JP6533770B2 - 基準器、分光干渉式計測装置、塗布装置、分光干渉式計測装置の計測精度保証方法、及び、塗布膜の製造方法。 - Google Patents
基準器、分光干渉式計測装置、塗布装置、分光干渉式計測装置の計測精度保証方法、及び、塗布膜の製造方法。 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6533770B2 JP6533770B2 JP2016219609A JP2016219609A JP6533770B2 JP 6533770 B2 JP6533770 B2 JP 6533770B2 JP 2016219609 A JP2016219609 A JP 2016219609A JP 2016219609 A JP2016219609 A JP 2016219609A JP 6533770 B2 JP6533770 B2 JP 6533770B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- block body
- measurement
- unit
- thickness
- groove
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 title claims description 243
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 186
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 186
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 title claims description 132
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 31
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 41
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 23
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 20
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 9
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 8
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 7
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 129
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 12
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 9
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 8
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 8
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 2
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
- G01B11/0675—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating using interferometry
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/93—Detection standards; Calibrating baseline adjustment, drift correction
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
- G01J3/45—Interferometric spectrometry
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/93—Detection standards; Calibrating baseline adjustment, drift correction
- G01N2021/933—Adjusting baseline or gain (also for web inspection)
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
Description
この種の塗布膜の製造方法としては、シート上に塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布部と、該塗布膜の厚みを計測する膜厚計測部としての分光干渉式計測装置とを備えた塗布装置を用い、塗布膜の厚みを計測しつつ、シート上に塗布液を塗布して塗布膜を製造する方法が用いられている。
例えば、基準反射板を用い、この反射板に光を照射し、反射した光の光量を計測し、この計測結果に基づいて、計測装置を補正する方法が提案されている(特許文献1参照)。
一方、分光干渉式計測装置の計測値が精度良く所定範囲内に収まることを保証するためには、リファレンスとして計測の対象物と同程度の厚みが基準とされることが有効である。
ここで、例えば、シート体の厚みが基準値として採用されることも考えられる。
しかし、このようなシート体は、計測対象物によってはリファレンスとなり得る精度で作製することが難しい。
そこで、本発明者らがさらに鋭意研究したところ、基準器として、溝部が形成された非透光性の第1のブロック体と、該溝部を覆うように第1のブロック体に積層された透光性の第2のブロック体とを備えたものを用い、分光干渉式計測装置によって第2のブロック体を介して溝部に光を照射し、第2のブロック体の第1のブロック体側の面からの反射光と、溝部の底面からの反射光とによって形成される干渉光を受光することによって溝部の深さを計測し、この溝部の深さを基準の厚みとして採用することによって、分光干渉式計測装置の計測値を所定範囲内の精度で保証し得ることを見出して、本発明を完成するに至った。
対象物の厚みを計測する分光干渉式計測装置の計測値が所定範囲内の精度を有することを保証するために用いられる基準器であって、
非透光性の第1のブロック体と、
前記第1のブロック体に積層される透過性の第2のブロック体とを備えており、
前記第1のブロック体は、前記第2のブロック体側の面に溝部を有し、
前記分光干渉式計測装置によって前記第2のブロック体を介して前記第1のブロック体の前記溝部に光が照射され、前記第2のブロック体の前記第1のブロック体側の面からの反射光と、前記溝部の底面からの反射光とによって形成される干渉光が受光されることによって、前記溝部の深さが基準の厚みとして計測されるように構成されている。
そして、計測された溝部の深さの計測値が所定範囲内に収まることを確認することによって、分光干渉式計測装置の計測値が所定範囲内の精度であることを保証し得る。
また、第1のブロック体に溝部を形成することで基準器を形成することができるので、所望の計測対象物の厚みに応じた基準器を簡単に作製することができる。
前記第1のブロック体は、金属材料から形成されていることが好ましい。
従って、上記基準器が、より精度良く分光干渉式計測装置の計測値を所定範囲内の精度で保証するために使用され得るものとなる。
前記金属材料が、ステンレス、鉄、銅、及びアルミニウムよりなる群から選択される1つ以上を含んでいてもよい。
しかし、第1のブロック体がステンレス、鉄、銅、及びアルミニウムよりなる群から選択される1つ以上を含む金属材料によって形成されていることによって、溝部の底面が光をより反射し易くなるため、より精度良く上記干渉光が計測され得ることになる。
前記第2のブロック体の波長550nmでの光の透過率が、80%以上であることが好ましい。
しかし、第2のブロック体の波長550nmでの光の透過率が、80%以上であることによって、第2のブロック体がより十分に光を透過させ得るため、より精度良く上記干渉光が計測されることになる。
従って、上記基準器が、より精度良く分光干渉式計測装置の計測値を所定範囲内の精度で保証するために使用され得るものとなる。
前記第1のブロック体の前記第2のブロック体側の面、及び、前記第2のブロック体の前記第1のブロック体側の面の平面度及び平行度が、いずれも10μm以下であることが好ましい。
しかし、第1のブロック体の第2のブロック体側の面、及び、第2のブロック体の第1のブロック体側の面の平面度及び平行度がいずれも10μm以下であることによって、上記干渉光の計測精度の低下が抑制され得る。
従って、上記基準器が、より精度良く分光干渉式計測装置の計測値を所定範囲内で保証するのに使用され得るものとなる。
前記第2のブロック体を前記第1のブロック体に押圧する押圧部を、さらに備えることが好ましい。
従って、上記基準器が、より精度良く分光干渉式計測装置の計測値を所定範囲内の精度で保証するために使用され得るものとなる。
また、かかる押圧部を備える基準器では、第1のブロック体の第2のブロック体側の面、及び、第2のブロック体の第1のブロック体側の面の平面度及び平行度がいずれも10μmよりも大きい(粗い)と、押圧部で押圧されたときに第2ブロック体が破損し易くなり、その結果、上記干渉光の計測精度が低下するおそれがある。
しかし、上記押圧部を備える基準器において、第1のブロック体の第2のブロック体側の面、及び、第2のブロック体の第1のブロック体側の面の平面度及び平行度がいずれも10μm以下であることによって、このような破損による計測精度の低下を抑制し得る。
前記溝部の深さが、1〜300μmであってもよい。
ここで、前述の通り、分光干渉式計測装置の計測値を精度良く所定範囲内の精度で保証するためには、リファレンスとして計測の対象物と同程度の厚みが基準とされることが有効である。
このとき、前述したように、シート体の厚みが基準の厚みとして採用される場合には、対象物の膜厚が1〜300μmであると、それに応じた比較的薄いシート体が作製される必要がある。
しかし、ガラス板や樹脂板といったシート体が精度良く比較的薄く作製されることは困難であり、また、このように薄く作製されることによって、シート体が破損され易くなる。
これに対し、ガラス板や樹脂板といったシート体の厚みが所望の厚みに形成される場合よりも、上記溝部の深さが所望の深さに形成される方が、簡単に精度良く形成され易い。特に、基準器が金属材料によって形成される場合には、シート体の厚みが所望の厚みに形成される場合よりも、該金属材料が加工されて上記溝部の深さが所望の深さに形成される方が、より簡単に精度良く形成されやすい。
よって、膜厚1〜300μmといった薄い膜厚を有する対象物を計測する際の基準器として、一層、精度良く分光干渉式計測装置の計測値を所定範囲内の精度で保証することが可能となる。
対象物に光を照射し、該対象物からの干渉光を受光して該対象物の厚みを計測する分光干渉式計測装置であって、
前記基準器と、
前記対象物に光を照射し、該対象物の厚みを計測するように、且つ、前記基準器の溝部に光を照射し、該溝部の深さを計測するように構成された分光干渉式計測部と、
前記分光干渉式計測部によって計測された前記溝部の深さの計測値が所定範囲内に収まるか否かを判定する判定部とを備えている。
従って、上記分光干渉式計測装置は、精度良く対象物の厚みを計測することが可能となる。
相対的に移動するシート上に塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布部と、
前記塗布部によって前記シート上に形成された前記塗布膜の厚みを計測する膜厚計測部と、
前記膜厚計測部による前記塗布膜の厚みの計測、及び、前記塗布部による前記塗布液の塗布を制御する制御部とを備え、
前記膜厚計測部は、前記分光干渉式計測装置であり、
前記制御部は、前記膜厚計測部によって計測された前記溝部の深さの計測値が所定範囲内に収まるとき、前記膜厚計測部に前記塗布膜の厚みを計測させつつ前記塗布部に前記塗布液を塗布させるように構成されている。
従って、十分に厚みの管理を行いつつ、塗布膜を形成することが可能となり、これにより、厚みのバラツキが抑制された塗布膜が製造され得る。
対象物に光を照射し、該対象物からの干渉光を受光して該対象物の厚みを計測する分光干渉式計測装置の計測値が所定範囲の精度を有することを保証する分光干渉式計測装置の計測精度保証方法であって、
前記基準器を用い、前記分光干渉式計測装置によって前記基準器の溝部の深さを計測し、計測された前記溝部の深さの計測値が所定範囲内に収まるか否かを判定することによって、前記分光干渉式計測装置の計測値が前記所定範囲内の精度を有することを保証する方法である。
相対的に移動するシート上に塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布膜の製造方法であって、
