JP6689023B2 - ブレーク装置 - Google Patents

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Description

本発明は、性材料基板を分断する装置に関する。
電子デバイスや光デバイスなどの半導体デバイスは、通常、半導体基板などの円形もしくは矩形状の脆性材料基板である母基板の上に、ここのデバイスを構成する回路パターンを二次元的に繰り返し形成した後、当該デバイス形成後の母基板を分断して多数の素子(チップ)単位に個片化(チップ化)するというプロセスによって作製される。
半導体基板などの脆性材料基板を分割(チップの個片化)する手法として、ストリートと呼ばれる分割予定ラインに円形ホイールなどの刃先もしくはレーザにて分割起点となるスクライブラインを形成し、その後ブレーク装置(分断装置)で脆性材料基板に対し3点曲げの手法にて曲げ応力を加えて分割起点からクラック(亀裂)を伸展させることによって基板を分断する態様がすでに公知である(例えば、特許文献1参照)。
係る分断は、円形環状の枠体であるダイシングフレームに張設された粘着性を有するダイシングテープの被接着面に分断対象たる脆性材料基板を貼付固定した状態で行うのが一般的である。
特開2014−83821号公報
個片化に際し脆性材料基板の分断を3点曲げ方式によって行う場合、分断に用いる押刃(ブレーク刃)を脆性材料基板に上方から当接させつつ押し下げる必要があるが、その際、押刃がダイシングテープを張設してなる枠体と接触しないようにする必要がある。ただし、脆性材料基板の種類によっては、枠体の高さ位置にまで、あるいはそれ以上に押刃を押し下げないと、良好な分断を行えない場合がある。
そのため、従来、分断対象たる脆性材料基板よりも一回り大きなサイズのダイシングフレームが用いられている。例えば、12インチ径の基板には、SEMI規格準拠の18インチサイズのダイシングフレームが使用される。
しかしながら、このような脆性材料基板とのサイズ差があるダイシングフレームを用いる場合、脆性材料基板のサイズに比して大きなサイズのダイシングテープを用いる必要がある。また、デバイスの量産過程などで多数の脆性材料基板を連続的に分断する場合、それらをカセット等の搬送手段にて搬送する必要があるが、ダイシンググレフレームが大きいと係る搬送手段のサイズも大きくなり、重量化してしまう。さらには、分断に使用するブレーク装置のサイズも大型化する必要が生じる。これらはいずれも、デバイス作製プロセスにおけるコスト高の要因となる。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、押刃と枠体との接触が生じることのないブレーク装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、発明は、脆性材料基板をあらかじめその一方主面側に形成されてなるスクライブラインからのクラック伸展によって分断するブレーク装置であって、円形環状の枠体に粘着フィルムが張設されてなり、かつ、前記脆性材料基板の前記一方主面側を前記粘着フィルムに貼付させてなり、前記枠体と前記脆性材料基板が同一平面上に位置する基板保持部材が、上面に載置される弾性体と、前記基板保持部材が前記弾性体上に載置された状態において前記脆性材料基板の他方主面側に当接可能に設けられた押刃と、鉛直方向に昇降自在に設けられてなり、下降時に前記枠体と接触して前記枠体を押し下げる枠体押下機構と、を備え、前記押刃を前記他方主面側の前記スクライブラインの形成位置に対応する位置に当接させることによって前記脆性材料基板を分断する間、前記枠体押下機構が前記枠体を前記脆性材料基板の前記一方主面よりも下方に押し下げる、ことを特徴とする。
明のブレーク装置、前記脆性材料基板が円板状をなしており、前記脆性材料基板の直径をdとし、前記枠体の内径をLとするとき、1.2d≦L≦1.4dであってもよい
明のブレーク装置、前記枠体押下機構が互いに離間した1対の枠体押下機構であってもよい
本発明のブレーク装置による分断方法は、脆性材料基板をあらかじめその一方主面側に形成されてなるスクライブラインからのクラック伸展によって分断するブレーク装置における前記脆性材料基板の分断方法であって、前記ブレーク装置が、円形環状の枠体に粘着フィルムが張設されてなり、かつ、前記脆性材料基板の前記一方主面側を前記粘着フィルムに貼付させてなる基板保持部材が、上面に載置される弾性体と、前記基板保持部材が前記弾性体上に載置された状態において前記脆性材料基板の他方主面側に当接可能に設けられた押刃と、鉛直方向に昇降自在に設けられてなり、下降時に前記枠体と接触して前記枠体を押し下げる枠体押下機構と、を備えるものであり、前記枠体押下機構によって前記枠体を前記脆性材料基板の前記一方主面よりも下方に押し下げた状態で前記押刃を前記他方主面側の前記スクライブラインの形成位置に対応する位置に当接させることによって前記脆性材料基板を分断する、こととしてもよい
