JP2016162305A - タッチパネルおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数の第1のセンサ電極列14と複数の第2のセンサ電極列15は、第1の厚さを有する第1の透明導電層から形成され、第2のセンサ電極列15の互いに隣接する第2の島状電極部18を電気的に接続するジャンパ配線部19は、第2の厚さを有する第2の透明導電層から形成され、引き出し配線部13は、第1の厚さより大きな第3の厚さを有する第3の透明導電層から形成され、複数の第1のセンサ電極列14に接続される複数の配線部21A〜21Cのうち配線長が長い配線部ほど大きな幅を有すると共に複数の第2のセンサ電極列に接続される複数の配線部22A〜22Dのうち配線長が長い配線部ほど大きな幅を有している。
【選択図】図1
Description
このタッチパネルは、その動作原理によって、抵抗膜方式、静電容量方式、赤外線方式、超音波方式および電磁誘導結合方式等に分類されているが、特に、透過率が高く、耐久性に優れた静電容量方式のタッチパネルが注目されている。
さらに、アクティブエリアAおよび非アクティブエリアBの表面が透明な保護層10により被覆されている。
従って、表示装置の画面全体にタッチパネルのアクティブエリアAを設定しようとすると、タッチパネルがアクティブエリアAの周辺の非アクティブエリアBの分だけ表示装置の画面よりも大きくなり、また、表示装置の画面と同サイズのタッチパネルを配置すると、非アクティブエリアBの分だけ表示装置の表示領域を制限して使用しなければならなかった。
仮に、透明基板1上に第1のセンサ電極列2および第2のセンサ電極列3を形成する際に、第1のセンサ電極列2および第2のセンサ電極列3と同じ透明導電体を用いて引き出し配線部8および9を同時に形成すれば、引き出し配線部8および9が透明となるため、非アクティブエリアBを目隠しする必要がなくなるが、一般に透明電極に用いられるITO(酸化インジウムスズ、Indium Tin Oxide)等は、金属配線に比べて電気抵抗率が高いため、静電容量の変化を感度よく検出することが困難になるおそれがある。
このため、配線長の短い引き出し配線部が接続されたセンサ電極列では、指を軽く接触または近接させるだけで入力操作を行うことができるのに対して、配線長の長い引き出し配線部が接続されたセンサ電極列では、指を強く接触させないと入力操作を行うことができない等、タッチパネルの操作感が画面内の位置に応じて不均一になるおそれがある。
また、この発明は、このようなタッチパネルの製造方法を提供することも目的としている。
さらに、第2の厚さは、第1の厚さより大きいことが好ましい。
好ましくは、ジャンパ配線部、絶縁部および連結部は、この順序で透明基板の表面上に形成される。
引き出し配線部は、それぞれの第1のセンサ電極列に対して第1の方向における第1のセンサ電極列の両端または一端にそれぞれ接続されると共にそれぞれの第2のセンサ電極列に対して第2の方向における第2のセンサ電極列の両端または一端にそれぞれ接続されることが好ましい。
透明基板上に、複数のセンサ電極部と、複数のセンサ電極部にそれぞれ対応する複数の引き出し配線部を形成することもできる。この場合、互いに隣接するセンサ電極部の間に引き出し配線部の一部が配置されていてもよい。
センサ電極部および引き出し配線部を覆う透明保護層をさらに備えることが好ましい。
第1の透明導電層、第2の透明導電層および第3の透明導電層は、それぞれ酸化インジウムスズから形成することができる。
好ましくは、第1の透明導電体パターンは、第2の透明導電体パターンより厚く形成される。
さらに、センサ電極部および引き出し配線部を覆う透明保護層を形成する保護層形成工程を含むことが好ましい。
実施の形態1
図1に、この発明の実施の形態1に係るタッチパネルの構成を示す。このタッチパネルは、矩形状の透明基板11を有し、透明基板11の表面上にセンサ電極部12が形成されると共にセンサ電極部12の周辺における透明基板11の表面上に引き出し配線部13が形成されている。
