使用して行われた。このシステムは、ベースライン物質としてアルミナ上の1%Co上の1%Reを使用して較正された。使用された測定手順は以下のとおりであった。最初に、0.05グラムの摂氏1000度のエージング済み試料をTPR試験機の試料管に入れた。その後、試料管を装置に接続し、試料を25cm/分で流れるO/He(体積%で10:90)雰囲気中で400℃にて15分間予備酸化した。上記の処理に続いて、試料を同じガス流の下で放置冷却した。約100℃にまで冷却したら、ガス流を流量25cm/分のH/Ar混合物(体積%で5:95)に交換した。次いで温度を10℃/分で1000℃にまで上昇し、同時にTCD検出器を用いてシステム出力をモニタリングした。試料中のCeOのモル等量の含有量に対するHの総消費量が計算される。
本開示のいくつかの変形形態及び改変形態が使用可能である。本開示のいくつかの特徴を、他のものの提供を伴うことなく提供することが可能であろう。
本開示は、様々な態様、実施形態及び構成の中に、本明細書中、例えば様々な態様、実施形態、構成、サブコンビネーション、及びこれらのサブセットなどにおいておおむね描写及び説明されたような、成分、方法、プロセス、システム及び装置のうち少なくともいずれかを含んでいる。当業者は、本開示を理解した後に、様々な態様、態様、実施形態、及び構成をどのように作製及び使用するかについて理解することになろう。本開示は、様々な態様、実施形態及び構成の中に、例えばパフォーマンスの改善、容易さの達成、及び実装コストの低減のうち少なくともいずれかのために、本明細書中又は本明細書の様々な態様、実施形態及び構成において描写及び説明のうち少なくともいずれか一方がなされていないアイテムが存在しない状態で、例えば以前のデバイス又はプロセスにおいて使用されていたかもしれないようなアイテムが存在しない状態で、デバイス及びプロセスを提供することを含んでいる。
本開示の前述の議論は例証及び説明の目的で示されてきた。前述の内容は本開示を本明細書中に開示された形に限定するようには意図されない。前述の詳細な説明において、例えば、本開示の様々な特徴は、本開示を簡素化する目的で1又は複数の態様、実施形態、及び構成の中にまとめられている。本開示の態様、実施形態、及び構成の特徴は、上記に議論されたもの以外の別例の態様、実施形態、及び構成において組み合わされてもよい。この開示方法は、特許請求の範囲に記載された開示が、各請求項において明示的に挙げられているよりも多くの特徴を必要とする、という意図を反映していると解釈されるべきではない。むしろ、以降の特許請求の範囲が反映しているように、発明的態様は、前述の開示された単一の態様、実施形態、及び構成の全ての特徴よりも少ない中にある。よって、以降の特許請求の範囲はこれにより本節の詳細な説明の中に組み込まれ、各請求項は本開示の個別の好ましい実施形態として独立している。
さらに、本開示の説明には1以上の態様、実施形態、又は構成並びにある一定の変形形態及び改変形態の説明が含まれてきたが、その他の変形形態、組み合わせ、及び改変形態は、例えば、本開示を理解した後に当業者の技術及び知識の範囲内にありうるように、本開示の範囲内にある。意図されているのは、代替的な態様、実施形態、及び構成、例えば特許請求の範囲に記載されたものに対して代替的、互換的及び等価のうち少なくともいずれかである構造、機能、範囲又はステップを、そのような代替的、互換的及び等価のうち少なくともいずれかである構造、機能、範囲又はステップが本明細書中に開示されているか否かに関わらず、許容される程度まで含んでいる権利を得ることであり、かついかなる特許性のある主題を公的に供することも意図されていない。

Claims (16)

  1. 酸化ジルコニウム、酸化セリウム、並びに酸化ランタン、酸化イットリウム及び酸化ネオジムの1以上を含んでなる組成物であって、
    組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に、0.5〜1.1のH 消費量/CeO のモル比及び0.54〜0.99のH 消費量/CeO のモル比で構成されている群から選択される昇温還元による水素取込み量を有し、かつ
    (i)組成物は0.7〜3.5cc/g(0.7〜3.5cm/g)及び0.65〜3.20cc/g(0.65〜3.20cm/g)で構成されている群から選択される全細孔容積を有することと、
    ii)組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に1.0〜6.0m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に1.9〜5.2m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に20m/g〜30m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に24m/g〜29m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に45m/g〜70m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度の仮焼の後50m/g〜65m/g、及びこれらの組み合わせで構成されている群から選択される1以上のBET及び見かけ表面積を有することと
