JP2010061856A - 入力デバイス - Google Patents
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Abstract
【課題】画像表示装置上に設置した際に画像表示装置の画像の視認性に優れると共に動作不良が防止された入力デバイスを提供する。
【解決手段】本発明の入力デバイス１は、第１の透明導電膜１２と、第１の透明導電膜１２に対向するように配置された透明導電性金属酸化物製の第２の透明導電膜２２とを備え、第１の透明導電膜１２が押圧された際に第２の透明導電膜２２に接触し、第１の透明導電膜１２は、π共役系導電性高分子とポリアニオンと平均粒子径が０．１〜１０μｍの金属粒子とを含有する。
【選択図】図１
【解決手段】本発明の入力デバイス１は、第１の透明導電膜１２と、第１の透明導電膜１２に対向するように配置された透明導電性金属酸化物製の第２の透明導電膜２２とを備え、第１の透明導電膜１２が押圧された際に第２の透明導電膜２２に接触し、第１の透明導電膜１２は、π共役系導電性高分子とポリアニオンと平均粒子径が０．１〜１０μｍの金属粒子とを含有する。
【選択図】図１
Description
本発明は、抵抗膜式タッチパネル等の入力デバイスに関する。
タッチパネルは、画像表示装置の上に設置される入力デバイスであり、少なくとも画像表示装置に重なる部分が透明になっている。
タッチパネルとしては、例えば、抵抗膜式タッチパネルが知られている。抵抗膜式タッチパネルにおいては、透明基材の片面に透明導電膜が形成された固定電極シートおよび可動電極シートが、透明導電膜同士が対向するように配置されている。電極シートの透明導電膜としては、インジウムドープの酸化錫の膜（以下、ＩＴＯ膜という。）が広く使用されてきた。
透明基材の片面にＩＴＯ膜が形成されたシート（以下、ＩＴＯ膜形成シートという。）は可撓性が低く、固定しやすいため、画像表示装置側の固定電極シートとしては好適である。しかし、タッチパネルの入力者側の可動電極シートとして用いる場合には、繰り返し撓ませた際の耐久性が低いという問題を有していた。
そこで、タッチパネルの入力者側の可動電極シートとして、透明基材の片面に、π共役系導電性高分子を含む透明導電膜が形成された可撓性を有するシート（以下、導電性高分子膜形成シートという。）を用いることがある。
ところが、画像表示装置側の固定電極シートとしてＩＴＯ膜形成シートを用い、タッチパネルの入力者側の可動電極シートとして導電性高分子膜形成シートを用いた場合、すなわち異導体同士を接続する場合には、接触抵抗が大きく、入力感度の低下や座標入力時間の遅れ等の問題が生じることがあった。
これらの問題を解決するために、特許文献１では、π共役系導電性高分子を含む透明導電膜に金属イオンを添加することが提案されている。
特開２００７−１７２９８４号公報
タッチパネルとしては、例えば、抵抗膜式タッチパネルが知られている。抵抗膜式タッチパネルにおいては、透明基材の片面に透明導電膜が形成された固定電極シートおよび可動電極シートが、透明導電膜同士が対向するように配置されている。電極シートの透明導電膜としては、インジウムドープの酸化錫の膜（以下、ＩＴＯ膜という。）が広く使用されてきた。
透明基材の片面にＩＴＯ膜が形成されたシート（以下、ＩＴＯ膜形成シートという。）は可撓性が低く、固定しやすいため、画像表示装置側の固定電極シートとしては好適である。しかし、タッチパネルの入力者側の可動電極シートとして用いる場合には、繰り返し撓ませた際の耐久性が低いという問題を有していた。
そこで、タッチパネルの入力者側の可動電極シートとして、透明基材の片面に、π共役系導電性高分子を含む透明導電膜が形成された可撓性を有するシート（以下、導電性高分子膜形成シートという。）を用いることがある。
ところが、画像表示装置側の固定電極シートとしてＩＴＯ膜形成シートを用い、タッチパネルの入力者側の可動電極シートとして導電性高分子膜形成シートを用いた場合、すなわち異導体同士を接続する場合には、接触抵抗が大きく、入力感度の低下や座標入力時間の遅れ等の問題が生じることがあった。
これらの問題を解決するために、特許文献１では、π共役系導電性高分子を含む透明導電膜に金属イオンを添加することが提案されている。
しかしながら、特許文献１に記載の電極シートでは、ＩＴＯ膜に対する接触抵抗が充分に小さくならなかった。したがって、特許文献１に記載の電極シートを抵抗膜式タッチパネルに適用した場合には、入力感度の低下および座標入力時間の遅れ等の動作不良が生じることがあった。
また、タッチパネル用の電極シートにおいては、透明性に優れて、画像表示装置の画像の視認性が高いことが求められる。
本発明は、前記事情を鑑みてなされたものであり、画像表示装置上に設置した際に画像表示装置の画像の視認性に優れると共に動作不良が防止された入力デバイスを提供することを目的とする。
また、タッチパネル用の電極シートにおいては、透明性に優れて、画像表示装置の画像の視認性が高いことが求められる。
本発明は、前記事情を鑑みてなされたものであり、画像表示装置上に設置した際に画像表示装置の画像の視認性に優れると共に動作不良が防止された入力デバイスを提供することを目的とする。
本発明者が調べた結果、π共役系導電性高分子を含む透明導電膜に金属イオンが含まれても、ＩＴＯ膜に対する接触抵抗が低下しないことが判明した。そして、その知見に基づき、さらに検討した結果、以下の入力デバイスを発明した。
すなわち、本発明の入力デバイスは、第１の透明導電膜と、第１の透明導電膜に対向するように配置された透明導電性金属酸化物製の第２の透明導電膜とを備え、第１の透明導電膜が押圧された際に第２の透明導電膜に接触する入力デバイスにおいて、
前記第１の透明導電膜は、π共役系導電性高分子とポリアニオンと平均粒子径が０．１〜１０μｍの金属粒子とを含有し、
金属粒子を形成する金属が、銅、銀、パラジウム、ニッケル、アルミニウム、金、鉛、鉄、コバルト、亜鉛、錫、ガリウムよりなる群から選ばれる１種以上の金属またはそれらの合金であり、
金属粒子の含有量が、π共役系導電性高分子とポリアニオンとの合計を１００質量％とした際の０．０１質量％以上３質量％未満であることを特徴とする。
すなわち、本発明の入力デバイスは、第１の透明導電膜と、第１の透明導電膜に対向するように配置された透明導電性金属酸化物製の第２の透明導電膜とを備え、第１の透明導電膜が押圧された際に第２の透明導電膜に接触する入力デバイスにおいて、
前記第１の透明導電膜は、π共役系導電性高分子とポリアニオンと平均粒子径が０．１〜１０μｍの金属粒子とを含有し、
金属粒子を形成する金属が、銅、銀、パラジウム、ニッケル、アルミニウム、金、鉛、鉄、コバルト、亜鉛、錫、ガリウムよりなる群から選ばれる１種以上の金属またはそれらの合金であり、
金属粒子の含有量が、π共役系導電性高分子とポリアニオンとの合計を１００質量％とした際の０．０１質量％以上３質量％未満であることを特徴とする。
本発明の入力デバイスは、画像表示装置上に設置した際に画像表示装置の画像の視認性に優れると共に動作不良が防止されている。
本発明の入力デバイスの一実施形態例について説明する。
図１に、本実施形態例の入力デバイスを示す。本実施形態例の入力デバイス１は、入力者側に配置された可動電極シート１０と、可動電極シート１０に対向するように画像表示装置側に配置された固定電極シート２０と、これらの間に設けられた透明なドットスペーサ３０とを備える抵抗膜式タッチパネルである。
可動電極シート１０は、第１の透明基材１１と、第１の透明基材１１表面に設けられた第１の透明導電膜１２とを備えている。
固定電極シート２０は、第２の透明基材２１と、第２の透明基材２１表面に設けられた第２の透明導電膜２２とを備えている。
第１の透明導電膜１２と第２の透明導電膜２２とは、互いに対向するように配置されて、第１の透明導電膜１２が押圧された際に第２の透明導電膜２２に接触するようになっている。
図１に、本実施形態例の入力デバイスを示す。本実施形態例の入力デバイス１は、入力者側に配置された可動電極シート１０と、可動電極シート１０に対向するように画像表示装置側に配置された固定電極シート２０と、これらの間に設けられた透明なドットスペーサ３０とを備える抵抗膜式タッチパネルである。
可動電極シート１０は、第１の透明基材１１と、第１の透明基材１１表面に設けられた第１の透明導電膜１２とを備えている。
固定電極シート２０は、第２の透明基材２１と、第２の透明基材２１表面に設けられた第２の透明導電膜２２とを備えている。
第１の透明導電膜１２と第２の透明導電膜２２とは、互いに対向するように配置されて、第１の透明導電膜１２が押圧された際に第２の透明導電膜２２に接触するようになっている。
＜可動電極シート＞
（第１の透明基材）
可動電極シート１０を構成する第１の透明基材１１としては、例えば、単層または２層以上の透明樹脂フィルム、ガラス板、フィルムとガラス板との積層体が挙げられるが、可撓性を有することから、透明樹脂フィルムが好ましい。
透明樹脂フィルムを構成する透明樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリイミド、ポリカーボネート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートなどが挙げられる。
（第１の透明基材）
可動電極シート１０を構成する第１の透明基材１１としては、例えば、単層または２層以上の透明樹脂フィルム、ガラス板、フィルムとガラス板との積層体が挙げられるが、可撓性を有することから、透明樹脂フィルムが好ましい。
透明樹脂フィルムを構成する透明樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリイミド、ポリカーボネート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートなどが挙げられる。
第１の透明基材１１の厚さは１００〜２５０μｍであることが好ましい。第１の透明基材１１の厚さが１００μｍ以上であれば、充分な強度を確保でき、２５０μｍ以下であれば、充分な可撓性を確保できる。
（第１の透明導電膜）
第１の透明導電膜１２は、π共役系導電性高分子とポリアニオンと金属粒子とを含有するものである。
第１の透明導電膜１２は、π共役系導電性高分子とポリアニオンと金属粒子とを含有するものである。
［π共役系導電性高分子］
π共役系導電性高分子としては、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば特に制限されず、例えば、ポリピロール類、ポリチオフェン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアニリン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、及びこれらの共重合体等が挙げられる。空気中での安定性の点からは、ポリピロール類、ポリチオフェン類及びポリアニリン類が好ましい。
π共役系導電性高分子は無置換のままでも、充分な導電性、バインダ樹脂への相溶性を得ることができるが、導電性及び相溶性をより高めるためには、アルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基等の官能基をπ共役系導電性高分子に導入することが好ましい。
π共役系導電性高分子としては、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば特に制限されず、例えば、ポリピロール類、ポリチオフェン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアニリン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、及びこれらの共重合体等が挙げられる。空気中での安定性の点からは、ポリピロール類、ポリチオフェン類及びポリアニリン類が好ましい。
π共役系導電性高分子は無置換のままでも、充分な導電性、バインダ樹脂への相溶性を得ることができるが、導電性及び相溶性をより高めるためには、アルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基等の官能基をπ共役系導電性高分子に導入することが好ましい。
π共役系導電性高分子の具体例としては、ポリピロール、ポリ（Ｎ−メチルピロール）、ポリ（３−メチルピロール）、ポリ（３−エチルピロール）、ポリ（３−ｎ−プロピルピロール）、ポリ（３−ブチルピロール）、ポリ（３−オクチルピロール）、ポリ（３−デシルピロール）、ポリ（３−ドデシルピロール）、ポリ（３，４−ジメチルピロール）、ポリ（３，４−ジブチルピロール）、ポリ（３−カルボキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシエチルピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシブチルピロール）、ポリ（３−ヒドロキシピロール）、ポリ（３−メトキシピロール）、ポリ（３−エトキシピロール）、ポリ（３−ブトキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−ヘキシルオキシピロール）、ポリ（チオフェン）、ポリ（３−メチルチオフェン）、ポリ（３−エチルチオフェン）、ポリ（３−プロピルチオフェン）、ポリ（３−ブチルチオフェン）、ポリ（３−ヘキシルチオフェン）、ポリ（３−ヘプチルチオフェン）、ポリ（３−オクチルチオフェン）、ポリ（３−デシルチオフェン）、ポリ（３−ドデシルチオフェン）、ポリ（３−オクタデシルチオフェン）、ポリ（３−ブロモチオフェン）、ポリ（３−クロロチオフェン）、ポリ（３−ヨードチオフェン）、ポリ（３−シアノチオフェン）、ポリ（３−フェニルチオフェン）、ポリ（３，４−ジメチルチオフェン）、ポリ（３，４−ジブチルチオフェン）、ポリ（３−ヒドロキシチオフェン）、ポリ（３−メトキシチオフェン）、ポリ（３−エトキシチオフェン）、ポリ（３−ブトキシチオフェン）、ポリ（３−ヘキシルオキシチオフェン）、ポリ（３−ヘプチルオキシチオフェン）、ポリ（３−オクチルオキシチオフェン）、ポリ（３−デシルオキシチオフェン）、ポリ（３−ドデシルオキシチオフェン）、ポリ（３−オクタデシルオキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−メトキシチオフェン）、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−エトキシチオフェン）、ポリ（３−カルボキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシエチルチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシブチルチオフェン）、ポリアニリン、ポリ（２−メチルアニリン）、ポリ（３−イソブチルアニリン）、ポリ（２−アニリンスルホン酸）、ポリ（３−アニリンスルホン酸）等が挙げられる。その中でも、導電性、耐熱性から、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）が好ましい。
［ポリアニオン］
ポリアニオンとしては、例えば、置換若しくは未置換のポリアルキレン、置換若しくは未置換のポリアルケニレン、置換若しくは未置換のポリイミド、置換若しくは未置換のポリアミド、置換若しくは未置換のポリエステルであって、アニオン基を有する構成単位のみからなるポリマー、アニオン基を有する構成単位とアニオン基を有さない構成単位とからなるポリマーが挙げられる。
ポリアニオンとしては、例えば、置換若しくは未置換のポリアルキレン、置換若しくは未置換のポリアルケニレン、置換若しくは未置換のポリイミド、置換若しくは未置換のポリアミド、置換若しくは未置換のポリエステルであって、アニオン基を有する構成単位のみからなるポリマー、アニオン基を有する構成単位とアニオン基を有さない構成単位とからなるポリマーが挙げられる。
ポリアルキレンとは、主鎖がメチレンの繰り返しで構成されているポリマーである。
ポリアルケニレンとは、主鎖に不飽和二重結合（ビニル基）が１個含まれる構成単位からなるポリマーである。
ポリイミドとしては、ピロメリット酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’−［４，４’−ジ（ジカルボキシフェニルオキシ）フェニル］プロパン二無水物等の酸無水物と、オキシジアミン、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、ベンゾフェノンジアミン等のジアミンとからのポリイミドを例示できる。
ポリアミドとしては、ポリアミド６、ポリアミド６，６、ポリアミド６，１０等を例示できる。
ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等を例示できる。
ポリアルケニレンとは、主鎖に不飽和二重結合（ビニル基）が１個含まれる構成単位からなるポリマーである。
ポリイミドとしては、ピロメリット酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’−［４，４’−ジ（ジカルボキシフェニルオキシ）フェニル］プロパン二無水物等の酸無水物と、オキシジアミン、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、ベンゾフェノンジアミン等のジアミンとからのポリイミドを例示できる。
ポリアミドとしては、ポリアミド６、ポリアミド６，６、ポリアミド６，１０等を例示できる。
ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等を例示できる。
上記ポリアニオンが置換基を有する場合、その置換基としては、アルキル基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシ基、シアノ基、フェニル基、フェノール基、エステル基、アルコキシ基等が挙げられる。有機溶媒への溶解性、耐熱性及び樹脂への相溶性等を考慮すると、アルキル基、ヒドロキシ基、フェノール基、エステル基が好ましい。
アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、へキシル、オクチル、デシル、ドデシル等のアルキル基と、シクロプロピル、シクロペンチル及びシクロヘキシル等のシクロアルキル基が挙げられる。
ヒドロキシ基としては、ポリアニオンの主鎖に直接又は他の官能基を介在して結合したヒドロキシ基が挙げられ、他の官能基としては、炭素数１〜７のアルキル基、炭素数２〜７のアルケニル基、アミド基、イミド基などが挙げられる。ヒドロキシ基は、これらの官能基の末端又は中に置換されている。
アミノ基としては、ポリアニオンの主鎖に直接又は他の官能基を介在して結合したアミノ基が挙げられ、他の官能基としては、炭素数１〜７のアルキル基、炭素数２〜７のアルケニル基、アミド基、イミド基などが挙げられる。アミノ基は、これらの官能基の末端又は中に置換されている。
フェノール基としては、ポリアニオンの主鎖に直接又は他の官能基を介在して結合したフェノール基が挙げられ、他の官能基としては、炭素数１〜７のアルキル基、炭素数２〜７のアルケニル基、アミド基、イミド基などが挙げられる。フェノール基は、これらの官能基の末端又は中に置換されている。
ヒドロキシ基としては、ポリアニオンの主鎖に直接又は他の官能基を介在して結合したヒドロキシ基が挙げられ、他の官能基としては、炭素数１〜７のアルキル基、炭素数２〜７のアルケニル基、アミド基、イミド基などが挙げられる。ヒドロキシ基は、これらの官能基の末端又は中に置換されている。
アミノ基としては、ポリアニオンの主鎖に直接又は他の官能基を介在して結合したアミノ基が挙げられ、他の官能基としては、炭素数１〜７のアルキル基、炭素数２〜７のアルケニル基、アミド基、イミド基などが挙げられる。アミノ基は、これらの官能基の末端又は中に置換されている。
フェノール基としては、ポリアニオンの主鎖に直接又は他の官能基を介在して結合したフェノール基が挙げられ、他の官能基としては、炭素数１〜７のアルキル基、炭素数２〜７のアルケニル基、アミド基、イミド基などが挙げられる。フェノール基は、これらの官能基の末端又は中に置換されている。
置換基を有するポリアルキレンの例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリペンテン、ポリヘキセン、ポリビニルアルコール、ポリビニルフェノール、ポリ（３，３，３−トリフルオロプロピレン）、ポリアクリロニトリル、ポリアクリレート、ポリスチレン等を例示できる。
ポリアルケニレンの具体例としては、プロペニレン、１−メチルプロペニレン、１−ブチルプロペニレン、１−デシルプロペニレン、１−シアノプロペニレン、１−フェニルプロペニレン、１−ヒドロキシプロペニレン、１−ブテニレン、１−メチル−１−ブテニレン、１−エチル−１−ブテニレン、１−オクチル−１−ブテニレン、１−ペンタデシル−１−ブテニレン、２−メチル−１−ブテニレン、２−エチル−１−ブテニレン、２−ブチル−１−ブテニレン、２−ヘキシル−１−ブテニレン、２−オクチル−１−ブテニレン、２−デシル−１−ブテニレン、２−ドデシル−１−ブテニレン、２−フェニル−１−ブテニレン、２−ブテニレン、１−メチル−２−ブテニレン、１−エチル−２−ブテニレン、１−オクチル−２−ブテニレン、１−ペンタデシル−２−ブテニレン、２−メチル−２−ブテニレン、２−エチル−２−ブテニレン、２−ブチル−２−ブテニレン、２−ヘキシル−２−ブテニレン、２−オクチル−２−ブテニレン、２−デシル−２−ブテニレン、２−ドデシル−２−ブテニレン、２−フェニル−２−ブテニレン、２−プロピレンフェニル−２−ブテニレン、３−メチル−２−ブテニレン、３−エチル−２−ブテニレン、３−ブチル−２−ブテニレン、３−ヘキシル−２−ブテニレン、３−オクチル−２−ブテニレン、３−デシル−２−ブテニレン、３−ドデシル−２−ブテニレン、３−フェニル−２−ブテニレン、３−プロピレンフェニル−２−ブテニレン、２−ペンテニレン、４−プロピル−２−ペンテニレン、４−プロピル−２−ペンテニレン、４−ブチル−２−ペンテニレン、４−ヘキシル−２−ペンテニレン、４−シアノ−２−ペンテニレン、３−メチル−２−ペンテニレン、４−エチル−２−ペンテニレン、３−フェニル−２−ペンテニレン、４−ヒドロキシ−２−ペンテニレン、ヘキセニレン等から選ばれる一種以上の構成単位を含む重合体を例示できる。
ポリアルケニレンの具体例としては、プロペニレン、１−メチルプロペニレン、１−ブチルプロペニレン、１−デシルプロペニレン、１−シアノプロペニレン、１−フェニルプロペニレン、１−ヒドロキシプロペニレン、１−ブテニレン、１−メチル−１−ブテニレン、１−エチル−１−ブテニレン、１−オクチル−１−ブテニレン、１−ペンタデシル−１−ブテニレン、２−メチル−１−ブテニレン、２−エチル−１−ブテニレン、２−ブチル−１−ブテニレン、２−ヘキシル−１−ブテニレン、２−オクチル−１−ブテニレン、２−デシル−１−ブテニレン、２−ドデシル−１−ブテニレン、２−フェニル−１−ブテニレン、２−ブテニレン、１−メチル−２−ブテニレン、１−エチル−２−ブテニレン、１−オクチル−２−ブテニレン、１−ペンタデシル−２−ブテニレン、２−メチル−２−ブテニレン、２−エチル−２−ブテニレン、２−ブチル−２−ブテニレン、２−ヘキシル−２−ブテニレン、２−オクチル−２−ブテニレン、２−デシル−２−ブテニレン、２−ドデシル−２−ブテニレン、２−フェニル−２−ブテニレン、２−プロピレンフェニル−２−ブテニレン、３−メチル−２−ブテニレン、３−エチル−２−ブテニレン、３−ブチル−２−ブテニレン、３−ヘキシル−２−ブテニレン、３−オクチル−２−ブテニレン、３−デシル−２−ブテニレン、３−ドデシル−２−ブテニレン、３−フェニル−２−ブテニレン、３−プロピレンフェニル−２−ブテニレン、２−ペンテニレン、４−プロピル−２−ペンテニレン、４−プロピル−２−ペンテニレン、４−ブチル−２−ペンテニレン、４−ヘキシル−２−ペンテニレン、４−シアノ−２−ペンテニレン、３−メチル−２−ペンテニレン、４−エチル−２−ペンテニレン、３−フェニル−２−ペンテニレン、４−ヒドロキシ−２−ペンテニレン、ヘキセニレン等から選ばれる一種以上の構成単位を含む重合体を例示できる。
ポリアニオンのアニオン基としては、−Ｏ−ＳＯ３ −Ｘ＋、−ＳＯ３ −Ｘ＋、−ＣＯＯ−Ｘ＋（各式においてＸ＋は水素イオン、アルカリ金属イオンを表す。）が挙げられる。すなわち、ポリアニオンは、スルホ基及び／又はカルボキシ基を含有する高分子酸である。これらの中でも、π共役系導電性高分子へのドーピング効果の点から、−ＳＯ３ −Ｘ＋、−ＣＯＯ−Ｘ＋が好ましい。
また、このアニオン基は、隣接して又は一定間隔をあけてポリアニオンの主鎖に配置されていることが好ましい。
また、このアニオン基は、隣接して又は一定間隔をあけてポリアニオンの主鎖に配置されていることが好ましい。
上記ポリアニオンの中でも、溶媒溶解性及び導電性の点から、ポリイソプレンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸を含む共重合体、ポリスルホエチルメタクリレート、ポリスルホエチルメタクリレートを含む共重合体、ポリ（４−スルホブチルメタクリレート）、ポリ（４−スルホブチルメタクリレート）を含む共重合体、ポリメタリルオキシベンゼンスルホン酸、ポリメタリルオキシベンゼンスルホン酸を含む共重合体、ポリスチレンスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸を含む共重合体等が好ましい。
ポリアニオンの重合度は、モノマー単位が１０〜１００，０００個の範囲であることが好ましく、溶媒溶解性及び導電性の点からは、５０〜１０，０００個の範囲がより好ましい。
ポリアニオンの含有量は、π共役系導電性高分子１モルに対して０．１〜１０モルの範囲であることが好ましく、１〜７モルの範囲であることがより好ましい。ポリアニオンの含有量が０．１モルより少なくなると、π共役系導電性高分子へのドーピング効果が弱くなる傾向にあり、導電性が不足することがある。その上、溶媒への分散性及び溶解性が低くなり、均一な分散液を得ることが困難になる。また、ポリアニオンの含有量が１０モルより多くなると、π共役系導電性高分子の含有量が少なくなり、やはり充分な導電性が得られにくい。
ポリアニオンは、π共役系導電性高分子に配位している。そのため、π共役系導電性高分子とポリアニオンとは複合体を形成している。
π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計の含有量は０．０５〜５．０質量％であり、０．１〜４．０質量％であることが好ましい。π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計の含有量が０．０５質量％未満であると、充分な導電性が得られないことがあり、５．０質量％を超えると、均一な第１の透明導電膜１２が得られないことがある。
π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計の含有量は０．０５〜５．０質量％であり、０．１〜４．０質量％であることが好ましい。π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計の含有量が０．０５質量％未満であると、充分な導電性が得られないことがあり、５．０質量％を超えると、均一な第１の透明導電膜１２が得られないことがある。
