JP6513950B2 - 無洗浄フラックス、および半導体パッケージの製造方法 - Google Patents
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Description
〔1〕半導体チップに形成されたはんだバンプと、基板に形成されたはんだめっきされた配線との間に、無洗浄フラックスを室温で塗布し、
半導体チップに形成されたはんだバンプと、基板に形成されたはんだめっきされた配線とを240〜270℃ではんだ付けした後、
100〜120℃まで冷却し、
100〜120℃に保持したまま、半導体チップと基板との間にアンダーフィル材を充填し、130〜160℃でアンダーフィル材を硬化させる
半導体パッケージ工程で使用される無洗浄フラックスであって、
(A)熱重量分析で、昇温速度が10℃/分で測定したときに質量が50%に減少する温度が、160〜210℃である溶剤、および
(B)熱重量分析で、昇温速度が10℃/分で測定したときに質量が50%に減少する温度が、190〜320℃であるジカルボン酸またはトリカルボン酸
を含有し、(B)成分を、無洗浄フラックス100質量部に対して、0.3〜3.0質量部含有することを特徴とする、無洗浄フラックス。
〔2〕さらに、(C)熱重量分析で、昇温速度が10℃/分で測定したときに質量が50%に減少する温度が、130〜170℃である第3級アミンを含有する、上記〔1〕記載の無洗浄フラックス。
〔3〕(B)成分が、脂肪族ジカルボン酸である、上記〔1〕または〔2〕のいずれか記載の無洗浄フラックス。
〔4〕(C)成分が、トリブチルアミンである、上記〔1〕〜〔3〕のいずれか記載の無洗浄フラックス。
〔5〕半導体チップに形成されたはんだバンプのはんだが、錫銀系である、上記〔1〕〜〔4〕のいずれか記載の無洗浄フラックス。
〔6〕基板に形成されたはんだめっきされた配線のはんだが、錫銀銅系である、上記〔1〕〜〔5〕のいずれか記載の無洗浄フラックス。
〔7〕半導体チップに形成されたはんだバンプと、基板に形成されたはんだめっきされた配線との間に、上記〔1〕〜〔6〕のいずれか記載の無洗浄フラックスを室温で塗布する工程、
半導体チップに形成されたはんだバンプと、基板に形成されたはんだめっきされた配線とを240〜270℃ではんだ付けする工程、
100〜120℃まで冷却する工程、および
100〜120℃に保持したまま、半導体チップと基板との間にアンダーフィル材を充填し、130〜160℃でアンダーフィル材を硬化させる工程
をこの順に含む、半導体パッケージの製造方法。
〔8〕半導体チップに形成されたはんだバンプと、基板に形成されたはんだめっきされた配線とを、昇温速度2.5〜5.0℃/秒で昇温し、240〜270℃で30〜70秒間はんだ付けする工程を含む、上記〔7〕記載の半導体パッケージの製造方法。
〔9〕半導体チップに形成されたはんだバンプと、基板に形成されたはんだめっきされた配線とを240〜270℃ではんだ付けする工程の後、降温速度1.0〜3.0℃/秒で100〜120℃まで冷却する工程を含む、上記〔7〕または〔8〕記載の半導体パッケージの製造方法。
〔10〕上記〔7〕〜〔9〕のいずれか記載の半導体パッケージの製造方法で製造された、半導体パッケージ。
本発明の無洗浄フラックスは、
半導体チップに形成されたはんだバンプと、基板に形成されたはんだめっきされた配線との間に、無洗浄フラックスを室温で塗布し、
半導体チップに形成されたはんだバンプと、基板に形成されたはんだめっきされた配線とを240〜270℃ではんだ付けした後、
100〜120℃まで冷却し、
100〜120℃に保持したまま、半導体チップと基板との間にアンダーフィル材を充填し、130〜160℃でアンダーフィル材を硬化させる
半導体パッケージ工程で使用される無洗浄フラックスであって、
(A)熱重量分析で、昇温速度が10℃/分で測定したときに質量が50%に減少する温度(以下、T50という)が、160〜210℃である溶剤、および
