JP6579315B2 - 残留塩素測定装置および残留塩素測定方法 - Google Patents
残留塩素測定装置および残留塩素測定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6579315B2 JP6579315B2 JP2015178328A JP2015178328A JP6579315B2 JP 6579315 B2 JP6579315 B2 JP 6579315B2 JP 2015178328 A JP2015178328 A JP 2015178328A JP 2015178328 A JP2015178328 A JP 2015178328A JP 6579315 B2 JP6579315 B2 JP 6579315B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- applied voltage
- time
- residual chlorine
- measurement
- applying
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 title claims description 122
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 121
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 title claims description 121
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 37
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 89
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 60
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 51
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 claims description 47
- 239000012488 sample solution Substances 0.000 claims description 42
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 31
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 23
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 claims description 21
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 claims description 16
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 claims description 8
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 8
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 8
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 8
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 7
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 6
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- QDWYPRSFEZRKDK-UHFFFAOYSA-M sodium;sulfamate Chemical compound [Na+].NS([O-])(=O)=O QDWYPRSFEZRKDK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 14
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 9
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 9
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 8
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 8
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 7
- SDUXGMLGPOQMKO-UHFFFAOYSA-N dichlorosulfamic acid Chemical compound OS(=O)(=O)N(Cl)Cl SDUXGMLGPOQMKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- QNGVNLMMEQUVQK-UHFFFAOYSA-N 4-n,4-n-diethylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(N)C=C1 QNGVNLMMEQUVQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- -1 azole compound Chemical class 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 3
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 3
- 229920001131 Pulp (paper) Polymers 0.000 description 2
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004737 colorimetric analysis Methods 0.000 description 2
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000008055 phosphate buffer solution Substances 0.000 description 2
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M sulfamate Chemical compound NS([O-])(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical class NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- RTQPZPWCYWVQCL-UHFFFAOYSA-N 1-[3-(2-methoxyethoxy)phenyl]piperazine Chemical compound COCCOC1=CC=CC(N2CCNCC2)=C1 RTQPZPWCYWVQCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 1H-pyrrole Natural products C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNMCCPMYXUKHAZ-UHFFFAOYSA-N 2-[3,3-diamino-1,2,2-tris(carboxymethyl)cyclohexyl]acetic acid Chemical compound NC1(N)CCCC(CC(O)=O)(CC(O)=O)C1(CC(O)=O)CC(O)=O RNMCCPMYXUKHAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJNJLOJEMZKCAY-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n-diethylbenzene-1,2-diamine;sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O.CCN(CC)C1=CC=CC=C1N WJNJLOJEMZKCAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNKAIWRWHBPVDK-UHFFFAOYSA-N 2h-benzotriazole;potassium Chemical compound [K].C1=CC=CC2=NNN=C21 GNKAIWRWHBPVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbenzidine Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJKVMNNUINFIRK-UHFFFAOYSA-N 4-amino-n-(4-methoxyphenyl)benzamide Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1NC(=O)C1=CC=C(N)C=C1 JJKVMNNUINFIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKQDCIXGCQPQNV-UHFFFAOYSA-N Calcium hypochlorite Chemical compound [Ca+2].Cl[O-].Cl[O-] ZKQDCIXGCQPQNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDHHCQZDFGDHMP-UHFFFAOYSA-N Chloramine Chemical compound ClN QDHHCQZDFGDHMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- HPEWZLCIOKVLBZ-UHFFFAOYSA-N barium hypochlorite Chemical compound [Ba+2].Cl[O-].Cl[O-] HPEWZLCIOKVLBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- RSIPQRDGPVEGLE-UHFFFAOYSA-L calcium;disulfamate Chemical compound [Ca+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O RSIPQRDGPVEGLE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OGQPUOLFKIMRMF-UHFFFAOYSA-N chlorosulfamic acid Chemical compound OS(=O)(=O)NCl OGQPUOLFKIMRMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- SQZYOZWYVFYNFV-UHFFFAOYSA-L iron(2+);disulfamate Chemical compound [Fe+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O SQZYOZWYVFYNFV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 229910000402 monopotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019796 monopotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000008363 phosphate buffer Substances 0.000 description 1
- PJNZPQUBCPKICU-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;potassium Chemical compound [K].OP(O)(O)=O PJNZPQUBCPKICU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SATVIFGJTRRDQU-UHFFFAOYSA-N potassium hypochlorite Chemical compound [K+].Cl[O-] SATVIFGJTRRDQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTAAXEFROUUDIL-UHFFFAOYSA-M potassium;sulfamate Chemical compound [K+].NS([O-])(=O)=O BTAAXEFROUUDIL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- POCQWBKETUXWSC-UHFFFAOYSA-N sodium;benzotriazol-2-ide Chemical compound [Na+].C1=CC=C2[N-]N=NC2=C1 POCQWBKETUXWSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- PHUJCVAICLQULC-UHFFFAOYSA-L strontium;disulfamate Chemical compound [Sr+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O PHUJCVAICLQULC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/26—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
- G01N27/416—Systems
- G01N27/4166—Systems measuring a particular property of an electrolyte
- G01N27/4168—Oxidation-reduction potential, e.g. for chlorination of water
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/26—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
- G01N27/28—Electrolytic cell components
- G01N27/30—Electrodes, e.g. test electrodes; Half-cells
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)
Description
次亜塩素酸塩などのハロゲン系酸化剤は遊離残留塩素を発生させ、強い殺菌力を発揮する。しかし、紫外線により分解が促進されやすく、水中での安定性が低い。また、酸化力が大きいために腐食性が高いなどの問題がある。
結合残留塩素は、酸化力は小さいものの、水との反応により、長時間にわたり、遊離残留塩素を発生させることができる。
また、さらなる塩素系酸化剤の安定化のために、塩素系酸化剤に、スルファミン酸若しくはその塩と共に、ベンゾトリアゾール等のアゾール系化合物を添加する技術が知られている(特許文献1)。ベンゾトリアゾール等は、配管等の腐食防止等の目的でも使用されており、塩素処理対象の水に含まれる場合が多い。
本発明者らが検討したところ、ベンゾトリアゾール等が含まれる水の場合、検知極の表面が瞬時にベンゾトリアゾール等の被膜により被覆されてしまい、検知極における残留塩素の反応を阻害していることが分った。
[1]試料液に浸漬される金製または白金製の検知極、及び銀/塩化銀製の対極と、
前記検知極と対極との間に、印加電圧を与える加電圧機構と、
前記検知極と対極との間に流れる酸化還元電流を測定する電流計と、
前記加電圧機構を制御すると共に、前記電流計で測定した酸化還元電流を取り込む演算制御装置とを具備し、
前記演算制御装置は、下記の前処理ステップと、その後に続く下記の測定ステップを行うように前記加電圧機構を制御すると共に、下記の測定ステップのステップB3において前記電流計で得られた酸化還元電流を測定電流として取り込み、該測定電流に基づき、前記試料液の全残留塩素濃度を求めることを特徴とする残留塩素測定装置。
[前処理ステップ]
下記ステップA1を行った後に続けて、下記ステップA2及びステップA3を1回以上行うステップ。
ステップA1:印加電圧Va1(但し、Va1=−0.5〜−2.0V)を時間Ta1印加するステップ。
ステップA2:印加電圧Va2(但し、Va2=0.5〜2.0V)を時間Ta2印加するステップ。
ステップA3:ステップA2の後に続けて、印加電圧Va3(但し、Va3=−0.5〜−2.0V)を時間Ta3印加するステップ。
[測定ステップ]
下記ステップB1〜ステップB3を1回以上行うステップ。
ステップB1:印加電圧Vb1(但し、Vb1=0.5〜2.0V)を時間Tb1(但し、Tb1≦Ta2)印加するステップ。
ステップB2:ステップB1の後に続けて、印加電圧Vb2(但し、Vb2=0〜−2.0V、かつ、Vb2≠0V)を時間Tb2(但し、Tb2≦Ta1、Tb2≦Ta3)印加するステップ。
ステップB3:ステップB2の後に続けて、印加電圧Vb3(但し、Vb3=−0.5〜0.2V)を、電圧を一定に保持して印加するステップ。
[2]前記時間Ta1は0.1〜3.0秒であり、前記時間Ta2は0.1〜3.0秒であり、前記時間Ta3は0.1〜3.0秒であり、前記時間Tb1は0.01〜1.0秒であり、前記時間Tb2は0.01〜1.0秒である[1]に記載の残留塩素測定装置。
[3]試料液に浸漬した金製または白金製の検知極と銀/塩化銀製の対極との間に所定の印加電圧を順次与えて、前記検知極と対極との間に流れる酸化還元電流から、試料液の全残留塩素濃度を求める残留塩素測定方法であって、
前記所定の印加電圧を、下記の前処理ステップと、その後に続く下記の測定ステップを行うように設定し、下記の測定ステップのステップB3において得られる酸化還元電流を測定電流とし、該測定電流に基づき、前記試料液の全残留塩素濃度を求めることを特徴とする残留塩素測定方法。
[前処理ステップ]
下記ステップA1を行った後に続けて、下記ステップA2及びステップA3を1回以上行うステップ。
ステップA1:印加電圧Va1(但し、Va1=−0.5〜−2.0V)を時間Ta1印加するステップ。
ステップA2:印加電圧Va2(但し、Va2=0.5〜2.0V)を時間Ta2印加するステップ。
ステップA3:ステップA2の後に続けて、印加電圧Va3(但し、Va3=−0.5〜−2.0V)を時間Ta3印加するステップ。
[測定ステップ]
下記ステップB1〜ステップB3を1回以上行うステップ。
ステップB1:印加電圧Vb1(但し、Vb1=0.5〜2.0V)を時間Tb1(但し、Tb1≦Ta2)印加するステップ。
ステップB2:ステップB1の後に続けて、印加電圧Vb2(但し、Vb2=0〜−2.0V、かつ、Vb2≠0V)を時間Tb2(但し、Tb2≦Ta1、Tb2≦Ta3)印加するステップ。
ステップB3:ステップB2の後に続けて、印加電圧Vb3(但し、Vb3=−0.5〜0.2V)を、電圧を一定に保持して印加するステップ。
[4]前記時間Ta1は0.1〜3.0秒であり、前記時間Ta2は0.1〜3.0秒であり、前記時間Ta3は0.1〜3.0秒であり、前記時間Tb1は0.01〜1.0秒であり、前記時間Tb2は0.01〜1.0秒である[3]に記載の残留塩素測定方法。
[5]前記試料液は、次亜塩素酸若しくはその塩と、スルファミン酸若しくはその塩を含む水である[3]または[4]に記載の残留塩素測定方法。
[6]前記試料液は、ベンゾトリアゾールまたはその塩を含む[5]に記載の残留塩素測定方法。
図1に示すように、本実施形態の残留塩素測定装置は、センサ10とポテンショスタット20と演算制御装置30とから構成されている。
センサ10は、試料液容器40内の試料液41に浸漬された検知極11と対極12を有している。検知極11は金製または白金製である。また、対極12は銀/塩化銀製である。
本発明において測定される酸化還元電流は、被還元物質が拡散層と呼ばれる層の中において、濃度勾配による自然拡散によってのみ検知極表面に運ばれ、その表面で還元されるときに流れる拡散電流である。
センサ10は、検知極11と対極12に加えて、さらに参照極を有していてもよい。なお、参照極がない場合、対極12が参照極の役割を兼ねる。
センサ10はまた、温度補正のための温度センサを有していることが好ましい。温度補正は、酸化還元電流測定の温度依存性を考慮して、基準温度(例えば25℃)における酸化還元電流に換算することを意味する。
ポテンショスタット20が検知極11と対極12との間に印加する所定の印加電圧は、演算制御装置30によって制御されている。
すなわち、演算制御装置30の制御の下、本実施形態の残留塩素測定装置は、以下に説明する前処理ステップと、この前処理ステップに続く測定ステップを行うようになっている。そして、演算制御装置30は、測定ステップの特定のタイミングで得られる酸化還元電流を測定電流として取り込み、この測定電流に基づき、試料液41の全残留塩素濃度を求めるようになっている。
本発明の残留塩素測定方法は、試料液に浸漬した金製または白金製の検知極と銀/塩化銀製の対極との間に所定の印加電圧を順次与えて、検知極と対極との間に流れる酸化還元電流から、試料液の全残留塩素濃度を求める方法である。
所定の印加電圧は、下記の前処理ステップと、その後に続く下記の測定ステップを行うように設定される。本発明の残留塩素測定方法は、測定ステップのステップB3における酸化還元電流を測定電流とし、この測定電流に基づき、試料液の全残留塩素濃度を求めるようになっている。
本発明の残留塩素測定方法によれば、試料液が次亜塩素酸若しくはその塩と、スルファミン酸若しくはその塩を含む水である場合に、全残留塩素濃度を求められる。また、試料液が、次亜塩素酸若しくはその塩と、スルファミン酸若しくはその塩に加えて、さらに、ベンゾトリアゾールまたはその塩を含む場合も、全残留塩素濃度を求められる。
スルファミン酸の塩としては、スルファミン酸ナトリウム、スルファミン酸カリウム、スルファミン酸カルシウム、スルファミン酸ストロンチウム、スルファミン酸バリウム、スルファミン酸鉄、スルファミン酸亜鉛などを挙げることができる。スルファミン酸及びこれらのスルファミン酸塩は、1種が単独で含まれていてもよいし、2種以上が含まれていてもよい。
HClO+H2NSO3 −→HClNSO3 −+H2O ・・・(1)
2HClO+H2NSO3 −→Cl2NSO3 −+2H2O ・・・(2)
次亜塩素酸若しくはその塩と、スルファミン酸若しくはその塩を含む水としては、冷却水、紙パルププロセス水、集塵水、スクラバー水、噴水などの各種水が挙げられる。
ベンゾトリアゾールまたはその塩(以下、これらを総称して、「ベンゾトリアゾール類」という。)は、1種が単独で含まれていてもよいし、2種以上が含まれていてもよい。
ベンゾトリアゾール類は、次亜塩素酸若しくはその塩の安定化剤として添加されたものであっても、配管等の防錆剤・防食剤として添加されたものであってもよい。
前処理ステップは、下記ステップA1を行った後に続けて、下記ステップA2及びステップA3を1回以上行うステップである。
ステップA1:印加電圧Va1(但し、Va1=−0.5〜−2.0V)を時間Ta1印加するステップ。
ステップA2:印加電圧Va2(但し、Va2=0.5〜2.0V)を時間Ta2印加するステップ。
ステップA3:ステップA2の後に続けて、印加電圧Va3(但し、Va3=−0.5〜−2.0V)を時間Ta3印加するステップ。
印加電圧Va1を印加することにより、測定ステップや保管中に検知極表面に形成された酸化被膜を除去できる。印加電圧Va1の絶対値が小さすぎると酸化被膜を除去できず、大きすぎると被膜がとれた後電気分解が進み、水素ガス等が発生する問題が生じる。
ステップA1を行う時間Ta1は0.1〜3.0秒間であることが好ましく、0.5〜3.0秒間であることがより好ましく、0.8〜2.0秒間であることがさらに好ましい。時間Ta1が好ましい下限値以上であれば、形成された酸化被膜を除去しやすい。時間Ta1が好ましい上限値以下であれば、ベンゾトリアゾール類の被膜形成を抑制しやすい。
印加電圧Va2を印加することにより、ステップA1、またはステップA3の間に検知極表面に形成されたベンゾトリアゾール類の被膜を除去できる。印加電圧Va2の絶対値が小さすぎるとベンゾトリアゾール類の被膜を除去できず、大きすぎると酸化被膜が生成してしまう。
ステップA2を行う時間Ta2は0.1〜3.0秒間であることが好ましく、0.1〜2.0秒間であることがより好ましく、0.8〜1.5秒間であることがさらに好ましい。時間Ta2が好ましい下限値以上であれば、ベンゾトリアゾール類の被膜を除去しやすい。時間Ta2が好ましい上限値以下であれば、酸化被膜が再度形成されることを抑制しやすい。
印加電圧Va3を印加することにより、ステップA2の間に検知極表面に形成された酸化被膜を除去できる。印加電圧Va3の絶対値が小さすぎると酸化被膜を除去できず、大きすぎると被膜がとれた後電気分解が進み、水素ガス等が発生する問題が生じる。
測定ステップは、下記ステップB1〜ステップB3を1回以上行うステップである。なお、ステップB2の印加電圧Vb2と、ステップB3の印加電圧Vb3の範囲は、一部重なっているので、印加電圧Vb2と印加電圧Vb3は同じでもよい。また、ステップB2終了時の印加電圧Vb2と印加電圧Vb3が同じでもよい。すなわち、ステップB2からステップB3への移行のタイミングは、明確でなくともよい。
ステップB1:印加電圧Vb1(但し、Vb1=0.5〜2.0V)を時間Tb1(但し、Tb1≦Ta2)印加するステップ。
ステップB2:ステップB1の後に続けて、印加電圧Vb2(但し、Vb2=0〜−2.0V、かつ、Vb2≠0V)を時間Tb2(但し、Tb2≦Ta1、Tb2≦Ta3)印加するステップ。
ステップB3:ステップB2の後に続けて、印加電圧Vb3(但し、Vb3=−0.5〜0.2V)を、電圧を一定に保持して印加するステップ。
印加電圧Vb1を印加することにより、前処理工程の最後に行われたステップA3の間や、前回の測定ステップまでの間に検知極表面に形成されたベンゾトリアゾール類の被膜を除去できる。印加電圧Vb1の絶対値が小さすぎるとベンゾトリアゾール類の被膜を除去できず、大きすぎると酸化被膜が生成してしまう。
ステップB1を行う時間Tb1は、0.01〜1.0秒間であることが好ましく、0.05〜1.0秒間であることがより好ましく、0.2〜0.8秒間であることがさらに好ましい。
印加電圧Vb2を印加することにより、ステップB1の間に検知極表面に形成された酸化被膜を除去できる。印加電圧Vb2の絶対値が小さすぎると酸化被膜を除去できず、大きすぎると被膜がとれた後電気分解が進み、水素ガス等が発生する問題が生じる。
ステップB2を行う時間Tb2は0.01〜1.0秒間であることが好ましく、0.01〜0.5秒間であることがより好ましく、0.05〜0.4秒間であることがさらに好ましい。時間Tb2が好ましい下限値以上であれば、酸化被膜を除去しやすい。時間Tb2が好ましい上限値以下であれば、ベンゾトリアゾール類の被膜が再度形成されることを抑制しやすい。
ステップB3における酸化還元電流を測定電流とする。本実施形態の残留塩素測定装置では、演算制御装置30が、ステップB3においてポテンショスタット20の電流計で測定した酸化還元電流を測定電流として取り込む。
時間Tb3を予め定めた所定の時間とする場合、その時間は、0.01〜3.0秒間であることが好ましく、0.1〜3.0秒間であることがより好ましく、0.1〜2.0秒間であることがさらに好ましい。時間Tb3が好ましい下限値以上であれば、酸化還元電流が充分に安定する。時間Tb3が好ましい上限値以下であれば、短時間で測定を終了することができる。
また、測定電流の取り込みは1回だけでなく、複数回行い、平均をとることが好ましい。例えば、ステップB3の後半に複数回取り込み、平均をとることが好ましい。平均をとることにより、データのばらつきを抑制することができる。
なお、印加電圧Vb2と印加電圧Vb3が同じ等であって、ステップB2からステップB3への移行のタイミングが明確でない場合は、便宜上、測定電流の取り込み開始をもって、ステップB3が開始したとみなしてもよい。
検量線は、ゼロ水によるゼロ校正と、全残留塩素濃度がDPD法などにより特定されたスパン液によるスパン校正によって求められる。すなわち、ゼロ水とスパン液の各々について、全残留塩素濃度と測定電流のデータを得ることにより検量線を作成できる。
なお、ゼロ水は、例えば水道水を放置したり活性炭で処理したりすることにより、残留塩素を除去した水である。
ステップB1〜ステップB3を一回行う毎に、測定電流が得られる。ステップB1〜ステップB3を複数回繰り返した場合は、各回で得られた測定電流の平均値から全残留塩素濃度を求めることが好ましい。
また、平均ではなく、何れかの回における測定電流から全残留塩素濃度を求める場合、2〜5回目の何れかの測定電流から全残留塩素濃度を求めることが好ましく、3〜4回目の何れかの測定電流から全残留塩素濃度を求めることがより好ましい。
以下の実施例および実験例で用いた試料液は、以下の試薬や原液等を用いて調製した。
脱塩素水:水道水を25℃の恒温水槽に入れて24時間攪拌し、塩素分を揮発させた水。
活性炭濾過水:水道水を活性炭で処理した水。
次亜塩素酸ナトリウム原液:全残留塩素濃度約12%の次亜塩素酸ナトリウム溶液。
スルファミン酸ナトリウム(粉末)。
BTA原液:ベンゾトリアゾール(化学名:1、2、3−ベンゾトリアゾール)の1000mg/L水溶液。
BTA希釈溶液:BTA原液を、ベンゾトリアゾール濃度が5mg/Lとなるように、脱塩素水で希釈した溶液。
ジクロロスルファミン酸を種々の濃度で含み、ベンゾトリアゾールを含まない4種の試料液を調製した。
すなわち、スルファミン酸ナトリウムと次亜塩素酸ナトリウム原液を、スルファミン酸ナトリウム1モルに対する有効塩素濃度が2モルとなるように、かつ、全残留塩素濃度が約8mg/Lとなるように、脱塩素水に溶解し、DBt−0(8mg/L)を得た。
また、DBt−0(8mg/L)と脱塩素水を体積比3:1で混合してDBt−0(6mg/L)を、DBt−0(8mg/L)と脱塩素水を体積比1:1で混合してDBt−0(4mg/L)を、DBt−0(8mg/L)と脱塩素水を体積比1:3で混合してDBt−0(2mg/L)を、各々得た。
モノクロロスルファミン酸を種々の濃度で含み、ベンゾトリアゾールを含まない4種の試料液を調製した。
すなわち、スルファミン酸ナトリウムと次亜塩素酸ナトリウム原液を、スルファミン酸ナトリウム1モルに対する有効塩素濃度が1モルとなるように、かつ、全残留塩素濃度が約8mg/Lとなるように、脱塩素水に溶解し、MBt−0(8mg/L)を得た。
また、MBt−0(8mg/L)と脱塩素水を体積比3:1で混合してMBt−0(6mg/L)を、MBt−0(8mg/L)と脱塩素水を体積比1:1で混合してMBt−0(4mg/L)を、MBt−0(8mg/L)と脱塩素水を体積比1:3で混合してMBt−0(2mg/L)を、各々得た。
ジクロロスルファミン酸を種々の濃度で含み、ベンゾトリアゾールを5mg/L含む4種の試料液を調製した。
すなわち、スルファミン酸ナトリウム、次亜塩素酸ナトリウム原液、及びベンゾトリアゾール原液を、スルファミン酸ナトリウム1モルに対する有効塩素濃度が2モルとなるように、全残留塩素濃度が約8mg/Lとなるように、かつ、ベンゾトリアゾール含有量が5mg/Lとなるように、脱塩素水に溶解し、DBt−5(8mg/L)を得た。
また、DBt−5(8mg/L)とBTA希釈溶液を体積比3:1で混合してDBt−5(6mg/L)を、DBt−5(8mg/L)とBTA希釈溶液を体積比1:1で混合してDBt−5(4mg/L)を、DBt−5(8mg/L)とBTA希釈溶液を体積比1:3で混合してDBt−5(2mg/L)を、各々得た。
モノクロロスルファミン酸を種々の濃度で含み、ベンゾトリアゾールを5mg/L含む4種の試料液を調製した。
すなわち、スルファミン酸ナトリウム、次亜塩素酸ナトリウム原液、及びベンゾトリアゾール原液を、スルファミン酸ナトリウム1モルに対する有効塩素濃度が1モルとなるように、全残留塩素濃度が約8mg/Lとなるように、かつ、ベンゾトリアゾール含有量が5mg/Lとなるように、脱塩素水に溶解し、MBt−5(8mg/L)を得た。
また、MBt−5(8mg/L)とBTA希釈溶液を体積比3:1で混合してMBt−5(6mg/L)を、MBt−5(8mg/L)とBTA希釈溶液を体積比1:1で混合してMBt−5(4mg/L)を、MBt−5(8mg/L)とBTA希釈溶液を体積比1:3で混合してMBt−5(2mg/L)を、各々得た。
ジクロロスルファミン酸を全残留塩素濃度が約8mg/Lとなるように含み、ベンゾトリアゾールを2mg/L含む試料液を調製した。
すなわち、スルファミン酸ナトリウム、次亜塩素酸ナトリウム原液、及びベンゾトリアゾール原液を、スルファミン酸ナトリウム1モルに対する有効塩素濃度が2モルとなるように、全残留塩素濃度が約8mg/Lとなるように、かつ、ベンゾトリアゾール含有量が2mg/Lとなるように、脱塩素水に溶解し、DBt−2(8mg/L)を得た。
ジクロロスルファミン酸を全残留塩素濃度が約8mg/Lとなるように含み、ベンゾトリアゾールを0.5mg/L含む試料液を調製した。
すなわち、スルファミン酸ナトリウム、次亜塩素酸ナトリウム原液、及びベンゾトリアゾール原液を、スルファミン酸ナトリウム1モルに対する有効塩素濃度が2モルとなるように、全残留塩素濃度が約8mg/Lとなるように、かつ、ベンゾトリアゾール含有量が0.5mg/Lとなるように、脱塩素水に溶解し、DBt−0.5(8mg/L)を得た。
各試料液の全残留塩素濃度は、上水試験方法2011年版「30.3 ジエチル−p−フェニレンジアミンによる吸光光度法」の(14)標準塩素水に記載された「よう素滴定法」(以下「DPD法」という。)に従って求めた。具体的には以下のように測定した。
(a)DPD試薬の作製
N,N−ジエチル−フェニレンジアミン硫酸塩1.0gと無水硫酸ナトリウム24gを混合して、DPD(N,N−ジエチル−p−フェニレンジアミン)試薬を作製した。
(b)リン酸緩衝液(pH=6.5)の調製
0.2mol/Lリン酸二水素カリウム100mLに0.2mol/L水酸化ナトリウム溶液35.4mLを加え、これにtrans−1,2−シクロヘキサンジアミン四酢酸−水和物0.13gを溶解し、リン酸緩衝液(pH=6.5)を調製した。
(c)全残留塩素濃度の測定
リン酸緩衝液2.5mLを共栓付き容器50mLに採り、これにDPD試薬0.5gを加え、次いで試料液とイオン交換水を加えて全量を50mLとして、混和した。
得られた混和溶液50mLに、ヨウ化カリウム約0.5gを加えて溶解した。次にヨウ化カリウム添加後の溶液の約3mLを吸収セルに採り、光電分光光度計を用いて、ヨウ化カリウム添加後2分後における波長528nmにおける吸光度を測定し、予め作成した検量線から、全残留塩素濃度を求めた。
本発明の残留塩素測定装置を用いて、各試料液を対象として、本発明の残留塩素測定方法を実施した。
センサ10としては、検知極11が0.1×3mmの金電極、対極12が銀/塩化銀であるものを使用した。
ステップA1:印加電圧Va1=−1Vを1秒間印加するステップ。
ステップA2:印加電圧Va2=1Vを1秒間印加するステップ。
ステップA3:ステップA2の後に続けて、印加電圧Va3=−1Vを1秒間印加するステップ。
ステップB1:印加電圧Vb1=1Vを0.5秒間印加するステップ。
ステップB2:ステップB1の後に続けて、印加電圧Vb2=−1Vを0.2秒間印加するステップ。
ステップB3:ステップB2の後に続けて、印加電圧Vb3=0Vを0.5秒間印加するステップ。
なお、図3〜7において、全残留塩素濃度が0mg/Lのデータは、脱塩素水またはBTA希釈溶液を試料液としたデータである。
また、モノクロロスルファミン酸溶液とジクロロスルファミン酸溶液との場合で、測定電流に大きい差はないことが分った。
活性炭濾過水、DBt−0(8mg/L)、DBt−0.5(8mg/L)、及びDBt−2(8mg/L)を試料液として、印加電圧と酸化還元電流との関係を示すポーラログラムを調べた。印加電圧の掃引速度は50mV/分とした。検知極としては、直径2mmの金電極を用い、線速度で約100cm/sが得られる程度の回転を与えた。対極は銀/塩化銀である。
30…演算制御装置、40…試料液容器、41…試料液
Claims (4)
- 次亜塩素酸若しくはその塩と、スルファミン酸若しくはその塩と、ベンゾトリアゾールまたはその塩を含む水を試料液とする残留塩素測定装置であって、
試料液に浸漬される金製または白金製の検知極、及び銀/塩化銀製の対極と、
前記検知極と対極との間に、印加電圧を与える加電圧機構と、
前記検知極と対極との間に流れる酸化還元電流を測定する電流計と、
前記加電圧機構を制御すると共に、前記電流計で測定した酸化還元電流を取り込む演算制御装置とを具備し、
前記演算制御装置は、下記の前処理ステップと、その後に続く下記の測定ステップを行うように前記加電圧機構を制御すると共に、下記の測定ステップのステップB3において前記電流計で得られた酸化還元電流を測定電流として取り込み、該測定電流に基づき、前記試料液の全残留塩素濃度を求めることを特徴とする残留塩素測定装置。
[前処理ステップ]
下記ステップA1を行った後に続けて、下記ステップA2及びステップA3を1回以上行うステップ。
ステップA1:印加電圧Va1(但し、Va1=−0.5〜−2.0V)を時間Ta1印加するステップ。
ステップA2:印加電圧Va2(但し、Va2=0.5〜2.0V)を時間Ta2印加するステップ。
ステップA3:ステップA2の後に続けて、印加電圧Va3(但し、Va3=−0.5〜−2.0V)を時間Ta3印加するステップ。
[測定ステップ]
下記ステップB1〜ステップB3を1回以上行うステップ。
ステップB1:印加電圧Vb1(但し、Vb1=0.5〜2.0V)を時間Tb1(但し、Tb1≦Ta2)印加するステップ。
ステップB2:ステップB1の後に続けて、印加電圧Vb2(但し、Vb2=0〜−2.0V、かつ、Vb2≠0V)を時間Tb2(但し、Tb2≦Ta1、Tb2≦Ta3)印加するステップ。
ステップB3:ステップB2の後に続けて、印加電圧Vb3(但し、Vb3=−0.5〜0.2V)を、電圧を一定に保持して印加するステップ。 - 前記時間Ta1は0.1〜3.0秒であり、前記時間Ta2は0.1〜3.0秒であり、前記時間Ta3は0.1〜3.0秒であり、前記時間Tb1は0.01〜1.0秒であり、前記時間Tb2は0.01〜1.0秒である請求項1に記載の残留塩素測定装置。
- 試料液に浸漬した金製または白金製の検知極と銀/塩化銀製の対極との間に所定の印加電圧を順次与えて、前記検知極と対極との間に流れる酸化還元電流から、試料液の全残留塩素濃度を求める残留塩素測定方法であって、
前記試料液は、次亜塩素酸若しくはその塩と、スルファミン酸若しくはその塩と、ベンゾトリアゾールまたはその塩を含む水であり、
前記所定の印加電圧を、下記の前処理ステップと、その後に続く下記の測定ステップを行うように設定し、下記の測定ステップのステップB3において得られる酸化還元電流を測定電流とし、該測定電流に基づき、前記試料液の全残留塩素濃度を求めることを特徴とする残留塩素測定方法。
[前処理ステップ]
下記ステップA1を行った後に続けて、下記ステップA2及びステップA3を1回以上行うステップ。
ステップA1:印加電圧Va1(但し、Va1=−0.5〜−2.0V)を時間Ta1印加するステップ。
ステップA2:印加電圧Va2(但し、Va2=0.5〜2.0V)を時間Ta2印加するステップ。
ステップA3:ステップA2の後に続けて、印加電圧Va3(但し、Va3=−0.5〜−2.0V)を時間Ta3印加するステップ。
[測定ステップ]
下記ステップB1〜ステップB3を1回以上行うステップ。
ステップB1:印加電圧Vb1(但し、Vb1=0.5〜2.0V)を時間Tb1(但し、Tb1≦Ta2)印加するステップ。
ステップB2:ステップB1の後に続けて、印加電圧Vb2(但し、Vb2=0〜−2.0V、かつ、Vb2≠0V)を時間Tb2(但し、Tb2≦Ta1、Tb2≦Ta3)印加するステップ。
ステップB3:ステップB2の後に続けて、印加電圧Vb3(但し、Vb3=−0.5〜0.2V)を、電圧を一定に保持して印加するステップ。 - 前記時間Ta1は0.1〜3.0秒であり、前記時間Ta2は0.1〜3.0秒であり、前記時間Ta3は0.1〜3.0秒であり、前記時間Tb1は0.01〜1.0秒であり、前記時間Tb2は0.01〜1.0秒である請求項3に記載の残留塩素測定方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015178328A JP6579315B2 (ja) | 2015-09-10 | 2015-09-10 | 残留塩素測定装置および残留塩素測定方法 |
US15/258,817 US10473618B2 (en) | 2015-09-10 | 2016-09-07 | Residual chlorine measuring apparatus and method of measuring residual chlorine |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015178328A JP6579315B2 (ja) | 2015-09-10 | 2015-09-10 | 残留塩素測定装置および残留塩素測定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017053746A JP2017053746A (ja) | 2017-03-16 |
JP6579315B2 true JP6579315B2 (ja) | 2019-09-25 |
Family
ID=58316319
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015178328A Active JP6579315B2 (ja) | 2015-09-10 | 2015-09-10 | 残留塩素測定装置および残留塩素測定方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10473618B2 (ja) |
JP (1) | JP6579315B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7313026B2 (ja) * | 2018-08-27 | 2023-07-24 | 株式会社タニタ | 残留塩素計および残留塩素濃度測定方法 |
CN110006965A (zh) * | 2019-04-11 | 2019-07-12 | 厦门英仕卫浴有限公司 | 一种实时检测余氯的智能淋浴器 |
CN110749639A (zh) * | 2019-09-23 | 2020-02-04 | 北京华科仪科技股份有限公司 | 一种电极法余氯仪全自动校准装置及其校准方法 |
CN111879832A (zh) * | 2020-06-12 | 2020-11-03 | 宁波水表(集团)股份有限公司 | 一种用于在自来水中进行余氯检测的传感器及其制备方法 |
CN112946024B (zh) * | 2021-01-27 | 2023-09-15 | 宁波水表(集团)股份有限公司 | 一种余氯传感器测量特性的检验方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3354054B2 (ja) * | 1996-10-04 | 2002-12-09 | 横河電機株式会社 | 残留塩素計 |
JPH10185871A (ja) * | 1996-12-26 | 1998-07-14 | Kyoto Electron Mfg Co Ltd | 残留塩素計の電極洗浄方法および残留塩素計 |
JP3917296B2 (ja) * | 1998-05-26 | 2007-05-23 | 株式会社タクミナ | 残留塩素計の洗浄方法 |
JP3390154B2 (ja) * | 1999-09-20 | 2003-03-24 | 科学技術振興事業団 | 残留塩素計およびこれを利用する浄水装置 |
JP2001174436A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-06-29 | Apollo Giken Kk | イオン濃度測定方法及び装置 |
JP3832399B2 (ja) * | 2001-08-28 | 2006-10-11 | 栗田工業株式会社 | 殺菌殺藻剤組成物及び水系の殺菌殺藻方法 |
JP2005007079A (ja) * | 2003-06-20 | 2005-01-13 | Sanyo Product Co Ltd | 遊技機 |
JP2005062133A (ja) | 2003-08-20 | 2005-03-10 | Bionics Instrument Co Ltd | 残留塩素濃度測定装置 |
JP4631444B2 (ja) | 2005-01-14 | 2011-02-16 | 横河電機株式会社 | 電磁流量計 |
JP2008058025A (ja) * | 2006-08-29 | 2008-03-13 | Omega:Kk | 残留塩素濃度計 |
US8887556B2 (en) * | 2011-02-15 | 2014-11-18 | Michael A. Silveri | Amperometric sensor system |
JP6304677B2 (ja) * | 2013-08-08 | 2018-04-04 | 東亜ディーケーケー株式会社 | 残留塩素測定装置および残留塩素測定方法 |
-
2015
- 2015-09-10 JP JP2015178328A patent/JP6579315B2/ja active Active
-
2016
- 2016-09-07 US US15/258,817 patent/US10473618B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20170089860A1 (en) | 2017-03-30 |
US10473618B2 (en) | 2019-11-12 |
JP2017053746A (ja) | 2017-03-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6579315B2 (ja) | 残留塩素測定装置および残留塩素測定方法 | |
Murata et al. | Electrochemical detection of free chlorine at highly boron-doped diamond electrodes | |
Kopanica et al. | Determination of traces of arsenic (III) by anodic stripping voltammetry in solutions, natural waters and biological material | |
US20140174925A1 (en) | Reference electrode | |
US4176032A (en) | Chlorine dioxide analyzer | |
AU2019364339A1 (en) | Systems and methods for detecting and measuring oxidizing compounds in test fluids | |
JP6304677B2 (ja) | 残留塩素測定装置および残留塩素測定方法 | |
US20120103823A1 (en) | Method for detecting individual oxidant species and halide anions in a sample using differential pulse non-stripping voltammetry | |
JP4463405B2 (ja) | 酸化還元電流測定装置のセンサ及び酸化還元電流測定装置 | |
WO2009055093A1 (en) | Electrochemical methods for selective detection of free chlorine, monochloramine and dichloramine | |
US4028197A (en) | Method for monitoring available chlorine in swimming pools | |
CN110579524B (zh) | 用于清洁、调节、校准和/或调整电流传感器的方法 | |
Awad et al. | Electroanalysis of peroxone | |
JP4217077B2 (ja) | 隔膜型電極の安定化方法 | |
JP6518937B2 (ja) | 固体型残留塩素センサーおよびこれを備えた水道メーター | |
JP2000221165A (ja) | 残留塩素濃度計測装置 | |
Bier | Introduction to oxidation reduction potential measurement | |
Brainina et al. | Determination of the oxidant activity of chlorinated water by chronoamperometry | |
JP7177341B2 (ja) | 無試薬式残留塩素測定装置及び無試薬式残留塩素測定方法 | |
US20230002252A1 (en) | Method for optical activation of the sensor surface, in particular for zero chlorine sensors | |
US9028670B2 (en) | Method for proportioning nitrates and/or nitrites in a neutral medium | |
Nakareseisoon et al. | Determination of chlorite at very low levels by using differential pulse polarography | |
JP7093005B2 (ja) | 無試薬式全有効塩素測定装置とその校正方法および無試薬式全有効塩素測定方法 | |
JP7401744B2 (ja) | 塩素要求量の測定方法及び測定装置 | |
JP5212306B2 (ja) | 隔膜式電気化学センサ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151015 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180724 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20181130 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20181130 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190516 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190528 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190711 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190730 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190813 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6579315 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |