JP6507655B2 - 多孔質膜用塗工液及びその製造方法 - Google Patents
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 64
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 62
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 262
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 113
- 239000011240 wet gel Substances 0.000 claims description 76
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 52
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims description 32
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 26
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 26
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims description 25
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 25
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 25
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 claims description 19
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- -1 alkali metal alkoxide Chemical class 0.000 claims description 16
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 15
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 12
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 12
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 12
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical group CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 claims description 9
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 6
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 claims description 3
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 claims description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 3
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims description 3
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 3
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 3
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 claims description 3
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- 238000009210 therapy by ultrasound Methods 0.000 claims description 2
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 57
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 21
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 20
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 9
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 9
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 9
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 6
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 238000002525 ultrasonication Methods 0.000 description 6
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 5
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 5
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 4
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 3
- SUBJHSREKVAVAR-UHFFFAOYSA-N sodium;methanol;methanolate Chemical compound [Na+].OC.[O-]C SUBJHSREKVAVAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 3
- SOYBEXQHNURCGE-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxypropan-1-amine Chemical compound CCOCCCN SOYBEXQHNURCGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 125000005262 alkoxyamine group Chemical group 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000003670 easy-to-clean Effects 0.000 description 2
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 2
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- BNIWGIJIGJJEKG-UHFFFAOYSA-N 1-[dibutyl-(tributylsilylamino)silyl]butane Chemical compound CCCC[Si](CCCC)(CCCC)N[Si](CCCC)(CCCC)CCCC BNIWGIJIGJJEKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSSFZNLWTXERTH-UHFFFAOYSA-N 1-[dipropyl-(tripropylsilylamino)silyl]propane Chemical compound CCC[Si](CCC)(CCC)N[Si](CCC)(CCC)CCC NSSFZNLWTXERTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical class CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEBQKMFRRCSNFD-UHFFFAOYSA-N 2-[di(propan-2-yl)-[tri(propan-2-yl)silylamino]silyl]propane Chemical compound CC(C)[Si](C(C)C)(C(C)C)N[Si](C(C)C)(C(C)C)C(C)C KEBQKMFRRCSNFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNRPFVWRKQHKMU-UHFFFAOYSA-N 2-[ditert-butyl-(tritert-butylsilylamino)silyl]-2-methylpropane Chemical compound CC(C)(C)[Si](C(C)(C)C)(C(C)(C)C)N[Si](C(C)(C)C)(C(C)(C)C)C(C)(C)C UNRPFVWRKQHKMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFBKUYFMLNOLOQ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanamine Chemical compound CCCCOCCN BFBKUYFMLNOLOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPGIOCZAQDIBPI-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanamine Chemical compound CCOCCN BPGIOCZAQDIBPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASUDFOJKTJLAIK-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethanamine Chemical compound COCCN ASUDFOJKTJLAIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMWXCSCBUXKXSA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanamine Chemical compound CCCOCCN HMWXCSCBUXKXSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITRFWRDOAWGZFV-UHFFFAOYSA-N 3-[[[dimethyl(3,3,3-trifluoropropyl)silyl]amino]-dimethylsilyl]-1,1,1-trifluoropropane Chemical compound FC(F)(F)CC[Si](C)(C)N[Si](C)(C)CCC(F)(F)F ITRFWRDOAWGZFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPUBRQWGZPPVBS-UHFFFAOYSA-N 3-butoxypropan-1-amine Chemical compound CCCCOCCCN LPUBRQWGZPPVBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFCHFHIRKBAQGU-UHFFFAOYSA-N 3-hexanone Chemical compound CCCC(=O)CC PFCHFHIRKBAQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAXDZWQIWUSWJH-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropan-1-amine Chemical compound COCCCN FAXDZWQIWUSWJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTOXFQVLOTVLSD-UHFFFAOYSA-N 3-propoxypropan-1-amine Chemical compound CCCOCCCN UTOXFQVLOTVLSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WISMMKARALUELI-UHFFFAOYSA-N 4-butoxybutan-1-amine Chemical compound CCCCOCCCCN WISMMKARALUELI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDELFUQKNPLION-UHFFFAOYSA-N 4-ethoxybutan-1-amine Chemical compound CCOCCCCN GDELFUQKNPLION-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUUFAJOXLZUDJG-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybutan-1-amine Chemical compound COCCCCN YUUFAJOXLZUDJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAQNAQUBYJGZAP-UHFFFAOYSA-N 4-propoxybutan-1-amine Chemical compound CCCOCCCCN BAQNAQUBYJGZAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFJFNQUFMTYCHB-UHFFFAOYSA-N C[SiH2]N[SiH3] Chemical compound C[SiH2]N[SiH3] PFJFNQUFMTYCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N Dicyclohexylamine Chemical compound C1CCCCC1NC1CCCCC1 XBPCUCUWBYBCDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMPKIPWJBDOURN-UHFFFAOYSA-N Methoxyamine Chemical class CON GMPKIPWJBDOURN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004965 Silica aerogel Substances 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJWAPAVRQYYSTK-UHFFFAOYSA-N [(dimethyl-$l^{3}-silanyl)amino]-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)N[Si](C)C GJWAPAVRQYYSTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIMXYMYMHUAZLW-UHFFFAOYSA-N [[[dimethyl(phenyl)silyl]amino]-dimethylsilyl]benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C1=CC=CC=C1 HIMXYMYMHUAZLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYUIWUCVZCRTRH-UHFFFAOYSA-N [[[ethenyl(dimethyl)silyl]amino]-dimethylsilyl]ethene Chemical compound C=C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C=C WYUIWUCVZCRTRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APDDLLVYBXGBRF-UHFFFAOYSA-N [diethyl-(triethylsilylamino)silyl]ethane Chemical compound CC[Si](CC)(CC)N[Si](CC)(CC)CC APDDLLVYBXGBRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWSOFXCPBRATKD-UHFFFAOYSA-N [diphenyl-(triphenylsilylamino)silyl]benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)N[Si](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 TWSOFXCPBRATKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- SXSNZRHGAMVNJE-UHFFFAOYSA-N chloro-[[[chloromethyl(dimethyl)silyl]amino]-dimethylsilyl]methane Chemical compound ClC[Si](C)(C)N[Si](C)(C)CCl SXSNZRHGAMVNJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N dodecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSCNLGHKALSYKF-UHFFFAOYSA-N ethoxymethanamine Chemical compound CCOCN QSCNLGHKALSYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JILPJDVXYVTZDQ-UHFFFAOYSA-N lithium methoxide Chemical compound [Li+].[O-]C JILPJDVXYVTZDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZVCGYPLLBEUNV-UHFFFAOYSA-N lithium;ethanolate Chemical compound [Li+].CC[O-] AZVCGYPLLBEUNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAUKUGBTJXWQMF-UHFFFAOYSA-N lithium;propan-2-olate Chemical compound [Li+].CC(C)[O-] HAUKUGBTJXWQMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000006011 modification reaction Methods 0.000 description 1
- KRKPYFLIYNGWTE-UHFFFAOYSA-N n,o-dimethylhydroxylamine Chemical compound CNOC KRKPYFLIYNGWTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROHAJWIUPFLJJM-UHFFFAOYSA-N n-butoxymethanamine Chemical compound CCCCONC ROHAJWIUPFLJJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- WCVVIGQKJZLJDB-UHFFFAOYSA-N o-butylhydroxylamine Chemical class CCCCON WCVVIGQKJZLJDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQFWNELGMODZGC-UHFFFAOYSA-N o-ethylhydroxylamine Chemical class CCON AQFWNELGMODZGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRAARDGLAWZXML-UHFFFAOYSA-N o-propylhydroxylamine Chemical class CCCON PRAARDGLAWZXML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- DPBLXKKOBLCELK-UHFFFAOYSA-N pentan-1-amine Chemical compound CCCCCN DPBLXKKOBLCELK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPDAUEIUDPHABB-UHFFFAOYSA-N potassium ethoxide Chemical compound [K+].CC[O-] RPDAUEIUDPHABB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N potassium methoxide Chemical compound [K+].[O-]C BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQKGAJDYBZOFSR-UHFFFAOYSA-N potassium;propan-2-olate Chemical compound [K+].CC(C)[O-] WQKGAJDYBZOFSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- QLGGKSSLRJWNNV-UHFFFAOYSA-N propoxymethanamine Chemical compound CCCOCN QLGGKSSLRJWNNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- WBQTXTBONIWRGK-UHFFFAOYSA-N sodium;propan-2-olate Chemical compound [Na+].CC(C)[O-] WBQTXTBONIWRGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000527 sonication Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000013112 stability test Methods 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012224 working solution Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
R1R2R3Si-NH-Si R1R2R3・・・(1)
(式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立に、水素、炭素数1以上7以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、又は炭素数3以上6以下の環状のアルキル基、又はアリール基である。)で表されるテトラアルキルジシラザン又はヘキサアルキルジシラザンであるのが好ましい。
本発明の実施態様による塗工液の製造方法は、アルコキシシランを加水分解重合することによりシリカ湿潤ゲルを生成し、シリカナノ粒子をアルキルジシラザンにより表面修飾した後、シリカ湿潤ゲルを分散媒中で超音波分散してシリカナノ粒子の分散液を生成し、分散液に金属アルコキシド及び有機アミンの少なくとも1種を添加することを特徴とする。
(a) 原料
(a-1) アルコキシシラン
アルコキシシランはモノマーでもオリゴマーでも良いが、4官能性アルコキシシラン及びその2〜5量体のオリゴマーから選ばれた少なくとも1種の第一のアルコキシシランと3官能性の第二のアルコキシシランから選ばれた少なくとも1種であるのが好ましい。アルコキシル基を3つ以上有するアルコキシシラン又はその混合物を出発原料とすることにより、優れた均一性を有するシリカエアロゲル膜が得られる。
シリカ合成反応溶液の反応溶媒は水とアルコールからなるのが好ましい。アルコールとしてはメタノール、エタノール、n-プロピルアルコール、i-プロピルアルコールが好ましく、エタノールが特に好ましい。溶媒の水/アルコールのモル比は0.01〜2とするのが好ましい。水/アルコールのモル比が2超であると、加水分解反応が速く進行し過ぎる。水/アルコールのモル比が0.01未満であると、アルコキシシランの加水分解が十分に起こらず、シリカ骨格の形成が起こりにくい。
アルコキシシランのアルコール溶液に加水分解反応の触媒を添加した水溶液を添加するのが好ましい。適当な触媒を添加することによりアルコキシシランの加水分解反応を促進することができる。触媒は酸性でも塩基性でもよいが、塩基性が好ましい。酸性の触媒としては塩酸、硝酸及び酢酸が挙げられる。塩基性の触媒としてはアンモニア、アミン、NaOH及びKOHが挙げられる。好ましいアミンとしてアルコールアミン、アルキルアミン(例えばメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、n-ブチルアミン及びn-プロピルアミン。)が挙げられる。
アルコキシシラン、アルコール及び触媒が添加された水を混合し溶解する。アルコール溶媒/アルコキシシランのモル比は3〜200にするのが好ましい。モル比が3未満であると、アルコキシシランが溶解し難過ぎ、アルコキシシランの重合度が高くなり過ぎる。モル比が200超であると、アルコキシシランの重合度が低くなり過ぎ、湿潤ゲルを形成しにくくなる。触媒/アルコキシシランのモル比は1×10-5〜1にするのが好ましく、1×10-4〜1×10-1にするのがより好ましい。モル比が1×10-5未満であると、アルコキシシランの加水分解が十分に起こらない。モル比を1超としても、触媒効果は増大しない。水/アルコキシシランのモル比は0.5〜20にするのが好ましく、5〜15にするのがより好ましい。
シリカ湿潤ゲルの溶媒をn-ヘキサン及び4-メチル-2-ペンタノンから選ばれる少なくとも1種等の有機溶媒に置換しても良い。ゲルに取り込まれている溶媒は、ゲルの入った容器に置換すべき溶媒を注ぎ、振とうした後でデカンテーションする操作を繰り返すことによって置換することができる。シリカナノ粒子を有機修飾する前にシリカ湿潤ゲルの溶媒を有機溶媒に置換しておくことにより、有機修飾剤のシリカ湿潤ゲルへの分散性が向上し、シリカ湿潤ゲルの有機修飾反応を十分かつ均一に進行させることができる。
シリカ湿潤ゲルに有機修飾剤であるアルキルジシラザンの溶液を加え、シリカ湿潤ゲルとアルキルジシラザン溶液とが十分接触した状態にすることにより、シリカ湿潤ゲルを構成するシリカナノ粒子の末端にある水酸基等の親水性基を疎水性の有機基に置換する。5〜30 mm角程度に切断する等して湿潤ゲルの表面積を大きくしたものに、アルキルジシラザン溶液を加えるのが好ましい。予めシリカ湿潤ゲルの表面積を大きくしておくことで、有機修飾剤との反応を効率的に進行させることができる。
R1R2R3Si-NH-Si R1R2R3・・・(1)
(式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立に、水素、炭素数1以上7以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、又は炭素数3以上6以下の環状のアルキル基、又はアリール基である。)で表されるテトラアルキルジシラザン又はヘキサアルキルジシラザンであることが好ましい。
超音波処理により、シリカ湿潤ゲルを分散媒中に分散させて分散液を生成する。超音波処理により、電気的な力若しくはファンデルワールス力によって凝集していたゲルが解離するか、金属と酸素との共有結合が壊れて、分散状態になると考えられる。照射する超音波の周波数は10〜30 kHzとするのが好ましい。出力は50〜1200 Wとするのが好ましい。
アルキルジシラザンにより表面修飾されたシリカナノ粒子が分散媒中に分散した分散液に金属アルコキシド及び有機アミンの少なくとも1種を添加する。
本発明の塗工液は、アルキルジシラザンにより表面修飾されたシリカナノ粒子が分散媒中に分散した分散液であって、金属アルコキシド及び有機アミンの少なくとも1種が添加されている。本発明の塗工液には金属アルコキシド及び有機アミンの少なくとも1種が添加されているので、成膜時にアルカリ処理を同時に行うことができる。アルカリ処理により未反応シラノール基が縮合してSi-O-Si結合が増加するため、耐擦傷性に優れ、経時変化が小さいシリカエアロゲル膜を形成することができる。また分散液の溶媒として有機溶媒を用いると、成膜時に優れたハンドリング性、レベリング性及び均一成膜性が得られる。
(1-1)シリカ湿潤ゲルの作製
扶桑化学工業株式会社製のメチルシリケート51(テトラメトキシシランの平均4量体)5.90 gと和光純薬工業株式会社製のメタノール(特級)50.55gの混合物に和光純薬工業株式会社製の28%アンモニア(特級)から調整した0.1 Nのアンモニア水3.20 gを添加し10分間攪拌した。その後、室温にて3日間静置して加水分解重縮合反応を促進させエージングした。
工程(1-1)で作製したシリカ湿潤ゲルを2cm角程度の大きさに切り出し、それを結晶皿にとり、和光純薬工業株式会社製のエタノール(特級)を添加し、マグネティックスターラーを用いて300 rpmでゆっくり1日間攪拌して、シリカ湿潤ゲル中の溶媒をエタノールに置換した。置換後にデカンテーションすることにより、エタノール溶媒置換されたシリカ湿潤ゲルを得た。溶媒置換に用いたエタノールは、シリカ湿潤ゲル20 gに対して100 mlの割合で添加した。
工程(1-2)で作製したシリカ湿潤ゲル60 gを結晶皿にとり、東京化成工業株式会社製の1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザンと和光純薬工業株式会社製の4-メチル-2-ペンタノン(特級)からなる混合液体を添加し、マグネティックスターラーを用いて300 rpmでゆっくり1日間攪拌して、シリカ湿潤ゲル中のシリカナノ粒子の末端を有機修飾した。有機修飾後にデカンテーションすることにより、有機修飾シリカ湿潤ゲルを得た。1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザンと4-メチル-2-ペンタノンの混合液は、体積比にして10 ml:90 mlの割合で混合して作製した。シリカ湿潤ゲルの有機修飾は、シリカ湿潤ゲル20 gに対して、1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザンと4-メチル-2-ペンタノンの混合液が100 mlの割合で添加した。
工程(1-3)で作製したシリカ湿潤ゲル60 gを結晶皿にとり、和光純薬工業株式会社製の4-メチル-2-ペンタノン(特級)を添加し、マグネティックスターラーを用いて300 rpmでゆっくり1日間攪拌して、有機修飾シリカ湿潤ゲルを洗浄した。その後デカンテーションすることにより、有機修飾剤及び副生成物の除去された有機修飾シリカ湿潤ゲルを得た。洗浄に用いた4-メチル-2-ペンタノンは、シリカ湿潤ゲル20 gに対して100 mlの割合で添加した。
工程(1-4)で作製した有機修飾シリカ湿潤ゲルを100 mlディスポビーカーにとり、和光純薬工業株式会社製の4-メチル-2-ペンタノン(特級)を添加し、マグネティックスターラーを用いて700 rpmで攪拌しながら株式会社日本精機製作所の超音波分散装置(定格出力600 W、発振周波数19.5 KHz±1KHz)で2時間超音波分散した。分散液の濃度は、シリカ固形分濃度にして3.5質量%になるように調整した。分散液のシリカ固形分濃度は、有機修飾シリカ湿潤ゲルを120℃の送風定温恒温機(イナートオーブン)に2時間入れて乾燥したときの、乾燥前後の質量から算出した固形分から調製した。
工程(1-5)で作製した有機修飾シリカ湿潤ゲルの超音波分散液(有機修飾シリカナノ粒子分散液)3mlと予め和光純薬工業株式会社製28質量%ナトリウムメトキシドメタノール溶液から調製した0.35質量%のナトリウムメトキシドメタノール溶液0.9 mlを混合して、一液性のシリカエアロゲル膜製造用塗工液を作製した。
工程(2-1)〜(2-5)を実施例1の工程(1-1)〜(1-5)と同様に行った。
工程(2-5)で作製した有機修飾シリカナノ粒子分散液3mlと予め和光純薬工業株式会社製のジエチルアミンと4-メチル-2-ペンタノンから調製した1.00質量%のジエチルアミン溶液0.9 mlを混合して、一液性のシリカエアロゲル膜製造用塗工液を作製した。
(3-1)シリカ湿潤ゲルの作製
扶桑化学工業株式会社製のメチルシリケート51(テトラメトキシシランの平均4量体)5.90 g、JNC株式会社製サイラエースS710(3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン)1.00 g及び和光純薬工業株式会社製のメタノール(特級)50.55 gの混合物に和光純薬工業株式会社製の28%アンモニア(特級)から調整した0.15 Nのアンモニア水3.20 gを添加し10分間攪拌した。その後、室温にて3日間静置して加水分解重縮合反応を促進させエージングした。
工程(3-1)で作製したシリカ湿潤ゲルを用い、4-メチル-2-ペンタノンの代わりにn-ヘキサンを置換溶媒として用いた以外は実施例1と同様に行った。溶媒置換に用いたn-ヘキサンは、シリカ湿潤ゲル20 gに対して100 mlの割合で添加した。