(B)熱重量分析で、昇温速度が10℃/分で測定したときに質量が50%に減少する温度が、190〜320℃であるジカルボン酸またはトリカルボン酸
を含有し、(B)成分を、無洗浄フラックス100質量部に対して、0.3〜3.0質量部含有することを特徴とする。本発明者は、はんだバンプ、はんだめっきされた配線への適切な活性力、揮発性を満足させ、かつリフロー後のフラックス残渣が極めて少ないフラックスを得るために、フラックス組成とリフロー条件について鋭意研究を行い、無洗浄フラックスによる製造方法に適合した無残渣フラックスを見出した。ここで、はんだバンプ、はんだめっきされた配線への適切な活性力とは、はんだバンプやはんだメッキされた配線の酸化膜を除去することができ、かつ過剰に気泡を発生させず、はんだのボイドの発生を抑制できることをいう。
アンダーフィル材は、特に限定されないが、以下、好ましいアンダーフィル材であるエポキシ樹脂組成物について説明する。アンダーフィル材は、少なくとも(UA)エポキシ樹脂、(UB)硬化剤を含むと好ましい。
本発明の半導体パッケージの製造方法は、半導体チップに形成されたはんだバンプと、基板に形成されたはんだめっきされた配線との間に、上述の無洗浄フラックスを室温で塗布する工程、
半導体チップに形成されたはんだバンプと、基板に形成されたはんだめっきされた配線とを240〜270℃ではんだ付けする工程、
100〜120℃まで冷却する工程、および
100〜120℃に保持したまま、半導体チップと基板との間にアンダーフィル材を充填し、130〜160℃でアンダーフィル材を硬化させる工程
をこの順に含む。図2に、本発明の半導体パッケージの製造方法を説明するための図を示す。図2に示すように、本発明の半導体パッケージの製造方法は、半導体チップに形成されたはんだバンプと、基板に形成されたはんだめっきされた配線との間に、上述の無洗浄フラックスを室温で塗布する工程、
半導体チップに形成されたはんだバンプと、基板に形成されたはんだめっきされた配線とを240〜270℃ではんだ付けする工程(図2の(1))、
100〜120℃まで冷却する工程(図2の(1)と(2)の間)、および
100〜120℃に保持したまま(図2の(2))、半導体チップと基板との間にアンダーフィル材を充填し、130〜160℃でアンダーフィル材を硬化させる工程(図2の(3))
をこの順に含む。
表1〜3に示す配合で、超音波洗浄機を用いて混合し、無洗浄フラックスを調製した。表1、3では、2−エチル−1,3−ヘキサンジオールを「ジオール」と、イソボルニルヘキサノールを「MTPH」と記載した。また、以下のように、アンダーフィル材を調製した。新日鉄住金化学製ビスフェノールF型エポキシ樹脂(品名:YDF8170):16.3質量部、三菱化学製アミノフェノール型エポキシ樹脂(品名:EP630):10.9質量部、日本化薬製アミン系硬化剤(品名:カヤハードA−A):12.5質量部、アドマテックス製シリカフィラー(品名:SO−E2、平均粒径:0.5μm):60.0質量部、および信越化学製シランカップリング剤(品名:KBM403)を、3本ロールミルを用いて混合し、アンダーフィル材を調製した。なお、比較例3で使用したジカルボン酸メチルエステル混合物(DBE)は、CH3OOC(CH2)nCOOCH3(n=2〜4)であった。
実装後、半導体チップと基板を引きはがし、半導体チップ側の残渣、基板側の残渣を、それぞれCCDカメラを用い、200倍で観察した。図3の上段に、残渣評価後の写真を示す。図3の左側に示すように、残渣物やしみが全く観察されなかった場合を「◎」に、残渣物や染みが非常に多かった場合を「××」にし、「◎」と「××」の間を3段階で、「○」「△」、「×」にした。表1〜3に、結果を示す。なお、図4に、無洗浄フラックスによる製造方法により作製した比較例4の10mm□と20mm□チップの超音波顕微鏡(C−SAM)画像を示す。こことき、はんだ付けは、上述の条件で行った後、110℃まで冷却し、110℃に保持したまま、半導体チップと基板の間にアンダーフィル材を充填し、150℃で120分間硬化させた。図4からわかるように、20mm□チップの場合には、10mm□チップの場合と比較して、残渣が多く観察された。
実装後、DAGE製X線検査装置(型番:XD7600NT)を用い、半導体チップのバンプと、基板のパッドが接続しているか否かを観察した。図3の下段に、残渣評価後の写真を示す。図3の左側が、接続が良好な場合(実施例11)であり、図3の右側が、接続が不良な場合である。接続が良好な場合は、はんだが溶融して、バンプとパッドが一体になっていた。これに対して、接続が不良な場合は、バンプとパッドが溶融せず、バンプとパッドが点で接触している状態であった。接続性(%)は、〔(接続バンプ数)/(全バンプ数)×100〕で計算した。表1〜3に、結果を示す。
Claims (8)
- 半導体チップに形成されたはんだバンプと、基板に形成されたはんだめっきされた配線との間に、無洗浄フラックスを室温で塗布し、
半導体チップに形成されたはんだバンプと、基板に形成されたはんだめっきされた配線とを240〜270℃ではんだ付けした後、
100〜120℃まで冷却し、
100〜120℃に保持したまま、半導体チップと基板との間にアンダーフィル材を充填し、130〜160℃でアンダーフィル材を硬化させる
半導体パッケージ工程で使用される無洗浄フラックスであって、
(A)エチレングリコールモノフェニルエーテル、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、または2−エチル−1,3−ヘキサンジオール:イソボルニルヘキサノール=1:1(重量比)の混合溶剤、および
(B)シュウ酸、コハク酸、アジピン酸、または1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸
であり(ただし、(A)2−エチル−1,3−ヘキサンジオールと(B)アジピン酸との組合せは除く)、(B)成分を、無洗浄フラックス100質量部に対して、0.3〜3.0質量部含有することを特徴とする、無洗浄フラックス。 - さらに、追加される成分が(C)トリブチルアミンである、請求項1記載の無洗浄フラックス。
- 半導体チップに形成されたはんだバンプのはんだが、錫銀系である、請求項1または2記載の無洗浄フラックス。
- 基板に形成されたはんだめっきされた配線のはんだが、錫銀銅系である、請求項1〜3のいずれか1項記載の無洗浄フラックス。
- 半導体チップに形成されたはんだバンプと、基板に形成されたはんだめっきされた配線との間に、請求項1〜4のいずれか1項記載の無洗浄フラックスを室温で塗布する工程、
半導体チップに形成されたはんだバンプと、基板に形成されたはんだめっきされた配線とを240〜270℃ではんだ付けする工程、
100〜120℃まで冷却する工程、および
100〜120℃に保持したまま、半導体チップと基板との間にアンダーフィル材を充填し、130〜160℃でアンダーフィル材を硬化させる工程
をこの順に含む、半導体パッケージの製造方法。 - 半導体チップに形成されたはんだバンプと、基板に形成されたはんだめっきされた配線とを、昇温速度2.5〜5.0℃/秒で昇温し、240〜270℃で30〜70秒間はんだ付けする工程を含む、請求項5記載の半導体パッケージの製造方法。
- 半導体チップに形成されたはんだバンプと、基板に形成されたはんだめっきされた配線とを240〜270℃ではんだ付けする工程の後、降温速度1.0〜3.0℃/秒で100〜120℃まで冷却する工程を含む、請求項5または6記載の半導体パッケージの製造方法。
- 請求項5〜7のいずれか1項記載の半導体パッケージの製造方法で製造された、半導体パッケージ。
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