JP6301658B2 - ウェーハの加工方法 - Google Patents
ウェーハの加工方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6301658B2 JP6301658B2 JP2014004995A JP2014004995A JP6301658B2 JP 6301658 B2 JP6301658 B2 JP 6301658B2 JP 2014004995 A JP2014004995 A JP 2014004995A JP 2014004995 A JP2014004995 A JP 2014004995A JP 6301658 B2 JP6301658 B2 JP 6301658B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adhesive tape
- annular frame
- wafer
- expansion
- frame
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 22
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 claims description 153
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 47
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 30
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 20
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 7
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 124
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 19
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 7
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 7
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 3
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Images
Description
12 チャックテーブル
14 レーザー照射手段
21 拡張装置
22 保持手段
23 押圧部材
27 当接部
31 フレーム搬送手段
33 ヒータ
35 ウェーハ搬送手段
37 カッター部
41 ウェーハの表面
42 ウェーハの裏面
43 改質層(分割起点)
45 分割予定ライン
47 粘着層
51 分割治具
C チップ
D デバイス
F1 第一の環状フレーム
F2 第二の環状フレーム
T 粘着テープ
W ウェーハ
Claims (2)
- 表面に複数のデバイスが分割予定ラインによって区画されたウェーハの加工方法であって、
第一の環状フレームの開口中央にウェーハを位置付け、延性を持つ粘着テープを介して該第一の環状フレームにウェーハを貼着する粘着テープ貼着工程と、
複数の分割予定ラインに沿って分割起点を形成する分割起点形成工程と、
該粘着テープ貼着工程及び該分割起点形成工程を実施した後に、該第一の環状フレームの開口より小さくウェーハの外径より大きい径を持つ筒状の押圧部材と、該第一の環状フレームを保持する保持手段とを備える拡張装置に該第一の環状フレームに固定されたウェーハを載置する拡張準備工程と、
該拡張準備工程を実施した後に、該押圧部材と該保持手段を軸方向に相対移動させてウェーハが貼着された該粘着テープを拡張し、ウェーハを該分割起点が形成された該分割予定ラインに沿って個々のチップに分割するとともに、各チップ間に間隙を形成する粘着テープ拡張工程と、
該第一の環状フレームの開口に収容可能な外径と、各チップ間に間隙が形成されたウェーハを収容可能な開口とを備えた第二の環状フレームを、フレーム搬送手段によって該押圧部材の上方に搬送して準備する第二の環状フレーム準備工程と、
該粘着テープ拡張工程を実施した後に、該第一の環状フレームに粘着されたウェーハが該第二の環状フレームの開口中央となる位置で該第二の環状フレームを該粘着テープ上に載置し貼付して、該粘着テープを第二の環状フレームに沿って切断してウェーハを該粘着テープを介して該第二の環状フレームに移し替える環状フレーム移し替え工程と、を含み、
該環状フレーム移し替え工程において、該フレーム搬送手段で加熱された該第二の環状フレーム及び該押圧部材の少なくとも一方によって該粘着テープを、該粘着テープの粘着層が流動する温度に加熱しながら該粘着テープ上に該第二の環状フレームを貼着することを特徴とするウェーハの加工方法。 - 該粘着テープ拡張工程は、ウェーハの直径以上で且つ該筒状の押圧部材内に配設されたバー形状の分割治具を、ウェーハの該分割予定ラインに該粘着テープを介して接触させて該分割予定ラインに曲げ応力を作用させて、個々のチップに分割すること、を特徴とする請求項1に記載のウェーハの加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014004995A JP6301658B2 (ja) | 2014-01-15 | 2014-01-15 | ウェーハの加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014004995A JP6301658B2 (ja) | 2014-01-15 | 2014-01-15 | ウェーハの加工方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015133442A JP2015133442A (ja) | 2015-07-23 |
JP6301658B2 true JP6301658B2 (ja) | 2018-03-28 |
Family
ID=53900432
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014004995A Active JP6301658B2 (ja) | 2014-01-15 | 2014-01-15 | ウェーハの加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6301658B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102016211044B4 (de) * | 2016-06-21 | 2024-02-15 | Disco Corporation | Verfahren zum Bearbeiten eines Wafers und Waferbearbeitungssystem |
DE102017201154A1 (de) | 2017-01-25 | 2018-07-26 | Disco Corporation | Verfahren zum Bearbeiten eines Wafers und Waferbearbeitungssystem |
JP6901909B2 (ja) * | 2017-06-05 | 2021-07-14 | 株式会社ディスコ | エキスパンド方法及びエキスパンド装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0541451A (ja) * | 1991-08-06 | 1993-02-19 | Sony Corp | 半導体ウエハのペレタイズ方法と装置 |
JP4361516B2 (ja) * | 2005-06-10 | 2009-11-11 | キヤノンマシナリー株式会社 | ウェーハ分割方法 |
JP2007134527A (ja) * | 2005-11-11 | 2007-05-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | エキスパンド装置および半導体装置製造方法 |
JP4772559B2 (ja) * | 2006-03-31 | 2011-09-14 | 株式会社ディスコ | チップ間隔維持方法及びチップ間隔維持装置 |
JP2011166002A (ja) * | 2010-02-12 | 2011-08-25 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの加工方法 |
-
2014
- 2014-01-15 JP JP2014004995A patent/JP6301658B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015133442A (ja) | 2015-07-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7507639B2 (en) | Wafer dividing method | |
US7329564B2 (en) | Wafer dividing method | |
JP5354149B2 (ja) | エキスパンド方法 | |
KR101160200B1 (ko) | 웨이퍼의 분할방법 | |
US20070128834A1 (en) | Wafer dividing method | |
KR102210284B1 (ko) | 웨이퍼의 가공 방법 | |
JP2005019525A (ja) | 半導体チップの製造方法 | |
JP2011166002A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP6457231B2 (ja) | ウエーハの分割方法 | |
JP2010050416A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP6308632B2 (ja) | ウェハを分割する方法 | |
JP6013859B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP2019220700A (ja) | ウェハの処理方法およびウェハ処理システム | |
JP2019208047A (ja) | ウェーハを加工する方法およびウェーハ加工システム | |
JP6301658B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP2017050404A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP6998545B2 (ja) | 素子チップの製造方法 | |
JP2004193241A (ja) | 半導体ウエーハの分割方法 | |
TW201842559A (zh) | 分割方法 | |
JP6298699B2 (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP2014086611A (ja) | 板状物の分割方法 | |
CN105679709A (zh) | 晶片的加工方法 | |
JP2016111121A (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP2013191718A (ja) | 被加工物の分割装置及び分割方法 | |
US9704749B2 (en) | Method of dividing wafer into dies |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161117 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170712 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170718 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170915 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180206 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180301 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6301658 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |