TWI564929B - 用於電漿反應裝置之襯套單元 - Google Patents

Description

用於電漿反應裝置之襯套單元

本發明是關於一種用於電漿反應裝置之襯套單元，特別是關於一種可替換式的襯套單元。

現今，電漿反應技術已被廣泛的應用在例如半導體製造工業、顯示面板製造工業、太陽能電池製造工業等各種產業中。一般而言，電漿反應裝置係由複數個腔體(材料包含鋁合金或不鏽鋼)所組成，並且在腔體的內壁鍍有保護膜或者是塗覆氧化鋁層或陶瓷層，以達到絕緣和抗電漿侵蝕的效果。

電漿反應腔體通常用在各種電子元件製造工藝中，諸如蝕刻製程、化學氣相沉積(CVD)製程及其他與在基板上製造電子元件相關的製程。利用許多方法生成及/或控制電漿密度、形狀以及反應腔體中的電氣特徵，諸如一般用在常規電漿腔體中的電容性或電感性耦合RF源。例如，在電漿輔助化學氣相沉積(PECVD)製程期間，反應氣體透過電容性耦合噴頭導入反應腔體，該噴頭佈置在被製程配件環繞的半導體基板上方。一旦電漿形成於PECVD腔體，電漿與反應氣體和基板反應以沉積期望的材料層於基板上。大致而言，電漿生成區域中形成的電漿的特徵能夠改善佈置在電漿生成區域下游的基板或反應腔室的一部分上所執行的沉積、蝕刻及/或清 潔製程。

常規電漿反應腔設計中，所生成的電漿是佈置在基板表面上方，該設計會引發非所求的濺射以及對基板表面的傷害，這是由於電漿中所形成的電子與離子和基板表面的交互作用所致。生成的電漿的游離電離子及電氣接地的部件大體上會累積淨電荷。所形成的淨電荷引發形成於電漿中的電子及/或離子轟擊基板或腔室部件的暴露表面，並且可能對基板或腔室部件的暴露表面造成傷害。因此，在一些應用中，期望形成具有足以易於與基板表面(或腔室部件表面)反應的能量的氣體自由基，以強化反應速率同時不會有力地轟擊基板或腔室部件表面，因為非離子化的氣體自由基不受形成於基板或部件表面上的電荷所影響。然而，已發現，在使用塗層裝置的電漿反應腔體時，嚴重的製程漂移會發生。該製程漂移可能是由激發氣體透過塗層中的缺陷(諸如塗層孔隙性或裂縫)與結構金屬部件的表面交互作用所引發。塗層的問題在等離子體含有氧化物料或氟化物料(此類物料趨於攻擊多數通常使用的金屬材料)時特別嚴重，尤其最容易發生在單元結合處。

有鑑於此，電漿反應裝置必須要進行定期的維修與保養，並且將反應腔體的內壁上的鍍層進行徹底的退除，例如使用化學蝕刻、噴砂、拋磨或車銑等方式。然而，在藉由各種方式進行退鍍時，皆有可能造成反應腔體的耗損，例如造成反應腔體的腔壁厚度變薄。另一方面，反應腔體的內壁在長期遭受電漿離子的撞擊下，亦有可能會導致局部腔壁的損壞。基於上述原因，當電漿反應裝置在使用一定時間過後，勢必需要將受損的腔體進行更換。另外，當腔體損壞的部位係發生在腔體與腔體的接合處時， 將會導致腔體間的氣密度不良或電漿反應時的磁場偏移，使之後續使用電漿產生效能的降低與均勻度不足的情況產生。

再者，請參照第1圖，其顯示一種傳統的電漿反應裝置10。該電漿反應裝置10的其中一部份係由三件式的腔體所組成，如第1圖所示之第一腔體11、第二腔體12和第三腔體13。在現今市場上，為了生產與組裝的方便，該電漿反應裝置10的該第一腔體11在分別與該第二腔體12和該第三腔體13的連接面通常係被設計為相同的構型，例如兩面皆設計為公頭，以插裝至該第二腔體12和該第三腔體13的內部，或者是將兩面皆設計為母頭，以收容該第二腔體12和該第三腔體13的一部份。

然而，根據電漿製程原理，該電漿反應裝置10在運作上會產生一定方向的磁力線，容易使得雙面具有相同構型的該第一腔體11的其中一連接面造成損壞。基於上述原因，因為腔體損壞的部位係發生在腔體與腔體的接合處，所以也會導致腔體間的氣密度不良或電漿反應時的磁場偏移，使之後續使用電漿產生效能的降低與均勻度不足的情況產生。因此，在長期使用後必需要將受損的腔體進行更換，導致生產的成本提高。

故，有必要提供一種電漿反應裝置，其不會因腔體的局部內壁受到損壞，而導致需要更換整個受損部位的腔體。另一方面，該電漿反應裝置能依照實際生產下所產生的磁力線方向，相應變更適合的腔體連接面的構型，進而增加電漿反應裝置的腔體的使用壽命。

為解決上述習知技術之問題，本發明之一目的在於提供一種 用於電漿反應裝置之襯套單元，其係設置於電漿反應裝置之腔體的內側壁，並且該襯套單元為可替換式，其一方面能保護電漿反應裝置之腔體的內側壁不會因電漿轟擊而損壞，或者是在進行去膜時造成腔壁的耗損，另一方面能依照實際應用的需求，將腔體的連接面設置為滿足電漿反應的磁力線與氣場原理的構型。

為達成上述目的，本發明提供一種用於電漿反應裝置之襯套單元，該電漿反應裝置具有一第一腔體以及一第二腔體，該襯套單元包含：一第一連接部，用於與該第一腔體連接，並且該第一連接部與該第一腔體之一內側壁的結構互補；以及一第二連接部，用於與該第二腔體之一對接部對接，其中該第一連接部及第二連接部兩者的横向邊長尺寸不同。

於本發明其中之一較佳實施例當中，該第一連接部的横向邊長尺寸小於該第二連接部的横向邊長尺寸。

於本發明其中之一較佳實施例當中，該襯套單元之該第一連接部與該第一腔體結合後，該襯套單元之該第二連接部突伸出該第一腔體之一第一端口，並且該第二連接部收容於該第二腔體之內。

於本發明其中之一較佳實施例當中，該第一連接部的横向邊長尺寸大於該第二連接部的横向邊長尺寸。

於本發明其中之一較佳實施例當中，該襯套單元之該第一連接部與該第一腔體結合後，該第二腔體之該對接部突伸入該襯套單元，並且收容於該襯套單元之內。

於本發明其中之一較佳實施例當中，該電漿反應裝置包含一第三腔體，並且該襯套單元進一步包含一第三連接部，相對於該第二連接 部，該襯套單元連貫該第二腔體並且該第三連接部係用於與該第三腔體之一對接部連接。

於本發明其中之一較佳實施例當中，該第一連接部及該第三連接部兩者的横向邊長尺寸不同。

於本發明其中之一較佳實施例當中，該第一連接部和該第二連接部兩者至少其中之一包含環形結構或其他幾何結構。

於本發明其中之一較佳實施例當中，該襯套單元進一步包含一第一襯套和一第二襯套，其中該第一襯套和該第二襯套分別包含用於與該第一腔體連接之該第一連接部和用於與另一腔體連接之該第二連接部，該第一襯套之該第一連接部及第二連接部兩者的横向邊長尺寸不同，以及該第二襯套之該第一連接部及第二連接部兩者的横向邊長尺寸不同。

於本發明其中之一較佳實施例當中，該第一襯套和該第二襯套分別包含結構互補的第三連接部，並且當該第一襯套和該第二襯套分別與該第一腔體結合後，該第一襯套和該第二襯套的該等第三連接部互相接合。

於本發明其中之一較佳實施例當中，該襯套單元進一步包含複數個襯套，其中該複數個襯套分別包含用於與該第一腔體連接之該第一連接部和用於與另一腔體連接之該第二連接部，該複數個襯套之該第一連接部及第二連接部兩者的横向邊長尺寸不同。

於本發明其中之一較佳實施例當中，當該襯套單元之該第二連接部與該第二腔體之該對接部對接後，該第二連接部與該第二腔體之間形成一容置空間，用於容置一氣密元件。

於本發明其中之一較佳實施例當中，該襯套單元之該第二連接部形成為一階梯狀，包含一第一階、一第二階和一第三階，當該襯套單元之該第二連接部與該第二腔體之該對接部對接後，該第二腔體之該對接部與該第一階之一第一水平階梯面和該第三階之一第三水平階梯面連接，並且與該第二階共同形成容置該氣密元件的該容置空間。

本發明還提供一種用於電漿反應裝置之襯套單元，，該電漿反應裝置具有一第一腔體以及複數個第二腔體，該襯套單元包含：一第一連接部，用於與該第一腔體連接，並且該第一連接部與該第一腔體之一內側壁的結構互補；以及複數個第二連接部，用於分別與該複數個第二腔體之一對接部對接，其中該第一連接部及每一該第二連接部兩者的横向邊長尺寸不同。

