JP6645185B2 - 硬化膜付き透明基材の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、硬化膜付き透明基材の製造方法、それに用いる感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びに電子部品に関する。

パソコン、テレビ等の大型電子機器からカーナビゲーション、携帯電話、電子辞書等の小型電子機器、ＯＡ、ＦＡ機器等の表示機器などには液晶表示素子又はタッチパネル（タッチセンサー）が用いられている。これらの液晶表示素子又はタッチパネルには透明導電電極材からなる電極が設けられている。透明導電電極材としては、酸化インジウムスズ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ）、酸化インジュウム又は酸化スズが知られている。これらの材料は高い可視光透過率を示すことから液晶表示素子用基板等に用いる電極材として主流になっている。

タッチパネルはすでに各種の方式が実用化されている。近年、静電容量方式のタッチパネルの利用が進んでいる。静電容量方式タッチパネルでは、導電体である指先がタッチ入力面に接触すると、指先と導電膜との間で静電容量が結合し、コンデンサを形成する。このため、静電容量方式タッチパネルは、指先の接触位置における電荷の変化を捉えることによって、その座標を検出している。

特に、投影型静電容量方式のタッチパネルは、指先の多点検出が可能であるため、複雑な指示を行うことができるという良好な操作性を備えている。投影型静電容量方式のタッチパネルは、その操作性の良さから、携帯電話、携帯型音楽プレーヤといった小型の表示装置を有する機器における表示面上の入力装置として利用が進んでいる。

一般に、投影型静電容量方式のタッチパネルでは、Ｘ軸とＹ軸とによる２次元座標を表現するために、複数のＸ電極と、当該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造を形成している。これらの電極としてはＩＴＯが用いられる。

ところで、タッチパネルの額縁領域はタッチ位置を検出できない領域であるから、その額縁領域の面積を狭くすることが製品価値を向上させるための重要な要素である。額縁領域には、タッチ位置の検出信号を伝えるために、金属配線が必要となるが、額縁面積の狭小化を図るためには、金属配線の幅を狭くする必要がある。一般的、金属配線には銅が使用される。

しかしながら、上述のようなタッチパネルにおいては、指先に接触される際に水分、塩分等の腐食成分がセンシング領域から内部に侵入することがある。タッチパネルの内部に腐食成分が侵入すると、金属配線が腐食し、電極と駆動用回路との間の電気抵抗の増加、又は断線のおそれがあった。

金属配線の腐食を防ぐために、金属上に絶縁膜等の硬化膜を形成した静電容量方式の投影型タッチパネルが開示されている（例えば、特許文献１）。このタッチパネルでは、二酸化ケイ素層をプラズマ化学気相成長法（プラズマＣＶＤ法）で金属上に形成し、金属の腐食を防いでいる。しかしながら、この手法はプラズマＣＶＤ法を用いるため、高温処理が必要となり基材が限定される、製造コストが高くなる等の問題があった。

必要な箇所にレジスト膜等の硬化膜を設ける方法として、所定の基材上に感光性樹脂組成物からなる感光層を設けてこの感光層を露光、現像する方法が知られている（例えば、特許文献２〜４）。

特開２０１１−２８５９４号公報 特開平７−２５３６６６号公報 特開２００５−９９６４７号公報 特開平１１−１３３６１７号公報

感光性樹脂組成物による硬化膜の作製は、プラズマＣＶＤ法に比べてコストの削減が期待できる。しかし、タッチパネル用基材のような透明基材上に硬化膜を形成する場合、硬化膜の厚みが大きいと、膜がある箇所と膜がない箇所との段差が目立つことがある。そのため、硬化膜はできるだけ薄くすることが好ましい。しかし、厚み１０μｍ以下のレベルにおいて、感光性樹脂組成物から形成される膜の防錆性につい検討された例はなかった。

また、タッチパネルの製造工程においては、タッチパネル自体に負荷がかかることがある。特に、保護膜等の硬化膜がフレキシブルディスプレイ基板に設けられるような場合には、基板の湾曲に伴い保護膜等の硬化膜への負担も大きくなり、亀裂が生じやすくなる。

本発明は、所定の透明基材上に、薄膜であっても所望の膜特性を有し、耐クラック性に優れる硬化膜を有する硬化膜付き透明基材の製造方法、並びに、そのような硬化膜を形成できる感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びに硬化膜付き透明基材を備える電子部品を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために本発明者らは鋭意検討した結果、バインダーポリマー、特定の光重合性化合物、及び光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物が充分な現像性を有するとともに、光硬化によって形成した膜が薄膜（例えば、１０μｍ以下）であっても充分な防錆性を示し、銅等の金属の腐食を充分に防止でき、耐クラック性に優れることを見出し、本発明を完成するに至った。

本発明の硬化膜付き透明基材の製造方法は、透明基材上に、バインダーポリマーと、ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物及びジグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物からなる群より選択される少なくとも１種の（メタ）アクリレート化合物を含む光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する感光性樹脂組成物からなる感光層を設け、感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に感光層の所定部分以外を除去し、基材の一部又は全部を被覆する上記感光性樹脂組成物の硬化物からなる硬化膜を形成することを特徴とする。

本発明の硬化膜付き透明基材の製造方法によれば、上記特定の感光性樹脂組成物を用いることにより、現像性及び基材への密着性を確保しつつ、１０μｍ以下の薄膜であっても所望の膜特性（特には充分な防錆性）を有し、耐クラック性に優れる硬化膜を有する硬化膜付き透明基材を製造することができる。本発明によれば、硬化膜を薄膜化することが可能であるから、美観に優れる電子部品（例えばタッチパネル）を製造することが可能であり、製造コストの低減を図ることが可能となる。

膜特性（特には防錆性）をより向上させる観点から、上記（メタ）アクリレート化合物が４以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物であることが好ましい。

ところで、タッチパネルのような電子部品の視認性又は美観を考慮すると、硬化膜の透明性はより高いことが望ましい。しかし、その一方で、透明性が高い薄膜の感光層をパターニングする場合、解像性が低下する傾向にあることを本発明者らは見出している。この原因について本発明者らは、感光層の厚みが小さくなると、基材からの光散乱の影響を受けやすく、ハレーションが発生するためと考えている。

これに対し、本発明においては上記光重合開始剤がオキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有することによって、充分な解像度でパターン形成が可能となる。

なお、上記の効果が得られる理由を、オキシムエステル化合物に含まれるオキシム部位又はホスフィンオキサイド化合物に含まれるホスフィンオキサイド部位が、比較的高い光分解効率を有しつつも僅かな漏れ光では分解しない適度な閾値を有するために、漏れ光による影響が抑制された結果であると、本発明者らは推察する。

本発明の硬化膜付き透明基材の製造方法においては、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた上記感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える感光性エレメントを用意し、当該感光性エレメントの感光層を上記基材上に転写して上記感光層を設けることができる。この場合、感光性エレメントを用いることにより、ロールツーロールプロセスが容易に実現できる、溶剤乾燥工程が短縮できる等、製造工程の短縮及びコスト低減に大きく貢献することができる。

本発明はまた、バインダーポリマーと、ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物及びジグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物からなる群より選択される少なくとも１種の（メタ）アクリレート化合物を含む光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有し、透明基材上に硬化膜を形成するために用いられる（硬化膜付き透明基材の製造方法に用いられる）感光性樹脂組成物を提供する。

本発明の感光性樹脂組成物によれば、所定の透明基材上に、薄膜であっても所望の膜特性（特には充分な防錆性）及び耐クラック性を有する硬化膜を形成することができる。

膜特性（特には防錆性）をより向上させる観点から、上記（メタ）アクリレート化合物が４以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物であることが好ましい。

また、本発明の感光性樹脂組成物において、上記光重合開始剤がオキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有することが好ましい。この場合、充分な解像度を有するパターンで、透明性が高い薄膜の硬化膜を形成することが可能となる。

本発明はまた、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた上記本発明に係る感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える感光性エレメントを提供する。

本発明の感光性エレメントによれば、所定の透明基材上に、薄膜であっても所望の膜特性（特には高い防錆性）及び耐クラック性を有する硬化膜を形成することができる。

上記感光層の厚さは１０μｍ以下とすることができる。

本発明はまた、上記本発明に係る硬化膜付き透明基材を備える、電子部品を提供する。

本発明によれば、所定の透明基材上に、薄膜であっても所望の膜特性（特には充分な防錆性）及び耐クラック性を有する硬化膜を有する硬化膜付き透明基材の製造方法、そのような硬化膜を形成できる感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びに硬化膜付き透明基材を備える電子部品を提供することができる。

また、本発明によれば、静電容量式タッチパネルの金属電極を保護することができる。更に、本発明によれば、水分、塩分等によって錆が発生しやすい銅等の金属層を形成して導電性を向上させたタッチパネルの額縁領域における電極を保護することができる。