なお、第1のセンサ電極列14の複数の第1の島状電極部16は複数の連結部17を介して電気的に接続されているので、第1のセンサ電極列14の一端に第1の配線部21を接続するだけでも、センサ電極部12の全面にわたって静電容量の変化を検出することが可能となる。
これら第1の配線部21と第2の配線部22は、それぞれ、センサ電極部12の周辺に位置する透明基板11の表面上を通って、透明基板11の一方の長辺部11Bの中央部分に設定された端子領域25まで延びている。
また、複数の第2のセンサ電極列15に接続された第2の配線部22を構成する配線部22A〜22Dも、端子領域25から近い位置の第2のセンサ電極列15に接続される配線部ほど配線長が短く、端子領域25から第1の方向D1に離れた位置の第2のセンサ電極列15に接続される配線部ほど配線長が長くなる。
ここで、配線部21A〜21Cのそれぞれの幅は、配線長が異なる配線部21A〜21Cの電気抵抗値が互いに等しくなるように設定されることが望ましい。同様に、配線部22A〜22Dのそれぞれの幅は、配線長が異なる配線部22A〜22Dの電気抵抗値が互いに等しくなるように設定されることが望ましい。
さらに、端子領域25における引き出し配線部13を除いて、センサ電極部12および引き出し配線部13が絶縁樹脂等からなる透明保護層26により覆われている。
第1のセンサ電極列14と第2のセンサ電極列15の交差部分においては、透明基板11の表面上にジャンパ配線部19が形成され、ジャンパ配線部19の中央部分の上に絶縁部20を介して第1のセンサ電極列14の連結部17が形成されると共に、ジャンパ配線部19の両端部分の上に第2のセンサ電極列15の互いに間隔を隔てた一対の第2の島状電極部18の角部がそれぞれ重なるように透明基板11およびジャンパ配線部19の上に第2の島状電極部18が形成されている。さらに、露出している連結部17、絶縁部20および第2の島状電極部18の上に透明保護層26が形成されている。
そして、引き出し配線部13の上に透明保護層26が形成されている。
また、引き出し配線部13を形成する第3の透明導電層が、センサ電極部12における第1のセンサ電極列14および第2のセンサ電極列15を形成する第1の透明導電層よりも厚い第3の厚さT3を有しているので、それぞれの配線部は大きな断面積を確保することができる。このため、金属に比べて電気抵抗率が高いITOを用いても、配線部の電気抵抗が低下し、センサ電極部12における静電容量の変化を感度よく検出することが可能となる。
さらに、第1の配線部21を構成する複数の配線部21A〜21Cは、配線長が長い配線部ほど大きな幅を有し、第2の配線部22を構成する複数の配線部22A〜22Dも、配線長が長い配線部ほど大きな幅を有しているので、配線部21A〜21Cの電気抵抗値の均一化および配線部22A〜22Dの電気抵抗値の均一化を図ることができ、タッチパネルの画面内における感度を均一にして良好な操作感を得ることが可能となる。
さらに、従来のタッチパネルに使用されていた金属配線に比べて、この実施の形態1のタッチパネルに用いられるITOは耐腐食性に優れているため、信頼性の向上を図ることができる。
まず、ステップS1で、透明基板11上に、引き出し配線部13のパターン形状を有する第1の引き出し配線層27と複数のジャンパ配線部19とを含むITOからなる第1の透明導電体パターンP1を形成する。この第1の透明導電体パターンP1は、図4(A)に示されるように、第2の厚さT2を有しており、第1の透明導電体パターンP1の形成により、図5に示されるように、透明基板11上においてセンサ電極部12を形成しようとする領域Rの内部に複数のジャンパ配線部19が点在して形成されると共に、領域Rの外側に引き出し配線部13を形成するための第1の引き出し配線層27が形成される。複数のジャンパ配線部19においては、第1の透明導電体パターンP1を形成するITOにより第2の透明導電層が構成されている。
また、第1の引き出し配線層27は、第1の配線部21の複数の配線部21A〜21Cにそれぞれ対応する配線部分29A〜29Cと第2の配線部22の複数の配線部22A〜22Dにそれぞれ対応する配線部分30A〜30Dを有しており、配線部分29A〜29Cのうち配線長が長い配線部分ほど大きな幅を有すると共に配線部分30A〜30Dのうち配線長が長い配線部分ほど大きな幅を有している。
第2の引き出し配線層28は、第1の引き出し配線層27と同様に、第1の配線部21の複数の配線部21A〜21Cにそれぞれ対応する配線部分31A〜31Cと第2の配線部22の複数の配線部22A〜22Dにそれぞれ対応する配線部分32A〜32Dを有しており、配線部分31A〜31Cのうち配線長が長い配線部分ほど大きな幅を有すると共に配線部分32A〜32Dのうち配線長が長い配線部分ほど大きな幅を有している。
また、第2の透明導電体パターンP2は、第1の厚さT1を有しており、第1の引き出し配線層27の上に第2の引き出し配線層28が重なることで、第1の厚さT1と第2の厚さT2の和に相当する第3の厚さT3を有する第3の透明導電層が形成され、この第3の透明導電層により引き出し配線部13が形成されることとなる。
これにより、図1に示した実施の形態1のタッチパネルが製造される。
金属配線を有する従来のタッチパネルに比べて、金属配線の形成工程が不要となるため、製造コストを低減することが可能となる。
また、複数の第1のセンサ電極列14および複数の第2のセンサ電極列15を形成する第1の透明導電層、複数のジャンパ配線部19を形成する第2の透明導電層、引き出し配線部13を形成する第3の透明導電層は、それぞれITOからなっていたが、これに限るものではなく、例えば、AZO(酸化亜鉛アルミニウム、Al doped ZnO)、IZO(酸化インジウム亜鉛、Indium Zinc Oxide)等の透明な金属酸化物を用いることもできる。
また、センサ電極部12の第1のセンサ電極列14が延びる第1の方向D1と第2のセンサ電極列15が延びる第2の方向D2は、互いに直交していたが、これに限るものではなく、互いに交差する方向であればよい。
上記の実施の形態1では、それぞれの第1のセンサ電極列14の一端のみに第1の配線部21が接続されていたが、第1のセンサ電極列14の両端にそれぞれ第1の配線部21を接続して、端子領域25まで取り回すこともできる。このようにすれば、第1のセンサ電極列14の複数の連結部17のいずれか1カ所あるいは第2のセンサ電極列15に対応する複数のジャンパ配線部19のいずれか1カ所で断線が生じた場合であっても、センサ電極部12の全面にわたって静電容量の変化を検出することができるので、望ましい。
この場合、図3のフローチャートにおいて、まずステップS3を実施して引き出し配線部13のパターン形状を有する第2の引き出し配線層28と複数の第1のセンサ電極列14および複数の第2のセンサ電極列15とを含む第2の透明導電体パターンP2を形成した後、ステップS2を実施して連結部17の上に絶縁部20を形成し、さらに、ステップS1を実施して引き出し配線部13のパターン形状を有する第1の引き出し配線層27と複数のジャンパ配線部19とを含む第1の透明導電体パターンP1を形成することで、タッチパネルを製造することができる。
実施の形態2に係るタッチパネルを図8に示す。このタッチパネルは、透明基板31上にセンサ電極部12と引き出し配線部33が形成されたものである。なお、図示されていないが、実施の形態1のタッチパネルと同様に、センサ電極部12と引き出し配線部33の上に透明保護層が形成されている。
センサ電極部12は、実施の形態1のタッチパネルで用いられたセンサ電極部12と同一である。
第1の配線部21を構成する複数の配線部21A〜21Cは、配線長が長い配線部ほど大きな幅を有し、第2の配線部22を構成する複数の配線部22A〜22Dも、配線長が長い配線部ほど大きな幅を有している。
第1のセンサ電極列14の複数の第1の島状電極部16は複数の連結部17を介して電気的に接続され、第2のセンサ電極列15の複数の第2の島状電極部18は複数のジャンパ配線部19を介して電気的に接続されているので、この実施の形態2のように、第1のセンサ電極列14の一端および第2のセンサ電極列15の一端にそれぞれ第1の配線部21および第2の配線部22を接続するだけでも、センサ電極部12の全面にわたって静電容量の変化を検出することが可能となる。
実施の形態1のタッチパネルでは、透明基板11の上に1つのセンサ電極部12と1つの引き出し配線部13が形成されていたが、図9に示されるように、1枚の透明基板41の上に2つのセンサ電極部12と、これら2つのセンサ電極部12に対応する2つの引き出し配線部13とを形成することもできる。
2つのセンサ電極部12の間に引き出し配線部13の一部が配置されているが、引き出し配線部13は第3の透明導電層から形成されているので、2つのセンサ電極部12の間を目隠しする必要はなく、透明基板41の全面を、タッチパネルと組み合わせて使用される表示装置の表示領域とすることができる。
なお、従来のタッチパネルのように金属配線を使用するものでは、表示領域の中に不透明な部分が形成されることを回避するため、2つのセンサ電極部12の間に金属配線を配置することはできなかった。
しかし、この実施の形態3のタッチパネルでは、2つのセンサ電極部12と、これら2つのセンサ電極部12に対応する2つの引き出し配線部13が配置されているので、2つの引き出し配線部13にそれぞれ集積回路を接続することで、タッチパネルを2分割して動作させることができ、容易に大画面化を達成することが可能となる。
引き出し配線部33および33Rは、複数の第1のセンサ電極列14の一端および複数の第2のセンサ電極列15の一端のみに接続されるため、図10のように、引き出し配線部33および33Rが接続されていない側の複数の第2のセンサ電極列15の端部を近接させることで、2つのセンサ電極部12の間に引き出し配線部33および33Rの一部が存在しないタッチパネルが構成される。
しかしながら、図11に示されるように、3つ以上のセンサ電極部12と、それらに対応する3つ以上の引き出し配線部33および33Rを1枚の透明基板61上に配列すると、互いに隣接するセンサ電極部12の間に引き出し配線部33および33Rの一部を配置せざるを得なくなる。このため、金属配線を用いた引き出し配線部では、図11のような配置のタッチパネルを構成することはできないが、引き出し配線部33および33Rは透明であるので、3つ以上のセンサ電極部12を配列することが可能となり、大画面化を促進することができる。
Claims (16)
- 透明基板上にセンサ電極部が形成されると共に前記センサ電極部の周辺に前記センサ電極部に接続された引き出し配線部が形成されたタッチパネルにおいて、
前記センサ電極部は、
それぞれ連結部を介して接続された複数の第1の島状電極部が第1の方向に配列され且つ前記第1の方向に交差する第2の方向に並列配置された複数の第1のセンサ電極列と、
それぞれ間隔を隔てて複数の第2の島状電極部が前記第2の方向に配列され且つ前記第1の方向に並列配置された複数の第2のセンサ電極列と、
絶縁部を介して対応する前記連結部と重なるように配置されると共に互いに前記第2の方向に隣接する前記第2の島状電極部を電気的に接続する複数のジャンパ配線部と
を有し、
前記引き出し配線部は、前記センサ電極部の前記複数の第1のセンサ電極列に接続される複数の第1の配線部および前記複数の第2のセンサ電極列に接続される複数の第2の配線部を有し、
前記センサ電極部の前記複数の第1のセンサ電極列および前記複数の第2のセンサ電極列は、第1の厚さを有する第1の透明導電層から形成され、
前記センサ電極部の前記複数のジャンパ配線部は、第2の厚さを有する第2の透明導電層から形成され、
前記引き出し配線部は、前記第1の厚さより大きな第3の厚さを有する第3の透明導電層から形成され、
前記複数の第1の配線部のうち配線長が長い配線部ほど大きな幅を有すると共に前記複数の第2の配線部のうち配線長が長い配線部ほど大きな幅を有することを特徴とするタッチパネル。 - 前記第3の厚さは、前記第1の厚さと前記第2の厚さの和に等しい請求項1に記載のタッチパネル。
- 前記第3の透明導電層は、前記第1の厚さを有する層と前記第2の厚さを有する層が積層された2層構造を有する請求項2に記載のタッチパネル。
- 前記第2の厚さは、前記第1の厚さより大きい請求項1〜3のいずれか一項に記載のタッチパネル。
- 前記ジャンパ配線部、前記絶縁部および前記連結部は、この順序で前記透明基板の表面上に形成されている請求項1〜4のいずれか一項に記載のタッチパネル。
- 前記引き出し配線部は、それぞれの前記第1のセンサ電極列に対して前記第1の方向における前記第1のセンサ電極列の両端または一端に接続されると共にそれぞれの前記第2のセンサ電極列に対して前記第2の方向における前記第2のセンサ電極列の両端または一端に接続されている請求項1〜5のいずれか一項に記載のタッチパネル。
- 前記複数の第1の配線部は、電気抵抗値が互いに等しくなるように配線長に対応した幅を有し、前記複数の第2の配線部は、電気抵抗値が互いに等しくなるように配線長に対応した幅を有する請求項1〜6のいずれか一項に記載のタッチパネル。
- 前記透明基板上に、複数の前記センサ電極部と、複数の前記センサ電極部にそれぞれ対応する複数の前記引き出し配線部とが形成されている請求項1〜7のいずれか一項に記載のタッチパネル。
- 互いに隣接する前記センサ電極部の間に前記引き出し配線部の一部が配置されている請求項8に記載のタッチパネル。
- 前記センサ電極部および前記引き出し配線部を覆う透明保護層をさらに備えた請求項1〜9のいずれか一項に記載のタッチパネル。
- 前記第1の透明導電層、前記第2の透明導電層および前記第3の透明導電層は、それぞれ酸化インジウムスズから形成されている請求項1〜10のいずれか一項に記載のタッチパネル。
- 請求項1〜11のいずれか一項に記載のタッチパネルを製造する方法であって、
前記透明基板上に前記引き出し配線部のパターン形状を有する第1の引き出し配線層と前記複数のジャンパ配線部とを含む第1の透明導電体パターンを形成する第1のパターン形成工程と、
前記透明基板上に前記引き出し配線部のパターン形状を有する第2の引き出し配線層と前記複数の第1のセンサ電極列および前記複数の第2のセンサ電極列とを含む第2の透明導電体パターンを形成する第2のパターン形成工程と、
互いに重なる前記ジャンパ配線部と前記連結部との間を絶縁する絶縁部を形成する絶縁部形成工程と
を含み、前記ジャンパ配線部と前記連結部が前記絶縁部を介して重なると共に前記第1の引き出し配線層と前記第2の引き出し配線層とが互いに重なるように前記第1のパターン形成工程、前記第2のパターン形成工程および前記絶縁部形成工程を実施することにより、互いに前記第2の方向に隣接する前記第2の島状電極部を前記ジャンパ配線部で電気的に接続して前記センサ電極部を形成すると共に前記第1の引き出し配線層および前記第2の引き出し配線層を重ね合わせて前記引き出し配線部を形成する
ことを特徴とするタッチパネルの製造方法。 - 前記絶縁部形成工程は、前記第1のパターン形成工程と前記第2のパターン形成工程の間に実施される請求項12に記載のタッチパネルの製造方法。
- 前記第1のパターン形成工程、前記絶縁部形成工程および前記第2のパターン形成工程の順に実施される請求項13に記載のタッチパネルの製造方法。
- 前記第1の透明導電体パターンは、前記第2の透明導電体パターンより厚く形成される請求項12〜14のいずれか一項に記載のタッチパネルの製造方法。
- さらに、前記センサ電極部および前記引き出し配線部を覆う透明保護層を形成する保護層形成工程を含む請求項12〜15のいずれか一項に記載のタッチパネルの製造方法。
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