前記分光干渉式計測装置を用いて前記基準器の溝部の深さを計測し、計測された前記溝部の深さの計測値が所定範囲内に収まるとき、前記分光干渉式計測装置を用いて前記塗布膜の厚みを計測しながら、前記シート上に前記塗布液を塗布する方法である。
塗布装置1は、塗布液3を収容する収容部5と、収容部5から塗布部13に塗布液3を送るための配管9と、該配管9に配されて塗布液3を収容部5から塗布部13に送液する送液機構7とを、さらに備える。
送液機構7は、収容部5から塗布部13に塗布液3を送液する送液部7aと、該送液部7aを駆動させる送液用駆動部7bとを有している。送液部7aとしては、例えば、ポンプ等が挙げられる。送液用駆動部7bとしては、例えば、モータ等が挙げられる。送液用駆動部7bは、制御部28と電気的に接続され、制御部28によって駆動、及び、駆動停止が制御されるように構成されている。
配管9は、塗布液3が移動する経路を構成するものである。配管9としては、例えば、金属製のチューブ等が挙げられる。
図2及び図3に示すように、該分光干渉式計測装置21は、対象物としてのシート11に形成された塗布膜40に光を照射し、該塗布膜40からの干渉光を受光して該塗布膜40の厚みを計測する分光干渉式計測装置21であって、
塗布膜40の対象物の厚みを計測する分光干渉式計測装置21の計測値が所定範囲内の精度を有することを保証するために用いられる、溝部33を有する基準器30と、
塗布膜40に光を照射して該塗布膜40の厚みを計測するように、且つ、基準器30の溝部33に光を照射して該溝部33の深さを計測するように構成された分光干渉式計測部23と、
分光干渉式計測部23によって計測された溝部33の深さの計測値Dが所定範囲R内に収まるか否かを判定する判定部27と、
判定部27の判定結果を表示する表示部29とを備えている。
なお、図2及び図3において、破線矢印は、分光干渉式計測部23から照射される光Lを示す。
非透光性の第1のブロック体31と、
前記第1のブロック体31に積層される透光性の第2のブロック体35とを備えており、
前記第1のブロック体31は、前記第2のブロック体35の側の面31aに溝部33を有し、
前記分光干渉式計測装置21によって前記第2のブロック体35を介して前記第1のブロック体31の前記溝部33に光が照射され、前記第2のブロック体35の前記第1のブロック体31の側の面35aからの反射光と、前記溝部33の底面33aからの反射光とによって形成される干渉光が受光されることによって、前記溝部33の深さが基準の厚みとして計測されるように構成されている。
また、基準器30は、前記第2のブロック体35を前記第1のブロック体31に押圧する押圧部37を、さらに備える。
例えば、第1のブロック体31は、金属材料によって形成されていることが好ましい。
第1のブロック体31が金属材料から形成されていることによって、溶剤雰囲気、環境温度、環境湿度等の環境条件による変形が抑制され得る。
従って、上記基準器が、より精度良く分光干渉式計測装置の計測値を所定範囲内の精度で保証するために使用され得るものとなる。
ここで、第1のブロック体31の形成材料が十分に光を反射しない場合には、該第1のブロック体31の溝部33の底面33aが十分に光を反射しないことになり、その結果、上記干渉光の計測精度が低下するおそれがある。
しかし、第1のブロック体31がステンレス、鉄、銅、及びアルミニウムよりなる群から選択される1つ以上を含む金属材料によって形成されていることによって、溝部33の底面33aで光をより反射し易くなるため、より精度良く上記干渉光が計測され得ることになる。
従って、上記基準器30が、より精度良く構成に使用され得るものとなる。
これら金属材料のうち、強度、及び、加工し易さという点から、上記金属材料がステンレスであることが好ましい。
第1のブロック体31の形状も特に限定されるものではない。例えば、図6に示す態様では、矩形板状に形成されている。
溝部33の深さも、特に限定されるものではない。
例えば、溝部33の深さは、1〜300μmであってもよい。
溝部33の深さが1〜300μmであることによって、シート11上の塗布膜40が1〜300μm程度の場合に、基準器30は膜厚計測部21にとって好適なものとなる。
第2のブロック体35は、透光性を有していればよく、その形成材料は特に限定されるものではない。
例えば、第2のブロック体35の波長550nmでの光の透過率が、80%以上であることが好ましい。
かかる透過率は、常温で分光透過率測定によって測定される値である。
しかし、第2のブロック体35の波長550nmでの光の透過率が、80%以上であることによって、第2のブロック体35が十分に光を透過させ得るため、より精度良く上記干渉光が計測されることになる。
従って、上記基準器30が、より精度良く膜厚計測部21の計測値を所定範囲R内で保証するために使用され得るものとなる。
第2のブロック体35の形状も特に限定されるものではない。例えば、図6に示す態様では、第2のブロック体35は、円盤状に形成されている。
なお、第2のブロック体35が第1のブロック体31に他の部材を介して積層される場合において、該他の部材の溝部33に対応する位置に貫通孔が形成されているような場合には、溝部33の深さは、該溝部33自体の深さと、該他の部材の厚みとの和に相当する。
かかる平行度及び平面度は、常温で三次元測定機によって測定される値である。
かかる平行度及び平面度は、上記と同様にして測定される値である。
しかし、第1のブロック体31の第2のブロック体35の側の面31a、及び、第2のブロック体35の第1のブロック体31の側の面35aの平面度及び平行度がいずれも10μm以下であることによって、上記干渉光の計測精度の低下が抑制され得る。
また、第1のブロック体31の溝部33の底面33aの平面度が大きい場合、または、平行度が大きい場合には、上記干渉光の計測精度が低下するおそれがある。
しかし、底面33aの平面度及び平行度がいずれも10μm以下であることによって、上記干渉光の計測精度の低下が抑制され得る。
基準器30が上記押圧部37を備えることによって、第2のブロック体35が第1のブロック体31に固定されるため、第2のブロック体35が第1のブロック体31に固定されない場合よりも、上記干渉光の計測精度の低下が抑制され得る。
従って、上記基準器30が、より精度良く膜厚計測部21の計測値を所定範囲内の精度で保証するために使用され得るものとなる。
また、固定部37bとして、ビスが採用されている。
また、押圧部37は、パッキン等の介在部材39を介して第2のブロック体35に接触するように構成されている。