本発明の感光性エレメントの一実施形態を示す模式断面図である。 （ａ）及び（ｂ）は、本発明の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法の一実施形態を説明するための模式断面図であり、（ｃ）は、本発明の一実施形態に係る保護膜付きタッチパネル用基材の模式断面図である。 静電容量式のタッチパネルの一例を示す模式上面図である。 静電容量式のタッチパネルの別の例を示す模式上面図である。 （ａ）は、図３に示されるＣ部分のＶ−Ｖ線に沿った部分断面図であり、（ｂ）は、別の態様を示す部分断面図である。 透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネルの一例を示す平面図である。 透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネルの一例を示す一部切欠き斜視図である。 図７中のＶＩ−ＶＩ線に沿った部分断面図である。 透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネルの製造方法の一例を説明するための図であり、（ａ）は透明電極を備える基板を示す一部切欠き斜視図であり、（ｂ）は得られる静電容量式タッチパネルを示す一部切欠き斜視図である。 透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネルの製造方法の一例を説明するための図であり、（ａ）は図９中のＶＩＩＩａ−ＶＩＩＩａ線に沿った部分断面図であり、（ｂ）は絶縁膜を設ける工程を示す部分断面図であり、（ｃ）は図７中のＶＩＩＩｃ−ＶＩＩＩｃ線に沿った部分断面図である。 透明電極配線の上に絶縁フィルムを設け、その上に引き出し配線が設けられ、開口部によって透明電極と引き出し配線が接続されているタッチパネルの一例を示す部分平面図である。

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。

本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はメタクリレートを意味し、「（メタ）アクリロイル基」とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基を意味する。

本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。また、本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。

本明細書において組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。

本実施形態に係る硬化膜付き透明基材の製造方法は、透明基材上に、本発明に係る感光性樹脂組成物を含む感光層を設け、感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に感光層の上記所定部分以外を除去し、基材の一部又は全部を被覆する感光性樹脂組成物の硬化物からなる硬化膜（すなわち、樹脂硬化膜）を形成する。本発明に係る感光性樹脂組成物は、バインダーポリマーと、後述する特定の（メタ）アクリレート化合物を含む光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する。

上記透明基材としては、例えば、白板ガラス、青板ガラス、シリカコート青板ガラス等のガラス板；ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマ等のプラスチック基板；セラミック板などの基板が挙げられる。透明基材は、４００〜７００ｎｍの波長域での最小光透過率が８５％以上であるものが好ましい。

本明細書において、透明基材上に形成する硬化膜は、タッチパネル用基材に用いる場合、電極を有するセンシング領域、金属配線を有する額縁領域、又はその他の領域に設けることができる。タッチパネル用基材上に形成される硬化膜は、いずれかの領域のみに設けてもよく、複数の領域に設けてもよい。さらには、センシング領域に形成された電極の一部に設ける等、硬化膜を設ける位置及び範囲は、その使用の目的等に応じて適宜選択することが可能である。

上記感光層は、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた上記感光性樹脂組成物を含む感光層と、を備える感光性エレメントを用意し、当該感光性エレメントの感光層を上記透明基材上に転写することで設けることができる。

図１は、本発明の感光性エレメントの一実施形態を示す模式断面図である。図１に示される感光性エレメント１は、支持フィルム１０と、支持フィルム上に設けられた本発明に係る感光性樹脂組成物からなる感光層２０と、感光層２０の支持フィルム１０とは反対側に設けられた保護フィルム３０とからなる。

本実施形態の感光性エレメント１は、透明基材上に硬化膜を形成するために使用することができ、タッチパネル用基材の保護膜の形成に好適に用いることができる。

支持フィルム１０としては、重合体フィルムを用いることができる。重合体フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン等からなるフィルムが挙げられる。

支持フィルム１０の厚さは、被覆性の確保と、支持フィルムを介して露光する際の解像度の低下を抑制する観点から、５〜１００μｍであることが好ましく、１０〜７０μｍであることがより好ましく、１５〜６０μｍであることがさらに好ましい。

感光層２０を構成する本発明に係る感光性樹脂組成物は、バインダーポリマー（以下、（Ａ）成分ともいう）と、ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物及びジグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物からなる群より選択される少なくとも１種の（メタ）アクリレート化合物を含む光重合性化合物（以下、（Ｂ）成分ともいう）と、光重合開始剤（以下、（Ｃ）成分ともいう）と、を含有する。

本実施形態に係る感光性樹脂組成物によれば、現像性及び透明基材への密着性を確保しつつ、１０μｍ以下の厚みで所望の膜特性（特には充分な防錆性）及び耐クラック性を有する硬化膜を形成することができる。

本実施形態において、（Ａ）成分は、（ａ１）（メタ）アクリル酸に由来する構成単位、及び（ａ２）（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位を含有する共重合体が好適である。

（ａ１）（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル、及び（メタ）アクリル酸ヒドロキシルエチルエステルが挙げられる。

（ａ２）（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル、及び（メタ）アクリル酸ヒドロキシルエチルエステルが挙げられる。

上記共重合体は、更に、上記の（ａ１）成分及び／又は（ａ２）成分と共重合しうるその他のモノマーを構成単位に含有していてもよい。

上記の（ａ１）成分及び／又は（ａ２）成分と共重合し得るその他のモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２、２、３、３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、アクリルアミド、アクリロニトリル、ジアセトンアクリルアミド、スチレン、及びビニルトルエンが挙げられる。（Ａ）成分であるバインダーポリマーを合成する際、上記のモノマーは、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

（Ａ）成分であるバインダーポリマーの分子量は、特に制限はないが、塗工性及び塗膜強度、現像性の見地から、通常、重量平均分子量（ＧＰＣを用いて、標準ポリスチレン換算で測定した値）が１０、０００〜２００、０００であることが好ましく、３０、０００〜１５０、０００であることがより好ましく、５０、０００〜１００、０００であることが極めて好ましい。なお、重量平均分子量の測定条件は、本願明細書の実施例と同一の測定条件とする。

（Ａ）成分であるバインダーポリマーの酸価は、３０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、４０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、５０〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが極めて好ましい。（Ａ）成分の酸価が３０ｍｇＫＯＨ／ｇであることによって、現像工程により感光性樹脂組成物層を選択的に除去してパターンを形成する工程において、公知の各種現像液により容易に現像することが可能である。また、（Ａ）成分の酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることによって、基材、電極等の保護膜として機能させる際の水分、塩分等の腐食成分への硬化膜の耐性を充分向上させることができる。

バインダーポリマーの酸価は、次のようにして測定することができる。すなわち、まず、酸価を測定すべきバインダーポリマー１ｇを精秤した後、このポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解する。なお、バインダーポリマーに合成溶媒、希釈溶媒等の揮発分が含まれる場合は、予め、揮発分の沸点よりも１０℃程度高い温度で１〜４時間加熱し、揮発分を除去しておく。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１Ｎの水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液を用いて滴定を行う。測定対象であるバインダーポリマーのアセトン溶液を中和するのに必要なＫＯＨのｍｇ数を次式により算出することで、酸価を求める。
酸価＝０．１×Ｖｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
式中、ＶｆはＫＯＨの滴定量（ｍＬ）を示し、Ｗｐは測定したバインダーポリマーを含有する溶液の重量（ｇ）を示し、Ｉは測定したバインダーポリマーを含有する溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。

膜特性を考慮した従来の感光性エレメントでは、通常１０μｍを超える厚みで感光層が形成され、このときの現像性を確保するために、用いる感光性樹脂組成物に含まれるバインダーポリマーの酸価を調整することが行われる。通常、酸価は１４０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ程度の値に設定される。このような感光性樹脂組成物を用いて、基材上に硬化膜を１０μｍ以下の厚みで形成すると、充分な防錆性を得ることができなかった。この原因は、１０μｍ以下の薄膜の場合、水分、塩分等の腐食成分が膜内に含まれやすくなるためであり、さらにこの傾向はバインダーポリマーに含まれるカルボキシル基によって大きくなるためと、本発明者らは推察する。酸価が低すぎると、充分な現像性及び基材への密着性を確保することが困難となる傾向にあるが、適度な酸価を有する上記（Ａ）成分と、防錆性を更に向上させることができる上記（Ｂ）成分とを組み合わせることにより、防錆性、耐クラック性及び現像性とをより高水準で両立することができる。

また、バインダーポリマーの酸価を、３０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇとすることにより、水と、アルカリ金属塩と、界面活性剤とを含むアルカリ水溶液を用いて現像することができる。この酸価を、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上とすることにより、現像性を向上させることができ、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下とすることにより、硬化膜の保護膜としての機能を充分に発揮させることができる。

また、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン等のアルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価を５０〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇとすることがより好ましい。現像性に優れる点では、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、透明基材を保護する際、水分、塩分等の腐食成分から電極を保護する観点からは、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが特に好ましい。

（Ｂ）成分である光重合性化合物は、ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物及びジグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物からなる群より選択される少なくとも１種の（メタ）アクリレート化合物を含む。

ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、下記一般式（１）で表される化合物が挙げられる。

上記一般式（１）中、Ｒ^１は、水素原子、又は（メタ）アクリロイル基を示し、Ｌ^１はアルキレンオキシ基を示す。ｎは、０又は１の整数を示す。なお、４つのＲ^１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよいが、このうち少なくとも２つが（メタ）アクリロイル基である。アルキレンオキシ基としては、エチレンオキシ基又はプロピレンオキシ基が好ましい。

ジグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、下記一般式（２）で表される化合物が挙げられる。

上記一般式（２）中、Ｒ^２は、水素原子、又は（メタ）アクリロイル基を示し、Ｌ^２はアルキレンオキシ基を示す。ｎは、０又は１の整数を示す。なお、４つのＲ^２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよいが、このうち少なくとも２つが（メタ）アクリロイル基である。アルキレンオキシ基としては、エチレンオキシ基又はプロピレンオキシ基が好ましい。

上記一般式（１）で表される化合物としては、下記式（３）で表されるジトリメチロールプロパンテトラアクリレートが最も好ましい。ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートは、Ｔ−１４２０（Ｔ）（日本化薬株式会社製、商品名）として商業的に入手可能である。

ここで、ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物は、例えば、ジトリメチロールプロパンと、（メタ）アクリル酸とのエステル化する方法、又は、中性触媒使用によるエステル交換法により得ることができる。当該化合物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。上記の化合物は、一分子中におけるエステル結合の数が２以上であることが好ましく、エステル結合の数が２〜４の化合物が混合していてもよい。

また、ジグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物は、例えば、ジグリセリンと、（メタ）アクリル酸とのエステル化する方法、又は、中性触媒使用によるエステル交換法により得ることができる。当該化合物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。上記の化合物は、一分子中におけるエステル結合の数が２以上であることが好ましく、エステル結合の数が２〜４の化合物が混合していてもよい。

上記のジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物としては、電極腐食の抑制力及び現像容易性をより向上させる観点から、アルキレンオキサイド変性ジトリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性テトラ（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性ジグリセリンジ（メタ）アクリレート化合物、アルキレンオキサイド変性ジグリセリントリ（メタ）アクリレート化合物、及びアルキレンオキサイド変性ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含むことが好ましく、アルキレンオキサイド変性ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート化合物及びアルキレンオキサイド変性ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含むことがより好ましい。

上記の化合物は、１種を単独で又は２種以上組み合わせて用いることができる。

本実施形態の感光性樹脂組成物における（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、（Ａ）成分が４０〜８０質量部、（Ｂ）成分が２０〜６０質量部であることが好ましく、（Ａ）成分が５０〜７０質量部、（Ｂ）成分が３０〜５０質量部であることがより好ましく、（Ａ）成分が５５〜６５質量部、（Ｂ）成分が３５〜４５質量部であることが更により好ましい。

（Ａ）成分の含有量を上記範囲内とすることにより、塗布性あるいは感光性エレメントでのフィルム性を充分に確保しつつ、充分な感度が得られ、光硬化性を充分に確保することができる。

本実施形態の感光性樹脂組成物は、上記（Ｂ）成分以外の光重合性化合物を含有することができる。光重合性化合物として、例えば、上記（Ｂ）成分と、単官能モノマー及び多官能モノマーのうちの一種以上とを組み合わせて用いることができる。単官能モノマーとしては、例えば、上記（Ａ）成分のバインダーポリマーの合成に用いられる好適なモノマーとして例示した（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステル及びそれらと共重合可能なモノマーが挙げられる。

多官能モノマーとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート（エトキシ基の数が２〜１４のもの）、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（プロピレン基の数が２〜１４のもの）；ビスフェノールＡポリオキシエチレンジアクリレート（即ち、２，２−ビス（４−アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン）、ビスフェノールＡポリオキシエチレンジメタクリレート（即ち、２，２−ビス（４−メタクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン）、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジメタクリレート等；多価カルボン酸（無水フタル酸等）と水酸基及びエチレン性不飽和基を有する物質（β−ヒドロキシエチルアクリレート、β−ヒドロキシエチルメタクリレート等）とのエステル化物が挙げられる。

多官能モノマーとしては、上記化合物の他、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレートを用いることができる。このような（メタ）アクリレートとしては、例えば、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、及びこれらのアルキレンオキサイド変性化合物が挙げられる。これらのうち、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート及びアルキレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが好ましい。

（Ｂ）成分である光重合性化合物と、単官能モノマー又は（Ｂ）成分以外の多官能モノマーを組み合わせて用いる場合、これらのモノマーの配合割合に特に制限はないが、光硬化性及び電極腐食の抑制力を得る観点から、（Ｂ）成分である光重合性化合物の割合が、感光性樹脂組成物に含まれる光重合性化合物の合計量１００質量部に対して、３０質量部以上であることが好ましく、５０質量部以上であることがより好ましく、７５質量部以上であることが更により好ましい。

（Ｃ）成分である光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパノン−１等の芳香族ケトン；２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキノン、２−メチル１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルアントラキノン等のキノン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物、ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物；１，２−オクタンジオン、１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等のオキシムエステル化合物；ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体；２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体；Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−フェニルグリシン誘導体、クマリン系化合物、オキサゾール系化合物が挙げられる。

これらの中でも、形成する保護膜の透明性、及び膜厚を１０μｍ以下としたときのパターン形成能から、オキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物が好ましい。オキシムエステル化合物としては、下記一般式（Ｃ−１）及び下記一般式（Ｃ−２）で表される化合物が挙げられるが、速硬化性、透明性の観点から、下記一般式（Ｃ−１）で表される化合物が好ましい。

上記一般式（Ｃ−１）中、Ｒ^１は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基を含む有機基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、二重結合がカルボニル基と共役していない炭素数４〜６のアルケノイル基、ベンゾイル基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基又はフェノキシカルボニル基を示す。なお、本発明の効果を阻害しない限り、上記一般式（Ｃ−１）中の芳香環上に置換基を有していてもよい。

上記一般式（Ｃ−１）中、Ｒ^１は、炭素数１〜１２のアルキル基、又は炭素数３〜２０のシクロアルキル基を含む有機基であることが好ましく、炭素数３〜１０のアルキル基、又は炭素数４〜１５のシクロアルキル基を含む有機基であることがより好ましく、炭素数４〜８のアルキル基、又は炭素数４〜１０のシクロアルキル基を含む有機基であることが特に好ましい。

上記一般式（Ｃ−２）中、Ｒ^２は、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基又はフェノキシカルボニル基を示し、Ｒ^３は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基を含む有機基を示し、Ｒ^４はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、又はフェノキシカルボニル基を示し、Ｒ^５は、炭素数２〜２０のアルキル基又はアリーレン基を示す。ｐ１は０〜３の整数を示す。なお、ｐ１が２以上である場合、複数存在するＲ^４はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。なお、カルバゾール上には本発明の効果を阻害しない範囲で置換基を有していてもよい。

上記一般式（Ｃ−２）中、Ｒ^２は炭素数１〜１２のアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜８のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることが特に好ましい。

上記一般式（Ｃ−２）中、Ｒ^３は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数４〜１５のシクロアルキル基を含む有機基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキル基であることがより好ましい。

上記一般式（Ｃ−１）で表される化合物及び一般式（Ｃ−２）で表される化合物としては、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が挙げられる。１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］は、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ株式会社製、商品名）として、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）は、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名）として商業的に入手可能である。これらは単独で、又は２種類以上を組み合わせて使用される。

上記一般式（Ｃ−１）の中でも、特に１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］が極めて好ましい。

上記ホスフィンオキサイド化合物としては、下記一般式（Ｃ−３）及び一般式（Ｃ−４）で表される化合物が挙げられる。速硬化性、透明性の観点から、下記一般式（Ｃ−３）で表される化合物が好ましい。

上記一般式（Ｃ−３）中、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基又はアリール基を示す。上記一般式（Ｃ−４）中、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１はそれぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基又はアリール基を示す。

上記一般式（Ｃ−３）におけるＲ^６、Ｒ^７又はＲ^８が、炭素数１〜２０のアルキル基の場合、該アルキル基は直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよく、また該アルキル基の炭素数は５〜１０であることがより好ましい。上記一般式（Ｃ−４）におけるＲ^９、Ｒ^１０又はＲ^１１が炭素数１〜２０のアルキル基の場合、該アルキル基は直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよく、また該アルキル基の炭素数は５〜１０であることがより好ましい。

上記一般式（Ｃ−３）におけるＲ^６、Ｒ^７又はＲ^８がアリール基の場合、該アリール基は置換基を有していてもよい。該置換基としては、例えば、炭素数１〜６のアルキル基及び炭素数１〜４のアルコキシ基を挙げることができる。上記一般式（Ｃ−４）におけるＲ^９、Ｒ^１０又はＲ^１１がアリール基の場合、該アリール基は置換基を有していてもよい。該置換基としては例えば、炭素数１〜６のアルキル基及び炭素数１〜４のアルコキシ基を挙げることができる。

これらの中でも、上記一般式（Ｃ−３）は、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８がアリール基であることが好ましく、一般式（Ｃ−４）で表わされる化合物は、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１がアリール基であることが好ましい。

上記一般式（Ｃ−３）で表わされる化合物としては、形成する硬化膜の透明性、及び膜厚を１０μｍ以下としたときのパターン形成能から、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイドが好ましい。２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイドは、例えば、ＤＡＲＯＣＵＲ−ＴＰＯ（ＢＡＳＦジャパン社製、商品名）として商業的に入手可能である。

（Ｃ）成分である光重合開始剤の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．１〜２０質量部であることが好ましく、０．５〜１０質量部であることがより好ましく、１．０〜３質量部であることが更により好ましい。

（Ｃ）成分の含有量を上記範囲内とすることにより、光感度が充分となるとともに、露光の際に組成物の表面での吸収が増大して内部の光硬化が不充分となること、可視光透過率が低下する等の不具合を抑制することができる。

本実施形態の感光性樹脂組成物は、防錆性と現像性を両立する点から、トリアゾール化合物、チアジアゾール化合物、及びテトラゾール化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物（以下、（Ｄ）成分ともいう）を更に含有することが好ましい。

上記トリアゾール化合物としては、ベンゾトリアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−アセトニトリル、ベンゾトリアゾール−５−カルボン酸、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−メタノール、カルボキシベンゾトリアゾール、３−メルカプトトリアゾール等のメルカプト基を含むトリアゾール化合物、３−アミノ−５−メルカプトトリアゾール等のアミノ基を含むトリアゾール化合物が挙げられる。

上記チアジアゾール化合物としては、２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２，１，３−ベンゾチアジアゾール、等が挙げられる。

上記一般式（Ｄ−１）中のＲ^１１及びＲ^１２は、各々独立に、水素、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、フェニル基、アミノフェニル基、炭素数７〜２０のアルキルフェニル基、アミノ基、メルカプト基、炭素数１〜１０のアルキルメルカプト基又は炭素数２〜１０のカルボキシアルキル基を示す。

アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシルキ、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基等が挙げられる。

シクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等が挙げられ、アルキルフェニル基としては、例えば、メチルフェニル基、エチルフェニル基等が挙げられる。

アルキルメルカプト基としては、例えば、メチルメルカプト基、エチルメルカプト基等が挙げられ、カルボキシアルキル基としては、例えば、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基等が挙げられる。

上記一般式（Ｄ−１）で表されるテトラゾール化合物の具体例としては、１Ｈ−テトラゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、５−メチル−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−エチル−テトラゾール、１−メチル−５−メルカプト−テトラゾール、５−（２−アミノフェニル）−１Ｈ−テトラゾール、１−シクロヘキシル−５−メルカプト−テトラゾール、１−フェニル−５−メルカプト−テトラゾール、１−カルボキシメチル−５−メルカプト−テトラゾール、５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール、１−フェニル−テトラゾールが挙げられる。

上記一般式（Ｄ−１）で表されるテトラゾール化合物は、その水溶性塩であっても好適である。具体例としては、１−カルボキシメチル−５−メルカプト−テトラゾールのナトリウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属塩等が挙げられる。

これらの中でも、電極腐食の抑制力、金属電極との密着性、現像容易性、透明性の観点から、１Ｈ−テトラゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾールが特に好ましい。

これらのテトラゾール化合物及びその水溶性塩は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

また、硬化膜を設ける電極表面が銅、銀、ニッケルなどの金属を有している場合の現像性を更に向上させる観点から、感光性樹脂組成物はアミノ基を有するテトラゾール化合物を更に含有することが好ましい。この場合、現像残渣を低減することができ、良好なパターンで保護膜を形成することが容易となる。この理由としては、アミノ基を有するテトラゾール化合物の配合によって、現像液に対する溶解性と金属との密着力のバランスが良好となることが考えられる。

アミノ基を有するテトラゾール化合物を含有する場合、上記の効果が得られることから、本実施形態に係る感光性樹脂組成物及び感光性エレメントは、例えば、銅などの金属層を形成して導電性を向上させたタッチパネルの額縁領域における電極を保護するための保護膜の形成に好適である。

本実施形態の感光性樹脂組成物における（Ｄ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．０５〜１０．０質量部とすることが好ましく、０．１〜２．０質量部とすることがより好ましく、０．２〜１．０質量部とすることが更により好ましい。

（Ｄ）成分の含有量を上記範囲内とすることにより、現像性又は解像度が低下するなどの不具合を抑制しつつ、電極腐食の抑制力及び金属電極との密着性を向上させる効果を充分に得ることができる。

本実施形態の感光性樹脂組成物には、必要に応じて、シランカップリング剤などの密着性付与剤、レベリング剤、可塑剤、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、酸化防止剤、香料、熱架橋剤、重合禁止剤等を（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、各々０．０１〜２０質量部程度含有させることができる。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用できる。

形成する硬化膜の防錆性を向上させる観点から、本実施形態の感光性樹脂組成物は、固形分全体の水酸基価が４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。

感光性樹脂組成物の固形分全体の水酸基価は、次のようにして測定することができる。すなわち、まず、水酸基価を測定すべき感光性樹脂組成物１ｇを精秤する。なお、感光性樹脂組成物に合成溶媒、希釈溶媒等の揮発分が含まれる場合は、予め、揮発分の沸点よりも１０℃程度高い温度で１〜４時間加熱し、揮発分を除去しておく。精秤した感光性樹脂組成物に、１０質量％の無水酢酸ピリジン溶液を１０ｍＬ加えてこれを均一に溶解し、１００℃で１時間加熱する。加熱後、水１０ｍＬとピリジン１０ｍＬを加えて１００℃で１０分間加熱する。その後、自動滴定機（平沼産業（株）製「ＣＯＭ−１７００」）を用いて、０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムのエタノール溶液により中和滴定することにより測定できる。なお、水酸基価は次式により算出できる。
水酸基価＝（Ａ−Ｂ）×ｆ×５６．１１×０．５／試料（ｇ）＋酸価
式中、Ａは空試験に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムのエタノール溶液の量（ｍＬ）を示し、Ｂは滴定に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムのエタノール溶液の量（ｍＬ）を示し、ｆはファクターを示す。

また、本実施形態の感光性樹脂組成物において、形成する硬化膜の防錆性を向上させる観点から、上述した（Ａ）成分の水酸基価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。

（Ａ）成分の水酸基価は、水酸基価を測定すべきバインダーポリマー１ｇを精秤した後、このバインダーポリマーについて上記の水酸基価の測定と同様にして測定を行うことで求められる。なお、バインダーポリマーに合成溶媒、希釈溶媒等の揮発分が含まれる場合は、予め、揮発分の沸点よりも１０℃程度高い温度で１〜４時間加熱し、揮発分を除去しておく。

さらに、本実施形態の感光性樹脂組成物において、形成する硬化膜の防錆性を向上させる観点から、上述した（Ｂ）成分の水酸基価が９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。

（Ｂ）成分の水酸基価は、水酸基価を測定すべき光重合性化合物１ｇを精秤した後、この光重合性化合物について上記の水酸基価の測定と同様にして測定を行うことで求められる。なお、光重合性化合物に合成溶媒、希釈溶媒等の揮発分が含まれる場合は、予め、揮発分の沸点よりも１０℃程度高い温度で１〜４時間加熱し、揮発分を除去しておく。

本実施形態の感光性樹脂組成物は、可視光線透過率の最小値が９０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましく、９５％以上であることが更により好ましい。

ここで、感光性樹脂組成物の可視光線透過率は以下のようにして求められる。まず、支持フィルム上に感光性樹脂組成物を乾燥後の厚みが１０μｍ以下となるように塗布し、これを乾燥することにより、感光性樹脂組成物層（感光層）を形成する。次に、ガラス基板上に、感光性樹脂組成物層が接するようにラミネータを用いてラミネートする。こうして、ガラス基板上に、感光性樹脂組成物層及び支持フィルムが積層された測定用試料を得る。次に、得られた測定用試料に紫外線を照射して感光性樹脂組成物層を光硬化した後、紫外可視分光光度計を用いて、測定波長域４００〜７００ｎｍにおける透過率を測定する。

一般的な可視光波長域の光線である４００〜７００ｎｍの波長域における透過率の最小値が９０％以上であれば、例えば、タッチパネル（タッチセンサー）の表示部分の透明電極も保護する場合、タッチパネル（タッチセンサー）の額縁領域の金属層（例えば、ＩＴＯ電極上に銅層を形成した層など）を保護したときに表示部分の端部から硬化膜が見える場合等において、表示部分での表示品質、色合い、又は、輝度が低下することを充分抑制することができる。

また、本実施形態の感光性樹脂組成物は、タッチパネルの視認性を更に向上させる観点から、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ^＊が−０．２〜１．０であることが好ましく、−０．０〜０．７であることがより好ましく、０．１〜０．４であることが更により好ましい。ｂ^＊が０．８以上又は−０．２以下では、可視光線透過率が９０％未満である場合と同様に、表示部分での表示品質、色合いが低下する傾向がある。なお、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ^＊の測定は、例えばコニカミノルタ製分光測色計「ＣＭ−５」を使用し、ｂ^＊が０．１〜０．２である厚さ０．７ｍｍのガラス基板に厚み５μｍの感光性樹脂組成物層を形成し、紫外線を照射して感光性樹脂組成物層を光硬化した後、Ｄ６５光源、視野角２°に設定して測定することにより得られる。

本実施形態の感光性樹脂組成物は、本実施形態の感光性エレメントのように、感光性フィルムに製膜して用いることが好ましい。感光性フィルムを、透明基材上に積層することにより、ロールツーロールプロセスが容易に実現できる、溶剤乾燥工程が短縮できるなど、製造工程の短縮及びコスト低減に大きく貢献することができる。

感光層２０は、本実施形態の感光性樹脂組成物を塗布液とし、これを支持体フィルム上に塗布、乾燥することにより形成できる。塗布液は、上述した本実施形態の感光性樹脂組成物を構成する各成分を溶剤に均一に溶解又は分散することにより得ることができる。

溶剤としては、特に制限はなく、公知のものが使用でき、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチレングリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、クロロホルム、塩化メチレン等が挙げられる。これら溶剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上の溶剤からなる混合溶剤として用いてもよい。

塗布方法としては、例えば、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。

乾燥条件に特に制限はないが、乾燥温度は、６０〜１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、０．５〜３０分とすることが好ましい。

感光層の厚さは、電極保護に充分な効果を発揮し、かつ部分的な電極保護膜形成により生じるタッチパネル（タッチセンサー）表面の段差が極力小さくなるよう、乾燥後の厚さで１０μｍ以下であることが好ましく、２〜１０μｍであることがより好ましく、３〜８μｍであることが更により好ましい。

本実施形態においては、感光層２０が、可視光線透過率が９０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましく、９５％以上であることが更により好ましい。また、感光層２０が、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ^＊が−０．２〜１．０となるよう調整されることが好ましい。

感光層２０の粘度は、透明基材上に硬化膜を形成するために使用されるロール状の硬化膜形成用感光性エレメントとした場合に、感光性エレメントの端面から感光性樹脂組成物がしみ出すことを１カ月以上防止する点及び感光性エレメントを切断する際に感光性樹脂組成物の破片が基板に付着して引き起こされる露光不良、現像残り等を防止する点から、３０℃において、１５〜１００ＭＰａ・ｓであることが好ましく、２０〜９０ＭＰａ・ｓであることがより好ましく、２５〜８０ＭＰａ・ｓであることが更により好ましい。

なお、上記の粘度は、感光性樹脂組成物から形成される直径７ｍｍ、厚さ２ｍｍの円形の膜を測定用試料とし、この試料の厚さ方向に、３０℃及び８０℃で１．９６×１０^−２Ｎの荷重を加えたときの厚さの変化速度を測定し、この変化速度からニュートン流体を仮定して粘度に換算した値である。

保護フィルム３０（カバーフィルム）としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体、及びポリエチレン−酢酸ビニル共重合体とポリエチレンの積層フィルム等からなる厚さ５〜１００μｍ程度のフィルムが挙げられる。

感光性エレメント１は、ロール状に巻いて保管し、あるいは使用できる。

本発明においては、上述した本実施形態の感光性樹脂組成物の塗布液を、透明基材上に塗布し、乾燥して、感光性樹脂組成物からなる感光層を設けてもよい。この用途の場合においても、感光層は上述した、膜厚、可視光線透過率、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ^＊の条件を満たすことが好ましい。

次に、本発明に係る硬化膜付き透明基材の製造方法について説明する。本発明に係る硬化膜付き透明基材の製造方法の一実施形態として、保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法について説明する。図２は、本発明の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法の一実施形態を説明するための模式断面図である。

本実施形態の保護膜付きタッチパネル用基材の製造方法は、タッチパネル用電極１１０，１２０を有する透明基材（タッチパネル用基材）１００上に、上記の本実施形態に係る感光性樹脂組成物からなる感光層２０を設ける第１工程（図２（ａ）を参照）と、感光層２０の所定部分を活性光線の照射により硬化させる第２工程（図２の（ｂ）を参照）と、露光後に所定部分以外の感光層を除去し、電極の一部又は全部を被覆する感光性樹脂組成物の硬化物からなる保護膜２２を形成する第３工程（図２の（ｃ）を参照）とを備える。こうして、保護膜付きタッチパネル用基材が得られる。得られる保護膜付きタッチパネル用基材は、保護膜付きタッチパネル（タッチセンサー）２００として用いることができる。

本実施形態で使用されるタッチパネル用基材には特に制限はなく、一般にタッチパネル（タッチセンサー）用として用いられる、ガラス板、プラスチック板、セラミック板等の基板が挙げられる。この基板上には、タッチパネル用電極が設けられる。電極としては、ＩＴＯ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｏ、Ａｇ等の電極、ＴＦＴ等が挙げられる。また、基板上には、絶縁層が設けられていてもよい。タッチパネル用基材は、４００〜７００ｎｍの波長域での最小光透過率が８５％以上であるものが好ましい。

図２に示されるタッチパネル用電極１１０，１２０を有するタッチパネル用基材は、例えば、以下の手順で得ることができる。ＰＥＴフィルムなどの透明基材上に、ＩＴＯ、Ｃｕの順にスパッタ法により金属膜を形成した後、金属膜上にエッチング用感光性フィルムを貼り付け、所望のレジストパターンを形成し、不要なＣｕを塩化鉄水溶液等のエッチング液で除去した後、レジストパターンをはく離除去する。

本実施形態の第１工程では、本実施形態の感光性エレメント１の保護フィルム３０を除去した後、感光性エレメントを加熱しながら、タッチパネル用基材のタッチパネル用電極１１０，１２０が設けられている表面に感光層２０を圧着することにより積層する（図２の（ａ）を参照）。

圧着手段としては、圧着ロールが挙げられる。圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱手段を備えたものであってもよい。

加熱圧着する場合の加熱温度は、感光層とタッチパネル用基材との密着性を充分確保しながら、感光層の構成成分が熱硬化あるいは熱分解されにくいよう、１０〜１８０℃とすることが好ましく、２０〜１６０℃とすることがより好ましく、３０〜１５０℃とすることが更により好ましい。

また、加熱圧着時の圧着圧力は、感光層とタッチパネル用基材との密着性を充分確保しながら、タッチパネル用基材の変形を抑制する観点から、線圧で５０〜１×１０^５Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×１０^２〜５×１０^４Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×１０^２〜４×１０^４Ｎ／ｍとすることが更により好ましい。

感光性エレメント１を上記のように加熱すれば、基材を予熱処理することは必要ではないが、感光層と基材との密着性を更に向上させる点から、基材を予熱処理することが好ましい。このときの予熱温度は、３０〜１８０℃とすることが好ましい。

本実施形態においては、感光性エレメントを用いる代わりに、本実施形態の感光性樹脂組成物を塗布液としてタッチパネル用基材のタッチパネル用電極１１０，１２０が設けられている表面に塗布し、乾燥して感光層２０を形成することができる。

感光層２０は、上述した膜厚、可視光線透過率、ＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ^＊の条件を満たすことが好ましい。

本実施形態の第２工程では、感光層２０に、フォトマスク１３０を介して、活性光線Ｌをパターン状に露光する（図２の（ｂ）を参照）。

露光の際、感光層２０上の支持フィルム１０が透明の場合には、そのまま露光することができ、不透明の場合には除去してから露光する。感光層の保護という点からは、支持フィルムとして透明な重合体フィルムを用い、この重合体フィルムを残存させたまま、それを通して露光することが好ましい。

露光に用いられる活性光線の光源としては、公知の活性光源が使用でき、例えば、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等が挙げられ、紫外線を有効に放射するものであれば特に制限されない。

このときの、活性光線の照射量は、通常、１×１０^２〜１×１０^４Ｊ／ｍ^２であり、照射の際に、加熱を伴うこともできる。この活性光線照射量が、１×１０^２Ｊ／ｍ^２未満では、光硬化の効果が不充分となる傾向があり、１×１０^４Ｊ／ｍ^２を超えると、感光層が変色する傾向がある。