本発明のブレーク装置による分断方法は、前記のブレーク装置における脆性材料基板の分断方法であって、前記脆性材料基板が円板状をなしており、前記脆性材料基板の直径をdとし、前記枠体の内径をLとするとき、1.2d≦L≦1.4dである、こととしてもよい
本発明のブレーク装置による分断方法は、前記のブレーク装置における脆性材料基板の分断方法であって、前記枠体押下機構が互いに離間した1対の枠体押下機構である、こととしてもよい
発明によれば、分断の際に押刃と枠体との接触・衝突を生じさせることがなく、かつ、粘着フィルムの使用面積を従来よりも低減することができ、分断に要するコストを低減することが可能となる。
ブレーク装置100の概略的な構成を示す断面図である。 ブレーク装置100の平面図である。 ブレーク装置100において脆性材料基板1をスクライブラインSに沿って分断する際の様子を示す断面図である。 枠体3aが押刃102の最大移動範囲である矩形領域REと部分I1〜I4において平面的に重なり合う場合を示す図である。 貼付可能領域が十分大きい枠体3bを使用する場合を例示する図である。
図1は、脆性材料基板1を分断するブレーク装置(分断装置)100の概略的な構成を示す断面図である。また、図2は、ブレーク装置100の平面図である。
脆性材料基板1としては、例えば、半導体基板(シリコン基板など)やガラス基板などが例示される。半導体基板の一方主面には、所定のデバイス(例えば、CMOSセンサなど)用の回路パターンが形成されていてもよい。本実施の形態においては、図2に示すように、円板状の脆性材料基板1を分断の対象とする。
脆性材料基板1を分断するにあたっては、まず、図1に示すように、あらかじめその一方主面の分断予定位置にスクライブラインSを形成しておいた脆性材料基板1を、ダイシングテープとも称される粘着フィルム2に貼付する。粘着フィルム2は、その一方主面が粘着面となっており、ダイシングフレームとも称される円形環状の枠体3に張設されてなる。すなわち、枠体3の内側が脆性材料基板1の貼付可能領域となっている。脆性材料基板1を貼付するにあたっては、スクライブラインSが形成されてなる側の主面を粘着フィルム2に当接させ、他方主面が上面となるようにする。以降、粘着フィルム2が枠体3に張設されたものを、基板保持部材と総称する。枠体3の材質としては、例えば金属(アルミニウム、ステンレス鋼等)、樹脂などが例示される。
図1においては、複数の分断予定位置およびスクライブラインSがそれぞれ、図面に垂直な方向に延在する場合を表している。スクライブラインSは、脆性材料基板1の厚み方向に伸展するクラック(微小クラック)が脆性材料基板1の一方主面において線状に連続したものである。なお、本実施の形態においては、円板状の脆性材料基板1を複数箇所で分断して短冊状もしくは格子状の多数の個片を得るものとする。
スクライブラインSの形成には、公知の技術を適用可能である。例えば、超硬合金、焼結ダイヤモンド、単結晶ダイヤモンド等からなり、円板状をなし、かつ、外周部分に刃として機能する稜線を備えるカッターホイール(スクライブホイール)を、分断予定位置に沿って圧接転動させることによって、スクライブラインSを形成する態様であってもよいし、分断予定位置に沿ってダイヤモンドポイントにより罫描くことによってスクライブラインSを形成する態様であってもよいし、レーザ(例えば、紫外線(UV)レーザ)照射によるアブレーションや変質層の形成によってスクライブラインSを形成する態様であってもよいし、レーザ(例えば、赤外線(IR)レーザ)による加熱と冷却とによる熱応力によってスクライブラインSを形成する態様であってもよい。
ブレーク装置100は、脆性材料基板1を貼付してなる基板保持部材が上面に載置されるシート状もしくは薄板状の弾性体101と、脆性材料基板1に当接して脆性材料基板1を分断する押刃(ブレーク刃)102とを備える。
本実施の形態において、弾性体101とは、硬度が65°〜95°、好ましくは70°〜90°、例えば80°である材質のものをいう。係る弾性体101としては、例えばシリコーンゴムなどを好適に用いることができる。なお、図1に示すように、弾性体101はテーブルなどの支持体103によって支持されていてもよい。スクライブラインを弾性体101及び支持体103側から観察(認識)する場合には、弾性体101及び支持体103は透明であることが好ましい。
また、弾性体101は、平面視した場合の最大外径サイズが、脆性材料基板1の直径よりも大きく、かつ、枠体3の内径よりも小さい、という関係をみたすように、設けられてなる。
分断に際し、脆性材料基板1を貼付してなる基板保持部材は、分断対象位置に設けられたスクライブラインSが押刃102の直下に位置し、かつ、スクライブラインSの延在方向が押刃102の延在方向と合致するように、弾性体101上に載置される。また、図2に示すように、押刃102としては、その長手方向のサイズが脆性材料基板1の直径よりも大きいものを使用する。
ブレーク装置100はさらに、枠体押下機構104を備える。枠体押下機構104は、脆性材料基板1を貼付してなる基板保持部材が弾性体101上に載置された状態において枠体3の上方となる位置に配置されてなる。枠体押下機構104は、図示しない駆動機構によって矢印AR1にて示すように鉛直方向に昇降自在とされてなり、下降時には枠体3に上方から当接して該枠体3を下方に押し下げることができるようになっている。
なお、図1および図2においては、押刃102の延在方向と直交する脆性材料基板1の直径方向において互いに離隔する一対の枠体押下機構104を備える態様を示しているが、枠体押下機構104の配置態様はこれに限られるものではない。例えば、さらに多くの枠体押下機構104が配置される態様であってもよく、あるいは、略環状の一の枠体押下機構104が枠体3の全体を上方から押下させる態様などでもよい。
図3は、ブレーク装置100において脆性材料基板1をスクライブラインSに沿って分断する際の様子を示す断面図である。
脆性材料基板1を分断するにあたっては、上述した配置関係にて脆性材料基板1を貼付してなる基板保持部材を配置した状態で、枠体押下機構104を下降させて枠体3に上方から当接させ、該枠体3を下方に押し下げる。係る押し下げは、枠体押下機構104が当接してなる枠体3の上面の高さ位置が、粘着フィルム2に貼付されてなる脆性材料基板1の下面(スクライブラインSが形成されてなる面)の高さ位置よりも低くなるように行う。また係る押し下げに伴って、粘着フィルム2のうち、脆性材料基板1と枠体3との間の部分2aが枠体3の方へと引き延ばされる。なお、図3に示すように、本実施の形態においては、脆性材料基板1および基板保持部材は弾性体101によって支持されているので、枠体3が押し下げられた状態においても枠体3が貼付されてなる部分の粘着フィルム2の下面と支持体103とは離隔していてよく、両者が接触する必要はない。
そして、このように枠体押下機構4によって枠体3を押し下げた状態において、矢印AR2に示すように押刃102を上方からスクライブラインSの形成位置に向けて下降させて脆性材料基板1に当接させ、さらに押刃102を押し込むように下降させる。
係る態様にて押刃102を押し込んだ場合、押刃102が当接している箇所に対し、下方に向いた力が加わる。すると、スクライブラインSからクラックが伸展し、いわゆる3点曲げ方式に準じる態様にて、脆性材料基板1は主面に垂直に分断される。
そして、一の分断対象位置(スクライブラインSの形成位置)における分断が終了すると、押刃102をいったん上方に待避させた後、押刃102もしくは弾性体101を図示しない駆動機構によって水平移動させることで両者を水平面内で相対移動させ、次のスクライブラインSの形成位置における分断を上述と同様の態様にて行う。
以降、少なくとも一の方向に平行な全ての分断対象位置に対する分断が終了するまでは、同様の処理動作を繰り返すことになるが、その際、脆性材料基板1の直径dと枠体3の内径Lとの大小関係によっては、図2に示すように脆性材料基板1の直径位置あるいはその近傍において分断を行う場合は問題がないものの、分断対象位置が脆性材料基板1の端部に近くなった場合、押刃102の配置位置が枠体3の配置位置と平面的に重なり合う。例えば、図4は、枠体3の一種である枠体3aが押刃102の最大移動範囲である矩形領域REと部分I1〜I4において平面的に重なり合う場合を示す図である。図4において、矩形領域REは一辺の長さが脆性材料基板1の直径dである領域である。
このような重なりが生じると、一見、下降した押刃102と枠体3とが接触・衝突する可能性が生じるようにもみられるが、本実施の形態においては、分断を行う間、上述したように枠体押下機構4によって枠体3が脆性材料基板1の下面よりも押し下げられていることから、分断のために押刃102を下降させた場合であっても、押刃102と枠体3とが衝突して枠体3および押刃102が破損することが生じないようになっている。