介在部材39の形状は、特に限定されないが、例えば、第2のブロック体35の形状及び開口部37cの形状に応じて適宜設定され得る。図6に示す態様では、介在部材39は、環状に形成されている。
すなわち、分光干渉式計測部23は、塗布膜40が形成されたシート11に光を照射し、塗布膜40の外面からの反射光とシート11の塗布膜40側の面からの反射光とによって形成される干渉光を受光して該塗布膜40の厚みを計測するように構成されている。加えて、分光干渉式計測部23は、基準器30の溝部33に光を照射し、基準器30の第2のブロック体35の第1のブロック体31側の面35aからの反射光と、溝部33の底面33aからの反射光とによって形成される干渉光を受光して該溝部33の深さを計測するように構成されている(計測値D)。
図3の態様では、第1の位置Aは、塗布膜40の幅方向一端部及び他端部の厚みを計測可能な位置A1及び位置A2を含む。第2の位置Bは、シート11の幅方向外側に該シート11から離間した位置であって、測定子部23aが、基準器30の第2のブロック体35を介して第1のブロック体31の溝部33の底面33aの中央部に光を照射し得る位置とされ得る。
測定子部23a、光源部23b、分光部23c、接続ケーブル23dは、特に限定されるものではなく、例えば、各市販品が採用され得る。
移動機構25は、例えば、測定子部23aが固定され、シート11の幅方向に移動可能な可動部25aと、該可動部25aを駆動させるモータ等の移動用駆動部25bとを有している。
演算部23eとしては、パーソナルコンピュータ等が挙げられる。
具体的には、判定部27は、分光干渉式計測部23の演算部23eから送信された溝部33の深さの計測値Dを受信して、該計測値Dが所定範囲R内であるか否かを判定するようになっている。
基準値Sは、キャリブレーションされた、分光干渉式計測部23よりも精度の高い別途の計測装置によって、溝部33の深さDが計測されることによって、予め得られる。
判定部27は、分光干渉式計測部23で計測された溝部33の深さの計測値Dを受信すると、Dが所定範囲R内に収まるか否か、すなわち、(S−ΔS)≦D≦(S+ΔS)の範囲内に収まるか否かを判定するように構成されている。
許容される誤差ΔSは、例えば、基準値Sの1〜10%が好ましく、3〜7%がより好ましい。
また、例えば、基準値Sが1〜300μm(すなわち、溝部33の深さが1〜300μm)である場合には、許容される誤差ΔSは、0.5〜15μm程度に設定され得る。
一方、制御部28は、判定部27で溝部33の深さの計測値Dが所定範囲R内に収まらないと判定されたとき、膜厚計測部21に塗布膜40の厚みを計測させず、塗布部13に塗布液3をシート11上に塗布させない(塗布膜40を形成させない)ように構成されている。
制御部28は、塗布膜40の数量が所定数量に達したか否か、すなわち塗布を終了するか否かを判定するように構成されている。
なお、塗布装置1においては、判定部27の判定結果に基づいて制御部28が塗布部13の塗布及び塗布の停止を制御する機能を有していない態様が採用されてもよい。この態様では、塗布装置1が使用される際、作業員によって塗布部13の塗布及び塗布の停止が制御され得る。
次いで、制御部28は、判定部27に、分光干渉式計測部23で計測された溝部33の深さの計測値Dが所定範囲R内に収まるか否か、すなわち、(S−ΔS)≦D≦(S+ΔS)の範囲内に収まるか否かを判定させる(ステップS3)。
溝部33の深さの計測値Dが所定範囲R内であると判定された場合には、制御部28は、分光干渉式計測部23の移動機構25に測定子部23aを第1の位置Aに移動させて分光干渉式計測部23に塗布膜40の厚みを計測させつつ、送液機構7に収容部5から塗布部13に塗布液を送液させ、塗布部13に塗布液3をシート11上に塗布させて塗布膜40を形成させる(ステップS4)。
次いで、制御部28は、塗布を終了させるか否かを判定し(ステップS5)、塗布を終了させないと判定した場合には、ステップS4に戻って、ステップS4を繰り返す。制御部28は、ステップS5にて塗布を終了させると判定した場合には、分光干渉式計測部23に塗布膜40の厚みの計測を停止させ、送液機構7に収容部5から塗布部13への塗布液3の送液を停止させ、塗布部13に塗布液3の塗布を停止させて、塗布装置1の動作を終了させる。
一方、ステップS3にて、判定部27によって、溝部33の深さの計測値Dが所定範囲R内に収まらないと判定された場合には、制御部28は、分光干渉式計測部23に塗布膜40の厚みを計測させず、塗布部13に塗布液3を塗布させない(ステップS7)。この場合において、分光干渉式計測部23による計測及び塗布部13による塗布が行われている場合には、該計測及び塗布を停止させる。さらに、制御部28は、表示部29に「異常停止」を表示させ(ステップS8)、塗布装置1の動作を終了させる。なお、ステップS8において、表示部29に「異常停止」を表示させる代わりに、または、これと共にアラーム等の警告音を発生させても良い。
なお、本実施形態では、塗布装置1が、膜厚計測部21及び塗布部13を制御する制御部28を備える態様を示すが、その他、膜厚計測部21が別途の制御部をさらに備えていてもよい。
具体的には、表示部29は、判定部27と電気的に接続されており、判定部27によって溝部33の深さの計測値Dが所定範囲R内に収まらない場合に、分光干渉式計測部23による計測及び塗布部13に塗布が停止されることを示すべく「異常停止」を表示するように構成されている。なお、前述の通り、表示部29が、「異常停止」を表示する代わりに、または、これと共にアラーム等の警告音を発生させるように構成されていてもよい。
また、表示部29は、制御部28とも電気的に接続されており、制御部28による制御状態等を表示するように構成されている。
このような表示部29としては、例えば、音声出力機能を有する液晶ディスプレイといった電光表示装置等が挙げられる。
基準器30を用い、膜厚計測部21によって基準器30の溝部33の深さを計測し、計測された溝部33の深さの計測値Dが所定範囲R内に収まるか否かを判定することによって、膜厚計測部21の計測値が所定範囲R内の精度を有することを保証する方法である。
分光干渉式計測部23によって計測された溝部33の深さの計測値Dは、判定部27によって、所定範囲R内であるか否かが判定される。
相対的に移動するシート11上に塗布液3を塗布して塗布膜40を形成する塗布膜40の製造方法であって、
膜厚計測部(分光干渉式計測装置)21を用いて基準器30の溝部33の深さを計測し、計測された溝部33の深さの計測値Dが所定範囲R内に収まるとき、塗布膜40の厚みを計測しながら、シート11上に塗布液3を塗布する方法である。