本実施形態の第３工程では、露光後の感光層を現像液で現像して未露光部（すなわち、感光層の所定部以外の部分）を除去し、基材の一部又は全部を被覆する厚みが１０μｍ以下の本実施形態の感光性樹脂組成物の硬化物からなる保護膜２２を形成する。形成される保護膜２２は所定のパターンを有することができる。

なお、露光後、感光層に支持フィルムが積層されている場合にはそれを除去した後、現像液による未露光部を除去する現像が行われる。

現像方法としては、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等の公知の現像液を用いて、スプレー、シャワー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法により現像を行い、不要部を除去する方法等が挙げられ、中でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液を用いることが好ましいものとして挙げられる。

アルカリ水溶液の塩基としては、水酸化アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等）、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミンなどが挙げられ、中でも、水酸化テトラメチルアンモニウム等が好ましいものとして挙げられる。

また、炭酸ナトリウムの水溶液も好ましく用いられ、例えば、２０〜５０℃の炭酸ナトリウムの希薄溶液（０．５〜５重量％水溶液）が好適に用いられる。

現像温度及び時間は、本実施形態の感光性樹脂組成物の現像性に合わせて調整することができる。

また、アルカリ水溶液中には、界面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させることができる。

また、現像後、光硬化後の感光層に残存したアルカリ水溶液の塩基を、有機酸、無機酸又はこれらの酸水溶液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知方法により酸処理（中和処理）することができる。

さらに、酸処理（中和処理）の後、水洗する工程を行うこともできる。

現像後、必要に応じて、露光（例えば、５×１０^３〜２×１０^４Ｊ／ｍ^２）により、硬化物を更に硬化させてもよい。なお、本実施形態の感光性樹脂組成物は、現像後の加熱工程なしでも金属に対して優れた密着性を示すが、必要に応じて、現像後の露光の代わりに、又は露光と合わせて、加熱処理（８０〜２５０℃）を施してもよい。

上述のように、本実施形態の感光性樹脂組成物及び感光性エレメントは、透明基材上に硬化膜を形成するための使用、タッチパネル用基材の保護膜を形成するための使用等に好適である。感光性樹脂組成物の上記使用については溶媒と混合した塗布液を用いて保護膜を形成することができる。

また、本発明は、本発明に係る感光性樹脂組成物を含む保護膜の形成材料を提供することができる。この保護膜の形成材料は、上述した本実施形態の感光性樹脂組成物を含むことができ、更に上述した溶媒を含有する塗布液であることが好ましい。

（電子部品及びその製造方法）
本実施形態に係る電子部品は、本実施形態に係る硬化膜付き透明基材を備える。硬化膜付き透明基材は、透明基材上に、本実施形態に係る感光性樹脂組成物の硬化物（硬化膜等）を備えている。本実施形態に係る電子部品において、硬化膜は、例えば、保護部材（保護膜等）、絶縁部材（絶縁膜等）などとして用いることもできる。

本実施形態に係る電子部品としては、例えば、タッチパネル、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ、太陽電池モジュール、プリント配線板及び電子ペーパが挙げられる。

次に、図３〜図５を用いて、本発明に係る硬化膜（保護膜等）の使用箇所の一例を説明する。図３は、静電容量式のタッチパネルの一例を示す模式上面図である。図３に示されるタッチパネルは、透明基板１０１の片面にタッチ位置座標を検出するためのタッチ画面１０２があり、この領域の静電容量変化を検出するための透明電極１０３及び透明電極１０４が透明基板１０１上に設けられている。透明電極１０３及び透明電極１０４はそれぞれタッチ位置の静電容量の変化を検出し、Ｘ位置座標及びＹ位置座標とする。

透明基板１０１上には、透明電極１０３及び透明電極１０４からタッチ位置の検出信号を外部回路に伝えるための引き出し配線１０５が設けられている。また、引き出し配線１０５と透明電極１０３及び透明電極１０４とは、透明電極１０３及び透明電極１０４上に設けられた接続電極１０６により接続されている。また、引き出し配線１０５の透明電極１０３及び透明電極１０４との接続部と反対側の端部には、外部回路との接続端子１０７が設けられている。本発明の感光性樹脂組成物は、引き出し配線１０５、接続電極１０６及び接続端子１０７の保護膜１２２としての樹脂硬化膜パターンを形成するために好適に用いることができる。この際に、センシング領域にある電極を同時に保護することもできる。図３では、保護膜１２２により、引き出し配線１０５、接続電極１０６、センシング領域の一部電極及び接続端子１０７の一部を保護しているが、保護膜を設ける箇所は適宜変更してもよい。例えば、図４に示すように、タッチ画面１０２を全て保護するように保護膜１２３を設けてもよい。

図５を用いて、図３に示したタッチパネルにおいて、透明電極と引き出し配線との接続部の断面構造を説明する。図５は、図３に示されるＣ部分のＶ−Ｖ線に沿った部分断面図であり、透明電極１０４と引き出し配線１０５の接続部を説明するための図である。図５の（ａ）に示すように、透明電極１０４と引き出し配線１０５とは、接続電極１０６を介して電気的に接続されている。図５の（ａ）に示すように、透明電極１０４の一部、並びに、引き出し配線１０５及び接続電極１０６の全部が、保護膜１２２としての樹脂硬化膜パターンで覆われている。同様に、透明電極１０３と引き出し配線１０５とは、直接接続されていると共に、接続電極１０６を介して電気的に接続されている。なお、図５の（ｂ）に示すように、透明電極１０４と引き出し配線１０５とが接続電極１０６を介さずに直接、電気的に接続されていてもよい。本発明の感光性樹脂組成物及び感光性エレメントは、上記構造部分の保護膜としての樹脂硬化膜パターンの形成のための使用に好適である。

本実施形態のおける、タッチパネルの製造方法について説明する。まず、タッチパネル用基材である透明基板１０１上に、透明電極（Ｘ位置座標）１０３を形成する。続いて、絶縁層（図示せず）を介して、透明電極（Ｙ位置座標）１０４を形成する。透明電極１０３及び透明電極１０４の形成は、透明基板１０１上に形成した透明電極層を、エッチングする方法などを用いることができる。

次に、透明基板１０１の表面に、外部回路と接続するための引き出し配線１０５と、この引き出し配線と透明電極１０３及び透明電極１０４を接続する接続電極１０６を形成する。引き出し配線１０５及び接続電極１０６は、透明電極１０３及び透明電極１０４の形成後に形成しても、各透明電極形成時に同時に形成してもよい。引き出し配線１０５及び接続電極１０６の形成は、金属スパッタリング後、エッチング法などを用いることができる。引き出し配線１０５は、例えば、フレーク状の銀を含有する導電ペースト材料を使って、スクリーン印刷法を用いて、接続電極１０６を形成するのと同時に形成することができる。次に、引き出し配線１０５と外部回路とを接続するための接続端子１０７を形成する。

上記工程により形成された透明電極１０３及び透明電極１０４、引き出し配線１０５、接続電極１０６、並びに、接続端子１０７を覆うように、本実施形態に係る感光性エレメント１を圧着し、上記電極上に感光層２０を設ける。次に、転写した感光層２０に対し、所望の形状にフォトマスクを介してパターン状に活性光線Ｌを照射する。活性光線Ｌを照射した後、現像を行い、感光層２０の所定部分以外を除去することで、感光層２０の所定部分の硬化物からなる保護膜１２２を形成する。このようにして、保護膜１２２を備えるタッチパネル、すなわち保護膜１２２付きタッチパネル用基材（透明基板１０１）を備えるタッチパネルを製造することができる。

次に、図６〜図１０を用いて、電子部品及びその製造方法の別の実施形態として、透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネル及びその製造方法の一例を説明する。本発明の硬化膜は、例えば、図７〜図１０の絶縁膜１２４としても好適に使用することができる。

図６は、透明電極（Ｘ位置座標）１０３及び透明電極（Ｙ位置座標）１０４が同一平面上に存在する静電容量式タッチパネルの一例を示す平面図であり、図７は、その一部切欠き斜視図である。図８は、図７中のＶＩ−ＶＩ線に沿った部分断面図である。上記静電容量式タッチパネルは、透明基板１０１上に、静電容量変化を検出して、Ｘ位置座標とする透明電極１０３と、Ｙ位置座標とする透明電極１０４とを有する。これらのＸ、Ｙ位置座標とするそれぞれの透明電極１０３、１０４には、タッチパネルとしての電気信号を制御するドライバ素子回路（図示せず）の制御回路に接続するための引き出し配線１０５ａ及び１０５ｂを有する。