10‧‧‧電漿反應裝置

11‧‧‧第一腔體

12‧‧‧第二腔體

13‧‧‧第三腔體

100‧‧‧電漿反應裝置

110‧‧‧襯套單元

112‧‧‧第一連接部

114‧‧‧第二連接部

120‧‧‧第一腔體

122‧‧‧內側壁

124‧‧‧第一端口

130‧‧‧第二腔體

132‧‧‧對接部

200‧‧‧電漿反應裝置

210‧‧‧襯套單元

212‧‧‧第一連接部

132’‧‧‧第二連接部

130’‧‧‧第一腔體

230‧‧‧第二腔體

232‧‧‧對接部

210’‧‧‧第二襯套單元

300‧‧‧電漿反應裝置

310‧‧‧襯套單元

312‧‧‧第一連接部

314‧‧‧第二連接部

316‧‧‧第三連接部

320‧‧‧第一腔體

322‧‧‧內側壁

330‧‧‧第二腔體

332‧‧‧對接部

340‧‧‧第三腔體

342‧‧‧對接部

400‧‧‧電漿反應裝置

410‧‧‧襯套單元

412‧‧‧第一連接部

414‧‧‧第二連接部

420‧‧‧第一腔體

422‧‧‧內側壁

500‧‧‧電漿反應裝置

510‧‧‧襯套單元

501‧‧‧第一襯套

505‧‧‧第二襯套

512、512’‧‧‧第一連接部

514、514’‧‧‧第二連接部

516、516’‧‧‧第三連接部

520‧‧‧第一腔體

522‧‧‧內側壁

600‧‧‧電漿反應裝置

610‧‧‧襯套單元

602‧‧‧第一襯套

604‧‧‧第二襯套

606‧‧‧第三襯套

6022、6042、6062‧‧‧第一連接部

6024、6044、6064‧‧‧第二連接部

6026、6046、6066‧‧‧第三連接部

620‧‧‧第一腔體

622‧‧‧內側壁

700‧‧‧電漿反應裝置

710‧‧‧襯套單元

714‧‧‧第二連接部

7142‧‧‧第一水平階梯面

7144‧‧‧第二水平階梯面

730‧‧‧第二腔體

732‧‧‧對接部

750‧‧‧氣密元件

800‧‧‧電漿反應裝置

810‧‧‧襯套單元

814‧‧‧第二連接部

8142‧‧‧第一水平階梯面

8144‧‧‧第二水平階梯面

8146‧‧‧第三水平階梯面

830‧‧‧第二腔體

832‧‧‧對接部

850‧‧‧氣密元件

C1、C2、C3、C1’、C2’、C3’、C1”、C2”、C3”‧‧‧横向邊長尺寸

第1圖顯示一種傳統的電漿反應裝置。

第2圖顯示一種根據本發明之第一實施例之襯套單元與電漿反應裝置的組裝爆炸圖。

第3圖顯示第2圖之局部組裝視圖。

第4圖顯示第2圖之襯套單元與電漿反應裝置之剖面爆炸圖。

第5圖顯示一種根據本發明之第二實施例之襯套單元與電漿反應裝置的剖面爆炸圖。

第6圖顯示一種根據本發明之第三實施例之襯套單元與電漿反應裝置 的剖面組裝視圖。

第7圖顯示一種根據本發明之第四實施例之襯套單元與電漿反應裝置的組裝爆炸圖。

第8圖顯示第7圖之襯套單元與電漿反應裝置之剖面爆炸圖。

第9圖顯示一種根據本發明之第五實施例之襯套單元與電漿反應裝置的剖面爆炸圖。

第10圖顯示第9圖之剖面組裝視圖。

第11圖顯示一種根據本發明之第六實施例之襯套單元與電漿反應裝置的剖面爆炸圖。

第12圖顯示一種根據本發明之第七實施例之襯套單元的局部放大視圖。

第13圖顯示一種根據本發明之第八實施例之襯套單元的局部放大視圖。

為了讓本發明之上述及其他目的、特徵、優點能更明顯易懂，下文將特舉本發明較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下。

請參照第2圖、第3圖及第4圖，係顯示一種根據本發明之第一實施例之用於電漿反應裝置100之襯套單元110，其中第2圖顯示該襯套單元110與該電漿反應裝置100的組裝爆炸圖，第3圖顯示第2圖之該襯套單元110與該電漿反應裝置100之局部組裝視圖，以及第4圖顯示第2圖之該襯套單元110與電漿反應裝置100之剖面爆炸圖。該電漿反應裝置100具有一第一 腔體120和一第二腔體130，以及該襯套單元110包含一第一連接部112和一第二連接部114。

如第2圖至第4圖所示，該襯套單元110之該第一連接部112係與該第一腔體120相連接，並且該第一連接部112之外側壁與該第一腔體120之一相連接的內側壁122彼此的結構互補。如本發明之第一實施例所示，該第一連接部112之外側壁與該第一腔體120之內側壁122皆為環形的結構。可以理解的是，在其他實施例中相互結合的第一連接部之外側壁和第一腔體120內側壁彼此可為各種結構互補的幾何結構。

另一方面，為了使該襯套單元110之該第一連接部112之外側壁與該第一腔體120之內側壁122之間緊密配合，可以藉由例如在該第一連接部112之外側壁與該第一腔體120之該內側壁122的連接面分別形成結構互補的螺紋，使得兩者間可緊密的鎖固，或者是在兩者的接面塗覆陶瓷散熱膏或以真空螺絲等方式，但不侷限於此。除此之外，任何可以使該襯套單元110之該第一連接部112之外側壁與該第一腔體120之該內側壁122達到緊密配合的方法亦可適用於本發明的其他實施例中。

如第2圖至第4圖所示，當該襯套單元110之該第一連接部112經由該第一腔體120之一第一端口124裝設入該第一腔體120，並且與該第一腔體120相結合後，將使該襯套單元110之該第二連接部114突伸出該第一腔體120之該第一端口124之外。接著，再將該襯套單元110與該第二腔體130進行組裝。如圖所示，該襯套單元110之該第二連接部114係用於與該第二腔體130之一對接部132對接。

如第2圖至第4圖所示，該襯套單元110之該第一連接部112 的横向邊長尺寸C1與該第二連接部114的横向邊長尺寸C2不同。更明確的說，如本發明第一實施例中所示，該第一連接部112的横向邊長尺寸C1係小於該第二連接部114的横向邊長尺寸C2，然而在其他實施例中亦可將第一連接部112的横向邊長尺寸C1設計為大於第二連接部114的横向邊長尺寸C2。

再者，該襯套單元110之該第二連接部114和該第二腔體130相結合前，較佳地先在該第二連接部114的外側壁周圍放置O型環和/或陶瓷環和/或塗佈真空膏，使得該第一腔體120和該第二腔體130相結合後具有較佳的氣密度。除此之外，任何可以達成較佳氣密效果的方法亦可適用於本發明的其他實施例中。

請參照第5圖，其顯示一種根據本發明之第二實施例之襯套單元210與電漿反應裝置200之剖面爆炸圖。該電漿反應裝置200包含一第一腔體130’和一第二腔體230，以及該襯套單元210包含一第一連接部212和一第二連接部132’。

如第5圖所示，該襯套單元210之該第一連接部212係位於該襯套單元210的外側壁，以及該襯套單元210之該第二連接部132’係位於該襯套單元210的內側壁，其中該襯套單元210之該第一連接部212的横向邊長尺寸C1與該第二連接部132’的横向邊長尺寸C2不同。更明確的說，該第一連接部212的横向邊長尺寸C1係大於該第二連接部132’的横向邊長尺寸C2。

如第5圖所示，該襯套單元210之該第一連接部212與該第一腔體130’的內側壁在結構上彼此互補，使得兩者可相互結合。因為該襯套單元210之該第二連接部132’係位於該襯套單元210的內側壁，所以當該襯套單元210之該第一連接部212與該第一腔體130’結合後，該第二腔體230之一對 接部232係突伸入該襯套單元210，並且收容於該襯套單元210之內，其中該對接部232係屬於該第二腔體230外側壁之一部分。再者，如圖所示，該第二腔體230可藉由單一個腔體與一第二襯套單元210’相互組裝而形成。

另一方面，本發明之單一個襯套單元亦可與複數個電漿反應裝置的腔體相結合。舉例來說，在一較佳實施例中，電漿反應裝置可包含一第一腔體和複數個第二腔體，以及襯套單元可包含一第一連接部和複數個第二連接部，其中該第一連接部係用於與該第一腔體連接，並且該第一連接部與該第一腔體之一內側壁的結構互補。另外，該複數個第二連接部係用於分別與該複數個第二腔體之一對接部對接。為了更清楚說明上述實施例的技術方案，請參照下述第三實施例的具體描述。

請參照第6圖，其顯示一種根據本發明之第三實施例之襯套單元310與電漿反應裝置300組合後之局部剖面圖。該電漿反應裝置300包含一第一腔體320、一第二腔體330及一第三腔體340，以及該襯套單元310包含一第一連接部312、第二連接部314及第三連接部316。應當注意的是，本實施例中的該第二腔體330及該第三腔體340相當於上述之複數個第二腔體，以及本實施例中的該第二連接部314及第三連接部316相當於上述之複數個第二連接部。並且，雖然在第6圖中所出示之該第二腔體330和該第三腔體340具有相同的構型和尺寸，然而，在其他較佳實施例中亦可包含具有不同構型和尺寸的複數個第二腔體，並且相對應的複數個第二連接部亦設置為具有不同構型和尺寸。

如第6圖所示，該襯套單元310之該第二連接部314和第三連接部316係分別位於該第一連接部312之相對的兩側，並且該第一連接部 312、該第二連接部314和第三連接部316皆形成於該襯套單元310之外側壁，該第一連接部312用於與該第一腔體320之一內側壁322相結合。並且，該襯套單元310藉由將該第二連接部314與該第二腔體330之一對接部332相結合，使得該襯套單元310連貫該第二腔體330，以及進一步藉由該第三連接部316與該第三腔體340之一對接部342相結合。該對接部332係屬於該第三腔體340內側壁之一部分。