［金属粒子］
本発明における金属粒子は、平均粒子径が０．１〜１０μｍの金属粒子である。金属粒子の平均粒子径が０．１μｍ未満であると、金属粒子を安価に入手することが困難になり、１０μｍを超えると、第１の透明導電膜１２を形成する際に用いる導電性高分子溶液に分散させることが困難になる。
本発明において金属粒子を形成する金属は、銅、銀、パラジウム、ニッケル、アルミニウム、金、鉛、鉄、コバルト、亜鉛、錫、ガリウムよりなる群から選ばれる１種以上の金属またはそれらの合金である。前記以外の金属の粒子は入手が困難である。
金属粒子に用いることができる合金としては、例えば、２種類以上の金属を高温溶融する方法やスパッタリング法などにより合金化し、この合金をコロイドミルなどの粉砕機にかけて粉砕した合金粒子が挙げられる。
これら合金は１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
本発明における金属粒子は、平均粒子径が０．１〜１０μｍの金属粒子である。金属粒子の平均粒子径が０．１μｍ未満であると、金属粒子を安価に入手することが困難になり、１０μｍを超えると、第１の透明導電膜１２を形成する際に用いる導電性高分子溶液に分散させることが困難になる。
本発明において金属粒子を形成する金属は、銅、銀、パラジウム、ニッケル、アルミニウム、金、鉛、鉄、コバルト、亜鉛、錫、ガリウムよりなる群から選ばれる１種以上の金属またはそれらの合金である。前記以外の金属の粒子は入手が困難である。
金属粒子に用いることができる合金としては、例えば、２種類以上の金属を高温溶融する方法やスパッタリング法などにより合金化し、この合金をコロイドミルなどの粉砕機にかけて粉砕した合金粒子が挙げられる。
これら合金は１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
金属粒子の含有量は、π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計１００質量％に対して０．０１質量％以上３．０質量％未満であり、０．０５〜２．０質量％であることが好ましい。金属粒子の含有量が０．０１質量％未満であると、異導体接触における接触抵抗が充分に低下せず動作不良を起こすことがあり、３．０質量％を超えると、第１の透明導電膜１２の透明性が低くなることがある。
［アクリル重合体］
第１の透明導電膜１２は、成膜性の向上の点から、アクリル重合体を含有することが好ましい。ここで、アクリル重合体とは、下記（ａ）の単量体および（ｂ）の単量体からなる群から選ばれる少なくとも１種の単量体を重合して得た重合体である。
第１の透明導電膜１２は、成膜性の向上の点から、アクリル重合体を含有することが好ましい。ここで、アクリル重合体とは、下記（ａ）の単量体および（ｂ）の単量体からなる群から選ばれる少なくとも１種の単量体を重合して得た重合体である。
（ａ）グリシジル基を有するアクリル単量体（以下、単量体（ａ）という。）。
（ｂ）アリル基、ビニルエーテル基、メタクリル基、アクリル基、メタクリルアミド基、アクリルアミド基から選ばれる１種と、ヒドロキシ基とを有するアクリル単量体（以下、単量体（ｂ）という。）。
（ｂ）アリル基、ビニルエーテル基、メタクリル基、アクリル基、メタクリルアミド基、アクリルアミド基から選ばれる１種と、ヒドロキシ基とを有するアクリル単量体（以下、単量体（ｂ）という。）。
さらに、単量体（ａ）としては、下記（ａ−１）〜（ａ−３）のアクリル単量体が挙げられる。
（ａ−１）：グリシジル基と、アリル基、ビニルエーテル基、メタクリル基、アクリル基、メタクリルアミド基、アクリルアミド基から選ばれる１種とを有するアクリル単量体（以下、単量体（ａ−１）という。）。
（ａ−２）：グリシジル基を２つ以上有するアクリル単量体（以下、単量体（ａ−２）という。）。
（ａ−３）：グリシジル基を１つ有するアクリル単量体であって、単量体（ａ−１）以外の単量体（以下、単量体（ａ−３）という。）。
（ａ−１）：グリシジル基と、アリル基、ビニルエーテル基、メタクリル基、アクリル基、メタクリルアミド基、アクリルアミド基から選ばれる１種とを有するアクリル単量体（以下、単量体（ａ−１）という。）。
（ａ−２）：グリシジル基を２つ以上有するアクリル単量体（以下、単量体（ａ−２）という。）。
（ａ−３）：グリシジル基を１つ有するアクリル単量体であって、単量体（ａ−１）以外の単量体（以下、単量体（ａ−３）という。）。
単量体（ａ−１）のうち、グリシジル基とアクリル（メタクリル）基を有する単量体として、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート等が挙げられる。
グリシジル基とアリル基を有する単量体として、アリルグリシジルエーテル、２−メチルアリルグリシジルエーテル、アリルフェノールグリシジルエーテル等が挙げられる。
グリシジル基とヒドロキシ基とを有する単量体として、１，４−ジヒドロキシメチルベンゼンジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル等が挙げられる。
グリシジル基とヒドロキシ基とアリル基とを有する単量体として、３−アリル−１，４−ジヒドロキシメチルベンゼンジグリシジルエーテル等が挙げられる。
なお、グリシジル基とヒドロキシ基とを有する単量体、グリシジル基とヒドロキシ基とアリル基とを有する単量体は単量体（ｂ）でもある。
グリシジル基とアリル基を有する単量体として、アリルグリシジルエーテル、２−メチルアリルグリシジルエーテル、アリルフェノールグリシジルエーテル等が挙げられる。
グリシジル基とヒドロキシ基とを有する単量体として、１，４−ジヒドロキシメチルベンゼンジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル等が挙げられる。
グリシジル基とヒドロキシ基とアリル基とを有する単量体として、３−アリル−１，４−ジヒドロキシメチルベンゼンジグリシジルエーテル等が挙げられる。
なお、グリシジル基とヒドロキシ基とを有する単量体、グリシジル基とヒドロキシ基とアリル基とを有する単量体は単量体（ｂ）でもある。
単量体（ａ−２）としては、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ダイマー酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジル、トリグリシジルイソシアヌレート、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、ジグリシジルテトラフタレート等が挙げられ１種類または２種類以上の混合として用いることができる。
単量体（ａ−３）としては、例えば、アルキルグリシジルエーテル、エチレングリコールグリシジルエーテル、メチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ブチルフェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル等が挙げられる。
単量体（ｂ）のうち、例えば、ヒドロキシ基とビニルエーテル基とを有する単量体として、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル等が挙げられる。
ヒドロキシ基とアクリル（メタクリル）基を有する単量体として、２−ヒドロキシエチルアクリレート（メタクリレート）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート（メタクリレート）、４−ヒドロキシブチルアクリレート（メタクリレート）、エチル−α−ヒドロキシメチルアクリレート、ジペンタエリストリトールモノヒドロキシペンタアクリレート等が挙げられる。
ヒドロキシ基とアクリルアミド（メタクリルアミド）基を有する単量体として、２−ヒドロキシエチルアクリルアミド、２−ヒドロキシエチルメタクリルアミドが挙げられる。
ヒドロキシ基とアクリル（メタクリル）基を有する単量体として、２−ヒドロキシエチルアクリレート（メタクリレート）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート（メタクリレート）、４−ヒドロキシブチルアクリレート（メタクリレート）、エチル−α−ヒドロキシメチルアクリレート、ジペンタエリストリトールモノヒドロキシペンタアクリレート等が挙げられる。
ヒドロキシ基とアクリルアミド（メタクリルアミド）基を有する単量体として、２−ヒドロキシエチルアクリルアミド、２−ヒドロキシエチルメタクリルアミドが挙げられる。
上記単量体（ａ）では、そのグリシジル基がポリアニオンの残存アニオン基（例えば、スルホ基、カルボキシ基など）と反応して、エステル（例えば、スルホン酸エステル、カルボン酸エステルなど）を形成する。その反応の際には、塩基性触媒、加圧、加熱によって反応を促進させてもよい。エステル形成の際、グリシジル基は開環してヒドロキシ基を形成する。このヒドロキシ基が、π共役系導電性高分子との塩もしくはエステルを形成しなかった残存アニオン基と脱水反応を起して、新たにエステル（例えば、スルホン酸エステル、カルボン酸エステルなど）を形成する。このようなエステルの形成によって、ポリアニオンドーパントとπ共役系導電性高分子との複合体同士が架橋する。
さらに、単量体（ａ−１）においては、ポリアニオンの残存アニオン基と、単量体（ａ−１）のグリシジル基とが結合した後、単量体（ａ−１）のアリル基、ビニルエーテル基、メタクリル基、アクリル基、メタクリルアミド基、アクリルアミド基同士が重合して複合体同士がさらに架橋する。
さらに、単量体（ａ−１）においては、ポリアニオンの残存アニオン基と、単量体（ａ−１）のグリシジル基とが結合した後、単量体（ａ−１）のアリル基、ビニルエーテル基、メタクリル基、アクリル基、メタクリルアミド基、アクリルアミド基同士が重合して複合体同士がさらに架橋する。
また、上記単量体（ｂ）では、そのヒドロキシ基がポリアニオンの残存アニオン基と脱水反応して、エステルを形成する。その脱水反応の際には、酸性触媒によって反応を促進させてもよい。その後、単量体（ｂ）のアリル基、ビニルエーテル基、メタクリル基、アクリル基、メタクリルアミド基、アクリルアミド基同士が重合する。この重合によって、ポリアニオンと導電性高分子との複合体同士が架橋する。
上記アクリル単量体の中でも、（メタ）アクリルアミドが好ましい。（メタ）アクリルアミドの重合体は、π共役系導電性高分子とポリアニオンの複合体との相溶性が良い上に導電性をより向上させることもできる。
また、アクリル重合体は、不飽和二重結合を２つ以上有する多官能アクリル単量体が共重合されていてもよい。多官能アクリル単量体が共重合されていれば、π共役系導電性高分子とポリアニオンとの複合体を架橋しやすく、導電性および塗膜強度がより向上する。
多官能アクリル単量体の具体例としては、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（以下、ＰＥＧと表記する。）４００ジ（メタ）アクリレート、ＰＥＧ３００ジ（メタ）アクリレート、ＰＥＧ６００ジ（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ’−メチレンビスアクリルアミド等の２官能アクリルモノマー、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、グリセリンプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート等の３官能アクリルモノマー、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（ペンタ）（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート等の４官能以上のアクリルモノマー、ソルビトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の５官能以上のアクリルモノマー、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、アルキレンオキサイド変性ヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の６官能以上のアクリルモノマー、２官能以上のウレタンアクリレートが挙げられる。
多官能アクリル単量体の具体例としては、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（以下、ＰＥＧと表記する。）４００ジ（メタ）アクリレート、ＰＥＧ３００ジ（メタ）アクリレート、ＰＥＧ６００ジ（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ’−メチレンビスアクリルアミド等の２官能アクリルモノマー、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、グリセリンプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート等の３官能アクリルモノマー、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（ペンタ）（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート等の４官能以上のアクリルモノマー、ソルビトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の５官能以上のアクリルモノマー、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、アルキレンオキサイド変性ヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の６官能以上のアクリルモノマー、２官能以上のウレタンアクリレートが挙げられる。