    のうち以上が真である組成物。
  2. (i)及び(ii)が真である、請求項1に記載の組成物。
  3. (i)が真である、請求項1に記載の組成物。
  4. (ii)が真である、請求項1に記載の組成物。
  5. 酸化ジルコニウムは組成物の1〜99重量%を構成し、酸化セリウムは組成物の1〜99重量%を構成し、酸化ランタン、酸化イットリウム及び酸化ネオジムの1以上は組成物の0.1〜30重量%を構成する、請求項1に記載の組成物。
  6. 酸化ジルコニウム、酸化セリウム、並びに酸化ランタン、酸化イットリウム及び酸化ネオジムの1以上を含んでなる組成物であって、酸化ジルコニウムは組成物の1〜99重量%を構成し、酸化セリウムは組成物の1〜99重量%を構成し、酸化ランタン、酸化イットリウム及び酸化ネオジムの1以上は組成物の0.1〜30重量%を構成し、
    組成物は、10時間の摂氏1000度での仮焼の後に、0.5〜1.1のH 消費量/CeO のモル比及び0.54〜0.99のH 消費量/CeO のモル比で構成されている群から選択される昇温還元による水素取込み量を有し、かつ
    (i)組成物は0.7〜3.5cc/g(0.7〜3.5cm/g)及び0.65〜3.20cc/g(0.65〜3.20cm/g)で構成されている群から選択される全細孔容積を有することと、
    ii)組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に1.0〜6.0m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に1.9〜5.2m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に20m/g〜30m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に24m/g〜29m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に45m/g〜70m/g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度の仮焼の後に50m/g〜65m/g、及びこれらの組み合わせ、で構成されている群から選択される1以上のBET及び見かけ表面積を有することと
    のうち1以上が真である、組成物。
  7. (i)及び(ii)が真である、請求項に記載の組成物。
  8. 酸化ジルコニウム、酸化セリウム、並びに酸化ランタン、酸化イットリウム及び酸化ネオジムの1以上を含んでなる組成物であって、
    組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に、200〜1,500μmol/gの昇温還元による水素取込み量を有し、
    (i)組成物は、0.7cc/g〜3.5cc/gの全細孔容積を有することと、
    ii)組成物は、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1200度での仮焼の後に1.9m /g〜5.2m /g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1100度での仮焼の後に20m /g〜30m /g、酸化性環境における10時間の期間の摂氏1000度での仮焼の後に45m /g〜70m /gの1以上のBET及び見かけ表面積を有することと
    のうち1以上が真である、組成物。
  9. 酸化ジルコニウムは組成物の60〜85重量%を構成し、酸化セリウムは組成物の5〜30重量%を構成する、請求項1に記載の組成物。
  10. 酸化ランタン、酸化イットリウム及び酸化ネオジムの1以上は組成物の5〜20重量%を構成する、請求項1に記載の組成物。
  11. 組成物は、1.5〜6重量%の酸化ランタンを含有する、請求項1に記載の組成物。
  12. 10時間の摂氏1000度での仮焼の後に、0.54〜0.99のH 消費量/CeO のモル比の、昇温還元による水素取込み量を有する、請求項1に記載の組成物。
  13. 酸化ジルコニウムは組成物の1〜99重量%を構成し、酸化セリウムは組成物の1〜99重量%を構成し、酸化ランタン、酸化イットリウム及び酸化ネオジムの1以上は組成物の0.1〜30重量%を構成する、請求項8に記載の組成物。
  14. 酸化ジルコニウムは組成物の60〜85重量%を構成し、酸化セリウムは組成物の5〜30重量%を構成する、請求項8に記載の組成物。
  15. 組成物は、5〜20重量%の酸化ランタン、酸化イットリウム及び酸化ネオジムの1以上を含有する、請求項8に記載の組成物。
  16. 組成物は、1.5〜6重量%の酸化ランタンを含有する、請求項8に記載の組成物。
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