JP6639548B2 - ポリイミド前駆体組成物、その使用、及びそれから製造されたポリイミド - Google Patents
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Description
1.技術分野
本開示は、ポリイミド前駆体組成物及びその利用に関する。特に、本開示は、レーザー・ダイレクト・イメージング(レーザー直描)法に使用できるポリイミド前駆体組成物に関する。
プリント回路基板(PCB)は、基板に電子デバイスを装備することができ、関連する回路信号への接続が構築できるように、設計された回路パターンが印刷により基板に転写された製品である。
。しかし、導電性粒子又は導電性前駆体が十分でない場合、レーザー照射後のポリイミド層の導電性は依然として比較的低く、その後の金属めっきに対して導電性でない;そして導電性粒子又は導電性前駆体が過剰な場合、分散性に乏しい問題がある。さらに、非活化領域のポリイミドが必要とされる絶縁性を失う可能性があり、或いは、高温多湿環境における信頼性試験では、非活化領域のポリイミドが帯電した場合にインピーダンスが低下することがある。
本開示の一態様は、式(I)で表されるアミド酸エステルオリゴマーを含む新規なポリイミド前駆体組成物を提供することである。:
rは、1乃至200の整数を表し;
夫々のRxは、独立して、H、炭素原子数1乃至14のアルキル基、又はエチレン性不飽和基を有する部分を表し;
夫々のRは、独立して、炭素原子数1乃至14のアルキル基、炭素原子数6乃至14のアリール基もしくはアラルキル基、又はエチレン性不飽和基を有する部分を表し、
夫々のGは、独立して、4価の有機基を表し;並びに
夫々のPは、独立して、2価の有機基を表し、ここで該組成物中の2価の有機基Pの総mol数に基づいて、2価の有機基Pの約0.5mol%乃至約25mol%は、金属イオンと配位結合を形成可能な2価の有機基である。
本開示の解釈を容易にするために、いくつかの用語を以下に定義する。
rは、1乃至200の整数を表し、好ましくは5乃至150の、より好ましくは9乃至100の整数を表し;
夫々のRxは、独立して、H、炭素原子数1乃至14のアルキル基、又はエチレン性不飽和基を有する部分を表し;
夫々のRは、独立して、炭素原子数1乃至14のアルキル基、炭素原子数6乃至14のアリール基もしくはアラルキル基、又はエチレン性不飽和基を有する部分を表し、
夫々のGは、独立して、4価の有機基を表し;並びに
夫々のPは、独立して、2価の有機基を表し、ここで該組成物中の2価の有機基Pの総mol数に基づいて、2価の有機基Pの約0.5mol%乃至約25mol%は、金属イオンと配位結合を形成可能な2価の有機基である。
Dは単結合、−NH−、−S−、−O−、フェニレン基、又は
Eは5又は6員の窒素原子含有ヘテロシクリル基、
Fはフェニレン基又は
Xは−NH−、−S−、又は−O−を表す。
であり得る。
であり得る。
式中、
夫々のR9は、独立して、H、炭素原子数1乃至4のアルキル基、炭素原子数1乃至4のパーフルオロアルキル基、炭素原子数1乃至4のアルコキシル基、又はハロゲン原子を表し;
夫々のaは、独立して、0乃至4の整数を表し;
夫々のbは、独立して、0乃至4の整数を表し;
R10は共有結合であるか、又は、下記群から選択され:
c及びdは、夫々独立して、1乃至20の整数を表し、
R12は−S(O)2−、共有結合、炭素原子数1乃至4のアルキレン基、又は、炭素原子数1乃至4のパーフルオロアルキレン基を表す。
上記式中、夫々のaは独立して0乃至4の整数を表し、夫々のzは独立してH、メチル基、トリフルオロメチル基又はハロゲン原子を表す。
R7はフェニレン基、炭素原子数1乃至8のアルキレン基、炭素原子数2乃至8のアルケニレン基、炭素原子数3乃至8のシクロアルキレン基、又は、炭素原子数1乃至8のヒドロキシアルキレン基を表し;
