JP6659323B2 - シリカ膜形成用組成物、シリカ膜の製造方法およびシリカ膜 - Google Patents
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Description
但し、前記Si−H積分値の総合計は、下記条件1のS1およびS2段階を順次に行って算出する。
S1.ケイ素含有重合体をジブチルエーテル(Dibutylether、DBE)溶媒に添加して固形分含有量15±0.1質量%のサンプル1を準備し、次に前記サンプル1をCDCl3(Chloroform−d)溶媒で20%希釈してサンプル2を準備する。
前記ジブチルエーテルの積分値を40と仮定し、前記ケイ素含有重合体に存在するSi−H1およびSi−H2に相当するピーク(ピークB)、そしてSi−H3に相当するピーク(ピークC)の積分値をそれぞれ算出する。その後、前記ピークBおよび前記ピークCの合計を算出してSi−H1、Si−H2およびSi−H3の積分値の合計とする。
前記「*」は、連結地点(ないし連結箇所ないし連結部位ないし連結部分)を意味する。
前記「*」は、連結地点(ないし連結箇所ないし連結部位ないし連結部分)を意味する。
S1.ケイ素含有重合体をジブチルエーテル(Dibutylether、DBE)溶媒に添加して固形分含有量15±0.1質量%のサンプル1を準備し、続いて前記サンプル1をCDCl3(Chloroform−d)溶媒で20%希釈してサンプル2を準備する。
前記ジブチルエーテルの積分値を40と仮定し、前記ケイ素含有重合体に存在するSi−H1およびSi−H2に相当するピーク(ピークB)、そしてSi−H3に相当するピーク(ピークC)の積分値をそれぞれ算出する。その後、前記ピークBおよび前記ピークCの合計を算出して、Si−H1、Si−H2およびSi−H3の積分値の合計とする。
アルミニウム皿にサンプル1gを入れて、160℃で20分間ホットプレートでベークし、ベーク前後の減量された重量を求める。ベーク前後の重量には、いずれもアルミニウム皿の重量は含めないものとする。
前記シリカ膜形成用組成物は、前記塗布する段階で塗布でき、例えばスピン−オンコーティング、スリットコーティング、インクジェット印刷などのような方法で塗布することができる。
比較例1
容量2Lの撹拌機と温度制御装置付き反応器の内部を乾燥窒素に置換した。そして、乾燥ピリジン1,500gを反応器に注入して十分に混合した後、反応器に入れたまま混合後の乾燥ピリジンを20℃で保温した。次に、反応器内にジクロロシラン100gを1時間にわたって徐々に注入した。そして、反応器内(の溶液)を攪拌しながら、反応器内にアンモニア70gを3時間にわたって徐々に注入した。次に、反応器内に乾燥窒素を30分間注入し、反応器内に残存するアンモニアを除去した。得られた白色のスラリー状の生成物を、乾燥窒素雰囲気中で1μmのテフロン(登録商標)材質の濾過器でろ過し、ろ液1,000gを得た。得られたろ液1,000gに乾燥キシレン1,000gを添加した後、ロータリーエバポレーターを用いて、溶媒をピリジンからキシレンに置換する操作を計3回繰り返しながら、固形分濃度を20質量%に調整してキシレン状の組成物を製造した。最後に前記キシレン状の組成物をポアサイズ0.03μmのテフロン(登録商標)材質の濾過器でろ過した。
前記比較例1で合成されたキシレン状の組成物に、ピリジンをキシレンに対して200%重量比で投入し、100℃で3時間攪拌しながら分子量を増やした後、再び乾燥キシレン1,000gを添加し、以降、前記比較例1と同様に実施して、重量平均分子量5,000のポリシラザンを得た。
前記比較例1で合成されたキシレン状の組成物にピリジンをキシレンに対して200%重量比で投入し、100℃で60時間攪拌しながら分子量を増やした後、再び乾燥キシレン1,000gを添加し、以降、前記比較例1と同様に実施して、重量平均分子量23,000のポリシラザンを得た。
前記比較例1で合成されたキシレン状の組成物にピリジンをキシレンに対して200%重量比で投入し、100℃で100時間攪拌しながら分子量を増やした後、再び乾燥キシレン1,000gを添加し、以降、前記比較例1と同様に実施して、重量平均分子量61,000のポリシラザンを得た。
前記比較例1で合成されたキシレン状の組成物にピリジンをキシレンに対して200%重量比で投入し、100℃で120時間攪拌しながら分子量を増やした後、再び乾燥キシレン1,000gを添加し、以降、前記比較例1と同様に実施して、重量平均分子量100,000のポリシラザンを得た。
前記比較例1で合成されたキシレン状の組成物にピリジンをキシレンに対して200%重量比で投入し、100℃で150時間攪拌しながら分子量を増やした後、再び乾燥キシレン1,000gを添加し、以降、前記比較例1と同様に実施して、重量平均分子量160,000のポリシラザンを得た。
前記比較例1および実施例1〜5によるケイ素含有重合体をジブチルエーテル(Dibutylether;DBE)に添加して、固形分含有量15±0.1質量%のサンプル1を用意し、次に前記サンプル1をCDCl3溶媒で20%希釈してサンプル2を準備する。
前記比較例1および実施例1〜5によるケイ素含有重合体を、ジブチルエーテル(Dibutylether;DBE)に添加して固形分2質量%の溶液に製造したサンプルを、4インチのウエハ2枚にそれぞれ約500Åの厚さにコーティングした後、プリベーク(Pre−bake)を経ず、QCM(Quartz crystal microbalance)を用いて、発生した全体のアウトガスの量を150℃で600秒間の(熱処理)条件下で測定する。
Claims (8)
- ケイ素含有重合体と、溶媒と、を含み、
前記ケイ素含有重合体の1H−NMRスペクトルでのSi−H積分値の総合計が5〜12であり、
前記ケイ素含有重合体は、下記の化学式1で表される部分を含む、シリカ膜形成用組成物:
前記「*」は、連結地点を意味する。
但し、前記Si−H積分値の総合計は、下記条件1のS1およびS2段階を順次に行って算出する。
[条件1]
S1.ケイ素含有重合体をジブチルエーテル(Dibutylether、DBE)溶媒に添加して固形分含有量15±0.1質量%のサンプル1を準備し、次に前記サンプル1をCDCl3(Chloroform−d)溶媒で20%希釈してサンプル2を準備する。
S2.前記サンプル2の1H−NMRスペクトルを300MHzで測定して、Si−H1、Si−H2およびSi−H3の積分値合計を下記方法により算出し、前記積分値合計の算出を3回繰り返してこれらの算術平均値を前記Si−H積分値の総合計とする。
(Si−H1、Si−H2およびSi−H3の積分値合計の算出方法)
前記ジブチルエーテルの積分値を40と仮定し、前記ケイ素含有重合体に存在するSi−H1およびSi−H2に相当するピーク(ピークB)、そしてSi−H3に相当するピーク(ピークC)の積分値をそれぞれ算出する。その後、前記ピークBおよび前記ピークCの合計を算出してSi−H1、Si−H2およびSi−H3の積分値の合計とする。 - 前記Si−H積分値の総合計は、8〜11.5である、請求項1に記載のシリカ膜形成用組成物。
- 前記ケイ素含有重合体は、ポリシラザン、ポリシロキサザンまたはこれらの組み合わせを含む、請求項1または2に記載のシリカ膜形成用組成物。
- 前記溶媒は、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、トリメチルベンゼン、トリエチルベンゼン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、デカヒドロナフタレン、ジペンテン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、エチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、p−メンタン、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、アニソール、酢酸ブチル、酢酸アミル、メチルイソブチルケトンおよびこれらの組み合わせからなる群より選択された少なくとも一つを含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載のシリカ膜形成用組成物。
- 前記ケイ素含有重合体は、下記の化学式2で表される部分(moiety)をさらに含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載のシリカ膜形成用組成物:
前記「*」は、連結地点を意味する。 - 前記ケイ素含有重合体は、前記シリカ膜形成用組成物の総量に対して0.1〜30質量%で含まれている、請求項1〜5のいずれか1項に記載のシリカ膜形成用組成物。
- 基板上に請求項1〜6のうちのいずれか1項のシリカ膜形成用組成物を塗布する段階と、
前記シリカ膜形成用組成物が塗布された基板を乾燥する段階と、
150℃以上の非活性気体を含む雰囲気下で硬化する段階と、
を含む、シリカ膜の製造方法。 - 前記シリカ膜形成用組成物を塗布する段階は、スピン−オンコーティング方法によって進行される、請求項7に記載のシリカ膜の製造方法。
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