JP6646778B1 - 導電性ボール搭載装置 - Google Patents

導電性ボール搭載装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6646778B1
JP6646778B1 JP2019041405A JP2019041405A JP6646778B1 JP 6646778 B1 JP6646778 B1 JP 6646778B1 JP 2019041405 A JP2019041405 A JP 2019041405A JP 2019041405 A JP2019041405 A JP 2019041405A JP 6646778 B1 JP6646778 B1 JP 6646778B1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
conductive ball
mounting
conductive
unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019041405A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2020077835A (ja
Inventor
ユン ソン コ
ユン ソン コ
美昭 行森
美昭 行森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Protec Co Ltd Korea
Original Assignee
Protec Co Ltd Korea
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Protec Co Ltd Korea filed Critical Protec Co Ltd Korea
Application granted granted Critical
Publication of JP6646778B1 publication Critical patent/JP6646778B1/ja
Publication of JP2020077835A publication Critical patent/JP2020077835A/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67092Apparatus for mechanical treatment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/81Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/11Manufacturing methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K3/00Tools, devices, or special appurtenances for soldering, e.g. brazing, or unsoldering, not specially adapted for particular methods
    • B23K3/06Solder feeding devices; Solder melting pans
    • B23K3/0607Solder feeding devices
    • B23K3/0623Solder feeding devices for shaped solder piece feeding, e.g. preforms, bumps, balls, pellets, droplets
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K3/00Tools, devices, or special appurtenances for soldering, e.g. brazing, or unsoldering, not specially adapted for particular methods
    • B23K3/08Auxiliary devices therefor
    • B23K3/082Flux dispensers; Apparatus for applying flux
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67288Monitoring of warpage, curvature, damage, defects or the like
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6838Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/741Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
    • H01L24/742Apparatus for manufacturing bump connectors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/02Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by mechanical features, e.g. shape
    • B23K35/0222Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by mechanical features, e.g. shape for use in soldering, brazing
    • B23K35/0244Powders, particles or spheres; Preforms made therefrom
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/03Manufacturing methods
    • H01L2224/038Post-treatment of the bonding area
    • H01L2224/03828Applying flux
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/11Manufacturing methods
    • H01L2224/11001Involving a temporary auxiliary member not forming part of the manufacturing apparatus, e.g. removable or sacrificial coating, film or substrate
    • H01L2224/11003Involving a temporary auxiliary member not forming part of the manufacturing apparatus, e.g. removable or sacrificial coating, film or substrate for holding or transferring the bump preform
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/11Manufacturing methods
    • H01L2224/11001Involving a temporary auxiliary member not forming part of the manufacturing apparatus, e.g. removable or sacrificial coating, film or substrate
    • H01L2224/11005Involving a temporary auxiliary member not forming part of the manufacturing apparatus, e.g. removable or sacrificial coating, film or substrate for aligning the bump connector, e.g. marks, spacers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/11Manufacturing methods
    • H01L2224/114Manufacturing methods by blanket deposition of the material of the bump connector
    • H01L2224/1143Manufacturing methods by blanket deposition of the material of the bump connector in solid form
    • H01L2224/11436Lamination of a preform, e.g. foil, sheet or layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/11Manufacturing methods
    • H01L2224/118Post-treatment of the bump connector
    • H01L2224/11848Thermal treatments, e.g. annealing, controlled cooling
    • H01L2224/11849Reflowing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099Material
    • H01L2224/131Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
    • H01L2224/756Means for supplying the connector to be connected in the bonding apparatus
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
    • H01L2224/7565Means for transporting the components to be connected
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L24/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

【課題】マスクに設けられた載置孔を介して導電性ボールを基板に搭載する工程を行う上で工程不具合の発生を防止することができ、非常に小さなサイズの導電性ボールも効果的に基板に搭載することができる構造を持つ導電性ボール搭載装置を提供する。【解決手段】導電性ボール搭載装置は、マスク100が支持プレート200によって支持された状態でマスクの載置孔101に導電性ボールBを搭載する。マスクの上面に接触する、各載置孔に搭載された導電性ボールを、載置孔に搭載された状態を維持するように保持する保持部400は、載置孔に導電性ボールを搭載した状態で、マスク、支持プレートおよびフラックスが塗布された基板10のうちの少なくとも一つを移送して、マスクの下側に基板を配置させる。【選択図】図1