R8は水素原子又は炭素原子数1乃至4のアルキル基を表す。
上記式中、
夫々のX’は、独立して、H、ハロゲン原子、炭素原子数1乃至4のパーフルオロアルキル基、炭素原子数1乃至4のアルキル基を表し;そして
A及びBは、独立して、夫々の出現ごとに、共有結合、非置換のもしくは炭素原子数1乃至4のアルキル基から選択される1以上の基で置換された炭素原子数1乃至4のアルキレン基、炭素原子数1乃至4のパーフルオロアルキレン基、炭素原子数1乃至4のアルコキシレン基、シリレン基、−O−、−S−、−C(O)−、−OC(O)−、−S(O)2−、−C(=O)O−(炭素原子数1乃至4のアルキレン基)−OC(=O)−、フェニレン基、ビフェニレン基、又は
を表す。
上記式中、夫々のWは独立して、H、メチル基、トリフルオロメチル基、又はハロゲン原子を表す。
上記式中、夫々のWは独立して、H、メチル基、トリフルオロメチル基、又はハロゲン原子を表す。
(a)過剰量の式(7)で表される無水物を、ヒドロキシ基を有する化合物(R−OH)と反応させて、式(8)で表される化合物を形成する工程:
R1及びR2は、同一又は異なって、そして夫々独立して、H、炭素原子数1乃至6のアルキル基、炭素原子数1乃至6のハロアルキル基、又は1以上の炭素原子数6乃至14の
アリール基で置換された炭素原子数1乃至6のアルキル基、
R3、R4、及びR5は、同一又は異なって、そして夫々独立して、H、非置換のもしくは1以上の炭素原子数6乃至14のアリール基で置換された炭素原子数1乃至6のアルキル基、炭素原子数1乃至6のヒドロキシアルキル基、炭素原子数1乃至6のシアノアルキル基、又は炭素原子数6乃至14のアリール基を表し;そして
YΘはアニオン性基を表す。
式中、RAは炭素原子数1乃至6のアルキル基、炭素原子数1乃至6のハロアルキル基、非置換のもしくは1以上の炭素原子数6乃至14のアリール基で置換された炭素原子数1乃至8のアルコキシ基、又は−NRERFを表し;RB、RC、RD、RE及びRFは、同一又は異なって、そして夫々独立して、H、炭素原子数1乃至14のアルキル基、又は、炭素原子数6乃至14のアリール基を表す。
RAは、好ましくはメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基(pentafluoethyl)、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基及びフルオレニルメトキシ基を表し;そして
RB、RC、RD、RE及びRFは、夫々独立して、H、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、フェニル基、ベンジル基又はジフェニルメチル基を表す。
ヒドロキシブチル基は、好ましくは
好ましくは、R3、R4及びR5は、同一又は異なって、そして夫々独立して、H、メチル基、エチル基、n−プロピル基又はイソプロピル基である。
記照射は、適切な出力設定(例えば、1000W乃至1500W、3乃至5分間)にて、酸素(O2)プラズマを用いて実施可能である。
4,4’−ビフタル酸二無水物(BPDA)0.5molを、窒素充填した1Lの反応器に入れ、NMP 400mLを加え、50℃で1時間撹拌した。その後、DA−1 0.495molと適量のNMPをさらに加え、12時間撹拌した。温度を25℃に温めた
後、DA−1 0.005molを加え、2時間撹拌した。NMPを更に加えて固形分含量を15%に調整し、ポリイミド前駆体組成物を得た(100mol% DA−1)。
BPDA 0.5molを窒素充填した1Lの反応器に入れ、NMP 400mLを加え、50℃で1時間撹拌した。その後、DA−1 0.499molと適量のNMPをさらに加え、12時間撹拌した。温度を25℃に温めた後、DA−2 0.001molを加え、2時間撹拌した。NMPを更に加えて固形分含量を15%に調整し、ポリイミド前駆体組成物を得た(99.8mol% DA−1)。
本方法は、調製例2におけるDA−2の代わりに、DA−3乃至DA−10をそれぞれ使用した以外は、調製例2と同様であった。
調製例2乃至10で得られたポリイミド前駆体組成物を、18μmの厚さを有する25×25cmの銅箔上に、スリットコーターを用いて50μmのコーティング厚さでコートした。その後、コーティングをオーブン内で約90℃で15分間ソフトベークしてベタつきのない表面を得、その後、150℃で1時間、そして350℃で2時間の2回の加熱処理を実施するために高温オーブン内に入れ、コーティング中のポリイミド前駆体をポリイミドに環化・重合し、供試試料を調製した(乾燥後のコーティング厚さは25μmであった)。
本方法は、調製例1で得たポリイミド前駆体組成物を供試試料の調製に使用した以外は、実施例と同様であった。
1.剥離強度(接着性)試験
供試試料のポリイミド層表面を、Nd−YAGレーザーで処理し、0.1μm超の表面粗さ(面粗度)を得た。処理した試料を、50℃で30分間、2Mの硫酸銅水溶液に浸漬し、純水で洗浄し、その後、25℃で10分間、1Mのジアミノボラン水溶液(ジアミノボラン(aq)、NH2−BH−NH2)に浸漬し、純水で洗浄し、乾燥した。電気めっきにより、銅の厚さは30μmに増加した(電気めっき液(LUCINA SF−M、奥野製薬工業(株)):硫酸銅70g/L、硫酸200g/L、塩化物イオン50mg/L及びめっき添加剤5mL/L、電気めっき温度は25℃、陰極電流密度は3A/dm2であった)。
(1−1):ASTM D3359−93試験法に従い、コーティング表面をクロスハッチカッターでカットし、粘着テープを付着させた。その後、テープを角度90°で剥がし、剥がされた基盤目(grid)数を測定した。接着強度は、以下の通り順位付けされる:5B>4B>3B>2B>1B>0B。
(1−2):試料を280℃で半時間ベークした後、試料を15cm×1cmの試験片に切断した。試験片の端のポリイミド層をめっきされた銅層からわずかに分離させた。IPC−TM−650試験法(ナンバー2.4.9)に従い、剥離強度を測定した。0.5Kg/cm超であれば剥離強度は認められる。
試料をYd−YAGレーザーで照射して、長さ10cm、幅50μm、深さ25μmの溝を調製した。処理試料を、50℃で30分間、2Mの硫酸銅水溶液に浸漬し、純水で洗浄し、その後、25℃で10分間、1Mのジアミノボラン水溶液(ジアミノボラン(aq)、NH2−BH−NH2)に浸漬し、純水で洗浄し、乾燥した。めっき厚さを10μmに設定して電気めっきを実施した。電気めっき液(LUCINA SF−M、奥野製薬工業(株))は、硫酸銅70g/L、硫酸200g/L、塩化物イオン50mg/L及びめっき添加剤5mL/Lを含み、電気めっき温度は25℃、陰極電流密度は3A/dm2であった。
較的安定であり、十分な剥離強度を維持していた。
11 溝
20 銅箔
Claims (12)
- ポリイミド前駆体組成物であって、
式(I):
rは、1乃至200の範囲の整数を表し;
夫々のRxは、独立して、H、炭素原子数1乃至14のアルキル基、又はエチレン性不飽和基を有する部分を表し;
夫々のRは、独立して、炭素原子数1乃至14のアルキル基、炭素原子数6乃至14のアリール基もしくはアラルキル基、又はエチレン性不飽和基を有する部分を表し、
夫々のGは、独立して、4価の有機基を表し;並びに
夫々のPは、独立して、2価の有機基を表し、ここで該組成物中の2価の有機基Pの総mol数に基づいて、2価の有機基Pの約0.5mol%乃至約25mol%は、金属イオンと配位結合を形成可能な2価の有機基であり、
前記金属イオンと配位結合を形成可能な2価の有機基が:
Dは単結合、−NH−、−S−、−O−、フェニレン基、又は
Eは5又は6員の窒素原子含有ヘテロシクリル基、
Fはフェニレン基又は
Xは−NH−、−S−、又は−O−を表す。]から選択される。]
で表されるアミド酸エステルオリゴマーを含む、ポリイミド前駆体組成物。 - 前記rが、5乃至150の範囲の整数である、
請求項1に記載のポリイミド前駆体組成物。 - 前記金属イオンと配位結合を形成可能な2価の有機基が:
請求項1に記載のポリイミド前駆体組成物。 - 前記組成物中の2価の有機基Pの総mol数に基づいて、2価の有機基Pの約1mol%
乃至約15mol%は、金属イオンと配位結合を形成可能な2価の有機基である、
請求項1に記載のポリイミド前駆体組成物。 - 残りの2価の有機基Pが、夫々独立して、前記(i)乃至(v)に挙げた基以外の2価の芳香族基又は2価のヘテロ環基であって、下記:
[式中、
夫々のR9は、独立して、H、炭素原子数1乃至4のアルキル基、炭素原子数1乃至4のパーフルオロアルキル基、炭素原子数1乃至4のアルコキシル基、又はハロゲン原子を表し;
夫々のaは、独立して、0乃至4の整数を表し;
夫々のbは、独立して、0乃至4の整数を表し;
R10は共有結合であるか、又は、下記:
c及びdは、夫々独立して、1乃至20の整数を表し、
R12は−S(O)2−、共有結合、炭素原子数1乃至4のアルキレン基、又は、炭素原子数1乃至4のパーフルオロアルキレン基を表す。)
からなる群から選択される。]からなる群から選択される、
請求項1に記載のポリイミド前駆体組成物。 - 前記Gが、下記:
[式中、
夫々のX’は、独立して、H、ハロゲン原子、炭素原子数1乃至4のパーフルオロアルキル基、炭素原子数1乃至4のアルキル基を表し;そして
A及びBは、独立して、夫々の出現ごとに、共有結合、非置換のもしくは炭素原子数1乃至4のアルキル基から選択される1以上の基で置換された炭素原子数1乃至4のアルキレン基、炭素原子数1乃至4のパーフルオロアルキレン基、炭素原子数1乃至4のアルコキシレン基、シリレン基、−O−、−S−、−C(O)−、−OC(O)−、−S(O)2−、−C(=O)O−(炭素原子数1乃至4のアルキレン基)−OC(=O)−、フェニレン基、ビフェニレン基、又は
からなる群から選択される、
請求項1に記載のポリイミド前駆体組成物。 - 前記夫々のRが、独立して、下記:
からなる群から選択される、
請求項1に記載のポリイミド前駆体組成物。 - さらに下記式:
R1及びR2は、同一又は異なって、そして夫々独立して、H、炭素原子数1乃至6のアルキル基、炭素原子数1乃至6のハロアルキル基、又は1以上の炭素原子数6乃至14のアリール基で置換された炭素原子数1乃至6のアルキル基、
R3、R4、及びR5は、同一又は異なって、そして夫々独立して、H、線形の又は枝分かれの、非置換のもしくは1以上の炭素原子数6乃至14のアリール基で置換された炭素原子数1乃至6のアルキル基、線形の又は枝分かれの炭素原子数1乃至6のヒドロキシアルキル基、線形の又は枝分かれの炭素原子数1乃至6のシアノアルキル基、又は炭素原子数6乃至14のアリール基を表し;そして
YΘはアニオン性基を表す。]
を有する環化促進剤を含む、
請求項1に記載のポリイミド前駆体組成物。 - 前記アミド酸エステルオリゴマーが、前記ポリイミド前駆体組成物の総質量に基づいて、約10wt%乃至約70wt%の量である、
請求項1に記載のポリイミド前駆体組成物。 - 前記環化促進剤が、前記式(I)で表されるアミド酸エステルオリゴマーの100質量部に基づいて、約0.1質量部乃至約2質量部の量である、
請求項8に記載のポリイミド前駆体組成物。 - 前記金属イオンと配位結合を形成可能な2価の有機基が下記:
請求項1に記載のポリイミド前駆体組成物。 - 請求項1に記載の前駆体組成物から調製されたポリイミド。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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