分光干渉式計測部23によって計測された溝部33の深さの計測値Dは、判定部27によって、所定範囲R内であるか否かが判定される。
一方、判定部27によって溝部33の深さの計測値Dが所定範囲R内でないと判定されたときには、分光干渉式計測部23による塗布膜40の厚みの計測がなされず、塗布部13による塗布液3の塗布がなされず、よって塗布膜40が形成されない。この場合において、分光干渉式計測部23による計測及び塗布部13による塗布が行われている場合には、分光干渉式計測部23による計測及び塗布部13による塗布が停止される。
対象物(ここではシート11に形成された塗布膜)40の厚みを計測する分光干渉式計測装置(ここでは、膜厚計測部)21の計測値が所定範囲R内の精度を有することを保証するために用いられる基準器30であって、
非透光性の第1のブロック体31と、
前記第1のブロック体31に積層される透光性の第2のブロック体35とを備えており、
前記第1のブロック体31は、前記第2のブロック体35側の面31aに溝部33を有し、
前記分光干渉式計測装置21によって第2のブロック体35を介して前記第1のブロック体31の前記溝部33に光が照射され、前記第2のブロック体35の前記第1のブロック体31側の面35aからの反射光と、前記溝部33の底面33aからの反射光とによって形成される干渉光が受光されることによって、前記溝部33の深さが基準の厚みとして計測されるように構成されている。
そして、計測された溝部33の深さの計測値Dが所定範囲R内に収まることを確認することによって、分光干渉式計測装置21の計測値が所定範囲R内の精度であることを保証し得る。
また、第1のブロック体31に溝部33を形成することで基準器30を形成することができるので、所望の計測対象物の厚みに応じた基準器30を簡単に作製することができる。
前記第1のブロック体31は、金属材料によって形成されていることが好ましい。
かかる構成によれば、第1のブロック体31が金属材料から形成されていることによって、溶剤雰囲気、環境温度、環境湿度等の環境条件による変形が抑制され得る。
従って、上記基準器30が、より精度良く分光干渉式計測装置21の計測値を所定範囲R内の精度で保証するために使用され得るものとなる。
前記金属材料が、ステンレス、鉄、銅、及びアルミニウムよりなる群から選択される1つ以上を含んでいてもよい。
ここで、第1のブロック体31の形成材料が十分に光を反射しない場合には、該第1のブロック体31の溝部33の底面33aが十分に光を反射しないことになり、その結果、上記干渉光の計測精度が低下するおそれがある。
しかし、第1のブロック体31がステンレス、鉄、銅、及びアルミニウムよりなる群から選択される1つ以上を含む金属材料によって形成されていることによって、溝部33の底面33aが光をより反射し易くなるため、より精度良く上記干渉光が計測され得ることになる。
前記第2のブロック体35の波長550nmでの光の透過率が、80%以上であることが好ましい。
しかし、第2のブロック体35の波長550nmでの光の透過率が、80%以上であることによって、第2のブロック体35がより十分に光を透過させ得るため、より精度良く上記干渉光が計測されることになる。
従って、上記基準器30が、より精度良く分光干渉式計測装置21の計測値を所定範囲R内の精度で保証するために使用され得るものとなる。
前記第1のブロック体31の前記第2のブロック体35側の面31a、及び、前記第2のブロック体35の前記第1のブロック体31側の面35aの平面度及び平行度が、いずれも10μm以下であることが好ましい。
しかし、第1のブロック体31の第2のブロック体35側の面31a、及び、第2のブロック体35の第1のブロック体31側の面35aの平面度及び平行度がいずれも10μm以下であることによって、上記干渉光の計測精度の低下が抑制され得る。
従って、上記基準器30が、より精度良く分光干渉式計測装置21の計測値を所定範囲内で保証するのに使用され得るものとなる。
前記第2のブロック体35を前記第1のブロック体31に押圧する押圧部37を、さらに備えることが好ましい。
従って、上記基準器30が、より精度良く分光干渉式計測装置21の計測値を所定範囲R内の精度で保証するために使用され得るものとなる。
また、かかる押圧部37を備える基準器30では、第1のブロック体31の第2のブロック体35側の面31a、及び、第2のブロック体35の第1のブロック体31側の面35aの平面度及び平行度がいずれも10μmよりも大きい(粗い)と、押圧部37で押圧されたときに第2ブロック体35が破損し易くなり、その結果、上記干渉光の計測精度が低下するおそれがある。
しかし、上記押圧部37を備える基準器30において、第1のブロック体31の第2のブロック体35側の面31a、及び、第2のブロック体35の第1のブロック体31側の面35aの平面度と平行度がいずれも10μm以下であることによって、このような破損による計測精度の低下を抑制し得る。
前記溝部33の深さが、1〜300μmであってもよい。
ここで、前述の通り、分光干渉式計測装置21の計測値を精度良く所定範囲R内の精度で保証するためには、リファレンスとして計測の対象物と同程度の厚みが基準とされることが有効である。
このとき、前述したように、シート体の厚みが基準値として採用される場合には、対象物の膜厚が1〜300μmであると、それに応じた比較的薄いシート体が作製される必要がある。
しかし、ガラス板や樹脂板といったシート体が精度良く比較的薄く作製されることは困難であり、また、このように薄く作製されることによって、シート体が破損され易くなる。
これに対し、ガラス板や樹脂板といったシート体の厚みを所望の厚みに形成される場合よりも、上記溝部33の深さが所望の深さに形成される方が、簡単に精度良く形成され易い。特に、基準器30が金属材料によって形成される態様が採用される場合には、シート体の厚みが所望の厚みに形成される場合よりも、該金属材料が加工されて上記溝部33の深さが所望の深さに形成される方が、より簡単に精度良く形成されやすい。
よって、膜厚1〜300μmといった薄い膜厚を有する対象物40を計測する際の基準器30として、一層、精度良く分光干渉式計測装置21の計測値を所定範囲R内の精度で保証することが可能となる。
対象物(ここではシート11に形成された塗布膜)40に光を照射し、該対象物40からの干渉光を受光して該対象物40の厚みを計測する分光干渉式計測装置(ここでは膜厚計測部)21であって、
前記基準器30と、
前記対象物40に光を照射し、該対象物40の厚みを計測するように、且つ、前記基準器30の溝部33に光を照射し、該溝部33の深さを計測するように構成された分光干渉式計測部23と、