多官能アクリル単量体のうち、２官能以上のアクリルモノマーは、分子量が３０００以下であることが好ましい。２官能以上のアクリルモノマーの分子量が３０００を超えると、第１の透明導電膜１２を形成する際に用いる導電性高分子溶液に２官能以上のアクリルモノマーが溶解しにくくなる。また、不飽和二重結合当量が少なくなるため、複合体を架橋させにくく、充分な強度が得られない傾向にある。
また、多官能アクリル化合物のうち、多官能ウレタンアクリレートは、溶媒溶解性、耐摩耗性、低収縮の点で、分子量１０００以下であることが好ましい。分子量が１０００を超える多官能ウレタンアクリレートでは、イソシアネート基とポリオール（水酸基）により形成されるウレタン基の導入率が減少して溶媒に対する溶解性が低くなる傾向にある。
また、多官能アクリル化合物のうち、多官能ウレタンアクリレートは、溶媒溶解性、耐摩耗性、低収縮の点で、分子量１０００以下であることが好ましい。分子量が１０００を超える多官能ウレタンアクリレートでは、イソシアネート基とポリオール（水酸基）により形成されるウレタン基の導入率が減少して溶媒に対する溶解性が低くなる傾向にある。
アクリル重合体の含有量は、π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計１００質量％に対して０．０５〜５０質量％であることが好ましく、０．３〜３０質量％であることがより好ましい。アクリル重合体の含有量が０．０５質量％未満であると、成膜性が不足することがあり、５０質量％より多くなると、π共役系導電性高分子の含有量が少なくなり、充分な導電性が得られないことがある。
（２つ以上のヒドロキシ基を有する芳香族化合物）
また、第１の透明導電膜１２は、導電性がより高くなることから、２つ以上のヒドロキシ基を有する芳香族化合物を含有することが好ましい。
２つ以上のヒドロキシ基を有する芳香族化合物としては、１，４−ジヒドロキシベンゼン、１，３−ジヒドロキシベンゼン、２，３−ジヒドロキシ−１−ペンタデシルベンゼン、２，４−ジヒドロキシアセトフェノン、２，５−ジヒドロキシアセトフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，６−ジヒドロキシベンゾフェノン、３，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、３，５−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフォン、２，２’，５，５’−テトラヒドロキシジフェニルスルフォン、３，３’，５，５’−テトラメチル−４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフォン、ヒドロキシキノンカルボン酸及びその塩類、２，３−ジヒドロキシ安息香酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、２，５−ジヒドロキシ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、３，５−ジヒドロキシ安息香酸、１，４−ヒドロキノンスルホン酸及びその塩類、４，５−ヒドロキシベンゼン−１，３−ジスルホン酸及びその塩類、１，５−ジヒドロキシナフタレン、１，６−ジヒドロキシナフタレン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、２，７−ジヒドロキシナフタレン、２，３−ジヒドロキシナフタレン、１，５−ジヒドロキシナフタレン−２，６−ジカルボン酸、１，６−ジヒドロキシナフタレン−２，５−ジカルボン酸、１，５−ジヒドロキシナフトエ酸、１，４−ジヒドロキシ−２−ナフトエ酸フェニルエステル、４，５−ジヒドロキシナフタレン−２，７−ジスルホン酸及びその塩類、１，８−ジヒドロキシ−３，６−ナフタレンジスルホン酸及びその塩類、６，７−ジヒドロキシ−２−ナフタレンスルホン酸及びその塩類、１，２，３−トリヒドロキシベンゼン（ピロガロール）、１，２，４−トリヒドロキシベンゼン、５−メチル−１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、５−エチル−１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、５−プロピル−１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、トリヒドロキシ安息香酸、トリヒドロキシアセトフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾアルデヒド、トリヒドロキシアントラキノン、２，４，６−トリヒドロキシベンゼン、テトラヒドロキシ−ｐ−ベンゾキノン、テトラヒドロキシアントラキノン、ガーリック酸メチル（没食子酸メチル）、ガーリック酸エチル（没食子酸エチル）等が挙げられる。
なお、これら芳香族化合物の一部は還元剤としても機能する。したがって、２つ以上のヒドロキシ基を有する芳香族化合物を還元剤として兼用することで、導電性をより高めることもできる。
また、第１の透明導電膜１２は、導電性がより高くなることから、２つ以上のヒドロキシ基を有する芳香族化合物を含有することが好ましい。
２つ以上のヒドロキシ基を有する芳香族化合物としては、１，４−ジヒドロキシベンゼン、１，３−ジヒドロキシベンゼン、２，３−ジヒドロキシ−１−ペンタデシルベンゼン、２，４−ジヒドロキシアセトフェノン、２，５−ジヒドロキシアセトフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，６−ジヒドロキシベンゾフェノン、３，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、３，５−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフォン、２，２’，５，５’−テトラヒドロキシジフェニルスルフォン、３，３’，５，５’−テトラメチル−４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフォン、ヒドロキシキノンカルボン酸及びその塩類、２，３−ジヒドロキシ安息香酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、２，５−ジヒドロキシ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、３，５−ジヒドロキシ安息香酸、１，４−ヒドロキノンスルホン酸及びその塩類、４，５−ヒドロキシベンゼン−１，３−ジスルホン酸及びその塩類、１，５−ジヒドロキシナフタレン、１，６−ジヒドロキシナフタレン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、２，７−ジヒドロキシナフタレン、２，３−ジヒドロキシナフタレン、１，５−ジヒドロキシナフタレン−２，６−ジカルボン酸、１，６−ジヒドロキシナフタレン−２，５−ジカルボン酸、１，５−ジヒドロキシナフトエ酸、１，４−ジヒドロキシ−２−ナフトエ酸フェニルエステル、４，５−ジヒドロキシナフタレン−２，７−ジスルホン酸及びその塩類、１，８−ジヒドロキシ−３，６−ナフタレンジスルホン酸及びその塩類、６，７−ジヒドロキシ−２−ナフタレンスルホン酸及びその塩類、１，２，３−トリヒドロキシベンゼン（ピロガロール）、１，２，４−トリヒドロキシベンゼン、５−メチル−１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、５−エチル−１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、５−プロピル−１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、トリヒドロキシ安息香酸、トリヒドロキシアセトフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾアルデヒド、トリヒドロキシアントラキノン、２，４，６−トリヒドロキシベンゼン、テトラヒドロキシ−ｐ−ベンゾキノン、テトラヒドロキシアントラキノン、ガーリック酸メチル（没食子酸メチル）、ガーリック酸エチル（没食子酸エチル）等が挙げられる。
なお、これら芳香族化合物の一部は還元剤としても機能する。したがって、２つ以上のヒドロキシ基を有する芳香族化合物を還元剤として兼用することで、導電性をより高めることもできる。
２つ以上のヒドロキシ基を有する芳香族化合物の含有量は、ポリアニオンのアニオン基単位１モルに対して０．０５〜５０モルの範囲であることが好ましく、０．３〜１０モルの範囲であることがより好ましい。２つ以上のヒドロキシ基を有する芳香族化合物の含有量が、ポリアニオンのアニオン基単位１モルに対して０．０５モルより少なくなると、導電性が高くならないことがある。また、２つ以上のヒドロキシ基を有する化合物の含有量が、ポリアニオンのアニオン基単位１モルに対して５０モルより多くなると、第１の透明導電膜１２中のπ共役系導電性高分子の含有量が少なくなり、やはり充分な導電性が得られないことがある。
［添加剤］
第１の透明導電膜１２は、必要に応じて、添加剤を含有してもよい。
添加剤としてはπ共役系導電性高分子及びポリアニオンと混合しうるものであれば特に制限されず、例えば、アルカリ性化合物、界面活性剤、消泡剤、カップリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤などを使用できる。
アルカリ性化合物としては、公知の無機アルカリ化合物や有機アルカリ化合物を使用できる。無機アルカリ化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、アンモニア等が挙げられる。
有機アルカリ化合物としては、例えば、脂肪族アミン、芳香族アミン、４級アミン、アミン以外の窒素含有化合物、金属アルコキシド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。これらの中でも、導電性がより高くなることから、脂肪族アミン、芳香族アミン、４級アミンよりなる群から選ばれる１種もしくは２種以上が好ましい。
界面活性剤としては、カルボン酸塩、スルホン酸塩、硫酸エステル塩、リン酸エステル塩等の陰イオン界面活性剤；アミン塩、４級アンモニウム塩等の陽イオン界面活性剤；カルボキシベタイン、アミノカルボン酸塩、イミダゾリウムベタイン等の両性界面活性剤；ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、エチレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド等の非イオン界面活性剤等が挙げられる。
消泡剤としては、シリコーン樹脂、ポリジメチルシロキサン、シリコーンレジン等が挙げられる。
カップリング剤としては、ビニル基、アミノ基、エポキシ基等を有するシランカップリング剤等が挙げられる。
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、糖類、ビタミン類等が挙げられる。
紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリシレート系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、オギザニリド系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤等が挙げられる。
酸化防止剤と紫外線吸収剤とは併用することが好ましい。
第１の透明導電膜１２は、必要に応じて、添加剤を含有してもよい。
添加剤としてはπ共役系導電性高分子及びポリアニオンと混合しうるものであれば特に制限されず、例えば、アルカリ性化合物、界面活性剤、消泡剤、カップリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤などを使用できる。
アルカリ性化合物としては、公知の無機アルカリ化合物や有機アルカリ化合物を使用できる。無機アルカリ化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、アンモニア等が挙げられる。
有機アルカリ化合物としては、例えば、脂肪族アミン、芳香族アミン、４級アミン、アミン以外の窒素含有化合物、金属アルコキシド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。これらの中でも、導電性がより高くなることから、脂肪族アミン、芳香族アミン、４級アミンよりなる群から選ばれる１種もしくは２種以上が好ましい。
界面活性剤としては、カルボン酸塩、スルホン酸塩、硫酸エステル塩、リン酸エステル塩等の陰イオン界面活性剤；アミン塩、４級アンモニウム塩等の陽イオン界面活性剤；カルボキシベタイン、アミノカルボン酸塩、イミダゾリウムベタイン等の両性界面活性剤；ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、エチレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド等の非イオン界面活性剤等が挙げられる。
消泡剤としては、シリコーン樹脂、ポリジメチルシロキサン、シリコーンレジン等が挙げられる。
カップリング剤としては、ビニル基、アミノ基、エポキシ基等を有するシランカップリング剤等が挙げられる。
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、糖類、ビタミン類等が挙げられる。
紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリシレート系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、オギザニリド系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤等が挙げられる。
酸化防止剤と紫外線吸収剤とは併用することが好ましい。
［厚さ］
第１の透明導電膜１２の厚さは５０〜７００μｍであることが好ましい。第１の透明導電膜１２の厚さが５０μｍ以上であれば、充分な導電性を確保でき、７００μｍ以下であれば、充分な可撓性及び透明性を確保できる。
第１の透明導電膜１２の厚さは５０〜７００μｍであることが好ましい。第１の透明導電膜１２の厚さが５０μｍ以上であれば、充分な導電性を確保でき、７００μｍ以下であれば、充分な可撓性及び透明性を確保できる。
（可動電極シートの作製方法）
可動電極シート１０は、第１の透明基材１１上に導電性高分子溶液を塗布して作製される。
ここで、導電性高分子溶液は、π共役系導電性高分子とポリアニオンと金属粒子と溶媒とを必須成分として含有し、２つ以上のヒドロキシ基を有する芳香族化合物、アクリル単量体、添加物等を任意成分として含有する。
可動電極シート１０は、第１の透明基材１１上に導電性高分子溶液を塗布して作製される。
ここで、導電性高分子溶液は、π共役系導電性高分子とポリアニオンと金属粒子と溶媒とを必須成分として含有し、２つ以上のヒドロキシ基を有する芳香族化合物、アクリル単量体、添加物等を任意成分として含有する。
溶媒としては特に制限されず、例えば、水、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート化合物、クレゾール、フェノール、キシレノール等のフェノール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類、ジオキサン、２−メチルテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル化合物、アセトニトリル、グルタロジニトリル、メトキシアセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル化合物、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ヘキサメチレンホスホルトリアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジン、ジメチルイミダゾリン、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジフェニルスルホン酸等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いてもよいし、２種類以上の混合物としてもよいし、他の有機溶媒との混合物としてもよい。
前記溶媒の中でも、取り扱い性の点から、水、アルコール類が好ましい。
前記溶媒の中でも、取り扱い性の点から、水、アルコール類が好ましい。
導電性高分子溶液は、例えば、ポリアニオンの水溶液中でπ共役系導電性高分子の前駆体モノマーを化学酸化重合して導電性高分子水溶液を調製し、この水溶液に、金属粒子と必要に応じて任意成分とを添加することで調製できる。
導電性高分子溶液の塗布方法として、例えば、コンマコーティング、リバースコーティング、リップコーティング、マイクログラビアコーティング等が適用される。
導電性高分子溶液を塗布する際には、導電性高分子溶液を充分に攪拌して、金属粒子の分散性を高めておくことが好ましい。
導電性高分子溶液を塗布する際には、導電性高分子溶液を充分に攪拌して、金属粒子の分散性を高めておくことが好ましい。
アクリル単量体を含有する場合には、導電性高分子溶液を塗布した後に、アクリル単量体を重合してアクリル重合体を得るための硬化処理を施すことが好ましい。
アクリル単量体の重合では、熱ラジカル重合法、光ラジカル重合法、プラズマ重合法、カチオン重合法を適用できる。
熱ラジカル重合法では、重合開始剤として、例えばアゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物、過酸化ベンゾイル、ジアシルペルオキシド類、ペルオキシエステル類、ヒドロペルオキシド類等の過酸化物などを用いて重合する。熱ラジカル重合法を適用する場合には、熱風加熱や赤外線加熱などにより加熱して重合すればよい。
光ラジカル重合法では、重合開始剤として、カルボニル化合物、イオウ化合物、有機過酸化物、アゾ化合物などを用いて重合する。具体的には、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、キサントン、チオキサントン、２−エチルアントラキノン、アセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル-プロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ベンジル、メチルベンゾイルホルメート、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、テトラメチルチウラム、ジチオカーバメート、過酸化ベンゾイル、Ｎ−ラウリルピリジウムアジド、ポリメチルフェニルシランなどが挙げられる。
光ラジカル重合法を適用する場合には、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプなどの光源から紫外線を照射する。また、紫外線を照射する前に、加熱乾燥してもよい。
プラズマ重合では、プラズマを短時間照射し、プラズマの電子衝撃によるエネルギーを受けて、フラグメンテーションとリアレンジメントをしたのち、ラジカルの再結合により重合体を生成する。
カチオン重合法では、反応促進のため、ハロゲン化金属、有機金属化合物等のルイス酸、その他、ハロゲン、強酸塩、カルボニウムイオン塩等の光または熱でカチオンを生成する求電子試薬などを用いる。カチオン重合法は、アクリル単量体が、単量体（ａ−１）およびビニルエーテル基を有する単量体（ｂ）の重合に適用される。
アクリル単量体の重合では、熱ラジカル重合法、光ラジカル重合法、プラズマ重合法、カチオン重合法を適用できる。
熱ラジカル重合法では、重合開始剤として、例えばアゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物、過酸化ベンゾイル、ジアシルペルオキシド類、ペルオキシエステル類、ヒドロペルオキシド類等の過酸化物などを用いて重合する。熱ラジカル重合法を適用する場合には、熱風加熱や赤外線加熱などにより加熱して重合すればよい。
光ラジカル重合法では、重合開始剤として、カルボニル化合物、イオウ化合物、有機過酸化物、アゾ化合物などを用いて重合する。具体的には、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、キサントン、チオキサントン、２−エチルアントラキノン、アセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル-プロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ベンジル、メチルベンゾイルホルメート、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、テトラメチルチウラム、ジチオカーバメート、過酸化ベンゾイル、Ｎ−ラウリルピリジウムアジド、ポリメチルフェニルシランなどが挙げられる。
光ラジカル重合法を適用する場合には、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプなどの光源から紫外線を照射する。また、紫外線を照射する前に、加熱乾燥してもよい。
プラズマ重合では、プラズマを短時間照射し、プラズマの電子衝撃によるエネルギーを受けて、フラグメンテーションとリアレンジメントをしたのち、ラジカルの再結合により重合体を生成する。
カチオン重合法では、反応促進のため、ハロゲン化金属、有機金属化合物等のルイス酸、その他、ハロゲン、強酸塩、カルボニウムイオン塩等の光または熱でカチオンを生成する求電子試薬などを用いる。カチオン重合法は、アクリル単量体が、単量体（ａ−１）およびビニルエーテル基を有する単量体（ｂ）の重合に適用される。
＜固定電極シート＞
（第２の透明基材）
固定電極シート２０を構成する第２の透明基材２１としては、第１の透明基材１１と同様のものを使用でき、中でも、可動電極シート１０を、ドットスペーサ３０を介して支持しやすいことから、ガラス板を用いたものが好ましい。
第２の透明基材２１の厚さは０．８〜２．５ｍｍであることが好ましい。第２の透明基材２１の厚さが０．８ｍｍ以上であれば、充分な強度を確保でき、２．５ｍｍ以下であれば、薄くすることができ、省スペース化を実現できる。
（第２の透明基材）
固定電極シート２０を構成する第２の透明基材２１としては、第１の透明基材１１と同様のものを使用でき、中でも、可動電極シート１０を、ドットスペーサ３０を介して支持しやすいことから、ガラス板を用いたものが好ましい。
第２の透明基材２１の厚さは０．８〜２．５ｍｍであることが好ましい。第２の透明基材２１の厚さが０．８ｍｍ以上であれば、充分な強度を確保でき、２．５ｍｍ以下であれば、薄くすることができ、省スペース化を実現できる。
（第２の透明導電膜）
第２の透明導電膜２２は、透明導電性金属酸化物製である。第２の透明導電膜２２を構成する透明導電性金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム、酸化錫、インジウムドープ酸化錫（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、フッ素ドープ酸化錫（ＦＴＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、酸化亜鉛などが挙げられる。
第２の透明導電膜２２の厚さは０．０１〜１．０μｍであることが好ましい。第２の透明導電膜２２の厚さが０．０１μｍ以上であれば、充分な導電性を確保でき、１．０μｍ以下であれば、薄くすることができ、省スペース化を実現できる。
第２の透明導電膜２２は、透明導電性金属酸化物製である。第２の透明導電膜２２を構成する透明導電性金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム、酸化錫、インジウムドープ酸化錫（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、フッ素ドープ酸化錫（ＦＴＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、酸化亜鉛などが挙げられる。
第２の透明導電膜２２の厚さは０．０１〜１．０μｍであることが好ましい。第２の透明導電膜２２の厚さが０．０１μｍ以上であれば、充分な導電性を確保でき、１．０μｍ以下であれば、薄くすることができ、省スペース化を実現できる。
＜可動電極シートと固定電極シートとの間隔＞
可動電極シート１０と固定電極シート２０の非押圧時の間隔は２０〜１００μｍであることが好ましい。可動電極シート１０と固定電極シート２０の非押圧時の間隔は２０μｍ以上であれば、非押圧時に可動電極シート１０と固定電極シート２０とを確実に接触させないようにすることができ、１００μｍ以下であれば、押圧時に可動電極シート１０と固定電極シート２０とを確実に接触させることができる。前記間隔になるようにするためには、ドットスペーサ３０の大きさを適宜選択すればよい。
可動電極シート１０と固定電極シート２０の非押圧時の間隔は２０〜１００μｍであることが好ましい。可動電極シート１０と固定電極シート２０の非押圧時の間隔は２０μｍ以上であれば、非押圧時に可動電極シート１０と固定電極シート２０とを確実に接触させないようにすることができ、１００μｍ以下であれば、押圧時に可動電極シート１０と固定電極シート２０とを確実に接触させることができる。前記間隔になるようにするためには、ドットスペーサ３０の大きさを適宜選択すればよい。
＜入力デバイスの使用方法および用途＞
図２に示すように、この入力デバイス１の可動電極シート１０の短辺方向（Ｙ方向）の両端には、長辺方向（Ｘ方向）に沿って第１の電極１３ａおよび第２の電極１３ｂが設けられる。また、固定電極シート２０の短辺方向（Ｙ方向）の両端には、短辺方向に沿って第３の電極２３ａおよび第４の電極２３ｂが設けられる。
第１の電極１３ａには、第１の配線４１および第２の配線４２を介して電源５０が接続され、第３の電極２３ａには、第１の配線４１および第３の配線４３を介して電源５０が接続される。
第２の電極１３ｂは、第４の配線４４を介して接地され、第４の電極２３ｂは、第５の配線４５を介して設置される。
第２の配線４２は、第６の配線４６を介してマルチプレクサ６０に接続される。第３の配線４３は、第７の配線４７を介してマルチプレクサ６０に接続される。また、第２の配線４２の、第６の配線４６の接続点より電源５０側には第１のスイッチ７１が、第４の配線４４には第２のスイッチ７２が、第３の配線４３の、第７の配線４７の接続点より電源５０側には第３のスイッチ７３が、第５の配線４５には第４のスイッチ７４が設置される。
マルチプレクサ６０には、第８の配線７８、サンプル・アンド・ホールド回路８０および第９の配線７９を介して電圧測定手段９０が接続される。
