JP6553388B2 - 基板搬送装置、基板処理装置および基板搬送方法 - Google Patents
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Description
従来例でも、パーティクルの浮遊を十分に抑制できない場合がある。
すなわち、本発明は、基板搬送装置であって、所定方向に平行移動可能に設けられ、基板を搬送する搬送機構と、前記搬送機構を収容する搬送室と、を備え、前記搬送室は、前記搬送機構の前記所定方向の一方側に設けられる第1壁と、前記搬送室の外部との間で基板が移動するための複数の搬送口と、を備え、前記基板搬送装置は、前記搬送口のいずれよりも前記第1壁に近い位置に配置され、前記搬送室の気体を前記搬送室の外部に排出する第1排気部と、前記搬送機構と前記第1排気部を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記第1壁からの距離が所定値以下である第1近位エリアにおいて前記搬送機構が前記第1壁に向かって移動するときには、前記搬送機構が前記第1近位エリアの外において前記第1壁に向かって移動するときよりも、前記第1排気部の気体排出量を大きくさせる基板搬送装置である。
・第1エリアD1
・第2エリアD2
・第1エリアD1の外、かつ、第2エリアD2の外
にとってもよい。
3 … ID部
5 … 処理部
11 … 載置台
13、53 … 基板搬送装置
15、55 … 搬送室
17、57 … 搬送機構
21 … 搬送室
22 … 搬送機構
23 … 処理ユニット
31 … 第1壁
32 … 第2壁
41 … 第1排気ファン(第1排気部)
42 … 第2排気ファン(第2排気部)
43 … 給気ファン(給気部)
50 … 制御部
66 … 床部(第1壁)
A1−A5、A11−A14 … 搬送口
C … カセット(基板収容器)
D1 … 第1近位エリア
D2 … 第2近位エリア
G … 範囲
M1、M2、M11 … モード(第1遠位接近工程)
M3、M12 … モード(第1近位接近工程)
M5、M6、M14 … モード(第2遠位接近工程)
M7、M15 … モード(第2近位接近工程)
R、K … 領域
W … 基板
Claims (19)
- 基板搬送装置であって、
所定方向に平行移動可能に設けられ、基板を搬送する搬送機構と、
前記搬送機構を収容する搬送室と、
を備え、
前記搬送室は、
前記搬送機構の前記所定方向の一方側に設けられる第1壁と、
前記搬送機構の前記所定方向の他方側に設けられる第2壁と、
前記搬送室の外部との間で基板が移動するための複数の搬送口と、
を備え、
前記基板搬送装置は、
前記搬送口のいずれよりも前記第1壁に近い位置に配置され、前記搬送室の気体を前記搬送室の外部に排出する第1排気部と、
前記搬送機構と前記第1排気部を制御する制御部と、
を備え、
前記第1排気部は、排気ファンであり、
前記制御部は、前記第1壁からの距離が所定値以下である第1近位エリアにおいて前記搬送機構が前記第1壁に向かって移動するときには、前記搬送機構が前記第1近位エリアの外において前記第1壁に向かって移動するときよりも、前記第1排気部の気体排出量を大きくさせ、
前記搬送機構が静止しているとき、および、前記搬送機構が前記第2壁に向かって移動しているとき、前記第1排気部は、前記搬送室の気体を前記搬送室の外部に排出する
基板搬送装置。 - 請求項1に記載の基板搬送装置において、
前記搬送機構が前記第1近位エリアにおいて前記第1壁に向かって移動するとき、前記第1排気部は、少なくとも前記搬送機構が押す量の気体を排出する基板搬送装置。 - 請求項1または2に記載の基板搬送装置において、
前記第1排気部は、前記第1壁に設けられており、かつ、前記複数の搬送口よりも低い位置に配置されている基板搬送装置。 - 請求項1から3のいずれかに記載の基板搬送装置において、
前記第1近位エリアは、前記第1壁に最も近い前記搬送口に対して基板を搬送するときの前記搬送機構を含み、かつ、前記第1壁に最も近い前記搬送口以外の前記搬送口に対して基板を搬送するときの前記搬送機構を含まないように、規定されている基板搬送装置。 - 請求項1から4のいずれかに記載の基板搬送装置において、
前記制御部は、前記搬送機構が前記第1近位エリアにおいて前記第1壁に向かって移動するときにも前記搬送室を陽圧にさせる基板搬送装置。 - 請求項5に記載の基板搬送装置において、
前記搬送室に気体を供給する給気部を備え、
前記制御部は、前記給気部を制御し、
前記制御部は、前記搬送機構が前記第1近位エリアにおいて前記第1壁に向かって移動するときにも前記第1排気部の気体排出量を前記給気部の気体供給量よりも小さくさせる基板搬送装置。 - 請求項1から4のいずれかに記載の基板搬送装置において、
前記基板搬送装置は、前記搬送口のいずれよりも前記第2壁に近い位置に配置され、前記搬送室内の気体を前記搬送室の外部に排出する第2排気部を備え、
前記制御部は、前記第2排気部を制御し、
前記制御部は、前記第2壁からの距離が所定値以下である前記第2近位エリアにおいて前記搬送機構が前記第2壁に向かって移動するときには、前記搬送機構が前記第2近位エリアの外において前記第2壁に向かって移動するときよりも、前記第2排気部の気体排出量を大きくさせる基板搬送装置。 - 請求項7に記載の基板搬送装置において、
前記搬送機構が前記第2近位エリアにおいて前記第2壁に向かって移動するとき、前記第2排気部は、少なくとも前記搬送機構が押す量の気体を排出する基板搬送装置。 - 請求項7または8に記載の基板搬送装置において、
前記第2排気部は、前記第2壁に設けられており、かつ、前記複数の搬送口よりも低い位置に配置されている基板搬送装置。 - 請求項7から9のいずれかに記載の基板搬送装置において、
前記第2近位エリアは、前記第2壁に最も近い前記搬送口に基板を搬送するときの前記搬送機構を含み、かつ、前記第2壁に最も近い前記搬送口以外の前記搬送口に対して基板を搬送するときの前記搬送機構を含まないように、設定されている基板搬送装置。 - 請求項7から10のいずれかに記載の基板搬送装置において、
前記制御部は、前記搬送機構が前記第2近位エリアにおいて前記第2壁に向かって移動するときにも前記搬送室を陽圧にさせる基板搬送装置。 - 請求項11に記載の基板搬送装置において、
前記搬送室に気体を供給する給気部を備え、
前記制御部は、前記給気部を制御し、
前記制御部は、前記搬送機構が前記第2近位エリアにおいて前記第2壁に向かって移動するときにも前記第1排気部の気体排出量と前記第2排気部の気体排出量との和を前記給気部の気体供給量よりも小さくさせる基板搬送装置。 - 請求項12に記載の基板搬送装置において、
前記制御部は、前記搬送機構が前記第2近位エリアにおいて前記第2壁に向かって移動するときにも前記第2排気部の気体排出量を前記給気部の気体供給量よりも小さくさせる基板搬送装置。 - 請求項12または13に記載の基板搬送装置において、
前記制御部は、前記搬送機構が前記第1壁に向かって移動するときには前記第2排気部の気体排出量を一定に保ち、かつ、前記給気部の気体供給量を一定に保つ基板搬送装置。 - 請求項1から14のいずれかに記載の基板搬送装置において、
前記所定方向は水平方向である基板搬送装置。 - 請求項1から14のいずれかに記載の基板搬送装置において、
前記所定方向は鉛直方向である基板搬送装置。 - 請求項1から16のいずれかに記載の基板搬送装置において、
前記搬送室は、複数の基板を収容する基板収容器を載置する載置台に隣接して設けられ、
前記搬送機構は、前記搬送口を通じて、前記載置台に載置された前記基板収容器に基板を搬送する基板搬送装置。 - 請求項1から17のいずれかに記載の基板搬送装置と、
基板に処理を行う処理ユニットと、
を備えた基板処理装置。 - 複数の搬送口が形成された搬送室内において搬送機構が前記搬送室の第1壁に向かって平行移動する基板搬送方法であって、
前記第1壁からの距離が所定値以下である第1近位エリアにおいて前記搬送機構が前記第1壁に向かって移動する第1近位接近工程と、
前記搬送機構が前記第1近位エリアの外において前記第1壁に向かって移動する第1遠位接近工程と、
前記搬送機構が前記第1壁から遠ざかるように移動する離反工程と、
前記搬送機構が静止している静止工程と、
を備え、
前記第1近位接近工程および前記第1遠位近接工程では、前記搬送口のいずれよりも前記第1壁に近い位置に配置される第1排気部が前記搬送室の気体を排出し、
前記第1近位接近工程では、前記第1遠位接近工程に比べて、前記第1排気部の気体排出量が大きく、
前記第1排気部は、排気ファンであり、
前記離反工程および前記静止工程では、前記第1排気部は前記搬送室の気体を排出する基板搬送方法。
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Family Cites Families (17)
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JP2001284426A (ja) | 2000-03-29 | 2001-10-12 | Nikon Corp | ウェハの昇降装置 |
JP4217875B2 (ja) * | 2002-11-27 | 2009-02-04 | 株式会社安川電機 | ウェハ搬送装置 |
KR100583730B1 (ko) * | 2004-06-29 | 2006-05-26 | 삼성전자주식회사 | 기판 이송 시스템 및 상기 시스템의 프레임 내 압력을조절하는 방법 |
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CN101981668A (zh) * | 2008-03-26 | 2011-02-23 | 东京毅力科创株式会社 | 处理腔室的排气流量的控制方法以及处理装置 |
JP2010080469A (ja) | 2008-09-24 | 2010-04-08 | Tokyo Electron Ltd | 真空処理装置及び真空搬送装置 |
JP2010272828A (ja) * | 2009-05-25 | 2010-12-02 | Hitachi Plant Technologies Ltd | 液晶基板の保管倉庫室 |
JP5093621B2 (ja) | 2009-09-18 | 2012-12-12 | Tdk株式会社 | ロードポート装置及び該ロードポート装置の排塵方法 |
JP5452152B2 (ja) * | 2009-09-30 | 2014-03-26 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 検査装置 |
JP2012096906A (ja) * | 2010-11-04 | 2012-05-24 | Tokyo Institute Of Technology | 自動倉庫 |
JP2012116647A (ja) * | 2010-12-03 | 2012-06-21 | Hitachi High-Tech Control Systems Corp | 局所クリーン化搬送装置 |
JP5603314B2 (ja) | 2011-12-01 | 2014-10-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 搬送装置及び基板処理システム |
US20130251493A1 (en) * | 2012-03-26 | 2013-09-26 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Stacking device and air purification system thereof |
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