なお、一方で、図5に例示する枠体3bのように、貼付可能領域が十分大きい(より具体的には内径がdの2(1/2)倍より大きい)枠体を使用すれば、円形環状をなしている場合であっても、矩形領域REとの間に干渉を生じさせないようにすることは可能である。それゆえ、従来は係る枠体3bが使用されていた。しかしながら、係る枠体3bを使用した場合、粘着フィルム2において脆性材料基板1が貼り付けられない領域の面積が大きくなり過ぎてしまう。具体的には、枠体3bの内径を少なくとも2(1/2)dより大きくする必要があり、これは、貼付可能領域の面積を脆性材料基板1の面積の2倍より大きくする必要があることを意味する。通常、粘着フィルム2は消耗品であって、分断を行う脆性材料基板1ごとに新しく枠体に貼付されるものであるので、大きな面積の粘着フィルム2の使用は、コスト高の要因となる。
これに対して、本実施の形態の場合は、上述のように枠体3を押し下げることによって押刃102との接触・衝突を回避するようになっているので、枠体3の内径Lは、係る押し下げおよびこれに伴う粘着フィルム2の引き延ばしが可能な限りにおいて、小さくすることが可能である。すなわち、図5に示すに示す場合に比して、粘着フィルム2の使用面積を低減できるので、粘着フィルム2に掛かるコストを低減できる。具体的には、L<2(1/2)dなる範囲で内径Lを定めることもできる。1.2d≦L≦1.4dとするのがより好ましい。係る場合、粘着フィルム2の使用面積を十分に低減しつつ、脆性z最良基板1を好適に分断することが可能である。
例えば、脆性材料基板1が8インチ径のものであった場合、枠体3として、SEMI規格に準拠した8インチ用のダイシングフレームを用いることができる。同様に、脆性材料基板1が12インチ径のものであった場合、枠体3として、SEMI規格に準拠した12インチ用のダイシングフレームを用いることができる。すなわち、従来のように分断に際して脆性材料基板1のサイズに比して1サイズ大きな枠体3を用いる必要がなくなる。なお、分断後の脆性材料基板1を保持した基板保持部材はそのまま、分断によって得られた個片を離間させるために粘着フィルム2を引き延ばす(エキスパンドする)エキスパンド処理に供することができる。
以上、説明したように、本実施の形態に係るブレーク装置を用いることで、分断の際に押刃と枠体との接触・干渉を生じさせることがなく、かつ、粘着フィルムの使用面積を従来よりも低減することができ、分断に要するコストを低減することが可能となる。
1 脆性材料基板
2 粘着フィルム
3、3a、3b 枠体
4 枠体押下機構
100 ブレーク装置
101 弾性体
102 押刃
103 支持体
104 枠体押下機構
S スクライブライン

Claims (1)

  1. 脆性材料基板をあらかじめその一方主面側に形成されてなるスクライブラインからのクラック伸展によって分断するブレーク装置であって、
    円形環状の枠体に粘着フィルムが張設されてなり、かつ、前記脆性材料基板の前記一方主面側を前記粘着フィルムに貼付させてなり、前記枠体と前記脆性材料基板が同一平面上に位置する基板保持部材が、上面に載置される弾性体と、
    前記基板保持部材が前記弾性体上に載置された状態において前記脆性材料基板の他方主面側に当接可能に設けられた押刃と、
    鉛直方向に昇降自在に設けられてなり、下降時に前記枠体と接触して前記枠体を押し下げる枠体押下機構と、
    を備え、
    前記押刃を前記他方主面側の前記スクライブラインの形成位置に対応する位置に当接させることによって前記脆性材料基板を分断する間、前記枠体押下機構が前記枠体を前記脆性材料基板の前記一方主面よりも下方に押し下げる、
    ことを特徴とするブレーク装置。
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CN201510178420.3A CN105365052B (zh) 2014-08-28 2015-04-15 切断装置及切断装置的脆性材料基板的切断方法
TW104116537A TWI654062B (zh) 2014-08-28 2015-05-22 Breaking device and breaking method of brittle material substrate in breaking device

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7041341B2 (ja) * 2017-09-29 2022-03-24 日亜化学工業株式会社 発光素子の製造方法
JP6967276B2 (ja) 2017-12-28 2021-11-17 三星ダイヤモンド工業株式会社 ブレーク装置

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4989475A (ja) * 1972-12-27 1974-08-27
JPS5999709U (ja) * 1982-12-24 1984-07-05 株式会社日立製作所 セラミツク基板の分割治具
JPH01276740A (ja) * 1988-04-28 1989-11-07 Nec Kansai Ltd ペレタイズ方法
JP2696964B2 (ja) * 1988-07-21 1998-01-14 松下電器産業株式会社 セラミック基板の分割方法
JP2556856Y2 (ja) * 1991-07-10 1997-12-08 株式会社ディスコ ダイシング装置におけるフレームのクランプ機構
JPH05315446A (ja) * 1992-05-13 1993-11-26 Hitachi Ltd 半導体ウエハのブレーキング装置
JPH10284443A (ja) * 1997-04-08 1998-10-23 Hitachi Ltd ブレーキング方法および装置
JPH11160664A (ja) * 1997-11-27 1999-06-18 Seiko Epson Corp 基板の切断方法、基板の切断装置及び液晶表示装置の製造方法
JP2003179001A (ja) * 2001-12-10 2003-06-27 Nec Kansai Ltd 半導体装置の製造方法
JP5037138B2 (ja) * 2005-01-05 2012-09-26 Thk株式会社 ワークのブレイク方法及び装置、スクライブ及びブレイク方法、並びにブレイク機能付きスクライブ装置
JP2007317935A (ja) 2006-05-26 2007-12-06 Canon Inc 半導体基板、基板割断方法、および素子チップ製造方法
DE102007033242A1 (de) * 2007-07-12 2009-01-15 Jenoptik Automatisierungstechnik Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Trennen einer Planplatte aus sprödbrüchigem Material in mehrere Einzelplatten mittels Laser
TWI430968B (zh) * 2008-04-28 2014-03-21 Mitsuboshi Diamond Ind Co Ltd Fracture material of brittle material and cracking method of brittle material
JP5310278B2 (ja) * 2009-06-05 2013-10-09 三星ダイヤモンド工業株式会社 ブレイクバー
JP5489808B2 (ja) * 2010-03-25 2014-05-14 株式会社ディスコ 半導体デバイスの製造方法
JP5879698B2 (ja) 2011-03-02 2016-03-08 富士電機株式会社 半導体基板のエキスパンド装置およびエキスパンド処理方法
JP5374545B2 (ja) * 2011-06-01 2013-12-25 三星ダイヤモンド工業株式会社 基板分断装置
JP5451720B2 (ja) * 2011-11-21 2014-03-26 三星ダイヤモンド工業株式会社 基板ブレーク方法
JP6039363B2 (ja) 2012-10-26 2016-12-07 三星ダイヤモンド工業株式会社 脆性材料基板の分断方法並びに分断装置
JP6043150B2 (ja) * 2012-10-29 2016-12-14 三星ダイヤモンド工業株式会社 積層脆性材料基板のブレイク装置および積層脆性材料基板のブレイク方法

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KR20160026634A (ko) 2016-03-09
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CN105365052A (zh) 2016-03-02

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