Description

本発明は、導電性ボール搭載装置に係り、さらに詳細には、マスクに設けられた載置孔を介して導電性ボールを基板に搭載する工程を行う上で工程不具合の発生を防止することができ、非常に小さなサイズの導電性ボールも効果的に基板に搭載することができる構造を持つ導電性ボール搭載装置に関する。
LSI(Large Scale Integration)デバイス、LCD(Liquid Crystal Display)を始めとした半導体装置などを実装するとき、電気的接続のために半田ボール(solder ball)などの導電性ボールを用いる場合が多い。
導電性ボールは、直径1mm程度以下の微細な粒子形態である。このような導電性ボールは、基板に搭載されて基板の電気的実装に使用される。通常、載置孔が設けられたマスクは、フラックスが塗布された基板上に配置され、導電性ボールは載置孔を介して基板に移されてフラックスによって一時的に接着され、それにより導電性ボールは基板に実装される。
最近では、半導体装置が集積化・小型化されるにつれて、導電性ボールのサイズも非常に小さくなった。また、マスクを用いてマウントされる導電性ボールの個数も非常に増加してきた。
これにより、数万個または数十万個以上の100μmよりも小さなサイズの導電性ボールをマスクを介して基板に実装する工程を効果的に行うことができる導電性ボール搭載装置が必要とされてきた。
このように小さなサイズの導電性ボールをマウントする場合、導電性ボールのサイズと同程度の厚さを有するマスクを使用する。このように薄い厚さのマスクを使用する場合、マスクのマウンディングホールに導電性ボールがマウントされない不具合が発生する可能性が高くなる。また、載置孔に導電性ボールをマウントする時間も増える。
したがって、速い速度でマスクの載置孔に導電性ボールを搭載しながらも、導電性ボールが載置孔に搭載されない不具合の発生可能性を下げることができる導電性ボール搭載装置が必要とされている。
このように薄いマスクを使用する場合、マスクが撓む変形が起こり易い。また、マスクの下側に配置される基板も撓み易い構造である。このように基板とマスクが撓んで変形すると、基板とマスクとの間にギャップが発生して、載置孔に搭載された導電性ボールがギャップを介して抜け出してしまう不具合が発生するおそれがある。このように載置孔の周辺に存在しうる基板とマスクとの間のギャップを介して導電性ボールが抜け出すことも工程不具合の原因となる。また、このようなギャップにより、一つの載置孔に導電性ボールが2つ搭載される不具合が発生するおそれもある。
このような不具合が発生しないように、マスクの変形を防止しながらも多数の小型導電性ボールをマスクを介して速く基板に実装することができる導電性ボール搭載装置が求められる。
本発明は、上述したような課題を解決するために案出されたもので、その目的は、小さなサイズの導電性ボールを抜け落ちなく速やかに基板に実装することができる導電性ボール搭載装置を提供することにある。
上記の目的を解決するために、本発明の導電性ボール搭載装置は、導電性ボールが搭載されるように設けられた多数の載置孔を備えるマスクと、前記マスクの下面に接触して前記各載置孔の下部を塞ぐことによって前記マスクの変形を防止するように前記マスクを支持する支持プレートと、前記マスクが前記支持プレートによって支持された状態で前記マスクの載置孔に前記導電性ボールを搭載する載置部と、前記マスクの上面に接触して、前記マスクの各載置孔に搭載された導電性ボールが、前記載置孔に搭載された状態を維持するようにする保持部と、前記保持部が前記マスクの載置孔に導電性ボールが搭載された状態を維持した状態で前記マスク、前記支持プレート、およびフラックスが塗布された基板のうちの少なくとも一つを移送して、前記マスクの下側に前記基板を配置させる移送ユニットと、前記載置部、前記保持部および前記移送ユニットの操作を制御する制御部と、を含むことを特徴とする。
本発明の導電性ボール搭載装置は、マスクの変形を防止して導電性ボールの抜け落ちなく高い品質で導電性ボール搭載工程を行うことができるという効果がある。
また、本発明の導電性ボール搭載装置は、非常に小さなサイズの導電性ボールの基板に搭載する工程を効果的に行うことができるという効果がある。
本発明の一実施形態に係る導電性ボール搭載装置の構成図である。 図1に示された導電性ボール搭載装置の作動を説明するための図である。 図1に示された導電性ボール搭載装置の作動を説明するための図である。 図1に示された導電性ボール搭載装置の作動を説明するための図である。 図1に示された導電性ボール搭載装置の作動を説明するための図である。 図5に対応する本発明の他の実施形態を示す図である。
以下、本発明に係る導電性ボール搭載装置を図面を参照して詳細に説明する。
図1は本発明の一実施形態に係る導電性ボール搭載装置の構成図である。
図1を参照すると、本実施形態の導電性ボール搭載装置は、マスク100、支持プレート200、載置部300および保持部400を含んで構成される。
マスク100は、薄い金属平板の形状に形成される。マスク100には、多数の載置孔101が設けられる。基板10に導電性ボールBを実装するために、マスク100を使用する。基板10に導電性ボールBを実装しようとする位置と対応する、マスク100上の位置に載置孔101が設けられる。マスク100の載置孔101に2つ以上の導電性ボールBが搭載されることを防止するために、マスク100は、導電性ボールBの直径とほぼ同じかそれよりも少し大きい厚さに形成される。
支持プレート200はマスク100の下側に配置される。支持プレート200は、後述する移送ユニット500によってマスク100に対して相対移動できるように設置される。支持プレート200は、マスク100の下面に接触する位置に配置され、マスク100の下面を支持する。マスク100は、厚さに比べて非常に広い形で形成されているので、自重によって下側に変形し易い構造となっている。支持プレート200は、マスク100の下面に接触した状態でマスク100を支持してマスク100の変形を防止する役割を果たす。また、支持プレート200がマスク100の下面に接触すると、マスク100に設けられた載置孔101の下部を塞ぐ役割を果たす。その結果、マスク100の載置孔101に搭載される導電性ボールBが支持プレート200によって下方に抜けずに載置孔101に収容された状態が維持される。
本実施形態の支持プレート200は、発光部201と多孔性材質の第1吸着部材210を備える。第1吸着部材210は、平板状に形成され、マスク100の下面に接触するように配置される。第1吸着部材210に真空ポンプが連結されると、載置孔101に下方に流れる空気の流れが、載置孔101に導電性ボールBが搭載されることを誘導する。また、第1吸着部材210は、導電性ボールBが載置孔101から抜け出さずに載置孔101に収容された状態で第1吸着部材210に付着されるようにする。本実施形態の場合、支持プレート200の第1吸着部材210は透明材質で形成される。支持プレート200の発光部201はLEDランプから構成される。発光部201から光を発生させると、透明材質の第1吸着部材210を介して光が透過し、マスク100の下面と載置孔101を照らす。
載置部300はマスク100の上側に配置される。載置部300は、移送ユニット500によって水平方向に移送される。本実施形態の場合、サイクロンヘッド型の載置部300が使用される。サイクロンヘッドは、円筒状チャンバーの内部に多数の導電性ボールBが収容され、そのチャンバーの内部に圧縮空気が噴射される構造で構成される。本実施形態の場合、公知の様々な構造のサイクロンヘッドが載置部300として使用できる。載置部300がマスク100の上面に沿って動くと、載置部300のチャンバー内部に収容された導電性ボールBが任意の方向に動いてから、載置部300の下側の載置孔101に搭載される。場合によっては、サイクロンヘッドと異なる構造を持つ載置部を使用することも可能である。マスク100に対して動くブラシやスキージなどを備えた形の載置部を用いてマスク100に導電性ボールBを搭載するように構成することも可能である。
保持部400はマスク100の上側に配置される。保持部400は、移送ユニット500によって水平方向と上下方向に移送されるように設置される。保持部400は、マスク100の上面に接触して導電性ボールBを載置孔101に搭載された状態にホールドする。すなわち、マスク100の下側の支持プレート200が移されてマスク100の下面を支持しなくても、保持部400は、導電性ボールBが下方に抜け落ちずに載置孔101に収容された状態となるようにする。
保持部400は、様々な構成が使用できる。代表的に、先立って説明した第1吸着部材210と類似した構造の吸着部材や静電チャックなどが保持部400として使用できる。本実施形態の場合、静電チャックを備えた構造の保持部400を例として説明する。保持部400の静電チャックは、印加された電力によって静電気力を発生させて物体をクランプする役割を果たす。本実施形態の場合、保持部400の静電チャックは、マスク100の上面に接触してマスク100と各載置孔101に収容された導電性ボールBをクランプする。制御部が静電チャックの静電気力を除去すると、載置孔101に収容された導電性ボールBは下方に落ちる。
移送ユニット500は、支持プレート移送部510と保持部移送部530と基板移送部520を備える。上述したように、移送ユニット500の支持プレート移送部510は、マスク100に対して支持プレート200を移送する。移送ユニット500の保持部移送部530は、マスク100に対して保持部400を移送する。また、移送ユニット500の基板移送部520は、マスク100に対して基板10を水平方向および上下方向に移送する。
本実施形態の場合、導電性ボールBを付着させるためのフラックスがパッド11に塗布された基板10を基板移送部520がマスク100の下側で動かす。基板移送部520は、必要に応じて基板10のマスク100の下面に近接した状態へ移送する。
移送ユニット500は、載置部300と後述する検査カメラ600などのその他の構成を移送する機能も行う。
制御部は、前述した保持部400と移送ユニット500と保持部400を含む主要構成の作動を制御する。
検査カメラ600はマスク100の上側に配置される。検査カメラ600は、移送ユニット500によって必要な方向に移動できるように設置される。検査カメラ600は、その下側に配置されたマスク100を撮影する。検査カメラ600で撮影された映像は、制御部に伝達され、載置孔101に導電性ボールBがマウントされた状態を検査する用途に使用される。
分離ユニットは、保持部400に付いている導電性ボールBを保持部400から分離する役割を果たす。上述したように、導電性ボールBは、静電チャックによって保持部400に付いており、静電チャックの作動を中止させると、導電性ボールBは保持部400から離れる。分離ユニット530は、導電性ボールBが保持部400からさらによく離れるように役立てる役割を果たす。
本実施形態の場合、移送ユニット500の保持部移送部530が分離ユニット530の機能を行う。静電チャックの静電気力が除去された状態で、保持部移送部530が保持部400をマスク100に対して水平方向にスライドさせると、保持部400に付いていた導電性ボールBがさらによく離れる。
以下、上述したように構成された導電性ボール搭載装置の作動について説明する。
まず、図2に示すように、移送ユニット500を作動させて支持プレート200をマスク100の下面に接触させる。このような状態で、制御部は、載置部300を作動させてマスク100の各載置孔101に導電性ボールBを搭載する。
このように支持プレート200をマスク100の下面に接触させることにより、マスク100の弛みや撓みを防止することができる。半導体工程の高度化に伴い、100μmより小さなサイズの導電性ボールBを使用する場合が多くなった。このような場合、マスク100が非常に微細に変形しても、導電性ボールB搭載工程の不具合をもたらすおそれがある。本発明の場合、支持プレート200を用いてマスク100の下面を支持した状態で載置部300を作動させるので、マスク100の弛みや撓みを防止しながら効果的に導電性ボールB搭載工程を行うことができるという利点がある。よって、載置孔101に導電性ボールBが搭載されないか、載置孔101に搭載された導電性ボールBがマスク100の変形により発生した隙間から抜け出す場合の発生を防止することができる。
また、上述したように、支持プレート200の第1吸着部材210によってマスク100の下面を吸着するので、マスク100は、支持プレート200の上面に密着した状態で平らな状態を維持する。第1吸着部材210に加わる真空がマスク100の下面だけでなく載置孔101にも伝達されるので、導電性ボールBがさらに効果的に載置孔101に搭載される。導電性ボールBが載置孔101に搭載されると、導電性ボールBは、真空によって第1吸着部材210の上面に吸着された状態に維持される。したがって、載置部300によって加わる圧縮空気または他の導電性ボールBとの衝突が作用しても、導電性ボールBは載置孔101から抜け出さなくなる。結果として、マスク100の載置孔101に導電性ボールBを搭載する工程を行う時間が短縮される。
載置部300が導電性ボールB搭載工程を完了すると、制御部は、図3に示すように、載置部300をマスク100の一側に移して待機させる。次に、制御部は、発光部201を作動させてLEDランプを点灯させる。発光部201から発生した光は、透明材質で形成された第1吸着部材210を介してマスク100の下面に照射される。
制御部は移送ユニット500を作動させて検査カメラ600をマスク100の上側に移送し、検査カメラ600はマスク100を撮影する。マスク100の載置孔101に導電性ボールBが搭載されていない場合、発光部201から発生した光が載置孔101を介して上側に照らされる。
制御部は、検査カメラ600で撮影した映像を用いて、マスク100の載置孔101に導電性ボールBが搭載された状態を検査する。制御部は、載置孔101が明るく撮影されるか否かを基準に、載置孔101が空いているか否かを非常に容易に検査することができる。空いている載置孔101の位置を制御部が把握すると、再び載置部300を作動させて該当位置に導電性ボールBを搭載する。制御部が移送ユニット500を作動させて、空いている載置孔101の位置に載置部300を移送し、載置部300を作動させて、空いている載置孔101に導電性ボールBを搭載する。
このように透明材質の第1吸着部材210と発光部201と検査カメラ600を用いて導電性ボールBの搭載有無を非常に簡単に検査することができる。また、空いている載置孔101には直ちに導電性ボールBを搭載することができる。このように載置部300の作動後に直ちに導電性ボールBの搭載有無を検査することができるので、本発明によって導電性ボールB搭載工程の品質を向上させかつ工程の速度を飛躍的に向上させることができる。
上述したように導電性ボールBの載置孔101搭載工程が完了すると、図3に示すように、保持部400によって導電性ボールBをホールドする工程を行う。まず、移送ユニット500は、載置部300をマスク100の縁部へ移送する。次に、制御部は、移送ユニット500によって保持部400をマスク100の上面に接触させる。このような状態で、制御部は、保持部400を作動させる前または直後に第1吸着部材210の作動を中止させる。
制御部が保持部400の静電チャックを作動させると、静電チャックから発生した静電気力によって、マスク100と導電性ボールBは保持部400の下面に密着する。制御部が第1吸着部材210の作動を中止させたので、第1吸着部材210によって支持プレート200に密着していたマスク100と導電性ボールBは、自然に保持部400の下面に密着する。このとき、導電性ボールBは、マスク100の載置孔101に搭載された状態を維持しながら、静電チャックに付着する。マスク100が静電チャックに密着した状態なので、載置孔101の上部に、導電性ボールBが抜け出す隙間が存在しなくなる。結果として、導電性ボールBは、堅固に保持部400に付着した状態を維持する。このような状態で、移送ユニット500が支持プレート200をマスク100の下面から離れるようにしても、導電性ボールBはマスク100から離脱しなくなる。
次いで、制御部は、図4に示すように、支持プレート200を他所に移し、基板10をマスク100の下面に近接する位置まで移送する。このとき、制御部は、移送ユニット500の基板移送部520を制御して、基板10をマスク100に対して水平方向に整列し、マスク100の下面に近接する位置に基板10を上昇させる。基板移送部520は、基板10の下面を吸着する方法でクランプしてマスク100に対して移送する。この時、基板移送部520は、基板10がマスク100にできる限り近づきながら接触はしない程度の位置まで基板10をマスク100に対して近接させることが良い。
その次に、図5に示すように、保持部400に付いている導電性ボールBを離して基板10に付着させる工程を行う。制御部が保持部400の作動を中止させると、静電チャックの静電気力がもはや作用しなくなる。保持部400に付いていた導電性ボールBは、載置孔101を経由して下側の基板10上に落ちる。導電性ボールBが付着すべき基板10のパッド11には、フラックス(flux)が予め塗布されているので、基板10上に落とされた導電性ボールBは、フラックスによって基板10に一時的に接着される。このような導電性ボールBは、続いて基板10と共にリフローで加熱されて基板10に接着される。
保持部400に残っている静電気力や、保持部400と導電性ボールBとの間に自体的に発生した静電気力などの原因により、一部の導電性ボールBは、保持部400から離れずに残っていることがある。特に、100μm以下の非常に小さな導電性ボールBを使用する場合には、このような現象が発生する確率が高くなる。
このように導電性ボールBが保持部400から容易に離れない場合のために、分離ユニットを使用することができる。
分離ユニット530は、保持部400から導電性ボールBを分離させるための構成である。保持部400から導電性ボールBを分離するための分離ユニットは、様々な構成が使用できる。例えば、マスク100と保持部400との間に圧縮空気を噴射して保持部400から導電性ボールBを分離することが可能である。また、保持部400に小さな衝撃を加える形の分離ユニットを構成して使用することも可能である。
本実施形態では、保持部400を移送する保持部移送部530を分離ユニットとして用いる場合を例として説明する。制御部が保持部400の作動を中止させると、導電性ボールBが基板10に落ちる。図5に示すように、保持部移送部530を用いて保持部400をマスク100に対して水平方向に微細にスライドさせる。保持部400のスライディングによって導電性ボールBが載置孔101を介して基板10に落ちる現象が加速される。導電性ボールBが載置孔101に収容された状態なので、保持部400が水平方向に動いても、導電性ボールBは動かない。導電性ボールBは、載置孔101に留まってから下方に落ちる。自重によって下方に落ちた導電性ボールBは、基板10に付着する。このような分離ユニット530を使用することにより、導電性ボールBを基板10に付着させる工程の品質と作業速度を向上させることができる。すなわち、導電性ボールB搭載工程の不具合率を大幅に減らすことが可能である。
本発明は、上述したように、平板状の支持プレート200を用いてマスク100を支持した状態で導電性ボールBを載置孔101に搭載する工程を行うので、マスク100の弛みや反り(warpage)などの変形を防止しつつ導電性ボールB搭載工程を行うことができるという利点がある。このようにマスク100の変形を防止すると、非常に小さなサイズの導電性ボールBを搭載する場合、非常に薄い厚さのマスク100を使用する場合でも、導電性ボールB搭載工程の不具合を効果的に防止することができる。
また、図4に示すように、支持プレート200がマスク100の下面を支持しない場合でも、保持部400がマスク100および導電性ボールBを上側からホールドおよび支持するので、マスク100の変形を防止する。これにより、本発明は、載置孔101に搭載された導電性ボールBが抜け出すことを防止する効果がある。
また、図5に示すように、基板10の下面を基板移送部520によって平らに支持した状態で導電性ボールBを基板10にボンディングするので、基板10の変形も防止される。よって、載置孔101に搭載された導電性ボールBが基板10のパッド11に付着せずに漏れる現象の発生を防止することができるという利点がある。
以上、本発明について好適な例を挙げて説明したが、本発明の範囲が先立って説明および図示した形態に限定されるものではない。
例えば、支持プレート200の第1吸着部材210は透明材質で形成されると説明したが、透明でない第1吸着部材を使用することも可能である。また、支持プレートが第1吸着部材210を備えず、単にマスク100の下面を支持する形で本発明の導電性ボール搭載装置を構成することも可能である。吸着機能はないが、一部分が透明材質で形成されて載置孔101を照らすことが可能な構造の支持プレートを用いて、本発明の導電性ボール搭載装置を構成することも可能である。
また、検査カメラ600を備えない形態の導電性ボール搭載装置を構成することも可能である。
また、先立って、保持部400は静電チャックを備えてマスク100と導電性ボールBをホールドすると説明したが、図6に示すような構造の保持部410を使用することも可能である。この場合、保持部410は多孔性材質の第2吸着部材411を備える。第2吸着部材411は、載置孔101に搭載された状態の導電性ボールBをマスク100の上面に接触した状態で上側から吸着する。すなわち、図6に示した形態の保持部410は、マスク100と導電性ボールBを吸着する方式でマスク100および導電性ボールBをホールドする。この場合、基板10がマスク100の下側に配置されると、制御部は、保持部400の第2吸着部材411の作動を中止させて、載置孔101に搭載された導電性ボールBが基板10に落ちるようにする。
また、上述したような分離ユニットを備えない構造の導電性ボール搭載装置を構成することも可能であり、上述したような他の構造の分離ユニットを有する導電性ボール搭載装置を構成することも可能である。
また、先立ってサイクロンヘッド型の載置部300を使用する場合を例として説明したが、他の構造の載置部を用いてマスク100の載置孔101に導電性ボールBを搭載するように導電性ボール搭載装置を構成することも可能である。
また、先立って、基板移送部520は、基板10の下面を吸着して固定し移送すると説明したが、吸着以外の他の方法で基板10を固定し移送する構造の基板移送部を構成することも可能である。
B 導電性ボール
10 基板
11 パッド
100 マスク
101 載置孔
200 支持プレート
210 第1吸着部材
201 発光部
300 載置部
400、410 保持部
411 第2吸着部材
500 移送ユニット
510 支持プレート移送部
520 基板移送部
530 保持部移送部
600 検査カメラ

Claims (13)

  1. 導電性ボールが搭載されるように設けられた多数の載置孔を備えるマスクと;
    前記マスクの下面に接触して前記各載置孔の下部を塞いだ状態で前記マスクの変形を防止するように前記マスクを支持する支持プレートと;
    前記マスクが前記支持プレートによって支持された状態で前記マスクの載置孔に前記導電性ボールを搭載する載置部と;
    前記マスクの上面に接触して、前記マスクの各載置孔に搭載された導電性ボールが、前記載置孔に搭載された状態を維持するようにする保持部と;
    前記保持部が、前記マスクの載置孔に導電性ボールが搭載された状態を維持した状態で、前記マスク、前記支持プレート、およびフラックスが塗布された基板のうちの少なくとも一つを移送して、前記マスクの下側に前記基板を配置させる移送ユニットと;
    前記載置部、前記保持部および前記移送ユニットの作動を制御する制御部と;を含むことを特徴とする、導電性ボール搭載装置。
  2. 前記保持部は、静電気力によって、前記載置孔に搭載された状態の導電性ボールをクランプする静電チャックを備え、
    前記制御部は、前記基板が前記マスクの下側に配置されると、前記保持部の静電チャックの作動を中止させて、前記載置孔に搭載された導電性ボールが前記基板に落ちるようにする、請求項1に記載の導電性ボール搭載装置。
  3. 前記保持部は、真空吸着によって、前記載置孔に搭載された状態の導電性ボールをクランプする多孔性材質の第2吸着部材を備え、
    前記制御部は、前記基板が前記マスクの下側に配置されると、前記保持部の第2吸着部材の作動を中止させて、前記載置孔に搭載された導電性ボールが前記基板に落ちるようにする、請求項1に記載の導電性ボール搭載装置。
  4. 前記支持プレートは、前記載置孔に搭載された状態の導電性ボールを前記マスクの下面に接触した状態で吸着する多孔性材質の第1吸着部材を備え、
    前記制御部は、前記保持部が前記マスクの上面に接触して作動する時またはその前に前記第1吸着部材の作動を中止させる、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の導電性ボール搭載装置。
  5. 前記支持プレートの第1吸着部材は透明材質で形成される、請求項4に記載の導電性ボール搭載装置。
  6. 前記支持プレートは、前記マスクの下面に接触して前記マスクの載置孔に光を伝達することができる発光部を含む、請求項5に記載の導電性ボール搭載装置。
  7. 前記マスクの載置孔に前記導電性ボールがマウントされた状態を検査することができるように、前記マスクの上側から前記マスクを撮影する検査カメラ;をさらに含み、
    前記制御部は、前記検査カメラで撮影した映像を用いて、前記マスクの載置孔に前記導電性ボールが搭載された状態を検査する、請求項6に記載の導電性ボール搭載装置。
  8. 前記保持部は、前記載置孔に搭載された前記導電性ボールが前記保持部に接触した状態となるように作動し、
    前記制御部が前記保持部の作動を中止させたとき、前記導電性ボールが前記基板に落ちるように前記保持部から前記導電性ボールを分離する分離ユニット;をさらに含む、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の導電性ボール搭載装置。
  9. 前記分離ユニットは、前記マスクと前記保持部との間に圧縮空気を噴射して前記導電性ボールを前記保持部から分離する、請求項8に記載の導電性ボール搭載装置。
  10. 前記分離ユニットは、前記マスクと前記保持部を水平方向に相手移動させて前記導電性ボールを前記保持部から分離する、請求項8に記載の導電性ボール搭載装置。
  11. 前記移送ユニットは、前記マスクに対して前記支持プレートを移送する支持プレート移送部と、前記マスクに対して前記基板を移送する基板移送部と、前記マスクに対して前記保持部を移送する保持部移送部とを備える、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の導電性ボール搭載装置。
  12. 前記支持プレートは少なくとも一部分が透明材質で形成される、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の導電性ボール搭載装置。
  13. 前記載置部は、チャンバーの内部に配置された多数の導電性ボールに圧縮空気を噴射して前記マスクの載置孔に前記導電性ボールを搭載させるサイクロンヘッドである、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の導電性ボール搭載装置。
JP2019041405A 2018-11-07 2019-03-07 導電性ボール搭載装置 Active JP6646778B1 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180135515A KR102078935B1 (ko) 2018-11-07 2018-11-07 도전성 볼 탑재 장치
KR10-2018-0135515 2018-11-07

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP6646778B1 true JP6646778B1 (ja) 2020-02-14
JP2020077835A JP2020077835A (ja) 2020-05-21

Family

ID=69568057

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019041405A Active JP6646778B1 (ja) 2018-11-07 2019-03-07 導電性ボール搭載装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10804239B2 (ja)
JP (1) JP6646778B1 (ja)
KR (1) KR102078935B1 (ja)
CN (1) CN111162024B (ja)
TW (1) TWI702706B (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11247285B1 (en) * 2020-04-03 2022-02-15 Seagate Technology Llc Fluidization of agglomerated solder microspheres
KR20220005724A (ko) * 2020-07-07 2022-01-14 주식회사 프로텍 가압식 구리 필러 기판 본딩 방법

Family Cites Families (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05299424A (ja) 1992-04-23 1993-11-12 Fujitsu Ltd 半田ボールの電極パッドへの載置方法とその装置
JPH088523A (ja) * 1994-06-20 1996-01-12 Mitsubishi Electric Corp 整列装置
US20020106832A1 (en) * 1996-11-26 2002-08-08 Gregory B. Hotchkiss Method and apparatus for attaching solder members to a substrate
US5816481A (en) * 1997-01-24 1998-10-06 Unisys Corporation Pin block method of dispensing solder flux onto the I/O pads of an integrated circuit package
US5839191A (en) * 1997-01-24 1998-11-24 Unisys Corporation Vibrating template method of placing solder balls on the I/O pads of an integrated circuit package
US5921458A (en) * 1997-06-25 1999-07-13 Fan; Kuang-Shu Integrated circuit solder ball implant machine
US6595408B1 (en) * 1998-10-07 2003-07-22 Micron Technology, Inc. Method of attaching solder balls to BGA package utilizing a tool to pick and dip the solder ball in flux prior to placement
US6268275B1 (en) * 1998-10-08 2001-07-31 Micron Technology, Inc. Method of locating conductive spheres utilizing screen and hopper of solder balls
WO2000054921A1 (en) * 1999-03-17 2000-09-21 Novatec Sa Filling device and method for filling balls in the apertures of a ball-receiving element
JP2000294681A (ja) 1999-04-07 2000-10-20 Rohm Co Ltd Bga型電子部品製造装置における半田ボール整列供給機構
JP2000353717A (ja) * 1999-06-14 2000-12-19 Toshiba Corp 半導体装置の製造方法及び半導体製造装置
JP3619410B2 (ja) * 1999-11-18 2005-02-09 株式会社ルネサステクノロジ バンプ形成方法およびそのシステム
JP4130526B2 (ja) * 2000-11-10 2008-08-06 株式会社日立製作所 バンプ形成方法およびその装置
US6766938B2 (en) * 2002-01-08 2004-07-27 Asm Assembly Automation Ltd. Apparatus and method of placing solder balls onto a substrate
JP3908068B2 (ja) * 2002-03-27 2007-04-25 ジャパン・イー・エム株式会社 球体保持装置ならびに微小球体受け渡し方法およびその装置
US6769596B1 (en) * 2002-11-15 2004-08-03 Qlogic Corporation Method and system for reworking ball grid arrays
US7032807B2 (en) * 2003-12-23 2006-04-25 Texas Instruments Incorporated Solder contact reworking using a flux plate and squeegee
JP4065272B2 (ja) 2004-12-28 2008-03-19 株式会社和井田製作所 半田ボール搭載装置、半田ボール搭載方法及び半田ボール搭載システム
JP4560682B2 (ja) 2005-04-28 2010-10-13 澁谷工業株式会社 導電性ボール搭載装置
JP2008153324A (ja) * 2006-12-15 2008-07-03 Texas Instr Japan Ltd マイクロボール搭載方法および搭載装置
JP5008452B2 (ja) * 2007-05-08 2012-08-22 新日鉄マテリアルズ株式会社 はんだボールの搭載方法及び搭載装置
JP4430693B2 (ja) * 2007-07-04 2010-03-10 新光電気工業株式会社 導電性ボール載置装置、導電性ボールの載置方法、導電性ボール載置用マスク、及びその製造方法
JP4393538B2 (ja) * 2007-07-25 2010-01-06 新光電気工業株式会社 磁性はんだボールの配列装置および配列方法
JP4444322B2 (ja) * 2007-09-14 2010-03-31 新光電気工業株式会社 導電性ボールの搭載方法及び導電性ボール搭載装置
WO2009144846A1 (ja) * 2008-05-30 2009-12-03 イビデン株式会社 半田ボール搭載方法
JP2010140921A (ja) * 2008-12-09 2010-06-24 Nec Corp ボール搭載装置、ボール搭載方法及び電子部品の製造装置
JP2011077161A (ja) * 2009-09-29 2011-04-14 Nec Corp ボール搭載装置、ボール搭載方法及び電子部品の製造装置
JP5453636B2 (ja) * 2009-11-30 2014-03-26 澁谷工業株式会社 導電性ボールの搭載装置
JP5553234B2 (ja) * 2010-09-29 2014-07-16 澁谷工業株式会社 導電性ボールの搭載装置
US8937008B2 (en) * 2011-12-29 2015-01-20 Stmicroelectronics Pte Ltd. Apparatus and method for placing solder balls
KR101508039B1 (ko) * 2012-05-17 2015-04-06 삼성전기주식회사 솔더볼 공급장치
TW201442130A (zh) * 2013-04-29 2014-11-01 Zen Voce Corp 可增進積體電路基板植球良率之方法
US8955735B2 (en) * 2013-05-17 2015-02-17 Zen Voce Corporation Method for enhancing the yield rate of ball implanting of a substrate of an integrated circuit
JP6138019B2 (ja) * 2013-10-03 2017-05-31 Aiメカテック株式会社 電極形成装置、電極形成システム、及び電極形成方法
KR102270748B1 (ko) * 2013-11-07 2021-06-30 삼성전자주식회사 솔더볼 부착 장치, 솔더볼 부착 방법 및 이를 포함하는 반도체 패키지의 제조 방법
JP6320066B2 (ja) * 2014-02-13 2018-05-09 イビデン株式会社 ボール搭載用マスクおよびボール搭載装置
KR102186152B1 (ko) * 2014-03-17 2020-12-03 삼성전기주식회사 전도성 볼 실장 장치
JP6567290B2 (ja) 2015-02-20 2019-08-28 Aiメカテック株式会社 基板処理装置、基板処理システム、及び基板処理方法
KR101668960B1 (ko) * 2015-08-12 2016-11-10 주식회사 프로텍 도전성 볼 탑재 장치 및 그 제어 방법

Also Published As

Publication number Publication date
US10804239B2 (en) 2020-10-13
CN111162024B (zh) 2023-02-17
KR102078935B1 (ko) 2020-02-19
CN111162024A (zh) 2020-05-15
TW202018904A (zh) 2020-05-16
US20200144219A1 (en) 2020-05-07
JP2020077835A (ja) 2020-05-21
TWI702706B (zh) 2020-08-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3619410B2 (ja) バンプ形成方法およびそのシステム
JP5322822B2 (ja) 半導体検査用ウエハプローバ及び検査方法
JP6646778B1 (ja) 導電性ボール搭載装置
JP6770122B2 (ja) 導電性ボール搭載方法
JP2006352074A (ja) ソルダーボール保持検査方法、これを使用する半導体部品のソルダーボール保持装置、及び半導体部品のソルダーボール運搬装置
JP5775956B2 (ja) Ledチップ用蛍光フィルムピックアップ装置
JP2011114303A (ja) 導電性ボールの搭載装置
JP2007073762A (ja) バーンイン検査における引き離し方法及びバーンイン検査に用いるアライメント装置
JP4788181B2 (ja) 表示パネルの組立装置
JP6506244B2 (ja) ボール搭載装置
JP2011077161A (ja) ボール搭載装置、ボール搭載方法及び電子部品の製造装置
KR102330427B1 (ko) 정전 척을 이용하는 도전성 볼 탑재 방법
JP2002184803A (ja) 導電性ボールの吸引配列方法及び吸引配列装置
JP7401748B2 (ja) 導電性粒体搭載基板の不要物除去装置
JP4091882B2 (ja) 微細導電性ボール搭載装置の配列ヘッド
JP2001127421A (ja) ボール搭載装置およびボール搭載方法
JP5099098B2 (ja) 部品実装装置及び部品実装方法
JP4105022B2 (ja) 導電性ボールの配列搭載方法および装置ならびにバンプ形成方法および装置
KR20230032161A (ko) 검사 및 리페어 장치를 포함하는 반도체 제조 시스템, 그 구동 방법 및 이를 이용한 반도체 패키지의 제조방법
WO2012169619A1 (ja) 導電性ボール搭載装置および導電性ボール搭載方法
JP2008066753A (ja) ボール配列板、ボール配列装置、及びボール配列方法
JP2004363399A (ja) 電子部品のダイボンディング方法及びダイボンディング装置
JPH10275830A (ja) 微細ボール搭載装置
JP2014165455A (ja) 導電性ボールの搭載状態検査装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190307

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200107

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200110

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6646778

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250