透明電極（Ｘ位置座標）１０３と透明電極（Ｙ位置座標）１０４とが交差する部分には、絶縁膜１２４が設けられている。

透明電極（Ｘ位置座標）１０３及び透明電極（Ｙ位置座標）１０４が同一平面上に存在する静電容量式タッチパネルの製造方法について説明する。

静電容量式タッチパネルの製造方法は、例えば、透明導電材料を用いた公知の方法により、透明電極（Ｘ位置座標）１０３と、後にＹ位置座標を検出する透明電極１０４となる透明電極の一部を透明基板１０１上に予め形成した基板を用いてもよい。図９は、透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネルの製造方法の一例を説明するための図であり、（ａ）は透明電極を備える基板を示す一部切欠き斜視図であり、（ｂ）は得られる静電容量式タッチパネルを示す一部切欠き斜視図である。図１０は、透明電極が同一平面に存在する静電容量式タッチパネルの製造方法の一例を説明するための図である。

まず、図９（ａ）及び図１０（ａ）に示されるような、透明電極（Ｘ位置座標）１０３と、透明電極の一部１０４ａとが予め形成された基板を用意し、透明電極１０３の一部（透明電極１０３の１０４ａに挟まれる部分）上に、本実施形態に係る感光性樹脂組成物を含む感光層を設け、露光及び現像を行うことにより絶縁膜１２４を設ける（図１０の（ｂ））。その後、公知の方法により、導電パターンが形成される。この導電パターンにより透明電極１０４のブリッジ部１０４ｂを形成することができる（図１０（ｃ））。この透明電極のブリッジ部１０４ｂにより、予め形成された透明電極の一部１０４ａ同士を導通することができ、透明電極（Ｙ位置座標）１０４が形成される。本発明の感光性樹脂組成物及び感光性エレメントは、上記構造部分の絶縁膜としての樹脂硬化膜パターンの形成のための使用に好適である。

予め形成された透明電極は、例えば、ＩＴＯなどを用いた公知の方法により形成されてもいてもよい。また、引き出し配線１０５ａ，１０５ｂは、透明導電材料の他、Ｃｕ、Ａｇ等の金属などを用いた公知の方法で形成することが可能である。また、引き出し配線１０５ａ,１０５ｂが予め形成された基板を用いてもよい。

図１１は、その他の静電容量式タッチパネルの一例を示す部分平面図である。図１１に記載の構成は、タッチパネルの狭額縁化を意図したものである。図１１記載のタッチパネル６００は、透明基板６０１、透明電極６０４、配線（透明電極配線）６０４ａ、引き出し配線６０５及び絶縁膜６２５を有している。透明電極６０４及び配線６０４ａは、透明基板６０１上に配置されている。配線６０４ａは、透明電極６０４から延びている。絶縁膜６２５は、透明電極６０４の端部、及び、配線６０４ａ上に配置されている。引き出し配線６０５は、絶縁膜６２５上に配置されている。一部の透明電極６０４の端部の上方において、絶縁膜６２５に開口部６０８が形成されている。透明電極６０４及び引き出し配線６０５は、開口部６０８を介して接続及び導通されている。本発明の感光性樹脂組成物及び感光性エレメントは、上記構造の部分絶縁膜としての樹脂硬化膜パターンの形成のための使用に好適である。

以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

［バインダーポリマー溶液（Ａ１）の作製］
撹拌機、還流冷却器、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表１に示す（１）を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１に示す（２）を４時間かけて均一に滴下した。（２）の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分子量が約６５，０００、酸価が７８ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ１）を得た。

［バインダーポリマー溶液（Ａ２）の作製］
上記（Ａ１）と同様にし、重量平均分子量が約８０，０００、酸価が１１５ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ２）を得た。

［バインダーポリマー溶液（Ａ３）の作製］
上記（Ａ１）と同様にし、重量平均分子量が約６０，０００、酸価が９１ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ３）を得た。

［バインダーポリマー溶液（Ａ４）の作製］
上記（Ａ１）と同様にし、重量平均分子量が約９０，０００、酸価が９１ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ４）を得た。

なお、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。ＧＰＣの条件を以下に示す。
ＧＰＣ条件
ポンプ：日立 Ｌ−６０００型（株式会社日立製作所製、製品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４２０、Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４３０、Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４４０（以上、日立化成株式会社製、製品名）
カラム仕様：直径１０．７ｍｍ × ３００ｍｍ
溶離液：テトラヒドロフラン
試料濃度：ＮＶ（不揮発分濃度）５０質量％の樹脂溶液を１２０ｍｇ採取、５ｍＬのＴＨＦに溶解
注入量：２００μＬ
圧力：４．９ＭＰａ
測定温度：４０℃
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：日立 Ｌ−３３００型ＲＩ（株式会社日立製作所製、製品名）

［酸価の測定方法］
酸価は、次のようにして測定した。まず、バインダーポリマーの溶液を、１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、酸価を測定すべきポリマー１．０ｇを精秤した後、このポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解した。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１ＮのＫＯＨ水溶液を用いて滴定を行った。そして、バインダーポリマーのアセトン溶液を中和するのに必要なＫＯＨのｍｇ数を次式により算出し、酸価を求めた。
酸価＝０．１×Ｖｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
式中、ＶｆはＫＯＨの滴定量（ｍＬ）を示し、Ｗｐは測定したポリマー溶液の重量（ｇ）を示し、Ｉは測定したポリマー溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。

（実施例１）
［硬化膜を形成するための感光性樹脂組成物溶液（Ｖ−１）の調製］
表２に示す材料を、攪拌機を用いて１５分間混合し、硬化膜を形成するための感光性樹脂組成物溶液（Ｖ−１）を調製した。

［硬化膜を形成するための感光性エレメント（Ｅ−１）の作製］
支持フィルムとして厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、感光性樹脂組成物溶液（Ｖ−１）を支持フィルム上にコンマコーターを用いて均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、感光性樹脂組成物からなる感光層（感光性樹脂組成物層）を形成した。得られた感光層の厚さは５μｍであった。

次いで、得られた感光層の上に、さらに、２５μｍの厚さのポリエチレンフィルムを、カバーフィルムとして張り合わせて、硬化膜を形成するための感光性エレメント（Ｅ−１）を作製した。

［硬化膜の透過率の測定］
得られた感光性エレメント（Ｅ−１）のカバーフィルムであるポリエチレンフィルムをはがしながら、厚さ１ｍｍのガラス基板上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、商品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０^５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、このときの線圧は９．８×１０^３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基板上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。

次いで、得られた積層体の感光層に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光層側上方より露光量５×１０^２Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、厚さ５．０μｍの感光層の硬化物からなる保護膜（光硬化した硬化膜）を有する透過率測定用試料を得た。

次いで、得られた試料を日立計測器サービス（株）製の紫外可視分光光度計（Ｕ−３３１０）を使用して、測定波長域４００〜７００ｎｍで可視光線透過率を測定した。得られた感光層の波長４００ｎｍにおける透過率は、波長７００ｎｍにおいて９７％、波長５５０ｎｍにおいて９６％、波長４００ｎｍにおいて９４％であり、４００〜７００ｎｍにおける透過率の最小値は９４％であり、良好な透過率を確保できていた。なお、実施例２〜４についても測定波長域４００〜７００ｎｍで可視光線透過率９０％以上を示した。

［硬化膜のｂ^＊の測定］
得られた感光性エレメント（Ｅ−１）の保護フィルムであるポリエチレンフィルムをはがしながら、厚さ０．７ｍｍのガラス基板（ｂ^＊：０．１〜０．２）上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、商品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０^５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この時の線圧は９．８×１０^３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基板上に、感光層及び支持体フィルムが積層された基板を作製した。

次いで、得られた感光層に、平行光線露光機（オーク製作所（株）製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光層側上方より露光量５×１０^２Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持体フィルムを除去し、さらに感光層側上方より露光量１×１０^４Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）紫外線を照射し、厚さ５．０μｍの感光層の硬化物からなる保護膜（光硬化した硬化膜）を有するｂ^＊測定用試料を得た。

次いで、得られた試料をコニカミノルタ（株）製の分光測色計（ＣＭ−５）を使用して、光源設定Ｄ６５、視野角２°でＣＩＥＬＡＢ表色系でのｂ^＊を測定した。

硬化膜のｂ^＊は０．４４であり、良好なｂ^＊を有していることが確認された。なお、実施例２〜４についてもｂ^＊は−０．２〜１．０の範囲を充分満たしていた。

［硬化膜の塩水噴霧試験］
得られた感光性エレメント（Ｅ−１）のカバーフィルムであるポリエチレンフィルムをはがしながら、スパッタ銅付きポリイミドフィルム（東レフィルム加工株式会社製）上に、感光層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、商品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基板送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０^５Ｐａ（厚さが１ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍの基板を用いたため、この時の線圧は９．８×１０^３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、スパッタ銅上に、感光層及び支持フィルムが積層された積層体を作製した。

次いで、得られた積層体の感光層に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光層側上方より露光量５×１０^２Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、さらに感光層側上方より露光量１×１０^４Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）紫外線を照射し、厚さ５．０μｍの感光層の硬化物からなる保護膜（光硬化した硬化膜）が形成された塩水耐性評価用試料を得た。

次いで、ＪＩＳ規格（Ｚ ２３７１）を参考に、塩水噴霧試験機（スガ試験機（株）製ＳＴＰ−９０Ｖ２）を用いて、試験槽内に前述の試料を載置し、濃度５０ｇ／Ｌの塩水（ｐＨ＝６．７）を試験槽温度３５℃、噴霧量１．５ｍＬ／ｈで４８時間噴霧した。噴霧終了後、塩水を拭き取って、評価用試料の表面状態を観察し、以下の評点に従って評価した。
Ａ ： 保護膜表面に全く変化なし。
Ｂ ： 保護膜表面にごくわずかな痕跡が見えるが、銅は変化なし。
Ｃ ： 保護膜表面に痕跡が見えるが、銅は変化なし。
Ｄ ： 保護膜表面に痕跡があり、かつ銅が変色する。
評価用試料の表面状態を観察したところ、保護膜表面に全く変化なく評価はＡであった。

［マンドレル試験］
得られた感光性エレメント（Ｅ−１）のポリエチレンフィルムをはがしながら、厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、感光層が接するようにロール温度１００℃、基板送り速度０．６ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）０．５ＭＰａの条件でラミネートし、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に感光層および支持フィルムが積層された積層体を作製した。

上記で得られた積層体を作製後、支持フィルム上にフォトマスクを載置し、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、フォトマスク面垂直上方より露光量５×１０^２Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を像的に照射した。

次いで、感光層上に積層されている支持フィルムを除去し、さらに感光層側上方より露光量１×１０^４Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）紫外線を照射し、厚さ５．０μｍの感光層の硬化物からなる保護膜（光硬化した硬化膜）が形成されたマンドレル試験用試料を得た。

次いで、ＪＩＳ規格（Ｋ５４００）を参考に、マンドレル試験を実施した。上記試験用試料から１．５ｃｍ×４．０ｃｍの大きさにはさみで切り取り片側に１００ｇの重りを付けて、保護膜側を上面として円筒を中心に１８０度屈曲させてから元に戻し、保護膜側を顕微鏡で観察し、以下の評点に従って耐クラック性を評価した。
Ａ ： ≦φ２．０ｍｍの円筒を用い、保護膜にクラックなし。
Ｂ ： φ３．０〜φ４．０ｍｍの円筒を用い、保護膜にクラックなし。
Ｃ ： ≧φ５．０の円筒を用い、保護膜にクラックなし。
評価用試料の保護膜表面状態を観察したところ、φ２．０ｍｍの円筒を用いてもクラックが見られなかったため、評価はＡであった。

［透湿度測定］
得られた感光性樹脂組成物溶液（Ｖ−１）を厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、アプリケータを用いて均一に塗布し、厚み４０μｍの感光性エレメント（Ｅ−２）を作製した。得られた感光性エレメント（Ｅ−２）をＮｏ．５Ｃろ紙（アドバンテック製）上に感光層が接するようにロール温度８０℃、基板送り速度０．６ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）０．５ＭＰａの条件でラミネートし、Ｎｏ．５Ｃろ紙上に感光層およびポリエチレンテレフタレートフィルムが積層した積層体を作製した。

上記で得られた積層体を作製後、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、ポリエチレンテレフタレートフィルム面垂直上方より露光量５×１０^２Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）、紫外線を像的に照射した。

次いで、感光層上に積層されている支持フィルムを除去し、さらに感光層側上方より露光量１×１０^４Ｊ／ｍ^２で（ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値）紫外線を照射し、厚さ４０μｍの感光層の硬化物からなる保護膜（光硬化した硬化膜）が形成された透湿度測定用試料を得た。

次いで、ＪＩＳ規格（Ｚ０２０８）を参考に、透湿度測定としてカップ法を実施した。測定カップ内に乾燥させた約２０ｇの塩化カルシウムを入れ、上記試験用試料から約φ７０ｍｍの大きさにはさみで切り取った円形試料で蓋をし、恒温恒湿槽内にて６０℃９０％ＲＨの条件で２４時間放置した。放置前後の重量変化から透湿度を算出し、以下の評点に従って透湿性を評価した。
Ａ ： 透湿度≦４５０（ｇ／ｍ^２・２４ｈ）である。
Ｂ ： ４５０＜透湿度≦５５０（ｇ／ｍ^２・２４ｈ）である。
Ｃ ： ５５０＜透湿度≦６５０（ｇ／ｍ^２・２４ｈ）である。
Ｄ ： 透湿度＞６５０（ｇ／ｍ^２・２４ｈ）である。
実施例１においては、透湿度が４５０（ｇ／ｍ^２・２４ｈ）未満であったため、評価はＡであった。

（実施例２〜４）
表３（表中の数値の単位は質量部）に示す感光性樹脂組成物溶液を用いた以外は、実施例１と同様に感光性エレメントを作製し、塩水噴霧試験、マンドレル試験、透湿度測定を行った。表３に示すように、実施例１〜４においては、耐塩水性評価、マンドレル試験、透湿度測定のいずれも良好な結果であった。

（Ａ）成分：バインダーポリマー
（Ａ１）：メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝１２／５８／３０（質量比）、酸価７８（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
（Ａ２）：メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝１７．５／５２．５／３０（質量比）、酸価１１５（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
（Ａ３）：メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝１４／５６／３０（質量比）、酸価９１（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
（Ａ４）：メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝１４／６１／２５（質量比）、酸価９１（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
（Ｂ）成分：光重合性化合物
Ｔ−１４２０（Ｔ）：ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（日本化薬株式会社製）
その他の光重合性化合物
Ａ−ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業株式会社製）
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート（日本化薬株式会社製）、
ＲＰ−１０４０：ＥＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（日本化薬株式会社製）
ＢＰＥ−５００：エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート（新中村化学工業株式会社製）
４Ｇ：ポリエチレングリコール＃２００ジメタクリレート（新中村化学工業株式会社製）
（Ｃ）成分：光重合開始剤
ＯＸＥ０１：１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ株式会社製、商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１）
その他ＡＷ−５００：２，２’−メチレン−ビス（４−エチル−６−Ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）（アンテージＷ−５００、川口化学株式会社製）
ＳＨ−３０：有機変性シリコーンオイル（東レ・ダウコーニング株式会社製）
メチルエチルケトン：東燃化学株式会社製

１…感光性エレメント、１０…支持フィルム、２０…感光層、２２，１２２，１２３…保護膜、３０…保護フィルム、１００…透明基材、１０１，６０１…透明基板、１０２…タッチ画面、１０３…透明電極（Ｘ位置座標）、１０４…透明電極（Ｙ位置座標）、１０４ａ…透明電極の一部、１０４ｂ…透明電極のブリッジ部、１０５，１０５ａ，１０５ｂ…引き出し配線、１０６…接続電極、１０７…接続端子、１１０，１２０…タッチパネル用電極、１２４，６２５…絶縁膜、１３０…フォトマスク、２００，６００…タッチパネル、６０４…透明電極、６０４ａ…配線（透明電極配線）、６０８…開口部。

Claims (3)

1. 支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた感光層と、を備える感光性エレメントを用意する工程と、
   前記感光性エレメントの前記感光層を、タッチパネルの額縁領域に銅を含む引き出し配線を有するタッチパネル用透明基材上にラミネートする工程と、
   ラミネートされた前記感光層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に前記感光層の前記所定部分以外を除去し、前記引き出し配線の一部又は全部を被覆する前記感光層の硬化物からなる硬化膜を形成する工程と、を備え、
   前記感光層が、バインダーポリマー、ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含む光重合性化合物、及び光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物からなり、厚さが３〜８μｍであり、可視光線透過率が９０％以上であり、
   前記バインダーポリマーの重量平均分子量が、３０，０００〜１５０，０００であり、
   前記バインダーポリマーの含有量が、前記バインダーポリマー及び前記光重合性化合物の合計量１００質量部に対して、５５〜６５質量部であり、
   前記光重合性化合物の含有量が、前記バインダーポリマー及び前記光重合性化合物の合計量１００質量部に対して、３５〜４５質量部であり、
   前記透明基材がフレキシブルディスプレイ基板である、硬化膜付き透明基材の製造方法。
2. 前記（メタ）アクリレート化合物が４以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物である、請求項１に記載の硬化膜付き透明基材の製造方法。
3. 前記光重合開始剤がオキシムエステル化合物及び／又はホスフィンオキサイド化合物を含有する、請求項１又は２に記載の硬化膜付き透明基材の製造方法。

Images