如第6圖所示，該襯套單元310的兩相對端外側壁同樣係設計為公頭的構型。即，將該襯套單元310之該第一連接部312外側壁與該第一腔體320之該內側壁322相結合後，使該襯套單元310之該第二連接部314和該第三連接部316係分別突伸出該第一腔體320之相對的兩端口。值得注意的是，在另一實施例中，可根據電漿製程原理，依照該電漿反應裝置300在運作上所產生的磁力線方向，將相似於本實施例之該襯套單元310之該第二連接部314和該第三連接部316的其中之一設計為母頭的構型。之後，再將與其對接的腔體裝設一第二襯套單元，其一端係突伸出該腔體之端口(如第5圖所示之第二實施例的第二腔體230)。也就是說，該襯套單元之其中之一連接部設置在該襯套單元之內側壁部，用於收容對接腔體之對接部。

如第6圖所示，該襯套單元310之該第一連接部310的横向邊長尺寸C1與該第二連接部314及第三連接部316的横向邊長尺寸C2不同。更明確的說，該第一連接部310的横向邊長尺寸C1係大於該第二連接部314及第三連接部316的横向邊長尺寸C2。應當注意的是，本發明第三實施例中所出示的第二腔體和第三腔體的數量僅係作為示例，更進一步，應配合電漿反應裝置之種類與型式，襯套單元所連接之腔體數可為複數個，且並非用 於限定本發明。

請參照第7圖和第8圖，第7圖顯示一種根據本發明之第四實施例之襯套單元410與電漿反應裝置400的組裝爆炸圖，以及第8圖顯示第7圖之電漿反應裝置400之剖面爆炸圖。該電漿反應裝置400包含具有一內側壁422之一第一腔體420，以及該襯套單元410包含一第一連接部412和一第二連接部414，其中該一第一連接部412係用於與該第一腔體420相結合以及該第二連接部414係用於與一第二腔體(未出示)相結合。

如第7圖和第8圖所示，用於與該襯套單元410之該第一連接部412相結合的該第一腔體420之該內側壁422係呈現長盤型結構，有別於前述實施例中的環型結構。並且，該第一連接部412之最大的橫向邊長C1的尺寸係大於該襯套單元410之該第二連接部414的橫向邊長C2的尺寸。

請參照第9圖和第10圖，第9圖顯示一種根據本發明之第五實施例之襯套單元510與電漿反應裝置500之的剖面爆炸圖，以及第10圖顯示第9圖之剖面組裝視圖。該電漿反應裝置500包含具有一內側壁522之一第一腔體520，以及該襯套單元510包含一第一襯套501和一第二襯套505，分設於該第一腔體520之兩相對端，其中該第一襯套501和該第二襯套505分別包含用於與該第一腔體520連接之一第一連接部512和512’和用於與另一腔體(未出示)連接之該第二連接部514和514’。

如第9圖和第10圖所示，該襯套單元510之該第一襯套501和該第二襯套505皆為不規則的幾何構型。該第一襯套501和該第二襯套505分別包含結構互補的第三連接部516和516’，並且當該第一襯套501和該第二襯套505分別與該第一腔體520上下結合後，進一步使該第一襯套501和該第二 襯套505的該等第三連接部516和516’互相接合。值得注意的是，該等第三連接部516和516’包含各種結構互補的構型，例如倒鉤狀、斜角狀或者是諸如此類。

如第9圖和第10圖所示，該第一襯套501之該第一連接部512的最大横向邊長尺寸定義為C1，該第一襯套501之該第二連接部514的横向邊長尺寸定義為C2，以及該第一襯套501之該第三連接部516的横向邊長尺寸定義為C3，其中C1、C2及C3的尺寸皆不同。同理，該第二襯套505之該第一連接部512’的横向邊長尺寸C1’分別與該第二連接部514’的横向邊長尺寸C2’和該第三連接部516’的横向邊長尺寸C3’不同。

請參照第11圖，顯示一種根據本發明之第六實施例之襯套單元610與電漿反應裝置600之的剖面爆炸圖。該電漿反應裝置600包含具有一內側壁622之一第一腔體620，以及該襯套單元610包含一第一襯套602、一第二襯套604及一第三襯套606，其中該第一襯套602與第二襯套604設於該第一腔體620之一端，以及該第三襯套606設於該第一腔體620之相對另一端。該第一襯套602、該第二襯套604及該第三襯套606分別包含用於與該第一腔體620連接之第一連接部6022、6042、6062和用於與另一腔體(未出示)連接之第二連接部6024、6044、6064。

如第11圖所示，該第一襯套602之該第一連接部6022的最大横向邊長尺寸定義為C1，該第二連接部6024的横向邊長尺寸定義為C2，以及該第三連接部6026的横向邊長尺寸定義為C3，其中C1的尺寸與C2及C3的尺寸不同。同理，該第二襯套604之該第一連接部6042的横向邊長尺寸C1’分別與該第二連接部6044的横向邊長尺寸C2’和該第三連接部6046的横向 邊長尺寸C3’不同；以及該第二襯套606之該第一連接部6062的横向邊長尺寸C1”分別與該第二連接部6064的横向邊長尺寸C2”和該第三連接部6066的横向邊長尺寸C3”不同。

如第11圖所示，該第一襯套602、該第二襯套604及該第三襯套606分別包含結構互補的第三連接部6026、6046、6066，並且當該第一襯套602、該第二襯套604及該第三襯套606分別與該第一腔體620上下結合後，進一步使該第一襯套602、該第二襯套604及該第三襯套606的該等第三連接部6026、6046、6066互相接合。

經由上述實施例可知，本發明除了可藉由一件式的襯套單元對應一個以上的腔體以外，也可藉由多件式的襯套單元對應單一個腔體。例如根據本發明第五實施例，該襯套單元510包含第一襯套501和第二襯套505，並且該等襯套係分別與同一個第一腔體520結合，或者是，如第六實施例之包含三件式的襯套單元610，但不侷限於此。

請參照第12圖，其顯示一種根據本發明之第七實施例之襯套單元710的局部放大視圖。在本實施例中，該襯套單元710之第二連接部714的外型呈現兩階式的階梯狀，包含一第一水平階梯面7142和一第二水平階梯面7144。當該襯套單元710之該第二連接部714與一第二腔體730之一對接部732對接後，該第二腔體730之該對接部732與部分的該第一水平階梯面7142和該第二水平階梯面7144連接，並且在該第二連接部714與該第二腔體730之間形成一密閉的容置空間。該容置空間可用於容置一氣密元件750，例如：氣密環。

請參照第13圖，其顯示一種根據本發明之第八實施例之襯套 單元810的局部放大視圖。該襯套單元810之該第二連接部814的外型呈現三階式的階梯狀，包含具有一第一水平階梯面8142的一第一階、具有一第二水平階梯面8144的一第二階和具有一第三水平階梯面8146的一第三階。當該襯套單元810之該第二連接部814與一第二腔體830之一對接部832對接後，該第二腔體830之該對接部832與該襯套單元810之該第一階的該第一水平階梯面8142和該第三階的該第三水平階梯面8146連接，並且該第二腔體830之該對接部832與該第二階共同形成容置一氣密元件850的容置空間。應當注意的是，在本發明中，藉由設置為上述第12圖或第13圖所示樣態的的氣密結構，使得本發明不需設置一附加的陶瓷環，即可確保第一腔體之襯套單元與第二腔體之間具有良好的氣密效果，因而降低了製造成本。另外，經由上述設置還可避免因腔體的熱變形及扭曲造成的漏氣及電漿腐蝕的問題。

雖然本發明已用較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

100‧‧‧電漿反應裝置

110‧‧‧襯套單元

112‧‧‧第一連接部

114‧‧‧第二連接部

120‧‧‧第一腔體

122‧‧‧內側壁

124‧‧‧第一端口

130‧‧‧第二腔體

132‧‧‧對接部

C1、C2‧‧‧横向邊長尺寸

Claims (13)

1. 一種用於電漿反應裝置之襯套單元，該電漿反應裝置具有一第一腔體以及一第二腔體，該襯套單元包含：一第一連接部，用於與該第一腔體連接，並且該第一連接部與該第一腔體之一內側壁的結構互補且緊密配合；以及一第二連接部，用於與該第二腔體之一對接部對接，其中該第一連接部及第二連接部兩者的横向邊長尺寸不同，其中當該襯套單元之該第二連接部與該第二腔體之該對接部對接後，該第二連接部與該第二腔體之間形成一容置空間，用於容置一氣密元件。
2. 如申請專利範圍第1項所述之襯套單元，其中該第一連接部的横向邊長尺寸小於該第二連接部的横向邊長尺寸。
3. 如申請專利範圍第1項所述之襯套單元，其中該襯套單元之該第一連接部與該第一腔體結合後，該襯套單元之該第二連接部突伸出該第一腔體之一第一端口，並且該第二連接部收容於該第二腔體之內。
4. 如申請專利範圍第1項所述之襯套單元，其中該第一連接部的横向邊長尺寸大於該第二連接部的横向邊長尺寸。
5. 如申請專利範圍第1項所述之襯套單元，其中該襯套單元之該第一連接部與該第一腔體結合後，該第二腔體之該對接部突伸入該襯套單元，並且收容於該襯套單元之內。
6. 如申請專利範圍第1項所述之襯套單元，其中該電漿反應裝置包含一第三腔體，並且該襯套單元進一步包含一第三連接部，相對於該第二連接部，該襯套單元連貫該第二腔體並且該第三連接部係用於與該第三腔體 之一對接部連接。
7. 如申請專利範圍第6項所述之襯套單元，其中該第一連接部及該第三連接部兩者的横向邊長尺寸不同。
8. 如申請專利範圍第1項所述之襯套單元，其中該第一連接部和該第二連接部兩者至少其中之一包含環形結構或其他幾何結構。
9. 如申請專利範圍第1項所述之襯套單元，進一步包含一第一襯套和一第二襯套，其中該第一襯套和該第二襯套分別包含用於與該第一腔體連接之該第一連接部和用於與另一腔體連接之該第二連接部，該第一襯套之該第一連接部及第二連接部兩者的横向邊長尺寸不同，以及該第二襯套之該第一連接部及第二連接部兩者的横向邊長尺寸不同。
10. 如申請專利範圍第9項所述之襯套單元，其中該第一襯套和該第二襯套分別包含結構互補的第三連接部，並且當該第一襯套和該第二襯套分別與該第一腔體結合後，該第一襯套和該第二襯套的該等第三連接部互相接合。
11. 如申請專利範圍第1項所述之襯套單元，進一步包含複數個襯套，其中該複數個襯套分別包含用於與該第一腔體連接之該第一連接部和用於與另一腔體連接之該第二連接部，該複數個襯套之該第一連接部及第二連接部兩者的横向邊長尺寸不同。
12. 如申請專利範圍第1項所述之襯套單元，其中該襯套單元之該第二連接部形成為一階梯狀，包含一第一階、一第二階和一第三階，當該襯套單元之該第二連接部與該第二腔體之該對接部對接後，該第二腔體之該對接部與該第一階之一第一水平階梯面和該第三階之一第三水平階梯面 連接，並且與該第二階共同形成容置該氣密元件的該容置空間。
13. 一種用於電漿反應裝置之襯套單元，該電漿反應裝置具有一第一腔體以及複數個第二腔體，該襯套單元包含：一第一連接部，用於與該第一腔體連接，並且該第一連接部與該第一腔體之一內側壁的結構互補且緊密配合；以及複數個第二連接部，用於分別與該複數個第二腔體之一對接部對接，其中該第一連接部及每一該第二連接部兩者的横向邊長尺寸不同，其中當該襯套單元之該第二連接部與該第二腔體之該對接部對接後，該第二連接部與該第二腔體之間形成一容置空間，用於容置一氣密元件。