JP6482506B2 - 側部開口部基板キャリアおよびロードポート - Google Patents
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Description
32÷1.5=21.33サイクルキャリア/日
極端には、最適な生産性を実現するためにマスク層あたりの日数を1〜0.7日まで短縮することが非常に望ましいという点、および将来の装置では最大45のマスク層に対応しうるという点が、装置製造業者により示唆されている。予測されているこれらの変化を先の計算例に盛り込んで、キャリアのサイクルタイムについて次の新しい値を計算する。マスク層あたりのプロセス工程数には変更がないものと想定する。
32÷0.7=45.7サイクルキャリア/日
先の計算例に基づき、7年間というキャリアの耐用年数にわたるサイクル数として54,498から116,764サイクルが得られる。つまり、キャリアに対し、31.5分ごとに開閉サイクルが実施される可能性がある。従来のロードポート、キャリア、および両者間のインターフェースでは、予想されるこの動作パラメータを満たすことができない。より堅固なキャリアおよびキャリア−ツール間のインターフェースが望まれていることに関連して(例えば、相当高いサイクル数(×2〜×10など)に耐え、それによりキャリア内におよびインターフェース全体において高い清浄度を提供する能力に関して)、従来のロードポートとキャリアで実現可能なことを修正して、各種プロセス工程を実施するさまざまな工程モジュールに基板を移動させるシステムの簡便化と高速化が望まれている。
結晶成長/腐食の阻止
待ち時間規則の緩和と保管管理の簡便化
空気中からのEtハロゲン、Et有機化合物、および湿気の除去
FAB二次汚染リスクの抑制
低CoO
キャリア環境内および基板上のHF、HCL、VOCなど空中を浮遊する分子汚染物質(AMC)の排除
キャリアおよびキャリア内の基板の汚染環境からの何日にもわたる保護
基板およびキャリアの両方の活性ガスの不活性化保護
POD環境の再生と保護
スペクトル特徴分析での総合的なガス測定
を備えることができる。
Claims (8)
- 閉鎖可能な開口部を有するキャリアシェルを有するキャリアをロードポートに結合する方法であって、
前記キャリアシェルを前記ロードポートの第1の位置決めインターフェースに位置決めする工程と、
前記キャリアシェルを前記ロードポートの第2の位置決めインターフェースに向かって進出させるために前記第1の位置決めインターフェースを移動させる工程と、を含み、
前記閉鎖可能な開口部近傍の前記キャリアシェルのフランジと前記第2の位置決めインターフェースとの間の接触は、前記キャリアシェルの位置決めを前記第1の位置決めインターフェースから前記第2の位置決めインターフェースに移送するために前記キャリアシェルと前記第1の位置決めインターフェースとの間に相対運動を生じさせ、
前記第2の位置決めインターフェースは、前記第2の位置決めインターフェースにおいて結合係合中の前記キャリアの移動を許容しつつ、直交する少なくとも3つの軸において前記ロードポートに関して前記キャリアを反復的に位置決めることを特徴とする方法。 - 前記第2の位置決めインターフェースに向かう前記キャリアシェルのフランジと前記第2の位置決めインターフェースとの接触点を過ぎた前記第1の位置決めインターフェースの移動により、前記第1の位置決めインターフェースから前記キャリアシェルを持ち上げさせることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 基板処理装置であって、
ロードポート開口平面内に配置された少なくとも1つの閉鎖可能ロードポート開口部を介して前記基板処理装置の処理環境にアクセスできるように構成され、かつ前記少なくとも1つの閉鎖可能ロードポート開口部を実質的に囲むロードポートフランジを有するロードポートと、
基板を保持する内部容積を形成するキャリアシェルを有する基板キャリアであって、前記キャリアシェルが前記内部容積内に配置された前記基板の平面に実質的に垂直に配置された閉鎖可能キャリア開口部を有し、前記閉鎖可能キャリア開口部が前記内部容積における前記基板の出入を可能とし、さらに前記閉鎖可能キャリア開口部の周囲を実質的に囲むキャリアフランジを有する前記基板キャリアと、
前記ロードポート開口平面に実質的に沿って配置され前記ロードポートフランジと前記キャリアフランジを結合する第1のインターフェースと、を有し、
前記第1のインターフェースは、前記第1のインターフェースの結合係合中、直交する少なくとも3つの軸のうちの2つの直交軸が前記ロードポート開口平面に沿って配置された前記直交する少なくとも3つの軸において前記ロードポートに関して前記キャリアを反復的に位置決めする際に、前記ロードポート開口平面に沿って配置された前記2つの軸の少なくとも1つにおいて前記キャリアの移動を許容するように構成されたことを特徴とする基板処理装置。 - 第2のインターフェースを更に有し、前記第2のインターフェースは、前記キャリアシェルを前記第1のインターフェースに向けて搬送するよう構成された可動シャトルを含み、前記キャリアシェルと前記可動シャトルとの間の相対運動により、前記第2のインターフェースから前記第1のインターフェースへの前記キャリアシェルの位置決めの移送をもたらすことを特徴とする請求項3に記載の基板処理装置。
- 前記第1のインターフェースは、前記キャリアシェルに係合し、係合中、前記第2のインターフェースから離れる方向に前記キャリアシェルを偏らせ、前記キャリアシェルと前記第2のインターフェースとの間の相対運動を生じさせるように構成されたことを特徴とする請求項4に記載の基板処理装置。
- 基板処理システムであって、
基板を保持し、第1および第2のキャリア位置決め機構を有するキャリアと、
前記キャリアを前記基板処理システムの処理部に連通可能に接続するよう構成されているロードポートと、を備え、
前記ロードポートは、
第1のキャリアインターフェースを含み、
前記第1のキャリアインターフェースは、前記キャリアを第1のキャリアインターフェースと結合するために第1のキャリア位置決め機構で第1のキネマティックカップリングを形成するよう構成された第1の位置決め機構を有し、
前記ロードポートは更に、
前記第1のキャリアインターフェースに対して斜めに配置された第2のキャリアインターフェースを含み、
前記第2のキャリアインターフェースは、前記キャリアを第2のキャリアインターフェースに結合するために第2のキャリア位置決め機構で第2のキネマティックカップリングを形成するよう構成された第2の位置決め機構を有し、
前記第2のキャリア位置決め機構は前記第1のキャリア位置決め機構から離れかつ区別され、前記第1のキネマティックカップリング及び前記第2のキネマティックカップリングが互いから離れかつ区別され、前記第1のキネマティックカップリングが前記第2のキネマティックカップリングから独立し、
前記第2の位置決め機構は、前記キャリアが前記第2のキネマティックカップリングにより前記第2のキャリアインターフェースに結合されたときに、前記第2のキャリアインターフェースに対する前記キャリアの動きを可能にするように構成されて、前記第2のキャリア位置決め機構が前記第1の位置決め機構と前記第1のキャリア位置決め機構との結合を可能にするとともに、前記第1のキネマティックカップリングを形成する前記第1の位置決め機構と前記第1のキャリア位置決め機構との結合によって、前記キャリアが前記第1のキャリアインターフェースに結合されることを特徴とする基板処理システム。 - 前記第2のキャリアインターフェースは、前記キャリアを前記第1のキャリアインターフェースに向けて搬送するよう構成された可動シャトルを含み、前記キャリアと前記可動シャトルとの間の相対運動により、前記第2のキャリアインターフェースから前記第1のキャリアインターフェースへの前記キャリアの位置決めの移送をもたらすことを特徴とする請求項6に記載の基板処理システム。
- 前記第1のキャリアインターフェースは、前記キャリアを係合させて、前記キャリアと第2のキャリアインターフェースとの間の相対運動を生じさせるよう構成されていることを特徴とする請求項7に記載の基板処理システム。
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