図２に示すように、この入力デバイス１の可動電極シート１０の短辺方向（Ｙ方向）の両端には、長辺方向（Ｘ方向）に沿って第１の電極１３ａおよび第２の電極１３ｂが設けられる。また、固定電極シート２０の短辺方向（Ｙ方向）の両端には、短辺方向に沿って第３の電極２３ａおよび第４の電極２３ｂが設けられる。
第１の電極１３ａには、第１の配線４１および第２の配線４２を介して電源５０が接続され、第３の電極２３ａには、第１の配線４１および第３の配線４３を介して電源５０が接続される。
第２の電極１３ｂは、第４の配線４４を介して接地され、第４の電極２３ｂは、第５の配線４５を介して設置される。
第２の配線４２は、第６の配線４６を介してマルチプレクサ６０に接続される。第３の配線４３は、第７の配線４７を介してマルチプレクサ６０に接続される。また、第２の配線４２の、第６の配線４６の接続点より電源５０側には第１のスイッチ７１が、第４の配線４４には第２のスイッチ７２が、第３の配線４３の、第７の配線４７の接続点より電源５０側には第３のスイッチ７３が、第５の配線４５には第４のスイッチ７４が設置される。
マルチプレクサ６０には、第８の配線７８、サンプル・アンド・ホールド回路８０および第９の配線７９を介して電圧測定手段９０が接続される。
可動電極シート１０が押圧された状態にて押圧点のＸ座標を検出する際には、第１のスイッチ７１および第２のスイッチ７２をオフにし、第３のスイッチ７３および第４のスイッチ７４をオンにする。これにより、固定電極シート２０の第２の透明導電膜２２の第３の電極２３ａと第４の電極２３ｂとの間に電圧分布を形成させ、可動電極シート１０の第１の透明導電膜１２の全体の電位が、第２の透明導電膜２２における第１の透明導電膜１２との接点Ｐと同電位になる状態にする。
そして、可動電極シート１０の第１の透明導電膜１２と固定電極シート２０の第２の透明導電膜２２との接点Ｐの電位を、第１の透明導電膜１２、第２の配線７２、第６の配線７６、マルチプレクサ６０、第８の配線７８、サンプル・アンド・ホールド回路８０および第９の配線７９を介して、電圧測定手段９０によって測定する。その測定によって求めた測定電位、および第３の電極２３ａと第４の電極２３ｂとの電位差に基づいて、Ｘ座標を求める。
また、押圧点のＹ座標を検出する際には、第１のスイッチ７１および第２のスイッチ７２をオンにし、第３のスイッチ７３および第４のスイッチ７４をオフにする。これにより、可動電極シート１０の第１の透明導電膜１２の第１の電極１３ａと第２の電極１３ｂとの間に電圧分布を形成させ、固定電極シート２０の第２の透明導電膜２２の全体の電位が、第１の透明導電膜１２における第２の透明導電膜２２との接点Ｐと同電位になる状態にする。
そして、可動電極シート１０の第１の透明導電膜１２と固定電極シート２０の第２の透明導電膜２２との接点Ｐの電位を、第２の透明導電膜２２、第３の配線７３、第７の配線７７、マルチプレクサ６０、第８の配線７８、サンプル・アンド・ホールド回路８０および第９の配線７９を介して、電圧測定手段９０によって測定する。その測定によって求めた測定電位、および第１の電極１３ａと第２の電極１３ｂとの電位差に基づいて、Ｙ座標を求める。
そして、可動電極シート１０の第１の透明導電膜１２と固定電極シート２０の第２の透明導電膜２２との接点Ｐの電位を、第１の透明導電膜１２、第２の配線７２、第６の配線７６、マルチプレクサ６０、第８の配線７８、サンプル・アンド・ホールド回路８０および第９の配線７９を介して、電圧測定手段９０によって測定する。その測定によって求めた測定電位、および第３の電極２３ａと第４の電極２３ｂとの電位差に基づいて、Ｘ座標を求める。
また、押圧点のＹ座標を検出する際には、第１のスイッチ７１および第２のスイッチ７２をオンにし、第３のスイッチ７３および第４のスイッチ７４をオフにする。これにより、可動電極シート１０の第１の透明導電膜１２の第１の電極１３ａと第２の電極１３ｂとの間に電圧分布を形成させ、固定電極シート２０の第２の透明導電膜２２の全体の電位が、第１の透明導電膜１２における第２の透明導電膜２２との接点Ｐと同電位になる状態にする。
そして、可動電極シート１０の第１の透明導電膜１２と固定電極シート２０の第２の透明導電膜２２との接点Ｐの電位を、第２の透明導電膜２２、第３の配線７３、第７の配線７７、マルチプレクサ６０、第８の配線７８、サンプル・アンド・ホールド回路８０および第９の配線７９を介して、電圧測定手段９０によって測定する。その測定によって求めた測定電位、および第１の電極１３ａと第２の電極１３ｂとの電位差に基づいて、Ｙ座標を求める。
上記座標検出においては、第１〜第４のスイッチ７１〜７４のオン−オフ切換え後、所定時間が経過してから、第１の透明導電膜１２と第２の透明導電膜２２との接点Ｐでの電位を測定することが好ましい。第１の透明導電膜１２がπ共役系導電性高分子を含んでいると、抵抗値が大きくないにもかかわらず、電位の安定に時間がかかる。しかし、第１〜第４のスイッチ７１〜７４のオン−オフ後、所定時間経過してから電位を測定すれば、安定した状態での電位を測定できるので、測定精度の低下を抑制できる。
このような入力デバイス１は、例えば、電子手帳、携帯情報端末（ＰＤＡ）、携帯電話、ＰＨＳ、現金自動預け払い機（ＡＴＭ）、自動販売機、販売時点情報管理（ＰＯＳ）用レジスタなどに備え付けられる。
＜作用効果＞
以上説明した入力デバイス１では、可動電極シート１０を構成する第１の透明導電膜１２が金属粒子を含んでいるため、導電性に優れる上に、透明導電性金属酸化物製の第２の透明導電膜２２に対する接触抵抗が小さくなっている。したがって、入力感度の低下や座標入力時間遅れ等の動作不良が起きにくい。
また、金属粒子の含有量はπ共役系導電性高分子とポリアニオンとの合計１００質量％に対して３質量％未満と少ないため、金属粒子によって透明性が損なわれない。そのため、入力デバイス１を画像表示装置上に設置した際には、画像の視認性に優れる。
以上説明した入力デバイス１では、可動電極シート１０を構成する第１の透明導電膜１２が金属粒子を含んでいるため、導電性に優れる上に、透明導電性金属酸化物製の第２の透明導電膜２２に対する接触抵抗が小さくなっている。したがって、入力感度の低下や座標入力時間遅れ等の動作不良が起きにくい。
また、金属粒子の含有量はπ共役系導電性高分子とポリアニオンとの合計１００質量％に対して３質量％未満と少ないため、金属粒子によって透明性が損なわれない。そのため、入力デバイス１を画像表示装置上に設置した際には、画像の視認性に優れる。
以下、本発明の実施例を具体的に示すが、本発明は実施例により限定されるものではない。
（製造例１）ポリスチレンスルホン酸の調製
１０００ｍｌのイオン交換水に２０６ｇのスチレンスルホン酸ナトリウムを溶解し、８０℃で攪拌しながら、予め１０ｍｌの水に溶解した１．１４ｇの過硫酸アンモニウム酸化剤溶液を２０分間滴下し、この溶液を２時間攪拌した。
これにより得られたスチレンスルホン酸ナトリウム含有溶液に１０質量％に希釈した硫酸を１０００ｍｌと１００００ｍｌのイオン交換水を添加し、限外ろ過法を用いてポリスチレンスルホン酸含有溶液の約１００００ｍｌ溶液を除去し、残液に１００００ｍｌのイオン交換水を加え、限外ろ過法を用いて約１００００ｍｌ溶液を除去した。上記の限外ろ過操作を３回繰り返した。
さらに、得られたろ液に約１００００ｍｌのイオン交換水を添加し、限外ろ過法を用いて約１００００ｍｌ溶液を除去した。この限外ろ過操作を３回繰り返した。
限外ろ過条件は下記の通りとした（他の例でも同様）。
限外ろ過膜の分画分子量：３００００
クロスフロー式
供給液流量：３０００ｍｌ／分
膜分圧：０．１２Ｐａ
得られた溶液中の水を減圧除去して、無色の固形状のポリスチレンスルホン酸を得た。
（製造例１）ポリスチレンスルホン酸の調製
１０００ｍｌのイオン交換水に２０６ｇのスチレンスルホン酸ナトリウムを溶解し、８０℃で攪拌しながら、予め１０ｍｌの水に溶解した１．１４ｇの過硫酸アンモニウム酸化剤溶液を２０分間滴下し、この溶液を２時間攪拌した。
これにより得られたスチレンスルホン酸ナトリウム含有溶液に１０質量％に希釈した硫酸を１０００ｍｌと１００００ｍｌのイオン交換水を添加し、限外ろ過法を用いてポリスチレンスルホン酸含有溶液の約１００００ｍｌ溶液を除去し、残液に１００００ｍｌのイオン交換水を加え、限外ろ過法を用いて約１００００ｍｌ溶液を除去した。上記の限外ろ過操作を３回繰り返した。
さらに、得られたろ液に約１００００ｍｌのイオン交換水を添加し、限外ろ過法を用いて約１００００ｍｌ溶液を除去した。この限外ろ過操作を３回繰り返した。
限外ろ過条件は下記の通りとした（他の例でも同様）。
限外ろ過膜の分画分子量：３００００
クロスフロー式
供給液流量：３０００ｍｌ／分
膜分圧：０．１２Ｐａ
得られた溶液中の水を減圧除去して、無色の固形状のポリスチレンスルホン酸を得た。
（製造例２）ポリスチレンスルホン酸ドープポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）水溶液の調製
１４．２ｇの３，４−エチレンジオキシチオフェンと、３６．７ｇの製造例１で得たポリスチレンスルホン酸を２０００ｍｌのイオン交換水に溶かした溶液とを２０℃で混合した。
これにより得られた混合溶液を２０℃に保ち、掻き混ぜながら、２００ｍｌのイオン交換水に溶かした２９．６４ｇの過硫酸アンモニウムと８．０ｇの硫酸第二鉄の酸化触媒溶液とをゆっくり添加し、３時間攪拌して反応させた。
得られた反応液に２０００ｍｌのイオン交換水を添加し、限外ろ過法を用いて約２０００ｍｌ溶液を除去した。この操作を３回繰り返した。
そして、上記ろ過処理が行われた処理液に２００ｍｌの１０質量％に希釈した硫酸と２０００ｍｌのイオン交換水を加え、限外ろ過法を用いて約２０００ｍｌの処理液を除去し、これに２０００ｍｌのイオン交換水を加え、限外ろ過法を用いて約２０００ｍｌの液を除去した。この操作を３回繰り返した。
さらに、得られた処理液に２０００ｍｌのイオン交換水を加え、限外ろ過法を用いて約２０００ｍｌの処理液を除去した。この操作を５回繰り返し、約１．２質量％の青色のポリスチレンスルホン酸ドープポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ）水溶液を得た。
１４．２ｇの３，４−エチレンジオキシチオフェンと、３６．７ｇの製造例１で得たポリスチレンスルホン酸を２０００ｍｌのイオン交換水に溶かした溶液とを２０℃で混合した。
これにより得られた混合溶液を２０℃に保ち、掻き混ぜながら、２００ｍｌのイオン交換水に溶かした２９．６４ｇの過硫酸アンモニウムと８．０ｇの硫酸第二鉄の酸化触媒溶液とをゆっくり添加し、３時間攪拌して反応させた。
得られた反応液に２０００ｍｌのイオン交換水を添加し、限外ろ過法を用いて約２０００ｍｌ溶液を除去した。この操作を３回繰り返した。
そして、上記ろ過処理が行われた処理液に２００ｍｌの１０質量％に希釈した硫酸と２０００ｍｌのイオン交換水を加え、限外ろ過法を用いて約２０００ｍｌの処理液を除去し、これに２０００ｍｌのイオン交換水を加え、限外ろ過法を用いて約２０００ｍｌの液を除去した。この操作を３回繰り返した。
さらに、得られた処理液に２０００ｍｌのイオン交換水を加え、限外ろ過法を用いて約２０００ｍｌの処理液を除去した。この操作を５回繰り返し、約１．２質量％の青色のポリスチレンスルホン酸ドープポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ）水溶液を得た。
（実施例１）
銀粒子（フェロ・ジャパン社製、ＲＤＳ１１０００−１０、平均粒子径；１．０μｍ）０．１８ｇ（π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計１００質量％に対して銀粒子が２．５０質量％）、ハイドロキノン３．６ｇ、イルガキュア１２７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）０．９ｇ、２−ヒドロキシエチルアクリルアミド１８ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート７．２ｇ、エタノール３００ｇを混合し、撹拌した。これにより得た混合溶液に、製造例２で得たＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液６００ｇを添加し、ホモジナイザ分散処理して、導電性高分子溶液Ａを得た。
導電性高分子溶液Ａを、第１の透明基材であるポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績製Ａ４３００、厚さ；１８８μｍ、全光線透過率；９３．５％、ヘイズ；０．６８％）に、リバースコーターにより塗布し、１２０℃、２分間、熱風により乾燥した後、紫外線（高圧水銀灯１２０Ｗ、３６０ｍＪ／ｃｍ２、１７８ｍＷ／ｃｍ２）照射し、硬化させ、第１の透明導電膜を形成して、電極シートを得た。
第１の透明導電膜の表面抵抗と光透過率、入力デバイスにおける第１の透明導電膜と第２の透明導電膜との接触抵抗を以下の方法により測定した。それらの結果を表１に示す。
銀粒子（フェロ・ジャパン社製、ＲＤＳ１１０００−１０、平均粒子径；１．０μｍ）０．１８ｇ（π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計１００質量％に対して銀粒子が２．５０質量％）、ハイドロキノン３．６ｇ、イルガキュア１２７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）０．９ｇ、２−ヒドロキシエチルアクリルアミド１８ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート７．２ｇ、エタノール３００ｇを混合し、撹拌した。これにより得た混合溶液に、製造例２で得たＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液６００ｇを添加し、ホモジナイザ分散処理して、導電性高分子溶液Ａを得た。
導電性高分子溶液Ａを、第１の透明基材であるポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績製Ａ４３００、厚さ；１８８μｍ、全光線透過率；９３．５％、ヘイズ；０．６８％）に、リバースコーターにより塗布し、１２０℃、２分間、熱風により乾燥した後、紫外線（高圧水銀灯１２０Ｗ、３６０ｍＪ／ｃｍ２、１７８ｍＷ／ｃｍ２）照射し、硬化させ、第１の透明導電膜を形成して、電極シートを得た。
第１の透明導電膜の表面抵抗と光透過率、入力デバイスにおける第１の透明導電膜と第２の透明導電膜との接触抵抗を以下の方法により測定した。それらの結果を表１に示す。
［表面抵抗値］
三菱化学社製ロレスタＭＣＰ−Ｔ６００を用い、ＪＩＳ Ｋ ７１９４に準じて測定した。
［光透過率］
日本電色工業社製ヘイズメータ測定器（ＮＤＨ５０００）を用い、ＪＩＳ Ｋ７１３６に準じて光透過率を測定した。
［接触抵抗］
第１の透明基材１１（ポリエチレンテレフタレートフィルム、東洋紡績製Ａ４３００、厚さ；１８８μｍ）上に導電性高分子溶液を塗布して第１の透明導電膜１２を形成して、４０ｍｍ×５０ｍｍに裁断した。その裁断したシートの第１の透明導電膜１２上の幅方向の縁に導電性ペースト（藤倉化成社製ＦＡ−４０１ＣＡ）をスクリーン印刷し、乾燥させて電極１３ａ，１３ｂを形成して、入力者側の可動電極シート１０（図３参照）を得た。
また、ガラス製の第２の透明基材２１の片面にＩＴＯ製の第２の透明導電膜２２（表面抵抗：３００Ω）が設けられ、４０ｍｍ×５０ｍｍに裁断された電極用シートを用意した。その用意した電極用シートの第２の透明導電膜２２上の長手方向の縁に、導電性ペースト（藤倉化成社製ＸＡ４３６）をスクリーン印刷し、乾燥させて電極２３ａ，２３ｂを形成した。次いで、第２の透明導電膜２２上に、ドットスペーサ用ペースト（藤倉化成社製ＳＮ−８４００Ｃ）をスクリーン印刷し、乾燥し、紫外線照射して、ドットスペーサ３０を形成させた。次いで、電極２３ａ，２３ｂ上に、レジスト用ペースト（藤倉化成社製ＳＮ−８８００Ｇ）をスクリーン印刷し、乾燥し、ＵＶ照射して、絶縁層２５を形成させた。さらに、絶縁層２５上に、接着剤（藤倉化成社製ＸＢ−１１４）をスクリーン印刷し、乾燥させて、可動電極シート１０に貼り合わせるための接着剤層２６を形成させた。これにより、画像表示装置用の固定電極シート２０（図４参照）を得た。
次いで、図１に示すように、可動電極シート１０と固定電極シート２０とを、第１の透明導電膜１２と第２の透明導電膜２２が対向するように配置させ、接着剤層２６により貼り合せて抵抗膜式タッチパネルモジュールを作製した。また、抵抗膜式タッチパネルモジュールを用いて、図２に示す入力デバイスを作製した。
そして、先端が０．８Ｒのポリアセタール製スタイラスで、可動電極シート１０を２５０ｇの荷重で押圧し、電源５０により電圧５Ｖを印加した際の接触抵抗を測定した。
［摺動試験］
第１の透明導電膜の塗膜強度を測定するため、エタノールで湿らせたキムワイプ（日本製紙クレシア社製）を、１００ｇｆ／ｃｍ２の荷重をかけて３０往復擦り、第１の透明導電膜の抜けを目視により検査した。また、摺動試験後の接触抵抗を測定した。これらの結果は第１の透明導電膜の膜強度の指標になる。
◎ ：剥離なし、○：わずかに剥離、△：一部剥離、×：完全剥離
三菱化学社製ロレスタＭＣＰ−Ｔ６００を用い、ＪＩＳ Ｋ ７１９４に準じて測定した。
［光透過率］
日本電色工業社製ヘイズメータ測定器（ＮＤＨ５０００）を用い、ＪＩＳ Ｋ７１３６に準じて光透過率を測定した。
［接触抵抗］
第１の透明基材１１（ポリエチレンテレフタレートフィルム、東洋紡績製Ａ４３００、厚さ；１８８μｍ）上に導電性高分子溶液を塗布して第１の透明導電膜１２を形成して、４０ｍｍ×５０ｍｍに裁断した。その裁断したシートの第１の透明導電膜１２上の幅方向の縁に導電性ペースト（藤倉化成社製ＦＡ−４０１ＣＡ）をスクリーン印刷し、乾燥させて電極１３ａ，１３ｂを形成して、入力者側の可動電極シート１０（図３参照）を得た。
また、ガラス製の第２の透明基材２１の片面にＩＴＯ製の第２の透明導電膜２２（表面抵抗：３００Ω）が設けられ、４０ｍｍ×５０ｍｍに裁断された電極用シートを用意した。その用意した電極用シートの第２の透明導電膜２２上の長手方向の縁に、導電性ペースト（藤倉化成社製ＸＡ４３６）をスクリーン印刷し、乾燥させて電極２３ａ，２３ｂを形成した。次いで、第２の透明導電膜２２上に、ドットスペーサ用ペースト（藤倉化成社製ＳＮ−８４００Ｃ）をスクリーン印刷し、乾燥し、紫外線照射して、ドットスペーサ３０を形成させた。次いで、電極２３ａ，２３ｂ上に、レジスト用ペースト（藤倉化成社製ＳＮ−８８００Ｇ）をスクリーン印刷し、乾燥し、ＵＶ照射して、絶縁層２５を形成させた。さらに、絶縁層２５上に、接着剤（藤倉化成社製ＸＢ−１１４）をスクリーン印刷し、乾燥させて、可動電極シート１０に貼り合わせるための接着剤層２６を形成させた。これにより、画像表示装置用の固定電極シート２０（図４参照）を得た。
次いで、図１に示すように、可動電極シート１０と固定電極シート２０とを、第１の透明導電膜１２と第２の透明導電膜２２が対向するように配置させ、接着剤層２６により貼り合せて抵抗膜式タッチパネルモジュールを作製した。また、抵抗膜式タッチパネルモジュールを用いて、図２に示す入力デバイスを作製した。
そして、先端が０．８Ｒのポリアセタール製スタイラスで、可動電極シート１０を２５０ｇの荷重で押圧し、電源５０により電圧５Ｖを印加した際の接触抵抗を測定した。
［摺動試験］
第１の透明導電膜の塗膜強度を測定するため、エタノールで湿らせたキムワイプ（日本製紙クレシア社製）を、１００ｇｆ／ｃｍ２の荷重をかけて３０往復擦り、第１の透明導電膜の抜けを目視により検査した。また、摺動試験後の接触抵抗を測定した。これらの結果は第１の透明導電膜の膜強度の指標になる。
◎ ：剥離なし、○：わずかに剥離、△：一部剥離、×：完全剥離
（実施例２）
銅粒子（福田金属箔粉工業社製、Ｃｕ−ＨＷＱ、平均粒子径；２〜４μｍ）０．０７ｇ（π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計１００質量％に対して銅粒子が１．００質量％）、イルガキュア１２７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）０．９ｇ、２，３，３’，４，４’，５−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン３．６ｇ、２−ヒドロキシエチルアクリルアミド１８ｇ、トリプロピレングリコールジアクリレート７．２ｇ、エタノール３００ｇを混合し、撹拌した。これにより得た混合溶液に、製造例２で得たＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液６００ｇを添加し、ホモジナイザ分散処理して、導電性高分子溶液Ｂを得た。
そして、導電性高分子溶液Ａの代わりに導電性高分子溶液Ｂを用いたこと以外は実施例１と同様に第１の透明導電膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。
銅粒子（福田金属箔粉工業社製、Ｃｕ−ＨＷＱ、平均粒子径；２〜４μｍ）０．０７ｇ（π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計１００質量％に対して銅粒子が１．００質量％）、イルガキュア１２７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）０．９ｇ、２，３，３’，４，４’，５−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン３．６ｇ、２−ヒドロキシエチルアクリルアミド１８ｇ、トリプロピレングリコールジアクリレート７．２ｇ、エタノール３００ｇを混合し、撹拌した。これにより得た混合溶液に、製造例２で得たＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液６００ｇを添加し、ホモジナイザ分散処理して、導電性高分子溶液Ｂを得た。
そして、導電性高分子溶液Ａの代わりに導電性高分子溶液Ｂを用いたこと以外は実施例１と同様に第１の透明導電膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。
（実施例３）
銀粒子（三井金属鉱業社製、ＦＨＤ、平均粒子径；０．３５μｍ）０．０３ｇ（π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計１００質量％に対して銀粒子が０．４２質量％）、イルガキュア１２７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）０．９ｇ、ガーリック酸メチル３．６ｇ、２−ヒドロキシエチルアクリルアミド１８ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート７．２ｇ、エタノール３００ｇを混合し、撹拌した。これにより得た混合溶液に、製造例２で得たＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液６００ｇを添加し、ホモジナイザ分散処理して、導電性高分子溶液Ｃを得た。
そして、導電性高分子溶液Ａの代わりに導電性高分子溶液Ｃを用いたこと以外は実施例１と同様に第１の透明導電膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。
銀粒子（三井金属鉱業社製、ＦＨＤ、平均粒子径；０．３５μｍ）０．０３ｇ（π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計１００質量％に対して銀粒子が０．４２質量％）、イルガキュア１２７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）０．９ｇ、ガーリック酸メチル３．６ｇ、２−ヒドロキシエチルアクリルアミド１８ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート７．２ｇ、エタノール３００ｇを混合し、撹拌した。これにより得た混合溶液に、製造例２で得たＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液６００ｇを添加し、ホモジナイザ分散処理して、導電性高分子溶液Ｃを得た。
そして、導電性高分子溶液Ａの代わりに導電性高分子溶液Ｃを用いたこと以外は実施例１と同様に第１の透明導電膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。
（実施例４）
ニッケル粒子（福田金属箔粉工業社製、Ｎｉ−２８７、平均粒子径；２〜３μｍ）０．００３ｇ（π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計１００質量％に対してニッケル粒子が０．０４質量％）、イルガキュア１２７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）０．９ｇ、ハイドロキノン３．６ｇ、２−ヒドロキシエチルアクリルアミド１８ｇ、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート７．２ｇ、エタノール３００ｇを混合し、撹拌した。これにより得た混合溶液に、製造例２で得たＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液６００ｇを添加し、ホモジナイザ分散処理して、導電性高分子溶液Ｄを得た。
そして、導電性高分子溶液Ａの代わりに導電性高分子溶液Ｄを用いたこと以外は実施例１と同様に第１の透明導電膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。
ニッケル粒子（福田金属箔粉工業社製、Ｎｉ−２８７、平均粒子径；２〜３μｍ）０．００３ｇ（π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計１００質量％に対してニッケル粒子が０．０４質量％）、イルガキュア１２７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）０．９ｇ、ハイドロキノン３．６ｇ、２−ヒドロキシエチルアクリルアミド１８ｇ、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート７．２ｇ、エタノール３００ｇを混合し、撹拌した。これにより得た混合溶液に、製造例２で得たＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ水溶液６００ｇを添加し、ホモジナイザ分散処理して、導電性高分子溶液Ｄを得た。
そして、導電性高分子溶液Ａの代わりに導電性高分子溶液Ｄを用いたこと以外は実施例１と同様に第１の透明導電膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。
（実施例５）
実施例１において２−ヒドロキシエチルアクリルアミド１８ｇの代わりにジメチルスルホキシド２０ｇを添加し、ペンタエリスリトールトリアクリレートを添加しなかったこと以外は実施例１と同様にして、導電性高分子溶液Ｅを得た。そして、導電性高分子溶液Ａの代わりに導電性高分子溶液Ｅを用いたこと以外は実施例１と同様に第１の透明導電膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。
実施例１において２−ヒドロキシエチルアクリルアミド１８ｇの代わりにジメチルスルホキシド２０ｇを添加し、ペンタエリスリトールトリアクリレートを添加しなかったこと以外は実施例１と同様にして、導電性高分子溶液Ｅを得た。そして、導電性高分子溶液Ａの代わりに導電性高分子溶液Ｅを用いたこと以外は実施例１と同様に第１の透明導電膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。
（実施例６）
実施例３においてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを添加しなかったこと以外は実施例３と同様にして、導電性高分子溶液Ｆを得た。そして、導電性高分子溶液Ａの代わりに導電性高分子溶液Ｆを用いたこと以外は実施例１と同様に第１の透明導電膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。
実施例３においてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを添加しなかったこと以外は実施例３と同様にして、導電性高分子溶液Ｆを得た。そして、導電性高分子溶液Ａの代わりに導電性高分子溶液Ｆを用いたこと以外は実施例１と同様に第１の透明導電膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。
（比較例１）
実施例１における銀粒子０．５ｇの代わりに銀コート銅粒子（三井金属鉱業社製、Ａｇ／湿式銅粉、平均粒子径；４〜７μｍ）５ｇ（π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計１００質量％に対して銀コート銅粒子が６９．４質量％）にした以外は実施例１と同様にして、導電性高分子溶液Ｇを得た。そして、導電性高分子溶液Ａの代わりに導電性高分子溶液Ｇを用いたこと以外は実施例１と同様に第１の透明導電膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。
実施例１における銀粒子０．５ｇの代わりに銀コート銅粒子（三井金属鉱業社製、Ａｇ／湿式銅粉、平均粒子径；４〜７μｍ）５ｇ（π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計１００質量％に対して銀コート銅粒子が６９．４質量％）にした以外は実施例１と同様にして、導電性高分子溶液Ｇを得た。そして、導電性高分子溶液Ａの代わりに導電性高分子溶液Ｇを用いたこと以外は実施例１と同様に第１の透明導電膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。
（比較例２）
実施例２における銀粒子の添加量を８ｇ（π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計１００質量％に対して銀粒子が５５．６質量％）にした以外は実施例２と同様にして、導電性高分子溶液Ｈを得た。そして、導電性高分子溶液Ａの代わりに導電性高分子溶液Ｈを用いたこと以外は実施例１と同様に第１の透明導電膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。
実施例２における銀粒子の添加量を８ｇ（π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計１００質量％に対して銀粒子が５５．６質量％）にした以外は実施例２と同様にして、導電性高分子溶液Ｈを得た。そして、導電性高分子溶液Ａの代わりに導電性高分子溶液Ｈを用いたこと以外は実施例１と同様に第１の透明導電膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。
（比較例３）
実施例３における銀粒子の添加量を０．３６ｇ（π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計１００質量％に対して銀粒子が５．０質量％）にした以外は実施例３と同様にして、導電性高分子溶液Ｉを得た。そして、導電性高分子溶液Ａの代わりに導電性高分子溶液Ｉを用いたこと以外は実施例１と同様に第１の透明導電膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。
実施例３における銀粒子の添加量を０．３６ｇ（π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計１００質量％に対して銀粒子が５．０質量％）にした以外は実施例３と同様にして、導電性高分子溶液Ｉを得た。そして、導電性高分子溶液Ａの代わりに導電性高分子溶液Ｉを用いたこと以外は実施例１と同様に第１の透明導電膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。
（比較例４）
実施例４におけるニッケル粒子の添加量を０．７２ｇ（π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計１００質量％に対してニッケル粒子が１０．０質量％）にした以外は実施例４と同様にして、導電性高分子溶液Ｊを得た。そして、導電性高分子溶液Ａの代わりに導電性高分子溶液Ｊを用いたこと以外は実施例１と同様に第１の透明導電膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。
実施例４におけるニッケル粒子の添加量を０．７２ｇ（π共役系導電性高分子とポリアニオンの合計１００質量％に対してニッケル粒子が１０．０質量％）にした以外は実施例４と同様にして、導電性高分子溶液Ｊを得た。そして、導電性高分子溶液Ａの代わりに導電性高分子溶液Ｊを用いたこと以外は実施例１と同様に第１の透明導電膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。
第１の透明導電膜がπ共役系導電性高分子とポリアニオンと特定の金属粒子とを含む実施例１〜６では、第１の透明導電膜の導電性および透明性に優れ、しかも第１の透明導電膜は第２の透明導電膜に対する接触抵抗が小さかった。
さらに、実施例１〜４の第１の透明導電膜は、（メタ）アクリルアミドおよび多官能アクリルを重合した重合体をさらに含んでいたため、膜強度、透明基材に対する密着性にも優れていた。
また、実施例５の第１の透明導電膜は、アクリル重合体を含んでいなかったため、摺動試験前の塗膜強度が低く、摺動試験後に導電性が低下した。
多官能アクリルが共重合されなかった（メタ）アクリルアミドの重合体を含む実施例６の第１の透明導電膜は、摺動試験前の塗膜強度が低く、摺動試験後に導電性が低下したが、実施例５よりは、摺動試験前の塗膜強度が高かった。
さらに、実施例１〜４の第１の透明導電膜は、（メタ）アクリルアミドおよび多官能アクリルを重合した重合体をさらに含んでいたため、膜強度、透明基材に対する密着性にも優れていた。
また、実施例５の第１の透明導電膜は、アクリル重合体を含んでいなかったため、摺動試験前の塗膜強度が低く、摺動試験後に導電性が低下した。
多官能アクリルが共重合されなかった（メタ）アクリルアミドの重合体を含む実施例６の第１の透明導電膜は、摺動試験前の塗膜強度が低く、摺動試験後に導電性が低下したが、実施例５よりは、摺動試験前の塗膜強度が高かった。
π共役系導電性高分子とポリアニオンと特定の金属粒子を含むが、金属粒子の含有量が０．０１質量％未満であった比較例１の第１の透明導電膜は、第２の透明導電膜に対する接触抵抗が大きく、入力デバイス用として適していなかった。
π共役系導電性高分子とポリアニオンと特定の金属粒子を含むが、金属粒子の含有量が３質量％以上であった比較例２〜４の第１の透明導電膜は、充分な透明性が得られず、入力デバイス用として適していなかった。
π共役系導電性高分子とポリアニオンと特定の金属粒子を含むが、金属粒子の含有量が３質量％以上であった比較例２〜４の第１の透明導電膜は、充分な透明性が得られず、入力デバイス用として適していなかった。
１ 入力デバイス
１０ 可動電極シート
１１ 第１の透明基材
１２ 第１の透明導電膜
２０ 固定電極シート
２１ 第２の透明基材
２２ 第２の透明導電膜
３０ ドットスペーサ
１０ 可動電極シート
１１ 第１の透明基材
１２ 第１の透明導電膜
２０ 固定電極シート
２１ 第２の透明基材
２２ 第２の透明導電膜
３０ ドットスペーサ
Claims (1)
- 第１の透明導電膜と、第１の透明導電膜に対向するように配置された透明導電性金属酸化物製の第２の透明導電膜とを備え、第１の透明導電膜が押圧された際に第２の透明導電膜に接触する入力デバイスにおいて、
前記第１の透明導電膜は、π共役系導電性高分子とポリアニオンと平均粒子径が０．１〜１０μｍの金属粒子とを含有し、
金属粒子を形成する金属が、銅、銀、パラジウム、ニッケル、アルミニウム、金、鉛、鉄、コバルト、亜鉛、錫、ガリウムよりなる群から選ばれる１種以上の金属またはそれらの合金であり、
金属粒子の含有量が、π共役系導電性高分子とポリアニオンとの合計を１００質量％とした際の０．０１質量％以上３質量％未満であることを特徴とする入力デバイス。
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014154264A (ja) * | 2013-02-05 | 2014-08-25 | Oji Holdings Corp | 透明導電性シートおよびそれを用いたタッチパネル |
| JP2014153784A (ja) * | 2013-02-05 | 2014-08-25 | Oji Holdings Corp | 導電性シートおよびそれを用いたタッチパネル |
| JP2015534177A (ja) * | 2012-09-14 | 2015-11-26 | ユニピクセル ディスプレイズ，インコーポレーテッド | 折りたたみ可能なマルチタッチ面 |
| CN105264441A (zh) * | 2013-06-04 | 2016-01-20 | 日立化成株式会社 | 带有固化膜的透明基材的制造方法、感光性树脂组合物、感光性元件及电子部件 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005327910A (ja) * | 2004-05-14 | 2005-11-24 | Nissan Motor Co Ltd | 透明電極、透明電極体、透明電極体の製造方法及び有機機能性素子 |
| JP2007172984A (ja) * | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Fujitsu Ltd | 有機導電膜、透明有機導電フィルム及び座標入力装置 |
| JP2008031205A (ja) * | 2006-07-26 | 2008-02-14 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 導電性フィルムおよび当該フィルムを用いたタッチパネル |
| JP2008066064A (ja) * | 2006-09-06 | 2008-03-21 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 導電性フィルムおよびその製造方法 |
-
2008
- 2008-09-01 JP JP2008223768A patent/JP2010061856A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005327910A (ja) * | 2004-05-14 | 2005-11-24 | Nissan Motor Co Ltd | 透明電極、透明電極体、透明電極体の製造方法及び有機機能性素子 |
| JP2007172984A (ja) * | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Fujitsu Ltd | 有機導電膜、透明有機導電フィルム及び座標入力装置 |
| JP2008031205A (ja) * | 2006-07-26 | 2008-02-14 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 導電性フィルムおよび当該フィルムを用いたタッチパネル |
| JP2008066064A (ja) * | 2006-09-06 | 2008-03-21 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 導電性フィルムおよびその製造方法 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015534177A (ja) * | 2012-09-14 | 2015-11-26 | ユニピクセル ディスプレイズ，インコーポレーテッド | 折りたたみ可能なマルチタッチ面 |
| JP2014154264A (ja) * | 2013-02-05 | 2014-08-25 | Oji Holdings Corp | 透明導電性シートおよびそれを用いたタッチパネル |
| JP2014153784A (ja) * | 2013-02-05 | 2014-08-25 | Oji Holdings Corp | 導電性シートおよびそれを用いたタッチパネル |
| CN105264441A (zh) * | 2013-06-04 | 2016-01-20 | 日立化成株式会社 | 带有固化膜的透明基材的制造方法、感光性树脂组合物、感光性元件及电子部件 |
| JPWO2014196546A1 (ja) * | 2013-06-04 | 2017-02-23 | 日立化成株式会社 | 硬化膜付き透明基材の製造方法、感光性樹脂組成物、感光性エレメント及び電子部品 |
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