工程(4-1)〜(4-5)を実施例3の工程(3-1)〜(3-5)と同様に行い、工程(4-6)を工程(4-5)で作製した有機修飾シリカ湿潤ゲルの超音波分散液を用いた以外は実施例2の工程(2-6)と同様に行い、一液性のシリカエアロゲル膜製造用塗工液を作製した。
工程(5-1)〜(5-5)を実施例3の工程(3-1)〜(3-5)と同様に行い、工程(5-6)を工程(5-5)で作製した有機修飾シリカ湿潤ゲルの超音波分散液を用い、0.50質量%のナトリウムメトキシドメタノール溶液を用いた以外は実施例3の工程(3-6)と同様に行い、一液性のシリカエアロゲル膜製造用塗工液を作製した。
工程(6-1)〜(6-5)を実施例4の工程(4-1)〜(4-5)と同様に行い、工程(6-6)を工程(6-5)で作製した有機修飾シリカ湿潤ゲルの超音波分散液を用い、ジエチルアミンの代わりにトリエチルアミンを用いた以外は実施例4の工程(4-6)と同様に行い、一液性のシリカエアロゲル膜製造用塗工液を作製した。
(7-1)シリカ湿潤ゲルの作製
JNC株式会社製サイラエースS710の代わりにJNC株式会社製サイラエースS510(3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン)を用いた以外は実施例3の工程(3-1)と同様に行った。
工程(A-1)及び(A-2)を実施例1の工程(1-1)及び(1-2)と同様に行った。
工程(A-2)で作製したシリカ湿潤ゲル60 gを結晶皿にとり、東京化成工業株式会社製のトリメチルクロロシランと和光純薬工業株式会社製の4-メチル-2-ペンタノン(特級)からなる混合液体を添加し、マグネティックスターラーを用いて300 rpmでゆっくり1日間攪拌して、シリカ湿潤ゲル中のシリカナノ粒子の末端を有機修飾した。有機修飾後にデカンテーションすることにより、有機修飾シリカ湿潤ゲルを得た。トリメチルクロロシランと4-メチル-2-ペンタノンの混合液は、体積比にして5ml:95 mlの割合で混合して作製した。シリカ湿潤ゲルの有機修飾は、シリカ湿潤ゲル20 gに対して、トリメチルクロロシランと4-メチル-2-ペンタノンの混合液が100 mlの割合で添加した。
工程(B-1)を実施例3の工程(3-1)と同様に行い、工程(B-2)〜(B-6)を工程(B-1)で作製したシリカ湿潤ゲルを用いた以外は比較例1の工程(A-2)〜(A-6)と同様に行い、一液性のシリカエアロゲル膜製造用塗工液を作製した。
工程(C-1)〜(C-5)を比較例2の工程(B-1)〜(B-5)と同様に行い、工程(C-6)を工程(C-5)で作製した有機修飾シリカ湿潤ゲルの超音波分散液を用いた以外は比較例2の工程(B-6)と同様に行い、一液性のシリカエアロゲル膜製造用塗工液を作製した。
実施例1〜7及び比較例1〜3をそれぞれ温度25±5℃、相対湿度40±20%で放置し、流動性を失うまでの時間を塗工液が入っている容器を30°傾けることで確認した。流動性を失わない塗工液は、液面を水平に保ち、流動性が失われてゲル化した塗工液は、容器を傾けても液面が動かなかった。得られた結果を表1に示す。
Claims (14)
- アルキルジシラザンにより表面修飾されたシリカナノ粒子が分散媒中に分散した分散液であって、金属アルコキシド及び有機アミンの少なくとも1種が添加されていることを特徴とする多孔質膜用塗工液。
- 請求項1に記載の多孔質膜用塗工液において、前記金属アルコキシドは炭素数が1〜3のアルカリ金属アルコキシドであることを特徴とする多孔質膜用塗工液。
- 請求項1又は2に記載の多孔質膜用塗工液において、前記有機アミンがジエチルアミン又はトリエチルアミンであることを特徴とする多孔質膜用塗工液。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の多孔質膜用塗工液において、前記分散媒はケトン系溶媒として、メチルエチルケトン及び4-メチル-2-ペンタノン、カルボン酸エステル系溶媒として酢酸メチル、酢酸エチル及び酢酸プロピル、及びグリコールエーテル系溶媒として2-メトキシメタノール、2-エトキシエタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートからなる群より選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする多孔質膜用塗工液。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の多孔質膜用塗工液において、前記分散液のシリカ固形分濃度が0.1〜10質量%であることを特徴とする多孔質膜用塗工液。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の多孔質膜用塗工液において、前記金属アルコキシド及び前記有機アミン/前記シリカナノ粒子が質量比で1×10-3〜2.0であることを特徴とする多孔質膜用塗工液。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の多孔質膜用塗工液において、前記シリカナノ粒子のメジアン径が10〜100 nmであることを特徴とする多孔質膜用塗工液。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の多孔質膜用塗工液において、前記アルキルジシラザンは一般式(1)
R1R2R3Si-NH-Si R1R2R3・・・(1)
(式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立に、水素、炭素数1以上7以下の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、又は炭素数3以上6以下の環状のアルキル基、又はアリール基である。)で表されるテトラアルキルジシラザン又はヘキサアルキルジシラザンであることを特徴とする多孔質膜用塗工液。 - 請求項1〜8のいずれかに記載の多孔質膜用塗工液を製造する方法であって、アルコキシシランを加水分解重合することによりシリカ湿潤ゲルを生成し、シリカナノ粒子をアルキルジシラザンにより表面修飾した後、前記シリカ湿潤ゲルを前記分散媒中で超音波分散して前記シリカナノ粒子の分散液を生成し、前記分散液に金属アルコキシド及び有機アミンの少なくとも1種を添加することを特徴とする多孔質膜用塗工液の製造方法。
- 請求項9に記載の多孔質膜用塗工液の製造方法において、前記アルコキシシランは、4官能性アルコキシシラン及びその2〜5量体のオリゴマーから選ばれた少なくとも1種の第一のアルコキシシランと3官能性の第二のアルコキシシランから選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする多孔質膜用塗工液の製造方法。
- 請求項10に記載の多孔質膜用塗工液の製造方法において、前記第二のアルコキシシランが3-メタクリロキシプロピル基、3-グリシドキシプロピル基及びビニル基から選ばれる少なくとも1種の官能基を含むことを特徴とする多孔質膜用塗工液の製造方法。
- 請求項10又は11に記載の多孔質膜用塗工液の製造方法において、前記第一のアルコキシシランと前記第二のアルコキシシランの混合比がモル比で1:1〜10:1であることを特徴とする多孔質膜用塗工液の製造方法。
- 請求項9〜12に記載の多孔質膜用塗工液の製造方法において、前記シリカナノ粒子をアルキルジシラザンにより表面修飾する前に、前記シリカ湿潤ゲルの溶媒をn-ヘキサン及び4-メチル-2-ペンタノンから選ばれる少なくとも1種に置換することを特徴とする多孔質膜用塗工液の製造方法。
- 請求項9〜13に記載の多孔質膜用塗工液の製造方法において、前記超音波分散を発振周波数:10〜30 kHz、定格出力:50〜1200 W及び超音波処理時間:5〜180分の条件下で行うことを特徴とする多孔質膜用塗工液の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015005081A JP6507655B2 (ja) | 2015-01-14 | 2015-01-14 | 多孔質膜用塗工液及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015005081A JP6507655B2 (ja) | 2015-01-14 | 2015-01-14 | 多孔質膜用塗工液及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016130290A JP2016130290A (ja) | 2016-07-21 |
JP6507655B2 true JP6507655B2 (ja) | 2019-05-08 |
Family
ID=56415787
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015005081A Active JP6507655B2 (ja) | 2015-01-14 | 2015-01-14 | 多孔質膜用塗工液及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6507655B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN118561285A (zh) * | 2019-03-06 | 2024-08-30 | 扶桑化学工业株式会社 | 胶体二氧化硅及其制造方法 |
JP7196996B2 (ja) * | 2019-03-28 | 2022-12-27 | 株式会社ニコン | 多孔質膜、光学素子、光学系、交換レンズ、光学装置および多孔質膜の製造方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6424869A (en) * | 1987-07-21 | 1989-01-26 | Hitachi Chemical Co Ltd | Coating material for hybrid ic |
JP3916272B2 (ja) * | 1996-04-30 | 2007-05-16 | Azエレクトロニックマテリアルズ株式会社 | 分子間架橋されたポリシラザン及びその製造方法 |
JP2000129127A (ja) * | 1998-10-23 | 2000-05-09 | Nichias Corp | 多孔質シリカ・シリコーン複合材及びその製造方法 |
JP2005325306A (ja) * | 2004-05-17 | 2005-11-24 | Nissan Motor Co Ltd | ポリカーボネート樹脂組成物の製造方法、及びポリカーボネート樹脂組成物製造用の金属酸化物微粒子ゾル |
JP2006028311A (ja) * | 2004-07-14 | 2006-02-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 耐熱性に優れるシリコーン粘着剤組成物および製造方法 |
EP1807347B1 (en) * | 2004-10-20 | 2014-01-22 | Cabot Corporation | Method of preparing hydrophobic silica directly from an aqueous colloidal silica dispersion |
JP2006215542A (ja) * | 2005-01-07 | 2006-08-17 | Pentax Corp | 反射防止膜及びこれを有する撮像系光学素子 |
JP4953426B2 (ja) * | 2005-06-09 | 2012-06-13 | ペンタックスリコーイメージング株式会社 | シリカエアロゲル膜の製造方法 |
JP2007246872A (ja) * | 2005-10-28 | 2007-09-27 | Asahi Glass Co Ltd | シリカ系被膜形成用組成物、シリカ系被膜付きガラス板の製造方法、およびシリカ系被膜付きガラス板 |
JP2007180014A (ja) * | 2005-11-30 | 2007-07-12 | Alps Electric Co Ltd | 発光装置およびその製造方法 |
JP4835849B2 (ja) * | 2006-09-19 | 2011-12-14 | 信越化学工業株式会社 | 液状シリコーンゴムコーティング剤組成物及びその製造方法 |
US8586144B2 (en) * | 2008-03-25 | 2013-11-19 | Pentax Ricoh Imaging Company, Ltd. | Method for forming anti-reflection coating and optical element |
CN103328382A (zh) * | 2011-01-21 | 2013-09-25 | Dic株式会社 | 多孔质二氧化硅颗粒的制造方法、防反射膜用树脂组合物、具有防反射膜的物品以及防反射薄膜 |
JP5894742B2 (ja) * | 2011-03-29 | 2016-03-30 | 株式会社アドマテックス | 表面コート用組成物及びその製造方法 |
JP6592897B2 (ja) * | 2015-01-09 | 2019-10-23 | リコーイメージング株式会社 | シリカエアロゲル膜の製造方法 |
-
2015
- 2015-01-14 JP JP2015005081A patent/JP6507655B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016130290A (ja) | 2016-07-21 |
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