JP6638167B2 - プラズマ反応装置用のブッシュユニット - Google Patents
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
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-
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- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0894—Processes carried out in the presence of a plasma
Description
11 第1のチャンバー
12 第2のチャンバー
13 第3のチャンバー
100 プラズマ反応装置
110 ブッシュユニット
112 第1の接続部
114 第2の接続部
120 第1のチャンバー
122 内側壁
124 第1のポート
130 第2のチャンバー
132 ドッキング部
200 プラズマ反応装置
210 ブッシュユニット
212 第1の接続部
132' 第2の接続部
130' 第1のチャンバー
230 第2のチャンバー
232 ドッキング部
210' 第2のブッシュユニット
300 プラズマ反応装置
310 ブッシュユニット
312 第1の接続部
314 第2の接続部
316 第3の接続部
320 第1のチャンバー
322 内側壁
330 第2のチャンバー
332 ドッキング部
340 第3のチャンバー
342 ドッキング部
400 プラズマ反応装置
410 ブッシュユニット
412 第1の接続部
414 第2の接続部
420 第1のチャンバー
422 内側壁
500 プラズマ反応装置
510 ブッシュユニット
501 第1のブッシュ
505 第2のブッシュ
512、512' 第1の接続部
514、514' 第2の接続部
516、516' 第3の接続部
520 第1のチャンバー
522 内側壁
600 プラズマ反応装置
610 ブッシュユニット
602 第1のブッシュ
604 第2のブッシュ
606 第3のブッシュ
6022、6042、6062 第1の接続部
6024、6044、6064 第2の接続部
6026、6046、6066 第3の接続部
620 第1のチャンバー
622 内側壁
700 プラズマ反応装置
710 ブッシュユニット
714 第2の接続部
7142 第1の水平階段面
7144 第2の水平階段面
730 第2のチャンバー
732 ドッキング部
750 気密素子
800 プラズマ反応装置
810 ブッシュユニット
814 第2の接続部
8142 第1の水平階段面
8144 第2の水平階段面
8146 第3の水平階段面
830 第2のチャンバー
832 ドッキング部
850 気密素子
C1、C2、C3、C1'、C2'、C3'、C1''、C2''、C3''横方向の辺サイズ
Claims (13)
- 第1のチャンバー及び第2のチャンバーを有するプラズマ反応装置用のブッシュユニットであって、
該第1のチャンバーに接続され、該第1のチャンバーの内側壁の構造と相補する第1の接続部と、
該第2のチャンバーのドッキング部とドッキングするための第2の接続部とを含み、
該第1の接続部と第2の接続部における前記ドッキングの方向と直交する方向のサイズが異なっており、
該ブッシュユニットの該第1の接続部と該第1のチャンバーとが結合すると、該ブッシュユニットの該第2の接続部は、該第1のチャンバーの第1のポートへ突き出すと共に、該第2のチャンバー内に収容されるプラズマ反応装置用のブッシュユニット。 - 該第1の接続部の前記サイズは、該第2の接続部の前記サイズよりも小さい請求項1に記載のブッシュユニット。
- 該第1の接続部の前記サイズは、該第2の接続部の前記サイズよりも大きい請求項1に記載のブッシュユニット。
- 該ブッシュユニットの該第1の接続部と該第1のチャンバーとが結合すると、該第2のチャンバーの該ドッキング部は、該ブッシュユニットへ突き入れると共に、該ブッシュユニット内に収容される請求項1に記載のブッシュユニット。
- 該プラズマ反応装置は第3のチャンバーを備え、該ブッシュユニットは第3の接続部をさらに備え、該第2の接続部に対し、該ブッシュユニットは該第2のチャンバーに連なり、該第3の接続部は、該第3のチャンバーのドッキング部と接続されるものである請求項1に記載のブッシュユニット。
- 該第1の接続部及び該第3の接続部の両方の前記サイズは異なっている請求項5に記載のブッシュユニット。
- 該第1の接続部と該第2の接続部の両方の少なくとも一方は、環状構造又は他の幾何学的構造を含んでいる請求項1に記載のブッシュユニット。
- 第1のブッシュと、第2のブッシュとをさらに備え、該第1のブッシュ及び該第2のブッシュは、該第1のチャンバーと接続するための該第1の接続部と、別のチャンバーに接続するための該第2の接続部とをそれぞれ含み、該第1のブッシュの該第1の接続部及び第2の接続部の両方の前記サイズは異なり、そして該第2のブッシュの該第1の接続部及び第2の接続部の両方の前記サイズは異なっている請求項1に記載のブッシュユニット。
- 該第1のブッシュ及び該第2のブッシュは、構造が相補する第3の接続部をそれぞれ含み、且つ、該第1のブッシュと該第2のブッシュが該第1のチャンバーにそれぞれ結合すると、該第1のブッシュと該第2のブッシュのそれらの第3の接続部は相互に接合される請求項8に記載のブッシュユニット。
- 該ブッシュユニットは、複数のブッシュをさらに備え、該複数のブッシュのそれぞれは、該第1のチャンバーに接続するための該第1の接続部と、別のチャンバーに接続するための該第2の接続部とを含み、該複数のブッシュの該第1の接続部及び第2の接続部の両方のサイズは異なっている請求項1に記載のブッシュユニット。
- 該ブッシュユニットの該第2の接続部と該第2のチャンバーの該ドッキング部がドッキングすると、該第2の接続部と該第2のチャンバーとの間には、気密素子を収容するための収容空間が形成される請求項1に記載のブッシュユニット。
- 該ブッシュユニットの該第2の接続部は階段状に形成され、第1の階段と、第2の階段と、第3の階段とを備え、該ブッシュユニットの該第2の接続部と該第2のチャンバーの該ドッキング部がドッキングすると、該第2のチャンバーの該ドッキング部は、該第1の階段の第1の水平階段面と該第3の階段の第3の水平階段面に接続され、且つ、該第2の階段と共に該気密素子を収容する該収容空間を形成する請求項11に記載のブッシュユニット。
- 第1のチャンバー及び複数の第2のチャンバーを有するプラズマ反応装置用のブッシュユニットであって、
該第1のチャンバーに接続され、該第1のチャンバーの内側壁の構造と相補する第1の接続部と、
該複数の第2のチャンバーのドッキング部とそれぞれドッキングするための複数の第2の接続部とを含み、
該第1の接続部及び該第2の接続部それぞれの両方における前記ドッキングの方向と直交する方向のサイズが異なっているプラズマ反応装置用のブッシュユニット。
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