JP6673927B2 - 多層デバイスを製造するための方法および多層デバイス - Google Patents

Description

本出願は、電子多層デバイスを製造するための方法ならびに多層デバイスに関する。たとえばこの多層デバイスは、自動車における噴射バルブの駆動に使用することができるピエゾアクチュエータとして形成されている。

特許文献１には、このような多層デバイスを製造するための方法が開示されており、この方法では、毛細管効果を利用することで１つの絶縁領域が絶縁材料で充填される。

独国特許出願公開第１０２０１２１０５２８７号公報

本発明の課題は、多層デバイスの製造のための改善された方法および改善された特性を有する多層デバイスを提供することである。

これらの課題は、請求項１に記載の方法ならびに第２の独立請求項に記載の多層デバイスによって解決される。

多層デバイスを製造するための方法が提示され、この方法では、まず１つの本体が製造される。この本体は、上下に重なって配設された導電性の層(複数）および誘電性の層（複数）を備え、ここでこの本体は少なくとも１つの凹部を備える。次の処理ステップにおいて、この凹部は、少なくとも部分的に１つの絶縁材料を用いて、毛細管力を利用して充填される。次の処理ステップにおいて、上記の本体は、少なくとも２つの基体に個々に分離される。この個々に分離するステップは、上記の凹部の少なくとも部分的な充填が行われた後に漸く実施される。さらに、これらの個々に分離された基体の表面上に１つのパッシベーション層が取り付けられ、ここでこのパッシベーション層は、上記の絶縁材料と異なる材料を含んでいる。

これに対応して本方法を用いて製造される多層デバイスは、１つの基体を備え、この基体は上下に重なって積層された導電性の層(複数）および誘電性の層(複数）、ならびに少なくとも部分的に絶縁材料を用いて充填された凹部(複数）を備える。さらに本多層デバイスは、１つのパッシベーション層を備え、このパッシベーション層は、上記の基体の表面を覆っており、その材料は上記の絶縁材料とは異なっている。

従来技術で知られた製造方法では、上記の基体はまず多層デバイス（複数）に個々に分離され、そして続いて漸くその凹部(複数）が絶縁材料で充填されていた。

しかしながらこの従来のやり方は不利であることが判明した。この個々の分離では上記の基体がソーイングされる。このソーイングは、切削水の中で行われる、この切削水には特定の添加物質(複数）が添加されている。ここで上記の凹部(複数）の充填の前にこの個々の分離が行われると、この個々の分離の際に、この切削水がこれらの凹部に浸入する。特に上記の添加物質はこれらの凹部に残り、後でこれらの凹部から溶かし出すことはもはやできなくなる。これらの添加物質は、完成した多層デバイスにおいては、この多層デバイスの電気的特性の悪化をもたらす。

ここで本発明で提案するように、上記の凹部(複数）を、上記の個々の分離の前に絶縁材料で充填すると、これによりこの個々の分離の際に切削水がこれらの凹部に浸入しかねないことを防止することができる。これに対応して、この切削水に含まれる添加物質は、最早この基体においてその凹部の中に沈着せず、またこれに対応して最早この多層デバイスの電気特性を悪化させることがない。以上のように、ここに記載する方法は、改善された電気的特性を有する多層デバイスをもたらすものである。

さらに上記の本体を基体に個々に分離することによって、ソーイングによる個々の分離から生じる多数の鋭いエッジが生成される。これらのエッジは、機械的損傷を極めて受けやすい。したがってこれらの鋭いエッジでの損傷の虞を出来る限り低くするため、原則として、多数の多層デバイスがまとまっている上記の本体で製造方法の出来る限り多くのステップが前倒しで実施される。

さらにこのような本体を取り扱うための手間は、個々に分離された多層デバイスの場合に対する手間よりも大幅に少ない。この個々に分離された多層デバイスは、個々の部品の取り扱いを必要とする。

本方法のもう１つの利点は、この方法が上記の絶縁材料の材料を自由に選択することを可能とすることである。本方法は、この絶縁材料が上記の充填される凹部にのみ配設されるようにするために用いることができる。

ここに記載する方法によれば、上記の絶縁材料および上記のパッシベーション層は、２つの互いに分離された処理ステップにおいて取り付けられる。これに対応して上記の絶縁材料および上記のパッシベーション層の材料用に同じ材料を用いることは必要ではない。むしろ本発明による方法は、これら２つの層の各々に対し、それぞれの要求仕様に合わせた１つの材料を選択することを可能とする。