前記分光干渉式計測部23によって計測された前記溝部33の深さの計測値Dが所定範囲R内の精度を有するか否かを判定する判定部27とを備えている。
従って、上記分光干渉式計測装置21は、精度良く対象物40の厚みを計測することが可能となる。
相対的に移動するシート11上に塗布液3を塗布して塗布膜40を形成する塗布部13と、
前記塗布部13によってシート11上に形成された前記塗布膜40の厚みを計測する膜厚計測部21と、
前記膜厚計測部21による前記塗布膜40の計測、及び、前記塗布部13による前記塗布液3の塗布を制御する制御部28とを備え、
前記膜厚計測部21は、前記分光干渉式計測装置21であり、
前記制御部28は、前記膜厚計測部21によって計測された前記溝部33の深さの計測値Dが所定範囲R内に収まるとき、前記膜厚計測部21に塗布膜40の厚みを計測させつつ前記塗布部13に塗布液3を塗布させるように構成されている。
従って、十分に厚みの管理を行いつつ、塗布膜40を形成することが可能となり、これにより、厚みのバラツキが抑制された塗布膜40が製造され得る。
対象物(ここではシート11に形成された塗布膜)40に光を照射し、該対象物40からの干渉光を受光して該対象物40の厚みを計測する分光干渉式計測装置(ここでは膜厚計測部)21の計測値が所定範囲R内の精度を有することを保証する分光干渉式計測装置21の計測精度保証方法であって、
前記基準器30を用い、前記分光干渉式計測装置21によって前記基準器30の溝部33の深さを計測し、計測された前記溝部33の深さの計測値Dが所定範囲R内に収まるか否かを判定することによって、前記分光干渉式計測装置21の計測値が前記所定範囲R内の精度を有することを保証する方法である。
相対的に移動するシート11上に塗布液3を塗布して塗布膜40を形成する塗布膜40の製造方法であって、
前記分光干渉式計測装置21を用いて前記基準器30の溝部33の深さを計測し、計測された前記溝部33の深さの計測値Dが所定範囲R内に収まるとき、前記分光干渉式計測装置21を用いて塗布膜40の厚みを計測しながら、前記シート11上に前記塗布液3を塗布する方法である。
Claims (11)
- 対象物の厚みを計測する分光干渉式計測装置の計測値が所定範囲内の精度を有することを保証するために用いられる基準器であって、
非透光性の第1のブロック体と、
前記第1のブロック体に積層される透光性の第2のブロック体とを備えており、
前記第1のブロック体は、前記第2のブロック体側の面に溝部を有し、
前記分光干渉式計測装置によって前記第2のブロック体を介して前記第1のブロック体の前記溝部に光が照射され、前記第2のブロック体の前記第1のブロック体側の面からの反射光と、前記溝部の底面からの反射光とによって形成される干渉光が受光されることによって、前記溝部の深さが基準の厚みとして計測されるように構成された、基準器。 - 前記第1のブロック体は、金属材料によって形成されている、請求項1に記載の基準器。
- 前記金属材料が、ステンレス、鉄、銅、及びアルミニウムよりなる群から選択される1つ以上を含む、請求項2に記載の基準器。
- 前記第2のブロック体の波長550nmでの光の透過率が、80%以上である、請求項1〜3のいずれかに記載の基準器。
- 前記第1のブロック体の前記第2のブロック体側の面、及び、前記第2のブロック体の前記第1のブロック体側の面の平面度及び平行度が、いずれも10μm以下である、請求項1〜4のいずれかに記載の基準器。
- 前記第2のブロック体を前記第1のブロック体に押圧する押圧部を、さらに備えた、請求項1〜5のいずれかに記載の基準器。
- 前記溝部の深さが、1〜300μmである、請求項1〜6のいずれかに記載の基準器。
- 対象物に光を照射し、該対象物からの干渉光を受光して該対象物の厚みを計測する分光干渉式計測装置であって、
請求項1〜7のいずれかに記載の基準器と、
前記対象物に光を照射し、該対象物の厚みを計測するように、且つ、前記基準器の溝部に光を照射し、該溝部の深さを計測するように構成された分光干渉式計測部と、
前記分光干渉式計測部によって計測された前記溝部の深さの計測値が所定範囲内に収まるか否かを判定する判定部とを備えた、分光干渉式計測装置。 - 相対的に移動するシート上に塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布部と、
前記塗布部によって前記シート上に形成された前記塗布膜の厚みを計測する膜厚計測部と、
前記膜厚計測部による前記塗布膜の厚みの計測、及び、前記塗布部による前記塗布液の塗布を制御する制御部とを備え、
前記膜厚計測部は、請求項8に記載の分光干渉式計測装置であり、
前記制御部は、前記膜厚計測部によって計測された前記溝部の深さの計測値が所定範囲内に収まるとき、前記膜厚計測部に前記塗布膜の厚みを計測させつつ前記塗布部に前記塗布液を塗布させるように構成された、塗布装置。 - 対象物に光を照射し、該対象物からの干渉光を受光して該対象物の厚みを計測する分光干渉式計測装置の前記計測値が所定範囲の精度を有することを保証する分光干渉式計測装置の計測精度保証方法であって、
請求項1〜7のいずれかに記載の基準器を用い、前記分光干渉式計測装置によって前記基準器の溝部の深さを計測し、計測された前記溝部の深さの計測値が所定範囲内に収まるか否かを判定することによって、前記分光干渉式計測装置の計測値が前記所定範囲内の精度を有することを保証する、分光干渉式計測装置の計測精度保証方法。 - 相対的に移動するシート上に塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布膜の製造方法であって、
請求項8に記載の分光干渉式計測装置を用いて前記基準器の溝部の深さを計測し、計測された前記溝部の深さの計測値が所定範囲内に収まるとき、前記分光干渉式計測装置を用いて前記塗布膜の厚みを計測しながら、前記シート上に前記塗布液を塗布する、塗布膜の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016219609A JP6533770B2 (ja) | 2016-11-10 | 2016-11-10 | 基準器、分光干渉式計測装置、塗布装置、分光干渉式計測装置の計測精度保証方法、及び、塗布膜の製造方法。 |
TW106126187A TWI683097B (zh) | 2016-11-10 | 2017-08-03 | 基準器、分光干涉式計測裝置、塗布裝置、分光干涉式計測裝置之計測精度保證方法、及塗布膜之製造方法 |
