JP6602913B2 - 表示装置 - Google Patents

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Description

本発明は表示装置及びその製造方法に関するもので、特に工程の簡素化及びコストの節減が可能な表示装置に関するものである。
タッチスクリーンは表示装置などの画面に現れた指示内容を人の手又は物体で選択して使用者の命令を入力することができるようにした入力装置である。すなわち、タッチスクリーンは人の手又は物体に直接接触した接触位置を電気的信号に変換し、接触位置で選択された指示内容を入力信号として受け取る。このようなタッチスクリーンはキーボードやマウスのように表示装置に連結されて動作する付加の入力装置を取り替えることができるので、その利用範囲が徐々に広がっている趨勢である。
このようなタッチスクリーンは一般的に液晶表示パネル又は有機電界発光表示パネルのような表示パネルの前面に接着剤を介して付着される場合が多い。この場合、タッチスクリーンが別に製作されて表示パネルの前面に付着されるので、付着工程の追加によって工程が複雑になり、コストが上昇する問題点がある。
本発明は前記問題点を解決するためのもので、本発明の目的は工程の簡素化及びコストの節減が可能な表示装置を提供することである。
前記目的を達成するために、本発明によるタッチセンサーを有する有機発光表示装置は、封止部上に配置される多数のタッチセンサーのそれぞれと接続される多数のルーティングラインのそれぞれが互いに異なる平面上に互いに重畳するように配置され、多数のルーティングコンタクトホールを介して電気的に接続されるので、ルーティングライン間の接続不良を改善することができ、封止部の上部にタッチセンサーが配置されることによって付加の接着工程が不要になるので、工程が簡素化し、コストを節減することができる。
本発明による表示装置は、多数のタッチセンサーのそれぞれと接続される多数のルーティングラインのそれぞれが互いに異なる平面上に互いに重畳するように配置され、多数のルーティングコンタクトホールを介して電気的に接続される。これにより、本発明はルーティングライン間の接続不良を改善することができる。また、本発明では、タッチ電極のそれぞれに含まれる透明な透明導電層とメッシュ状の不透明導電層が同一マスク工程で形成されるので、マスク工程数の低減によって工程を簡素化するとともにコストを低減することができる。これだけでなく、従来の有機発光表示装置は接着剤を介してタッチスクリーンが有機発光表示装置に付着されるが、本発明による有機発光表示装置は封止部上にタッチ電極が配置されることによって付加の接着工程が不要になるので、工程が簡素化し、コストを低減することができる。
本発明によるタッチセンサーを有する有機発光表示装置を示す斜視図である。 図１に示したタッチセンサーを有する有機発光表示装置を示す平面図である。 図２で、線I−I’及びII−II’に沿って切断した、タッチセンサーを有する有機発光表示装置の断面図である。 図２及び図３に示した第２ブリッジ、下部ルーティングライン及び下部パッド電極の製造方法を説明するための平面図である。 図２及び図３に示した第２ブリッジ、下部ルーティングライン及び下部パッド電極の製造方法を説明するための断面図である。 図２及び図３に示したタッチコンタクトホール、ルーティングコンタクトホール及びパッドコンタクトホールの製造方法を説明するための平面図である。 図２及び図３に示したタッチコンタクトホール、ルーティングコンタクトホール及びパッドコンタクトホールの製造方法を説明するための断面図である。 図２及び図３に示した第１及び第２タッチ電極、第１ブリッジ、上部ルーティングライン及び上部パッド電極の製造方法を説明するための平面図である。 図２及び図３に示した第１及び第２タッチ電極、第１ブリッジ、上部ルーティングライン及び上部パッド電極の製造方法を説明するための断面図である。 図６ｂに示した第１及び第２タッチ電極、第１ブリッジ、上部ルーティングライン及び上部パッド電極の製造方法を具体的に説明するための断面図である。 図６ｂに示した第１及び第２タッチ電極、第１ブリッジ、上部ルーティングライン及び上部パッド電極の製造方法を具体的に説明するための断面図である。 図６ｂに示した第１及び第２タッチ電極、第１ブリッジ、上部ルーティングライン及び上部パッド電極の製造方法を具体的に説明するための断面図である。 図６ｂに示した第１及び第２タッチ電極、第１ブリッジ、上部ルーティングライン及び上部パッド電極の製造方法を具体的に説明するための断面図である。 図２及び図３に示したタッチ保護膜の製造方法を説明するための平面図である。 図２及び図３に示したタッチ保護膜の製造方法を説明するための断面図である。 本発明の第２実施例によるタッチセンサーを有する有機発光表示装置を示す断面図である。 本発明によるタッチセンサーを有する有機発光表示装置のブリッジの他の形態を示す平面図及び断面図である。
以下、添付図面に基づいて本発明による実施例を詳細に説明する。
図１は本発明によるタッチセンサーを有する有機発光表示装置を示す斜視図である。
図１に示したタッチセンサーを有する有機発光表示装置は、タッチ期間中に図２に示したタッチ電極１５２ｅ、１５４ｅを介して使用者のタッチによる相互静電容量（ｍｕｔｕａｌ ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ）（Ｃｍ；タッチセンサー）の変化量を感知してタッチ有無及びタッチ位置をセンシングする。そして、図１に示したタッチセンサーを有する有機発光表示装置は発光素子１２０を含む単位画素を介して映像を表示する。単位画素は赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）サブ画素ＰＸＬで構成され、または、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）及び白色（Ｗ）サブ画素ＰＸＬで構成される。
このために、図１に示した有機発光表示装置は、基板１１１上にマトリックス状に配列された多数のサブ画素ＰＸＬと、多数のサブ画素ＰＸＬ上に配置された封止部１４０と、封止部１４０上に配置された相互静電容量Ｃｍとを備えている。
多数のサブ画素ＰＸＬのそれぞれは、画素駆動回路と、画素駆動回路と接続される発光素子 １２０とを備える。
画素駆動回路は、スイッチングトランジスタＴ１、駆動トランジスタＴ２及びストレージキャパシタＣｓｔを備える。
スイッチングトランジスタＴ１は、スキャンラインＳＬにスキャンパルスが供給されれば、ターンオンされ、データラインＤＬに供給されたデータ信号をストレージキャパシタＣｓｔ及び駆動トランジスタＴ２のゲート電極に供給する。
駆動トランジスタＴ２はその駆動トランジスタＴ２のゲート電極に供給されるデータ信号に応答して高電圧ＶＤＤ供給ラインから発光素子１２０に供給される電流を制御することによって発光素子１２０の発光量を調節することになる。そして、スイッチングトランジスタＴ１がターンオフされても、ストレージキャパシタＣｓｔに充電された電圧によって駆動トランジスタＴ２は次のフレームのデータ信号が供給されるまで一定した電流を供給して発光素子１２０が発光を維持するようにする。
このような駆動トランジスタＴ２、１３０は、図３に示したように、ゲート電極１３２と、ゲート絶縁膜１０２を挟んでゲート電極１３２と重畳する半導体層１３４と、層間絶縁膜１１４上に形成され、半導体層１３４と接触するソース及びドレイン電極１３６、１３８とを備える。ここで、半導体層１３４はバッファー層１０４上に非晶質半導体物質、多結晶半導体物質及び酸化物半導体物質の少なくとも１種から形成される。
発光素子１２０は、アノード電極１２２と、アノード電極１２２上に形成される少なくとも一つの発光スタック１２４と、発光スタック１２４上に形成されたカソード電極１２６とを備える。
アノード電極１２２は保護膜１１６を貫く画素コンタクトホールを通じて露出された駆動トランジスタＴ２、１３０のドレイン電極１３８と電気的に接続される。
少なくとも一つの発光スタック１２４はバンク１２８によって設けられた発光領域のアノード電極１２２上に形成される。少なくとも一つの発光スタック１２４は、アノード電極１２２上に正孔関連層、有機発光層、電子関連層の順に又は逆順に積層されて形成される。その外にも、発光スタック１２４は生成層（Ｃｈａｒｇｅ Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ Ｌａｙｅｒ；ＣＧＬ）を挟んで対向する第１及び第２発光スタックを備えることもできる。この場合、第１及び第２発光スタックのいずれか一つの有機発光層は青色光を生成し、第１及び第２発光スタックの残り一つの有機発光層は黄色−緑色光を生成することによって第１及び第２発光スタックを介して白色光が生成される。この発光スタック１２４で生成された白色光は発光スタック１２４の上部又は下部に位置するカラーフィルター（図示せず）に入射してカラー映像を具現することができる。その外にも、付加のカラーフィルターなしに各発光スタック１２４で各サブ画素に相応するカラー光を生成してカラー映像を具現することもできる。すなわち、赤色（Ｒ）サブ画素の発光スタック１２４は赤色光を、緑色（Ｇ）サブ画素の発光スタック１２４は緑色光を、青色（Ｂ）サブ画素の発光スタック１２４は青色光を生成することもできる。
カソード電極１２６は発光スタック１２４を挟んでアノード電極１２２と対向するように形成され、低電圧ＶＳＳ供給ラインと接続される。
封止部１４０は外部の水分又は酸素に弱い発光素子１２０に外部の水分又は酸素が浸透することを遮断する。このために、封止部１４０は、多数の無機封止層１４２、１４６と、多数の無機封止層１４２、１４６の間に配置される有機封止層１４４とを備え、無機封止層１４６が最上層に配置される。この時、封止部１４０は、少なくとも２層の無機封止層１４２、１４６と少なくとも１層の有機封止層１４４とを備える。本発明では第１及び第２無機封止層１４２、１４６の間に有機封止層１４４が配置される封止部１４０の構造を例として説明する。
第１無機封止層１４２は発光素子１２０に最も近付くようにカソード電極１２６が形成された基板１１１上に形成される。このような第１無機封止層１４２は、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、酸化窒化シリコン（ＳｉＯＮ）又は酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）のような低温蒸着の可能な無機絶縁素材から形成される。これにより、第１無機封止層１４２が低温雰囲気で蒸着されるので、第１無機封止層１４２の蒸着工程時に高温雰囲気に弱い発光スタック１２４が損傷することを防止することができる。
有機封止層１４４は有機発光表示装置の撓みによる各層間の応力を緩和させる緩衝の役目をし、平坦化性能を強化する。この有機封止層１４４は、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド、ポリエチレン又はシリコンオキシカーボン（ＳｉＯＣ）のような有機絶縁素材から形成される。
第２無機封止層１４６は有機封止層１４４の上面及び側面と、有機封止層１４４によって露出された第１無機封止層１４２の上面を覆うように形成される。これにより、第１及び第２無機封止層１４６によって有機封止層１４４の上下面が密閉されるので、外部の水分又は酸素が有機封止層１４４に浸透し、または、有機封止層１４４内の水分又は酸素が発光素子１３０に浸透することを最小化し、または遮断する。このような第２無機封止層１４６は窒化シリコン（ＳｉＮｘ）、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、酸化窒化シリコン（ＳｉＯＮ）又は酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）のような無機絶縁素材から形成される。
封止部１４０上にはタッチ絶縁膜１５６を挟んでタッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２が交差するように配置される。このようなタッチセンシングライン１５４とタッチ駆動ライン１５２の交差部には相互静電容量（ｍｕｔｕａｌ ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ）Ｃｍが形成される。これにより、相互静電容量Ｃｍはタッチ駆動ライン１５２に供給されるタッチ駆動パルスによって電荷を充電し、充電された電荷をタッチセンシングライン１５４に放電することによってタッチセンサーの役目をするようになる。
タッチ駆動ライン１５２は、多数の第１タッチ電極１５２ｅと、多数の第１タッチ電極１５２ｅの間を電気的に連結する第１ブリッジ１５２ｂとを備える。
多数の第１タッチ電極１５２ｅはタッチ絶縁膜１５６上に第１方向であるＹ方向に一定の間隔で離隔される。このような多数の第１タッチ電極１５２ｅのそれぞれは第１ブリッジ１５２ｂを介して隣接した第１タッチ電極１５２ｅと電気的に連結される。
第１ブリッジ１５２ｂは第１タッチ電極１５２ｅと同一平面であるタッチ絶縁膜１５６上に配置され、付加のコンタクトホールなしに第１タッチ電極１５２ｅと電気的に接続される。
タッチセンシングライン１５４は、多数の第２タッチ電極１５４ｅと、多数の第２タッチ電極１５４ｅの間を電気的に連結する第２ブリッジ１５４ｂとを備える。
多数の第２タッチ電極１５４ｅはタッチ絶縁膜１５６上に第２方向であるＸ方向に一定の間隔で離隔される。このような多数の第２タッチ電極１５４ｅのそれぞれは第２ブリッジ１５４ｂを介して隣接した第２タッチ電極１５４ｅと電気的に連結される。
第２ブリッジ１５４ｂは第２無機封止層１４６上に形成されてタッチ絶縁膜１５６を貫くタッチコンタクトホール１５０を通じて露出されて第２タッチ電極１５４ｅと電気的に接続される。この第２ブリッジ１５４ｂは、第１ブリッジ１５２ｂと同様に、バンク１２８と重畳するように配置されるので、第１及び第２ブリッジ１５２ｂ、１５４ｂによって開口率が損傷することを防止することができる。
このような本発明のタッチ駆動ライン１５２及びタッチセンシングライン１５４のそれぞれは非アクティブ（ベゼル）領域に配置されるルーティングライン１６０及びタッチパッド１７０を介してタッチ駆動部（図示せず）と連結される。
これにより、ルーティングライン１６０はタッチ駆動部で生成されたタッチ駆動パルスをタッチパッド１７０を介してタッチ駆動ライン１５２に伝送し、タッチセンシングライン１５４からのタッチ信号をタッチパッド１７０に伝送する。
このルーティングライン１６０は第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅのそれぞれとタッチパッド１７０の間でこれら１５２ｅ、１５４ｅ、１７０と接続されるように配置される。第１タッチ電極１５２ｅと接続されたルーティングライン１６０は、図２に示したように、アクティブ領域の上側及び下側の少なくとも一側に伸びてタッチパッド１７０と接続される。第２タッチ電極１５４ｅと接続されたルーティングライン１６０はアクティブ領域の左側及び右側の少なくとも一側に伸びてタッチパッド１７０と接続される。一方、ルーティングライン１６０の配置は図２の構造に限定されず、表示装置の設計事項によって多様に変更可能である。
ルーティングライン１６０は互いに異なる平面上に互いに重畳するように多数が備えられる。本発明では、ルーティングライン１６０が互いに異なる平面上に配置される下部及び上部ルーティングライン１６２、１６４を備える構造を例として説明する。
下部ルーティングライン１６２は第２ブリッジ１５４ｂと同一素材から第２ブリッジ１５４ｂと同一マスク工程で形成される。この下部ルーティングライン１６２は封止部１４０の最上部に位置する第２無機封止層１４６上に封止部１４０の側面を覆うように形成される。このような下部ルーティングライン１６２はタッチ絶縁膜１５６によって保護されるので、上部ルーティングライン１６４のパターニング時に下部ルーティングライン１６２が損傷することを防止することができ、信頼性が高くなる。
上部ルーティングライン１６４はタッチ電極１５２ｅ、１５４ｅと同一素材からタッチ電極１５２ｅ、１５４ｅと同一マスク工程で形成される。この上部ルーティングライン１６４は下部ルーティングライン１６２を覆うように形成されたタッチ絶縁膜１５６上に配置されるので、タッチ絶縁膜１５６の側面を覆うように形成される。また、上部ルーティングライン１６４はタッチ絶縁膜１５６上に下部ルーティングライン１６２と同一形状に下部ルーティングライン１６２に沿って配置される。このような上部ルーティングライン１６４は第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅのそれぞれから延設され、下部ルーティングライン１６２とタッチ絶縁膜１５６を挟んで重畳する。
一方、上部ルーティングライン１６４はタッチ絶縁膜１５６を貫く多数のルーティングコンタクトホール１６６を通じて露出された下部ルーティングライン１６２と電気的に接続される。この多数のルーティングコンタクトホール１６６によって、上部ルーティングライン１６４と下部ルーティングライン１６２間の接続領域が大きくなるので、上部ルーティングライン１６４と下部ルーティングライン１６２の接続不良を改善することができる。また、下部ルーティングライン１６２及び上部ルーティングライン１６４を備えるルーティングライン１６０は多層構造に形成されるので、ルーティングライン１６０の自体抵抗を減らすことができる。これだけでなく、ルーティングライン１６０が多層構造になるので、上部及び下部ルーティングライン１６４、１６２のいずれか一ルーティングラインに断線が発生しても、残りのルーティングラインを介してタッチ駆動パルス及びタッチ信号それぞれを伝送することができる。
タッチパッド１７０はタッチ保護膜１９０によって外部に露出されるように形成されることによってタッチ駆動部が実装された信号伝送フィルムと接続される。このタッチパッド１７０は、データラインＤＬ、スキャンラインＳＬ、低電圧ＶＳＳ供給ライン及び高電圧ＶＤＤ供給ラインの少なくとも一つと接続された表示パッド（図示せず）と一緒に基板１１１の一側及び他側領域の少なくとも一領域に配置され、または、タッチパッド１７０及び表示パッドが互いに異なる非アクティブ領域に配置されることができる。一方、タッチパッド１７０の配置は図２の構造に限定されず、表示装置の設計事項によって多様に変更可能である。
このようなタッチパッド１７０は発光素子１２０の下部に配置される多数の絶縁膜１０２、１０４、１１４、１１６、１１８の少なくとも一つ１１６上に配置される。このタッチパッド１７０は下部ルーティングライン１６２から伸びた下部パッド電極１７２と、上部ルーティングライン１６４から伸びた上部パッド電極１７４とを備える。
下部パッド電極１７２は第２ブリッジ１５４ｂと同一素材から第２ブリッジ１５４ｂと同一マスク工程で形成される。この下部パッド電極１７２は保護膜１１６上に下部ルーティングライン１６２から伸びてルーティングライン１６０と直接接続される。
上部パッド電極１７４はタッチ電極１５２ｅ、１５４ｅと同一素材からタッチ電極１５２ｅ、１５４ｅと同一マスク工程で形成される。この上部パッド電極１７４はタッチ絶縁膜１５６を貫くパッドコンタクトホール１７６を通じて露出された下部パッド電極１７２と電気的に接続される。
このような本発明の第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅ、第１ブリッジ１５２ｂ、１５４ｂ、上部ルーティングライン１６４及び上部パッド電極１７４のそれぞれは透明導電層１６１と、その透明導電層１６１の上部又は下部に配置される不透明導電層１６３とからなる。透明導電層１６１は、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、ＩＧＺＯ及びＩＴＯ／Ａｇ／ＩＴＯの少なくとも１種のような素材から単層又は多層の構造に形成される。不透明導電層１６３は、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｍｏのような耐食性及び耐酸性が強くて伝導性の良い導電層から単層又は多層の構造に形成される。例えば、不透明導電層１６３はＴｉ／Ａｌ／Ｔｉ又はＭｏ／Ａｌ／Ｍｏのように積層した３層構造に形成される。
上部ルーティングライン１６４及び上部パッド電極１７４のそれぞれの下部及び不透明導電層１６１、１６３は同一形状に形成される。すなわち、上部ルーティングライン１６４及び上部パッド電極１７４のそれぞれの不透明導電層１６３は上部ルーティングライン１６４及び上部パッド電極１７４のそれぞれの透明導電層１６１上に透明導電層１６１と同一形状及び同一線幅で形成される。
第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅ、第１ブリッジ１５２ｂ、１５４ｂのそれぞれの不透明導電層１６３は第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅ、第１ブリッジ１５２ｂ、１５４ｂのそれぞれの透明導電層１６１より小さい線幅で形成される。すなわち、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅ、第１ブリッジ１５２ｂ、１５４ｂのそれぞれの不透明導電層１６３はその透明導電層１６１上にメッシュ状に形成される。この不透明導電層１６３は透明導電層１６１より伝導性が良いので、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅを低抵抗電極で形成することができる。これにより、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅそのものの抵抗とキャパシタンスが減少してＲＣ時定数が減少し、タッチ感度を向上させることができる。また、メッシュ状の不透明導電層１６３の線幅が非常に小さいので、メッシュ状の不透明導電層１６３によって開口率及び透過率が低下することを防止することができる。
図４ａ〜図８ｂは図２及び図３に示したタッチセンサーを有する有機電界発光表示装置の製造方法を説明するための平面図及び断面図である。
図４ａ及び図４ｂを参照すると、スイッチングトランジスタＴ１、駆動トランジスタＴ２、１３０、発光素子１２０及び封止部１４０が形成された基板１１１上に第２ブリッジ１５４ｂ、下部ルーティングライン１６２及び下部パッド電極１７２が形成される。
具体的に、スイッチングトランジスタＴ１、駆動トランジスタＴ２、１３０、発光素子１２０及び封止部１４０が形成された基板１１１上に蒸着工程によって導電層が全面蒸着される。その後、第１マスクを用いたフォトリソグラフィー工程及び食刻工程によって導電層がパターニングされることによって第２ブリッジ１５４ｂ、下部ルーティングライン１６２及び下部パッド電極１７２が形成される。ここで、第２ブリッジ１５４ｂ、下部ルーティングライン１６２及び下部パッド電極１７２のそれぞれはＡｌ、Ａｇ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｍｏ、ＭｏＴｉのような耐食性及び耐酸性が強いだけでなく伝導性の良い金属から単層又は多層の構造に形成される。例えば、第２ブリッジ１５４ｂ、下部ルーティングライン１６２及び下部パッド電極１７２のそれぞれはＴｉ／Ａｌ／Ｔｉ又はＭｏ／Ａｌ／Ｍｏのように積層した３層構造に形成される。
図５ａ及び図５ｂを参照すると、第２ブリッジ１５４ｂ、下部ルーティングライン１６２及び下部パッド電極１７２が形成された基板１１１上にタッチコンタクトホール１５０、ルーティングコンタクトホール１６６及びパッドコンタクトホール１７６を有するタッチ絶縁膜１５６が形成される。
具体的に、第２ブリッジ１５４ｂ、下部ルーティングライン１６２及び下部パッド電極１７２が形成された基板１１１上に無機又は有機絶縁物質が蒸着されることによってタッチ絶縁膜１５６が形成される。ここで、タッチ絶縁膜１５６としては、ＳｉＮｘ、ＳｉＯＮ、又はＳｉＯ２のような無機膜又はアクリル系、エポキシ系、パリレン−Ｃ、パリレン−Ｎ、パリレン−Ｆ又はシロキサン系の有機膜が用いられる。その後、第２マスクを用いたフォトリソグラフィー工程及び食刻工程によってタッチ絶縁膜１５６がパターニングされることによってタッチコンタクトホール１５０、ルーティングコンタクトホール１６６及びパッドコンタクトホール１７６が形成される。
図６ａ及び図６ｂを参照すると、タッチコンタクトホール１５０、ルーティングコンタクトホール１６６、パッドコンタクトホール１７６が形成された基板１１１上に第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅ、第１ブリッジ１５２ｂ、上部ルーティングライン１６４及び上部パッド電極１７４が形成される。これについて図７ａ〜図７ｄを参照して具体的に説明する。
図７ａに示したように、タッチコンタクトホール１５０、ルーティングコンタクトホール１６６及びパッドコンタクトホール１７６が形成された基板１１１上に透明導電層１６１及び不透明導電層１６３が順次積層される。ここで、透明導電層１６１はＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、ＩＧＺＯ又はＩＴＯ／Ａｇ／ＩＴＯのような透明導電層からなり、不透明導電層１６３はＡｌ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｍｏのような耐食性及び耐酸性が強くて伝導性が良い導電層から単層又は多層の構造に形成される。例えば、不透明導電層１６３はＴｉ／Ａｌ／Ｔｉ又はＭｏ／Ａｌ／Ｍｏのように積層した３層構造に形成される。
その後、不透明導電層１６３上に感光膜が積層された後、その感光膜をハーフトーン（ｈａｌｆ−ｔｏｎｅ）マスク又はスリットマスクのような第３マスクを用いたフォトリソグラフィー工程でパターニングすることによって多段構造の感光膜１８０が形成される。多段構造の感光膜１８０は第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅと第１ブリッジ１５２ｂのそれぞれのメッシュ状の不透明導電層１６３、上部ルーティングライン１６４及び上部パッド電極１７４が形成される領域に第２厚さｄ２で形成され、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅと第１ブリッジ１５２ｂのそれぞれのメッシュ状の不透明導電層１６３によって露出される透明導電層１６１が形成される領域に第２厚さｄ２より小さい第１厚さｄ１で形成され、残りの領域には形成されない。
このような多段構造の感光膜１８０をマスクとして用いた食刻工程によって不透明導電層１６３及び透明導電層１６１が食刻される。これにより、図７ｂに示したように、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅ、第１ブリッジ１５２ｂ、上部ルーティングライン１６４及び上部パッド電極１７４のそれぞれが同一線幅を有する下部及び不透明導電層１６１、１６３を含む多層構造に形成される。
その後、多段構造の感光膜１８０をアッシング（ａｓｈｉｎｇ）することにより、図７ｃに示したように、感光膜１８０の総厚さが減少して第１厚さの感光膜１８０が除去されるので、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅ、第１ブリッジ１５２ｂの不透明導電層１６３が露出される。その後、アッシングされた多段構造の感光膜１８０をマスクとして用いた食刻工程によって露出された不透明導電層１６３が除去されることにより、図７ｄに示したように、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅと第１ブリッジ１５２ｂの透明な透明導電層１６１が露出される。その後、ストリップ工程によって基板上に残存する感光膜１８０は図６ｂに示したように除去される。
図８ａ及び図８ｂを参照すると、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅ、第１ブリッジ１５２ｂ、上部ルーティングライン１６４及び上部パッド電極１７４が形成された基板１１１上にタッチ保護膜１９０が形成される。
具体的に、第１及び第２タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅ、第１ブリッジ１５２ｂ、上部ルーティングライン１６４及び上部パッド電極１７４が形成された基板１１１上にフォトアクリル系樹脂などの有機絶縁物質が全面塗布された後、第４マスクを用いたフォトリソグラフィー工程及び食刻工程によって有機絶縁物質がパターニングされる。これにより、図８ｂに示したように、タッチパッド１７０を露出させるタッチ保護膜１９０が形成される。
このように、本発明による表示パネルでは、タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅのそれぞれに含まれる透明な透明導電層１６１とメッシュ状の不透明導電層１６３が同一マスク工程で形成される。したがって、本発明はマスク工程数の低減によって工程を簡素化するとともにコストを低減することができる。
図９は本発明の第２実施例による有機発光表示装置を示す断面図である。
図９に示した有機発光表示装置は、図３に示した有機発光表示装置に比べ、封止部１４０及びタッチ電極１５２ｅ、１５４ｅの間に配置されるカラーフィルター１９２をさらに備えることを除き、同一の構成要素を備える。したがって、同一の構成要素についての詳細な説明は省略する。
カラーフィルター１９２はタッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２のそれぞれと発光素子１２０に間に形成される。このカラーフィルター１９２によって、タッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２のそれぞれと発光素子１２０の間の離隔距離が大きくなる。これにより、タッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２のそれぞれと発光素子１２０の間に形成される寄生キャパシタの容量値を最小化することができるので、タッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２のそれぞれと発光素子１２０の間のカップリング（ｃｏｕｐｌｉｎｇ）による相互影響を防止することができる。また、カラーフィルター１９２は、タッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２の製造工程時に用いられる薬液（現像液又は食刻液など）又は外部からの水分などが発光スタック１２４に浸透することを遮断することができる。したがって、カラーフィルター１９２は薬液又は水分に弱い発光スタック１２４の損傷を防止することができる。一方、図９に示したように、カラーフィルター１９２の上部にタッチ電極１５２ｅ、１５４ｅが配置されるものを例として説明したが、その外にもタッチ電極１５２ｅ、１５４ｅの上部にカラーフィルター１９２が配置されることもできる。この場合、タッチ電極１５２ｅ、１５４ｅはカラーフィルター１９２と封止部１４０の間に配置される。
このようなカラーフィルター１９２の間にはブラックマトリックス１９４が配置される。ブラックマトリックス１９４は各サブ画素領域を区分するとともに隣接したサブ画素領域間の光干渉及び漏光を防止する役目をする。このようなブラックマトリックス１９４は高抵抗のブラック絶縁素材から形成され、又は赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）カラーフィルター１９２の少なくとも２色のカラーフィルターが積層して形成される。また、カラーフィルター１９２及びブラックマトリックス１９４が形成された基板１１１上にタッチ平坦化膜１９６が形成される。この平坦化膜１９６によってカラーフィルター１９２及びブラックマトリックス１９４が形成された基板１１１が平坦化される。
一方、本発明の第１及び第２ブリッジ１５２ｂ、１５４ｂは、図１０に示したように、多数のスリット１５３を備えることもできる。多数のスリット１５３を備える図１０に示した第２ブリッジ１５４ｂはスリット１５３を備えていない図３に示した第２ブリッジ１５４ｂに比べて面積が減少することができる。これにより、第２ブリッジ１５４ｂによる外部光反射を減らすことができ、視認性が低下することを防止することができる。これだけでなく、本発明では、交差するタッチセンシングライン１５４及びタッチ駆動ライン１５２の間に形成される相互容量型のタッチセンサーを例として説明したが、その外にも自己（Ｓｅｌｆ）静電容量型のタッチセンサー（Ｃｓ）にも適用することもできる。
以上の説明は本発明を例示的に説明したものに過ぎず、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者によって本発明の技術的思想から逸脱しない範疇内で多様な変形が可能であろう。したがって、本発明の明細書に開示した実施例は本発明を限定するものではない。本発明の範囲は添付の特許請求範囲によって解釈されなければならなく、それと均等な範囲内にある全ての技術も本発明の範囲に含まれるものと解釈しなければならないであろう。
１４２、１４６ 無機封止層
１４４ 有機封止層
１５２ タッチ駆動ライン
１５４ タッチセンシングライン
１５６ タッチ絶縁膜
１５８ タッチ絶縁膜
１６０ ルーティングライン
１６１ 透明導電層
１６３ 不透明導電層

Claims (10)

  1. 基板上に配置される発光素子と、
    前記発光素子上に配置され、多数の無機封止層及び少なくとも一つの有機封止層を備える封止部と、
    前記封止部上に配置される多数のタッチセンサーと、
    前記多数のタッチセンサーのそれぞれと接続され、前記有機封止層の側面を覆う前記無機封止層の側面に沿って配置された多数のルーティングラインとを備え、
    前記多数のルーティングラインのそれぞれは互いに異なる平面上に互いに重畳するように配置され、多数のルーティングコンタクトホールを介して電気的に接続される、表示装置。
  2. 前記多数のルーティングラインは、
    前記封止部上に配置される下部ルーティングラインと、
    前記下部ルーティングラインを覆うように配置されるタッチ絶縁膜を貫く前記多数のルーティングコンタクトホールを介して前記下部ルーティングラインと接続される上部ルーティングラインとを備え、
    前記上部ルーティングラインは前記タッチ絶縁膜上に前記下部ルーティングラインに沿って配置される、請求項１に記載の表示装置。
  3. 前記タッチセンサーは、
    前記封止部上に互いに交差するように配置されるタッチセンシングライン及びタッチ駆動ラインを備え、
    前記タッチ駆動ラインは、
    前記封止部上に第１方向に配列される第１タッチ電極と、
    前記第１タッチ電極を互いに連結する第１ブリッジとを備え、
    前記タッチセンシングラインは、
    前記第１方向とは違う第２方向に配列される第２タッチ電極と、
    前記第２タッチ電極を互いに連結する第２ブリッジとを備え、
    前記下部ルーティングラインは前記第１及び第２ブリッジのいずれか一つと同一素材からなり、
    前記上部ルーティングラインは前記第１及び第２タッチ電極のそれぞれから伸びる、請求項２に記載の表示装置。
  4. 前記発光素子の下部に配置される多数の絶縁膜の少なくとも一つ上に配置され、前記ルーティングラインから伸びるタッチパッドを備え、
    前記タッチパッドは、
    前記下部ルーティングラインから伸びる下部パッド電極と、
    前記上部ルーティングラインから伸びる上部パッド電極とを備える、請求項３に記載の表示装置。
  5. 前記上部ルーティングライン、前記上部パッド電極、第１ブリッジ並びに第１及び第２タッチ電極の少なくとも一つは透明導電層とその透明導電層上に配置される不透明導電層とからなり、
    前記透明導電層はＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ及びＩＧＺＯの少なくとも１種を含む少なくとも１層の構造に形成され、
    前記不透明導電層はＴｉ、Ａｌ、Ｍｏ、ＭｏＴｉ、Ｃｕ及びＴａの少なくとも１種を含む少なくとも１層の構造に形成される、請求項４に記載の表示装置。
  6. 前記上部ルーティングライン及び上部パッド電極のそれぞれの不透明導電層は前記透明導電層の上部又は下部に前記透明導電層と同一形状で配置される、請求項４に記載の表示装置。
  7. 前記第１及び第２タッチ電極と第１ブリッジの不透明導電層は前記透明導電層上に前記不透明導電層より小さい線幅で形成される、請求項４に記載の表示装置。
  8. 前記第１及び第２タッチ電極並びに前記第１及び第２ブリッジの少なくとも一つの不透明導電層はメッシュ状になる、請求項７に記載の表示装置。
  9. 前記第１及び第２ブリッジの少なくとも一つは少なくとも一つのスリットを備える、請求項３に記載の表示装置。
  10. 前記封止部と前記タッチセンサーの間に配置されるカラーフィルターをさらに備える、請求項１に記載の表示装置。
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