ここで上記の絶縁材料は、この絶縁材料が非常に良好な流動特性を備えるように選択されなければならない。これはその拡がりが数マイクロメータの範囲であり得る、極めて薄い凹部に中に浸入しなければならないからである。 これにはたとえば柔らかな、低粘度のエラストマが適している。この絶縁材料は、溶剤を全く含んではならず、そして無機充填材を全く含んではならない。さらにこの材料は、高い絶縁破壊耐性を備えなければならない。

１つの基体の活性な側面（複数）上に取り付けられている上記のパッシベーション層は特に、高い絶縁破壊耐性を示さなければならない。これはこのパッシベーションが上記の多層デバイスの損傷および／または故障を防止しなければならないからである。

上記のパッシベーション層の材料は、上記の多層デバイスへの幾何形状的な要求仕様に小さな許容誤差で適合することを可能とするために、好ましくは限定された流動性を備えなければならない。さらにこの材料は、上記の多層デバイスの運搬性および取扱いを容易とするために、規定された最小硬度を備えなければならない。

以上のように上記のパッシベーション層の材料および上記の絶縁材料への要求仕様は、部分的に相反するものであり、特にそれぞれの材料の流動特性に関して相反するものである。このため上記の絶縁材料および上記のパッシベーション層の材料には異なる材料が用いられる。

上記の本体においては、導電性の層(複数）と誘電性の層(複数）とが積層方向に上下に重なって積層されていてよく、ここで上記の凹部はこの積層方向に対して垂直な方向に延伸している。具体的にはこれらの凹部は、この本体の外面に配設されていてよい。これらの凹部は、上記の導電性の層(複数）に沿って延在してよく、そしてこれらの導電性の層の端部を覆っていてよい。

上記の凹部を上記の絶縁材料で充填する前に、上記の本体上で、各々の多層デバイスに対する第１および第２の外面上に各々１つの外部接続部が取り付けられてよく、この外部接続部は上記の凹部を部分的に覆っており、そして積層方向に延伸している。これらの外部接続部は、上記の導電性の層の電気的接続部として用いることができる。

上記の本体上に隣り合って配設されている２つの外部接続部の間には、それぞれ１つの間隙が残っており、「上記の凹部を上記の絶縁材料で充填する」処理ステップにおいて、１つおきの各々の間隙上で積層方向に絶縁材料を取り付けることができる。

各々の１つおきの間隙に狙いを定めて上記の絶縁材料を取り付けることによって、毛細管力を利用して上記の凹部(複数）への上記の絶縁材料の速い引き込みを可能とすることができる。ここでこの絶縁材料は、上記の絶縁材料で充填された間隙からそれぞれの凹部の中へ引き込まれ得る。同時にこれらの凹部からの空気は、絶縁材料で充填されていない間隙へ逃げ出す。このようにしてこれらの凹部に気泡が残ることを防ぐことができる。こうしてこれらの凹部の均等な充填を可能とすることができる。特にこのようなやり方の充填は、短時間の充填を行うことを可能とする。これに対応する処理ステップは２０分未満で実施することができる。ここでこのステップは、上記の２つの外面の各々に対し、別々に実施することができ、ここでそれぞれの処理時間は２０分未満となっている。

さらにここで上記の外部接続部は、バリヤとして利用することができる。具体的にはこの外部接続部は、上記の絶縁材料が、望ましくない上記の多層デバイスの領域への流れ込むことを防ぐことができる。ここでこの外部接続部は、この絶縁材料が上記の基体の反対側の面に到達することを防ぐこともできる。

上記の絶縁材料は、充填材を含まないシリコーンエラストマーであってよい。具体的には、この絶縁材料は、無機充填材料を含まないものであってよい。このような絶縁材料は、絶縁材料への上述の要求仕様を特に良好に満足し、そしてその低粘度を特徴としている。

上記のパッシベーション層は、無機充填材を含むシリコーンエラストマーを含んでよい。この充填材は、酸化ケイ素であってよい。この無機充填材は、このパッシベーション層の材料の３０〜７０重量％の分量を有してよく、好ましくは４０〜６０重量％の分量を有してよい。このパッシベーション層が、無機充填材を含む上記のシリコーンエラストマーから成っていると、このパッシベーション層は、上述の要求仕様を良好に満足することを可能とする大きな粘度を示す。さらにこのパッシベーション層は高い絶縁破壊耐性を示す。この充填材は、酸化ケイ素であってよい。

上記の凹部は、１つの導電性の層に接していてよく、そしてここでこの導電性の層の端部を覆っていてよい。これに対応して、絶縁材料で充填されているこれらの凹部は、外部接続部に対してこの導電性の層を絶縁するために用いることができる。

本発明のもう１つの態様は、多層デバイスに関する。ここで具体的にはこの多層デバイスは、上述の方法で製造された多層デバイスであってよい。これに応じて、上記の方法に関連して開示されたいかなる構造的または機能的特徴もこの多層デバイスにも当てはまるものであり、またこの逆も成り立つ。

上下に重なって配設された導電性の層(複数）と誘電性の層(複数）とを有する１つの多層デバイスが提示され、さらにここで上記の基体は、少なくとも部分的に１つの絶縁材料で充填されている１つの凹部を備え、そしてこの多層デバイスは、１つのパッシベーション層を備え、このパッシベーション層は、この基体を少なくとも部分的に覆っており、そしてこの絶縁層と異なる材料を含んでいる。

既に上記の方法に関連して説明されたように、上記のパッシベーション層用に、上記の絶縁材料と異なる材料を選択することが有利である。これはこれら両者の材料に対して異なる要求仕様、むしろ部分的に相反する要求仕様が設定されているからである。

さらに本多層デバイスは、この多層デバイスの１つの外面上に配設されている１つの外部接続部を備え、ここで上記の絶縁材料は、上記の導電性の層とこの外部接続部との間に配設されており、そして上記のパッシベーション層は、この外部接続部によって覆われていない、この多層デバイスの表面を覆っている。これに対応して、上記の基体の表面は、各々の部位でこのパッシベーション層かまたはこの外部接続部によって覆われていてよい。

上記のパッシベーション層は、１つの無機充填材を含む１つのシリコーンエラストマーを含んでよく、そして上記の絶縁材料は、充填材を含んでいない１つのシリコーンエラストマーを含んでよい。

以下に上記の多層デバイス多層および上記の製造方法を、概略的かつ寸法が正確でない図を参照して詳細に説明する。

最初の処理時点での１つの本体の斜視図を示す。この本体から多層デバイス(複数）が作製される。 後の処理時点での上記の本体の断面を示す。 さらに後の処理時点での上記の本体を示す。 図３に示す処理ステップの代替の処理ステップを示す。 完成した１つの多層デバイスを示す。 様々な材料組合せを有する多層デバイスに対する絶縁破壊による故障確率を示すグラフを示す。

以下に多層デバイス（複数）の製造のための方法が説明される。図１は、１つの本体１を示し、この本体は後の処理ステップにおいて複数の多層デバイスに個々に分離される。

図１に示す本体１は、棒状に形成されており、そして後で図示された分離線Ｔに沿って多層デバイス用の複数の基体２に分割される。たとえば、これらの多層デバイスは、圧電アクチュエータとして形成されている。

上記の本体１、および以上のように、後にこの本体から形成される基体２は、誘電性の層(複数）３を備え、これらの層は、積層方向Ｓに沿って上下に重なって配設されている。これらの誘電性の層３の間には第１および第２の導電性の層４，５が配設されている。これらの誘電性の層３は、たとえば１つのセラミック材料を含んでいる。好ましくはこれらの誘電性の層３は、圧電性の層として形成されており、具体的にはこれらは１つの圧電セラミック材料を含む。

図１に示す処理状態においては、本体１は既に焼結されている。とりわけ好ましくは、この本体１は、１つのモニリシックな焼結体であり、こうして上記の導電性の層４，５は、上記の誘電性の層３と一緒に焼結されている。１つの代替の実施形態例においては、図示されている本体１はグリーン状態で存在している。

第１の導電性の層(複数）４は、第２の導電性の層(複数）５と交互に、積層方向Ｓに沿って配設されている。これらの第１の導電性の層４は、第３の側面６まで達しており、これに対し第２の導電性の層(複数）５は、この第３の側面６から離間している。この第３の側面６上には、１つの第１の補助電極７が配設されており、この補助電極は第１の導電性の層４と接続されている。第２の導電性の層(複数）５は、第４の側面８まで達しており、これに対し第１の導電性の層(複数）４は、この第４の側面８から離間している。この第４の側面８上には、１つの第２の補助電極が配設されており、この補助電極は第２の導電性の層５と電気的に接続されている。

これらの導電性の層４，５は金属を含んでいる。好ましくはこれらの導電性の層４，５は、銅を含み、あるいは銅から成っている。他の実施形態においては、これらの導電性の層４，５は、たとえば銀または銀−パラジウムを含んでいてよい。

さらに図１には、１つの基体２に対し、１つの外部接続部１３が示されている。ただしこの外部接続部は、この処理時点では、まだこの本体には取り付けられていない。

次の処理ステップにおいて、まず導電性の層４，５の材料が除去され、こうして凹部(複数）１０が生成され、これらの凹部は、積層方向Ｓに対して垂直方向に延伸している。図２はこの処理ステップを実施した後の本体１を、１つの分離線Ｔに沿った断面で示している。

この材料除去は、たとえば電気的に制御されたエッチングプロセスによって行われる。この際、上記の第１の補助電極７を介して、上記の導電性の層(複数）４に、あるいは上記の第２の補助電極７を介して、上記の導電性の層(複数）５に、電流が印加され、そしてこれらの層が１つの化学エッチング溶液、たとえばＮａ₂Ｓ₂Ｏ₈に浸漬され、こうしてこれらの電極、たとえばＣｕ電極が、それぞれの導電性の層４，５から溶出される。このエッチングプロセスは、本体１が後の処理ステップにおいて個々に分離される前に、この本体１で実施される。

このエッチングプロセスでは、本体１の上記の第１の側面１１上の第１の導電性の層(複数）４の領域が除去され、こうしてここで凹部(複数）１０が生成される。さらにこの選択的エッチングプロセスでは、本体１の上記の第２の側面１２上の第２の導電性の層(複数）５の領域が除去され、こうしてここで凹部(複数）１０が生成される。これらの凹部１０は、積層方向Ｓに沿って３μｍ〜５μｍの幅を備える。

次の処理ステップにおいては、本体１の上記の第１の側面１１上に第１の外部接続部１３が配設され、そしてこの本体１の上記の第２の側面１２上に第２の外部接続部が配設される。この第２の側面１２は、上記の第１の側面１１の反対側にある。第１の外部接続部１３は、本体１が後で個々に分離されて上記の基体２となるように、これらの基体の各々が、それぞれ１つの第１の外部接続部１３をこの第１の側面１１上に備え、そして１つの第２の外部接続部をこの第２の側面上に備えるように取り付けられる。ここでこれらの外部接続部１３は、それぞれの基体２上で、積層方向に延伸している。２つの隣接した外部接続部１３の間には、それぞれ１つの間隙１５があり、この間隙にはこの外部接続部１３は無い。

以上に対応して、積層方向Ｓに垂直な方向において、上記の外部接続部１３と上記の間隙１５とが交互になっている。

各々の外部接続部１３は、１つの焼結されたベースメタライジング部を備え、このベースメタライジング部は具体的には焼結された銀層から成っている。さらにこの外部接続部１３は、１つのコンタクト部材を備え、このコンタクト部材は、この焼結されたベースメタライジング部と接続されている。

図３は、次の処理ステップを示し、この処理ステップでは、本体１の第１の側面１１上の凹部(複数）１０が充填される。この本体１は、第２の側面１２で設置されており、こうして第１の側面１１は地面側には向いていない。

この第１の側面１１上に、積層方向Ｓに対し垂直な方向Ｒにおいて、１つおきの間隙１５が、絶縁材料１６で覆われる。この絶縁材料１６は、シリコーンエラストマーであってよく、このシリコーンエラストマーには無機充填材料が含まれていない。

ここで毛細管力によって、この絶縁材料１６が上記の凹部(複数）１０に引き込まれる。この際この絶縁材料１６は、第１の間隙１５ａから凹部１０の中へ浸入し、ここで同時にこの第１の間隙１５ａに隣接し、かつ絶縁材料１６が充填されていない第２の間隙１５ｂにおいて、この投入される絶縁材料によって押されることによって空気が逃げ出すことができる。このようにして凹部(複数）１０に気泡が残ることが防止される。この本体１の凹部１０の充填の処理が終了すると、以上により第１の側面１１上の全ての凹部１０は、少なくとも部分的に絶縁材料１６で充填されている。特に各々の凹部１０は、完全に絶縁材料１６で充填されていてよい。

続いて、ここでこの本体１は裏返されて、上記の第１の側面を地面側にして設置されるこうして図３に示す処理ステップは、第２の側面１２に対して繰り返される。ここでも絶縁材料１６が、この第２の側面１２上で、積層方向Ｓに対して垂直な方向Ｒにおいて、１つおきの間隙１５に、絶縁材料１６が塗布される。毛細管力によって、この絶縁材料１６は、この第２の側面１２上の凹部(複数）１０の中へ引き込まれ、こうしてこのステップが終了した後は、この第２の側面１２上の全ての凹部１０が、少なくとも部分的に、好ましくは完全に、絶縁材料１６によって充填されている。

図４は、図３に示す、毛細管力を利用して凹部１０を絶縁材料１６で充填する処理ステップの、１つの代替の可能性を示す。この図４に示す実施形態例では、本体１は第３の側面６が、充填材１６で満たされたシンクに浸漬される。毛細管力のために、この充填材１６は、凹部(複数）１０に沿って、上昇し、そしてここでこれらの凹部を少なくとも部分的に充填する。

この代替の実施形態例の利点は、これが第１および第２の側面１１，１２を、１つの単一の処理ステップにおいて、絶縁材料１６で充填することを可能とするということである。しかしながら、図４に示す処理ステップは、凹部１０を充填するために長い時間を必要とする。これはこの絶縁材料１６が長い距離に渡って、この毛細管力によって移動しなければならないからである。これが、たとえ第１および第２の側面１１，１２がこうして互いに別々に処理されたとしても、図３に示す実施形態例の処理を速く実行することができる理由である。

凹部１０絶縁材料１６で充填した後、この絶縁材料は、たとえば８０℃〜１２０℃の温度で、好ましくは１００℃の温度で、１０分〜２０分、好ましくは１５分間でゲル化される。このゲル化によって、気泡の形成が防止される。続いてこの絶縁材料１６は、たとえば１２０℃〜１８０℃の温度で、好ましくは１５０℃の温度で、３０分〜１２０分、好ましくは６０分間で硬化される。

凹部(複数）１０が絶縁材料１６で充填され、場合により、この絶縁材料のゲル化および硬化のさらなるステップが行われた後、この本体１は、分離線Ｔに沿って基体２に個々に分離される。次の処理ステップにおいて、ここで１つのパッシベーション層１７が、この基体２の、外部接続部１３によって覆われていない側面(複数）上に取り付けられる。このパッシベーション層１７は、１つの無機充填材を含む１つのシリコーンエラストマーである。

こうして図５に示す多層デバイスが生成される。図５に示すように、この多層デバイスの活性な側面（複数）１８は、外部接続部１３によって覆われていない領域においては、パッシベーション層１７によって覆われている。この多層デバイスの端面１９は、このパッシベーションが無いままとなっている。活性な側面１８とは、圧電アクチュエータとしてこの多層デバイスの動作の際にその延びが変化する側面のことを意味する。これらの側面１８は、それぞれ積層方向Ｓに対して垂直な方向となっている面法線を備える。端面１９とは、圧電アクチュエータとしてこの多層デバイスの動作の際にその延びが殆ど変化しないままである、この多層デバイスの側面のことを意味する。これらの端面１９は、それぞれ積層方向Ｓを示す面法線を備える。

図６は、絶縁材料１６およびパッシベーション層１７の材料の、様々な材料組合せを有する多層デバイスに対する絶縁破壊による故障確率に関するグラフを示す。ここで横軸には上記の多層デバイスに印加された電圧が対数表示で記載されている。縦軸上には、故障確率がパーセントで示されており、この故障確率は、検査されたそれぞれの材料組合せの多層デバイスのどの位の割合が、それぞれの印加される電圧で絶縁破壊のために故障するかを表している。これらの数値もまた同様に対数表示で記載されている。

曲線Ｋ１は、本多層デバイスの好ましい実施形態例に対する故障確率を表し、この多層デバイスでは、絶縁材料１６として無機充填材を含まない１つのシリコーンエラストマーが塗布されており、そしてパッシベーション層１７の材料として５０重量％の酸化ケイ素を充填材として混入されているシリコーンエラストマーが塗布されている。

曲線ＫＲは、比較例を示し、この比較例では上記の絶縁材料１６およびパッシベーション層１７に同じ材料が用いられている。ここではそれぞれ、無機充填材を含んでいない１つのシリコーンエラストマーが用いられている。図６は、本発明の好ましい実施形態例では、大幅に大きな印加電圧で、漸く絶縁破壊による故障が起こることが明らかである。

ここに記載する方法は、上記のパッシベーション層１７に対し、上記の絶縁材料１６に対するものとは別の材料を利用することを可能とする。凹部１０を充填するための毛細管力を利用することを可能とするため、この絶縁材料１６は、低粘度でなくてはならず、すなわちこの絶縁材料は、大きな流動性を備えていなければならない。ここで記載する方法は、このパッシベーション層１７に別の材料を使用することを可能とするので、このパッシベーション層１７にはこのような制限は適用されない。これに対応して、このパッシベーション層１７は、これが高い電気的絶縁破壊耐性を備えるように、そして本多層デバイスが、衝撃による損傷に対しより良好に保護され得るように選択することができる。さらにこのパッシベーション層１７の材料は、機械的な損傷に対する保護用に最適化することもできる。

１ ： 本体
２ ： 基体
３ ： 誘電性の層
４ ： 第１の導電性の層
５ ： 第２の導電性の層
６ ： 第３の側面
７ ： 第１の補助電極
８ ： 第４の側面
１０ ： 凹部
１１ ： 第１の側面
１２ ： 第２の側面
１３ ： 外部接続部
１５ ： 間隙
１５ａ ： 第１の間隙
１５ｂ ： 第２の間隙
１６ ： 絶縁材料
１７ ： パッシベーション層
１８ ： 活性な側面
１９ ： 端面

Ｓ ： 積層方向
Ｒ ： 積層方向Ｓに対し垂直な方法
Ｔ ： 分離線

Claims (8)

1. 多層デバイスを製造するための方法であって、
   上下に重なって配設された複数の導電性の層（４，５）および複数の誘電性の層（３）を備える１つの本体（１）を製造するステップＡ）であって、当該本体（１）が少なくとも１つの凹部（１０）を備えるステップＡ)と、
   前記凹部（１０）を、少なくとも部分的に１つの絶縁材料（１６）を用いて、毛細管力を利用して充填するステップＢ）と、
   前記本体（１）を、少なくとも２つの基体（２）に個々に分離するステップＣ）であって、当該ステップＣ）が、前記ステップＢ）の後に実施されるステップＣ）と、
   個々に分離された前記基体（２）の表面上に１つのパッシベーション層（１７）を取り付けるステップＤ）であって、当該パッシベーション層（１７）は、前記絶縁材料（１６）と異なる材料を含んでいるステップＤ）と、
   を備え、
   前記パッシベーション層（１７）は、無機充填材を含むシリコーンエラストマーを含む、
   ことを特徴とする方法。
2. 前記ステップＢ）の前に、前記本体（１）上で、各々の基体（２）に対する第１の側面（１１）および第２の側面（１２）上に各々１つの外部接続部（１３）が取り付けられ、当該外部接続部は前記凹部（１０）を部分的に覆っており、そして積層方向に延伸していることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
3. 請求項２に記載の方法において、
   隣り合って配設されている２つの外部接続部（１３）の間には、それぞれ１つの間隙（１５，１５ａ，１５ｂ）が残っており、
   前記ステップＢ）において、１つおきの各々の間隙（１５ａ）上で積層方向（Ｓ）に前記絶縁材料（１６）が取り付けられる、
   ことを特徴とする方法。
4. 前記絶縁材料（１６）は、充填材を含まないシリコーンエラストマーであることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の方法。
5. 前記凹部（１０）は、１つの導電性の層（４，５）に接しており、そして当該導電性の層（４，５）の端部を覆っていることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の方法。
6. 多層デバイスであって、
   上下に重なって配設された複数の導電性の層（４，５）および複数の誘電性の層（３）を有する１つの基体（２）を備え、
   前記基体（２）が１つの凹部（１０）を備え、当該凹部は、少なくとも部分的に１つの絶縁材料（１６）によって充填されており、
   前記多層デバイスは、前記基体（２）の１つの側面（１１，１２）上に配設されている１つの外部接続部（１３）をさらに備え、
   前記多層デバイスは１つのパッシベーション層（１７）を備え、当該パッシベーション層は、前記基体（２）を少なくとも部分的に覆っており、前記外部接続部（１３）は覆っておらず、そして前記絶縁材料（１６）と異なる材料を含んでおり、
   前記パッシベーション層（１７）は、無機充填材を含むシリコーンエラストマーを含む、
   ことを特徴とする多層デバイス。
7. 請求項６に記載の多層デバイスにおいて、
   前記絶縁材料（１６）は、前記導電性の層（４，５）と前記外部接続部（１３）との間に配設されており、
   前記パッシベーション層（１７）は、前記外部接続部（１３）によって覆われていない、前記基体（２）の表面を覆っている、
   ことを特徴とする多層デバイス。
8. 前記絶縁材料（１６）は、充填材を含まないシリコーンエラストマーであることを特徴とする、請求項６又は７に記載の多層デバイス。

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