KR1020170100139A KR102055263B1 (ko) | 2016-11-10 | 2017-08-08 | 기준기, 분광 간섭식 계측 장치, 도포 장치, 분광 간섭식 계측 장치의 계측 정밀도 보증 방법, 및 도포막의 제조 방법 |
CN201710803795.3A CN108072666B (zh) | 2016-11-10 | 2017-09-08 | 基准器、测量和涂布装置、测量精度保证和膜制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016219609A JP6533770B2 (ja) | 2016-11-10 | 2016-11-10 | 基準器、分光干渉式計測装置、塗布装置、分光干渉式計測装置の計測精度保証方法、及び、塗布膜の製造方法。 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018077154A JP2018077154A (ja) | 2018-05-17 |
JP6533770B2 true JP6533770B2 (ja) | 2019-06-19 |
Family
ID=62150220
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016219609A Active JP6533770B2 (ja) | 2016-11-10 | 2016-11-10 | 基準器、分光干渉式計測装置、塗布装置、分光干渉式計測装置の計測精度保証方法、及び、塗布膜の製造方法。 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6533770B2 (ja) |
KR (1) | KR102055263B1 (ja) |
CN (1) | CN108072666B (ja) |
TW (1) | TWI683097B (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109084695B (zh) * | 2018-09-20 | 2020-04-07 | 浙江宝汇薄膜股份有限公司 | 一种薄膜测厚仪 |
JP7340762B2 (ja) * | 2021-05-27 | 2023-09-08 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 校正治具、校正方法、および、測定方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5248347A (en) * | 1975-10-15 | 1977-04-18 | Hiimo Lab:Kk | Non-contact method of measuring clearance or level difference by the u se of wave interference phenomena |
JPS59103207U (ja) * | 1982-12-27 | 1984-07-11 | 株式会社東芝 | 光電式走間幅計 |
JP3382011B2 (ja) * | 1993-04-06 | 2003-03-04 | 株式会社東芝 | 膜厚測定装置、ポリシング装置および半導体製造装置 |
JP2000241127A (ja) * | 1999-02-25 | 2000-09-08 | Toppan Printing Co Ltd | 膜厚測定方法及び巻取式真空成膜装置 |
JP4347504B2 (ja) | 2000-07-28 | 2009-10-21 | 大塚電子株式会社 | 光学自動測定方法 |
US7045255B2 (en) * | 2002-04-30 | 2006-05-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Photomask and method for producing the same |
JP2004198374A (ja) * | 2002-12-20 | 2004-07-15 | Nippon Shokubai Co Ltd | 薄板表面の形状異常検出法および装置 |
US7522288B2 (en) * | 2006-07-21 | 2009-04-21 | Zygo Corporation | Compensation of systematic effects in low coherence interferometry |
JP5248347B2 (ja) | 2009-01-21 | 2013-07-31 | 株式会社総合車両製作所 | レーザ溶接方法 |
JP5410806B2 (ja) * | 2009-03-27 | 2014-02-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | 膜厚測定装置及び測定方法 |
CN201499170U (zh) * | 2009-09-01 | 2010-06-02 | 武汉光迅科技股份有限公司 | 基于标准具结构的差分正交相移键控格式解调器 |
US9121696B2 (en) * | 2010-06-24 | 2015-09-01 | Korea Research Institute Of Standards And Science | Device and method for measuring via hole of silicon wafer |
JP2012063321A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Hamamatsu Photonics Kk | 反射率測定装置、反射率測定方法、膜厚測定装置及び膜厚測定方法 |
JP5845592B2 (ja) * | 2011-02-17 | 2016-01-20 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置 |
US8801141B2 (en) * | 2012-04-27 | 2014-08-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Recording apparatus, detection method, and storage medium |
JP6119981B2 (ja) * | 2013-06-03 | 2017-04-26 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 校正治具および光干渉測定装置の校正方法 |
EP2813801B1 (en) | 2013-06-10 | 2018-10-31 | Mitutoyo Corporation | Interferometer system and method to generate an interference signal of a surface of a sample |
DE102013220196A1 (de) * | 2013-10-07 | 2015-04-09 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Optische Positionsmesseinrichtung |
JP6074356B2 (ja) * | 2013-12-18 | 2017-02-01 | 日東電工株式会社 | 塗工装置及び塗工膜の製造方法 |
CN104977274B (zh) * | 2014-04-11 | 2017-07-21 | 黄辉 | 基于单光束差分检测的光学微流控芯片传感器及测试方法 |
-
2016
- 2016-11-10 JP JP2016219609A patent/JP6533770B2/ja active Active
-
2017
- 2017-08-03 TW TW106126187A patent/TWI683097B/zh active
- 2017-08-08 KR KR1020170100139A patent/KR102055263B1/ko active IP Right Grant
- 2017-09-08 CN CN201710803795.3A patent/CN108072666B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20180052510A (ko) | 2018-05-18 |
KR102055263B1 (ko) | 2019-12-13 |
CN108072666B (zh) | 2020-07-17 |
TW201818060A (zh) | 2018-05-16 |
JP2018077154A (ja) | 2018-05-17 |
CN108072666A (zh) | 2018-05-25 |
TWI683097B (zh) | 2020-01-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6044315B2 (ja) | 変位計測方法および変位計測装置 | |
JP4482618B2 (ja) | 膜厚測定装置及び膜厚測定方法 | |
JP5575600B2 (ja) | 温度測定方法、記憶媒体、プログラム | |
JP6533770B2 (ja) | 基準器、分光干渉式計測装置、塗布装置、分光干渉式計測装置の計測精度保証方法、及び、塗布膜の製造方法。 | |
US20120123707A1 (en) | Methods and instruments for measurement of paint sample characteristics | |
JP5635591B2 (ja) | コーティング層の厚みを測定する装置及び方法 | |
JP2011191118A (ja) | 光干渉測定装置 | |
JP2015010921A (ja) | 屈折率計測方法、屈折率計測装置および光学素子の製造方法 | |
US20210180946A1 (en) | Device for measuring thickness of specimen and method for measuring thickness of specimen | |
WO2010073358A1 (ja) | 半導体成膜時の温度測定方法および温度測定装置 | |
JP2007008535A (ja) | 接着剤塗布装置、及びこれを用いたラベル貼付装置、並びに接着剤の膜厚測定方法 | |
US20140220862A1 (en) | Film thickness monitoring method, film thickness monitoring device, and polishing apparatus | |
JP2008304302A (ja) | 熱物性測定装置、熱物性測定方法 | |
CN111373244A (zh) | 确定透明膜上的涂层性质的方法和装置以及制造电容器膜的方法 | |
JP5752454B2 (ja) | プラズマ処理装置及び温度測定方法 | |
JP2012508869A (ja) | 物体の厚さを干渉分析法によって光学的に計測するための装置及び方法 | |
JP4599728B2 (ja) | 非接触膜厚測定装置 | |
US20220244115A1 (en) | Measuring jig and measuring device | |
JP5477976B2 (ja) | 厚さ測定装置 | |
JP6754614B2 (ja) | 工作機械 | |
JP2015087112A (ja) | 薬液温度計測装置 | |
US12098912B2 (en) | Sheet producing device and sheet producing method | |
CA3123070A1 (en) | Methods and systems for real-time, in-process measurement of coatings on metal substrates using optical systems | |
JP4268508B2 (ja) | 膜厚測定方法及び膜厚測定装置 | |
JP6047370B2 (ja) | 変位測定装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180315 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20180615 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190129 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190208 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190510 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190527 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6533770 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |