JP3530774B2 - 基板搬送装置、処理装置、基板の処理システムおよび搬送方法 - Google Patents

基板搬送装置、処理装置、基板の処理システムおよび搬送方法

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JP3530774B2
JP3530774B2 JP18895899A JP18895899A JP3530774B2 JP 3530774 B2 JP3530774 B2 JP 3530774B2 JP 18895899 A JP18895899 A JP 18895899A JP 18895899 A JP18895899 A JP 18895899A JP 3530774 B2 JP3530774 B2 JP 3530774B2
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清久 立山
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達也 岩崎
徳行 穴井
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶ディス
プレイ(Liquid Crystal Display:LCD)に使われる
ガラス基板等の被処理基板上に塗布・現像処理を施す塗
布・現像装置等の処理装置に対して、被処理基板を搬入
出するために用いられる基板搬送装置および基板の搬送
方法に関する。また、本発明は、かかる基板搬送装置と
の間で基板の受け渡しを行うのに適する機構を備えた処
理装置に関する。さらに、本発明は、かかる基板搬送装
置と処理装置とを備えた基板の処理システムに関する。
【0002】
【従来の技術】LCDの製造工程においては、LCD用
のガラス基板上にITO(Indium TinOxide)の薄膜や
電極パターンを形成するために、半導体デバイスの製造
に用いられるものと同様のフォトリソグラフィ技術が利
用される。フォトリソグラフィ技術では、フォトレジス
トを洗浄した基板に塗布し、これを露光し、さらに現像
する。
【0003】被処理基板であるガラス基板は、基板搬送
装置に保持されて搬送路上を移動し、種々の処理装置に
搬入され、各処理装置で処理された後搬出されて再び基
板搬送装置により次工程に搬送される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記したような製造工
程においては、基板に塵芥(パーティクル)が付着した
りしないような環境下で行う必要があり、通常は、上記
した各種の処理装置をクリーンルーム内に設置したり、
装置内外の基板搬送エリアにHEPAフィルタを設け、
低パーティクル環境を形成している。
【0005】しかしながら、上記した手段では、クリー
ンルーム全体若しくは基板搬送エリア全体といった広範
囲をクリーン環境にする必要があるため、そのコストが
高くつくという問題があった。特に、生産効率を上げる
ため、塗布・現像装置だけでなく、他の処理装置、例え
ば、CVD装置、エッチャー、アッシャー等も含めて1
ライン化するシステムが考えられているが、クリーン環
境を形成する範囲が更に広範囲となり、そのためのコス
トが更に高くなるおそれがある。
【0006】本発明は上記した事情に鑑みなされたもの
であり、クリーン化の必要のある空間をできるだけ小さ
くすることができる基板搬送装置、処理装置、基板の処
理システムおよび基板の搬送方法を提供することを課題
とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項1記載の本発明の基板搬送装置は、搬送路に
沿って移動可能な搬送方向移動体と、前記搬送方向移動
体に対し、水平方向に回転可能な回転軸を介して支持さ
れ、各処理装置の搬入出口に対峙した姿勢において該搬
入出口に離接する方向に移動可能であり、かつ、内部に
処理対象となる基板を支持する基板支持部を備えると共
に、前面に基板の出し入れを行うための蓋部材を備えた
箱形の収容ボックスを支持可能な離接方向移動体とを具
備することを特徴とする。
【0008】請求項2記載の本発明の基板搬送装置は、
搬送路に沿って移動可能な搬送方向移動体と、前記搬送
方向移動体に対し、水平方向に回転可能な回転軸を介し
て支持され、各処理装置の搬入出口に対峙した姿勢にお
いて該搬入出口に離接する方向に移動可能であると共
に、上下に間隔をおいて複数設けられ、かつ、内部に処
理対象となる基板を支持する基板支持部を備えると共
に、前面に基板の出し入れを行うための蓋部材を備えた
箱形の収容ボックスをそれぞれ支持可能な離接方向移動
体とを具備することを特徴とする。
【0009】請求項3記載の本発明の基板搬送装置は、
請求項1または2記載の基板搬送装置であって、前記収
容ボックス内に、上下に高さを違えて複数の基板支持部
が形成されていることを特徴とする。
【0010】請求項4記載の本発明の基板搬送装置は、
請求項1〜3のいずれか1に記載の基板搬送装置であっ
て、前記蓋部材は、前記収容ボックスの前端部が処理装
置の搬入出口を開閉するシャッタに当接した際に開口す
るように設けられていることを特徴とする。
【0011】請求項5記載の本発明の基板搬送装置は、
請求項4記載の基板搬送装置であって、前記蓋部材が、
本体プレート部と、該本体プレート部の前面に突出する
突出部と、該本体プレート部の周面から突出可能に設け
られ、収容ボックスの蓋部材形成枠内に設けられた被係
合部に係合する係合突起と、前記突出部に設けられると
共に、押圧手段によって押圧されることにより前記係合
突起を本体プレート部の周面内に埋没させることができ
るプッシュ部材とを具備することを特徴とする。
【0012】請求項6記載の本発明の基板搬送装置は、
請求項1〜5のいずれか1に記載の基板搬送装置であっ
て、前記収容ボックスに形成した塵芥排出孔を通じて、
該収容ボックス内の塵芥を外部に排出可能な塵芥排出機
構が付設されていることを特徴とする。請求項7記載の
本発明の基板搬送装置は、請求項1〜6のいずれか1に
記載の基板搬送装置であって、前記収容ボックスが真空
状態されていることを特徴とする基板搬送装置。
【0013】請求項8記載の本発明の処理装置は、基板
の搬入出口を開閉するシャッタを備えた処理装置であっ
て、前記シャッタは、内部に設けられた基板支持部に基
板を支持し、該基板を外部と隔離した状態で搬送する基
板搬送装置の収容ボックスの前端部を受け入れ可能な凹
状部が前面に形成されていると共に、該凹状部内に、該
収容ボックスの蓋部材に突出形成された突出部を受け入
れ可能な突出部用の嵌合溝が形成され、かつ該嵌合溝の
内周面に、前記突出部に設けられたプッシュ部材を押圧
可能な爪部が突設され、前記突出部が嵌合溝に嵌合する
と、該爪部によりプッシュ部材が押圧され、前記蓋部材
を構成する本体プレート部の周面から突出可能に設けら
れた係合突起と蓋部材形成枠内に設けられた被係合部と
の係合状態を解除して該蓋部材を前記収容ボックスから
取り外し、前記凹状部内に収容することができると共
に、上下動可能に支持されていることを特徴とする。
【0014】請求項9記載の本発明の処理装置は、前壁
部が搬入口に密接するように位置している基板搬送装置
の収容ボックスに対して離接可能に設けられた基板の受
け渡し部材を有し、該収容ボックスから受け取った基板
を処理部に受け渡し、処理部から受け取った基板を該収
容ボックスに受け渡す中継用搬送機構が、内部に設けら
れていることを特徴とする。
【0015】請求項10記載の本発明の処理装置は、基
板の搬入出口を開閉するシャッタを備えた処理装置であ
って、前記シャッタは、内部に設けられた基板支持部に
基板を支持し、該基板を外部と隔離した状態で搬送する
基板搬送装置の収容ボックスの前端部を受け入れ可能な
凹状部が前面に形成されていると共に、該凹状部内に、
該収容ボックスの蓋部材に突出形成された突出部を受け
入れ可能な突出部用の嵌合溝が形成され、かつ該嵌合溝
の内周面に、前記突出部に設けられたプッシュ部材を押
圧可能な爪部が突設され、前記突出部が嵌合溝に嵌合す
ると、該爪部によりプッシュ部材が押圧され、前記蓋部
材を構成する本体プレート部の周面から突出可能に設け
られた係合突起と蓋部材形成枠内に設けられた被係合部
との係合状態を解除して該蓋部材を前記収容ボックスか
ら取り外し、前記凹状部内に収容することができると共
に、上下動可能に支持され、前端部が搬入口に密接する
ように位置している基板搬送装置の収容ボックスに対し
て離接可能に設けられた基板の受け渡し部材を有し、該
収容ボックスから受け取った基板を処理部に受け渡し、
処理部から受け取った基板を該収容ボックスに受け渡す
中継用搬送機構が、内部に設けられていることを特徴と
する。
【0016】請求項11記載の本発明の処理装置は、請
求項9または10記載の処理装置であって、前記中継用
搬送機構は、基板搬送装置の収容ボックスから未処理の
基板を受け取って処理部に受け渡す未処理基板用の受け
渡し部材と、処理部において処理済みの基板を受け取っ
て基板搬送装置の収容ボックスに受け渡す処理済み基板
用の受け渡し部材とが別々に設けられていることを特徴
とする。
【0017】請求項12記載の本発明の基板の処理シス
テムは、搬送路に沿って走行する基板搬送装置により、
該搬送路付近に配置された複数の処理装置との間で基板
の受け渡しを行いながら当該基板に対して所定の処理を
行う基板の処理システムであって、基板搬送装置に載置
可能であると共に、前面に開閉可能な蓋部材を備えた、
搬送時に基板を収容する箱形の収容ボックスを有してい
ることを特徴とする。
【0018】請求項13記載の本発明の基板の搬送方法
は、搬送路に沿って走行する基板搬送装置により、該搬
送路を挟んで両側に配置された処理装置との間で基板の
受け渡しを行う基板の搬送方法であって、前記基板を、
前面に開閉可能な蓋部材を備えた箱形の収容ボックス内
に収容して搬送することを特徴とする。
【0019】(作用)請求項1記載の本発明の基板搬送
装置は、箱形に形成された収容ボックスの内部に処理対
象となる基板を支持しているため、収容ボックス外に浮
遊するパーティクルと接触することを少なくすることが
できる。従って、基板の搬送エリアをクリーン環境にす
る必要がなくなり、クリーン環境の形成コストを大幅に
削減できる。
【0020】請求項2記載の本発明の基板搬送装置は、
それぞれ異なる離接方向移動体に支持された収容ボック
スを複数有するため、処理装置に対して交互にアクセス
することができる。従って、基板の連続処理に適する。
【0021】請求項3記載の本発明の基板搬送装置は、
さらに、前記収容ボックス内に、上下に高さの異なる複
数の基板支持部が形成されているため、処理装置との間
でこれらを連続的に受け渡すことができ、基板の連続処
理に適する。
【0022】請求項4記載の本発明の基板搬送装置で
は、前記収容ボックスの前端部が処理装置のシャッタに
当接した際に蓋部材が開口する。このため、収容ボック
スと処理装置の搬入出口との連通部を通じての外部パー
ティクルの侵入を防止できる。
【0023】請求項5記載の本発明の基板搬送装置で
は、蓋部材を構成する突出部に設けられたプッシュ部材
を押圧するだけで係合突起と蓋部材形成フレームの被係
合部との係合が解除され、蓋部材が外れる。従って、収
容ボックスを処理装置の搬入出口に密接させた後、この
プッシュ部材を押圧すれば双方が迅速に連通することに
なり、蓋部材の開放操作中に外部パーティクルが侵入す
るようなこともない。
【0024】請求項6記載の本発明の基板搬送装置は、
収容ボックス内の塵芥(パーティクル)を外部に排出可
能な塵芥排出機構が付設されているため、収容ボックス
と処理装置の搬入出口とを連通させる際、この塵芥排出
機構を通じて排気するように動作させれば、収容ボック
ス内のパーティクルが処理装置内に侵入することを防止
できる。請求項7記載の本発明の基板搬送装置は、収容
ボックスが真空状態されているので、収容ボックス内の
塵埃をなくし、収容ボックス内のパーティクルが処理装
置内に侵入することを防止でき、更には次工程が真空状
態で処理する場合にはロードロック室等は不要となる。
【0025】請求項8記載の本発明の処理装置では、基
板の搬入出口を開閉するシャッタに形成された嵌合溝
に、基板搬送装置の収容ボックスの突出部が嵌合する
と、嵌合溝に形成された爪部によりプッシュ部材が押圧
され、前記蓋部材を構成する本体プレート部の周面から
突出可能に設けられた係合突起と蓋部材形成枠内に設け
られた被係合部との係合状態を解除する。これにより、
該蓋部材が前記収容ボックスから外れ、シャッタに形成
された凹状部内に収容される。その後、シャッタが下方
に移動すると、収容ボックスの開口部と連通する。従っ
て、この蓋部材の開放作業時に外部パーティクルが処理
装置内に侵入することがない。
【0026】請求項9記載の本発明の処理装置は、中継
用搬送機構の基板の受け渡し部材が、基板搬送装置の収
容ボックスにアクセスして未処理基板を保持して処理部
に受け渡し、また、処理部から処理済みの基板を保持し
て基板搬送装置の収容ボックスに受け渡す。すなわち、
処理装置内に基板を搬送する手段が設けられている。従
って、基板搬送装置において基板を保持している部位
が、積極的に動作するものではなく、単に基板を収容し
ているに過ぎない収容ボックスである場合に基板の受け
渡しを円滑に行える装置として適している。
【0027】請求項10記載の本発明の処理装置では、
基板の搬入出口を開閉するシャッタに形成された嵌合溝
に、基板搬送装置の収容ボックスの突出部が嵌合する
と、嵌合溝に形成された爪部によりプッシュ部材が押圧
され、前記蓋部材を構成する本体プレート部の周面から
突出可能に設けられた係合突起と蓋部材形成枠内に設け
られた被係合部との係合状態を解除する。これにより、
該蓋部材が前記収容ボックスから外れ、シャッタに形成
された凹状部内に収容される。その後、シャッタが下方
に移動すると、収容ボックスの開口部と連通する。従っ
て、この蓋部材の開放作業時に外部パーティクルが処理
装置内に侵入することがない。また、処理装置内に基板
を搬送する中継用搬送機構が設けられている。従って、
基板搬送装置において基板を保持している部位が、積極
的に動作するものではなく、単に基板を収容しているに
過ぎない収容ボックスである場合に基板の受け渡しを円
滑に行える装置として適している。
【0028】請求項11記載の本発明の処理装置では、
未処理の基板と処理済みの基板とを異なる受け渡し部材
で保持できる。従って、例えば、加熱装置においては、
未処理の低温の基板と処理済みの高温の基板を専用の受
け渡し部材で保持できるため、一つの受け渡し部材でい
ずれの受け渡しも行う場合と比較して、受け渡し部材に
蓄熱された熱等による基板への悪影響を小さくすること
ができる。
【0029】請求項12記載の本発明の基板の処理シス
テムは、箱形に形成された収容ボックスの内部に処理対
象となる基板を収容して搬送するため、収容ボックス外
に浮遊するパーティクルと接触することを少なくするこ
とができる。従って、基板の搬送エリアをクリーン環境
にする必要がなくなり、クリーン環境の形成コストを大
幅に削減できる。
【0030】請求項13記載の本発明の基板の搬送方法
は、箱形に形成された収容ボックスの内部に処理対象と
なる基板を収容して搬送するため、収容ボックス外に浮
遊するパーティクルと接触することを少なくすることが
できる。従って、基板の搬送エリアをクリーン環境にす
る必要がなくなり、クリーン環境の形成コストを大幅に
削減できる。
【0031】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づき説明する。まず、図1に基づき本発明の基板の
処理システムの一例としての塗布・現像処理システムの
全体構造について説明する。
【0032】図1に示すように、この塗布・現像処理シ
ステム1の前方には、ガラス基板Gを収容した収容ボッ
クス50を、塗布・現像処理システム1に対して搬入出
するローダ・アンローダ部が設けられている。このロー
ダ・アンローダ部には、収容ボックス50を複数収納し
たカセットCを所定位置に整列させて載置させるカセッ
ト載置台3と、各カセットCから処理すべきガラス基板
Gを収容した収容ボックス50を取り出し、また塗布・
現像処理システム1において処理の終了したガラス基板
Gを収容した収容ボックス50を各カセットCへ戻すロ
ーダ・アンローダ4が設けられている。ローダ・アンロ
ーダ4は、本体5の走行によってカセットCの配列方向
に移動し、本体5に搭載された板状体6上に収容ボック
ス50を載置して後述の基板搬送装置40に該収容ボッ
クス50を受け渡すものである。
【0033】より具体的には、図2に示したように、後
述する本実施の形態にかかる基板搬送装置40がガラス
基板Gそのものではなく、ガラス基板Gを収容した収容
ボックス50を搬送する構造で、該基板搬送装置40に
設けられる離接方向移動体45の一対のアーム47,4
8により、収容ボックス50の底面の両側縁付近を支持
する構造である。従って、基板搬送装置40がローダ・
アンローダ4から収容ボックス50を受け取る際には、
一対のアーム47,48により、収容ボックス50の底
面の両側縁付近を支持し易くする必要がある。このた
め、本実施の形態で用いるローダ・アンローダ4は、収
容ボックス50よりも幅の狭い前後動作可能な板状体6
を有し、この板状体6上に収容ボックス50を載置する
構造のものを使用している。なお、符号5aはこの板状
体6を前後動可能に支持する支持板、5bは該支持板5
aを回転可能に支持する回転軸、5cは任意のカセット
Cにアクセスできるように移動可能であると共に、回転
軸5bを上下動可能に支持する移動体であり、この支持
板5a、回転軸5bおよび移動体5cにより本体5が構
成されている。
【0034】塗布・現像処理システム1の中央部には、
長手方向に配置された廊下状の搬送路10,11が受け
渡し部12を介して一直線上に設けられており、この搬
送路10,11の両側には、ガラス基板Gに対して各処
理を行うための各種処理装置が配置されている。
【0035】図示の塗布・現像処理システム1にあって
は、搬送路10の一側方に、ガラス基板Gをブラシ洗浄
すると共に高圧ジェット水により洗浄を施すための洗浄
装置16が例えば2台並設されている。また、搬送路1
0を挟んで反対側に、二基の現像装置17が並設され、
その隣りに二基の加熱装置18が積み重ねて設けられて
いる。
【0036】また、搬送路11の一側方に、ガラス基板
Gにレジスト液を塗布する前にガラス基板Gを疎水処理
するアドヒージョン装置20が設けられ、このアドヒー
ジョン装置20の下方には冷却用のクーリング装置21
が配置されている。また、これらアドヒージョン装置2
0とクーリング装置21の隣には加熱装置22が二列に
二個ずつ積み重ねて配置されている。また、搬送路11
を挟んで反対側に、ガラス基板Gの表面にレジスト液を
塗布することによってガラス基板Gの表面にレジスト膜
を形成するレジスト塗布装置23が配置されている。図
示はしないが、これら塗布装置23の側部には、ガラス
基板G上に形成されたレジスト膜に所定の微細パターン
を露光するための露光装置等が設けられる。
【0037】以上の各処理装置16〜18および20〜
23は、何れも搬送路10,11の両側において、ガラ
ス基板Gの搬入出口を内側に向けて配設されている。第
1の搬送装置25がローダ・アンローダ部、各処理装置
16〜18および受け渡し部12との間でガラス基板G
を収容ボックス50に収容した状態で搬送するために搬
送路10上を移動し、第2の搬送装置26が受け渡し部
12および各処理装置20〜23との間で、同様にガラ
ス基板Gを収容ボックス50に収容した状態で搬送する
ために搬送路11上を移動するようになっている。
【0038】次に、上記した第1の搬送装置25および
第2の搬送装置26として採用される本実施の形態の基
板搬送装置40の具体的な構造を説明する。図3はこの
基板搬送装置40の構成を示した斜視図であり、図4は
その側面図である。
【0039】基板搬送装置40は、搬送路10,11に
沿って設けられたレール35上をY方向(搬送方向)に
沿って移動可能な搬送方向移動体41を有している。こ
の搬送方向移動体41は、本実施の形態ではレール35
を跨ぐように設けられ、内部に配設された図示しない駆
動モータの駆動により移動する。この搬送方向移動体4
1の上部には、モータ42が設けられ、このモータ42
によりθ方向(水平方向)に回転可能になっている回転
軸43が設けられている。この回転軸43は、さらに搬
送方向移動体41内に配設された昇降部(図示せず)に
より上下方向(Z方向)に動作するよう設けられてい
る。
【0040】回転軸43の上部には、支持板44が取り
付けられており、この支持板44上にX方向(図4に示
したように、処理装置60に対峙した際に当該処理装置
60に離接する方向)に移動可能な離接方向移動体45
が配設されている。離接方向移動体45は、基台部46
と、この基台部46の前方に設けられた一対のアーム4
7,48とを有している。基台部46内には、該基台部
46を前後動させるための駆動部材(図示せず)が配設
されており、これにより、支持板44に設けられたガイ
ド部44aに沿ってX方向(離接方向)に移動する。
【0041】各アーム47,48は、それぞれ断面略L
字状の部材から構成されており、互いに所定間隔をおい
て、かついずれも側板部47a,48aが外側となるよ
うに対称に設けられている。なお、各アーム47,48
の対向間隔は、底板部47b,48b上に、後述する収
容ボックス50を保持できる程度に設定される。
【0042】収容ボックス50は箱形に形成されてい
る。本実施の形態では、図5に示したように略直方体状
に形成されているが、ガラス基板Gを収容できる大きさ
で、外部空間と仕切る壁部を有する構造であればこれに
限定されるものではない。収容対象となる基板が、本実
施の形態のようにLCD用のガラス基板Gの場合には、
該ガラス基板Gが四角形であるため、それに合わせて角
形に形成されるが、収容対象となる基板の形状等を考慮
して他の形状を採用することももちろん可能である。
【0043】収容ボックス50は、図5および図9に示
したように、前面が開放された本体部51と、該本体部
51の前面開口部51fを閉塞するように装着される蓋
部材52とを有して構成される。本体部51内には、そ
の底壁部51aから所定の間隔をおいた位置に、各側壁
部51b,51cから突出する突条部からなる基板支持
部51d,51eが設けられている(図6および図9参
照)。もちろん、この基板支持部51d,51eは、そ
の上面によりガラス基板Gの各側端付近を支持できれば
よく、側壁部51b,51cの奥行き方向の全てに亘っ
て設けられている必要はない。また、側壁部51b,5
1cから突出させるのではなく、底壁部51aの両側部
付近に上方に向かって突出するように設けた突条部であ
ってもよい。
【0044】また、本実施の形態では、基板支持部51
d,51eを一組(一段)しか設けていないが、異なる
高さで複数組(複数段)設けるようにして、複数枚のガ
ラス基板Gを収容可能な構成とすることもできる。
【0045】蓋部材52は、収容ボックス50内にガラ
ス基板Gを収容して搬送している間は、本体部51の前
面開口部51fを密閉するように装着されている一方
で、処理装置との間でガラス基板Gの受け渡しを行う際
に容易に開放動作させることができるものであればどの
ようなものであってもよい。
【0046】本実施の形態の蓋部材52は、次のような
構成を有する。すなわち、図7〜図9に示したように、
本体部51の前面開口部51fにはまる大きさを有する
略長方形の板状部材からなる本体プレート部52aと、
この本体プレート部52aの前面に突出する正面から見
て略円形の突出部52bと、本体プレート部52aの周
面(側面)からそれぞれ外方に突出する2つの係合突起
52cとを有して構成される。また、上記の突出部52
bには、その周面において180度対向する位置に開口
する孔部が形成されており、各孔部内にプッシュ部材5
2dが装填されている。
【0047】そして、各係合突起52c,52cは、そ
れぞれ、本体プレート部52aの厚みの範囲内又は裏面
を通過する連結棒部52e,52eを介して、上記のプ
ッシュ部材52d,52dにそれぞれ連結されていると
共に、各プッシュ部材52d,52dは、突出部52b
の中央付近に設けた隔壁52fに対してコイルスプリン
グ52g,52gを介して弾発支持されている。従っ
て、各プッシュ部材52d,52dは、コイルスプリン
グ52g,52gの弾発力により、常に突出部52bに
形成された孔部から突出する方向に付勢されており、こ
の場合には、各係合突起52c,52cが、本体プレー
ト部52aの各側面から外方に突出している。その一
方、コイルスプリング52g,52gの弾発力に抗して
プッシュ部材52d,52dを押圧した場合には、連結
棒部52e,52eを介して各係合突起52c,52c
が本体プレート部52aの周面(各側面)の位置よりも
内側に埋没する。なお、プッシュ部材52d,52dが
押圧されておらず、係合突起52c,52cが本体プレ
ート部52aの各側面から突出している状態において
は、収容ボックス50を構成する本体部51の側壁部5
1b,51cの内面(蓋部材形成枠)であって前面開口
部寄りに形成された被係合部である溝部51g,51g
内に、該係合突起52c,52cが係合し、これによ
り、蓋部材52が本体部51から外れないようになって
おり、プッシュ部材52d,52dが押圧されると、上
記の溝部51g,51gから係合突起52c,52cが
離脱し、係合状態が解除される。
【0048】次に、上記した基板搬送装置40を用いて
ガラス基板Gを搬入出できる処理装置について説明す
る。すなわち、上記した基板搬送装置40では、離接方
向移動体45がX方向に移動しても、収容ボックス50
内に収容されたガラス基板Gは、該収容ボックス50と
共に移動し、ガラス基板GのみがX方向に移動するとい
うことができない。従って、通常の処理装置のように、
ガラス基板Gの搬入出口を開閉するシャッタ内に、例え
ば熱処理装置における熱板等の処理部が設けられている
だけでは、上記した基板搬送装置40を使用してガラス
基板Gを受け渡すことができない。そこで、次のような
処理装置を用いる必要がある。
【0049】図10に示した処理装置60は、該処理装
置60の搬入出口60aと処理部62との間に中継用搬
送機構70が設けられた構成である。この中継用搬送機
構70は、処理装置60の搬入出口61と処理部62と
の間に敷設されたレール75上を移動可能な移動体71
と、この移動体71に設けられ水平方向に回転可能であ
ると共に、上下動可能な回転軸72と、この回転軸72
上に設けられた支持板73と、支持板73に沿ってその
前後方向に移動可能に設けられたピンセット状の受け渡
し部材74とを有して構成される。
【0050】すなわち、収容装置60のシャッタ61が
開放され、かつ、上記基板搬送装置40の蓋部材52が
開放されたならば、中継用搬送機構70を処理装置60
内においてシャッタ61付近に移動させ、あるいは、予
めこの位置に待機させておき、次に、受け渡し部材74
を支持板73に沿って前進させ、収容ボックス50の下
側に挿入する。そして、回転軸72を上昇させ、収容ボ
ックス50の基板支持部51d,51eからガラス基板
Gをすくい上げたならば、受け渡し部材74を後退させ
て、収容装置60内で、受け渡し部材74の前端が処理
部と対峙するように回転軸72を回転させて、移動体7
1により処理部に接近し、再び、受け渡し部材74を前
進させて処理部62を構成するスピンチャック等に受け
渡す機構である。
【0051】なお、この中継用搬送機構70としては、
受け渡し部材74が異なる高さで二段で設けられている
ものを用いることができる。この場合には、一方の受け
渡し部材74を、収容ボックス50から処理部に受け渡
す未処理のガラス基板Gを載置する専用の部材として使
用し、他方の受け渡し部材74を逆に処理部から収容ボ
ックス50へと、処理済みのガラス基板Gを載置する専
用の部材として使用することができる。これにより、例
えば、加熱装置においては、未処理の低温の基板と処理
済みの高温の基板をそれぞれ専用の受け渡し部材で保持
できるため、一つの受け渡し部材でいずれの受け渡しも
行う場合と比較して、受け渡し部材に蓄熱された熱等に
よるガラス基板Gへの悪影響を小さくすることができ
る。
【0052】また、基板搬送装置40と処理装置60と
の間でガラス基板Gの受け渡し作業中に、ガラス基板G
にパーティクルが付着することを避ける必要がある。こ
の際、基板搬送装置40と処理装置60との接続部付近
だけにクリーン環境を形成することは煩雑であるし、ク
リーン環境を形成する範囲をできるだけ小さくするとい
う本発明の目的にも沿わない。従って、基板搬送装置4
0に載置された収容ボックス50の蓋部材52と処理装
置60のシャッタ61とを開放した際には、収容ボック
ス50と処理装置60とが外部と隔離された状態で連通
していることが好ましい。
【0053】このため、本実施の形態の処理装置60の
シャッタ61として次のような機構を採用した。すなわ
ち、このシャッタ61は、図11〜図15に示したよう
に、処理装置60に形成した搬入出口を開閉できる大き
さを有すると共に、ある程度の厚みを備えた板状部材か
ら形成され、その前面(基板搬送装置40に対向する
面)には、基板搬送装置40の収容ボックス50の前端
部、すなわち、蓋部材52と対向する凸状部61aが形
成されている。そして、基板搬送装置40において収容
ボックス50が処理装置60方向に移動した際には、上
記の収容ボックス50の前端部外周部50aによって処
理装置60の搬入出口60aが囲われ、上記の凸状部6
1aと蓋部材52とが対向するようになっている。な
お、収容ボックス50の外周部50aと処理装置40の
搬入出口60aの周囲(外側)との接触部、シャッタ6
1の外周部と処理装置40の搬入出口60aの周囲(内
側)との接触部、及び収容ボックス50と蓋部材52と
の接触部には、それぞれリング上の弾性部材80が介挿
されるようになっており、これにより各部の密閉性を高
めることができる。
【0054】凸状部61a内のほぼ中央部には、さらに
凹状に窪む嵌合溝61bが形成されている。この嵌合溝
61bには、収容ボックス50の蓋部材52の突出部5
2bが嵌合する部位であるため、該突出部52bの形状
に合うように略円形に形成されている。嵌合溝61bの
内周面であって、突出部52bに設けられた上記のプッ
シュ部材52d,52dに対応する位置には、互いに向
かい合うように突出する爪部61c,61cが設けられ
ている。すなわち、突出部52bが嵌合溝61bに嵌合
した際に、爪部61c,61cがプッシュ部材52d,
52dを押圧する構造である。
【0055】また、このシャッタ61は処理装置60内
で上下動可能に設けられている。上下動させる手段は限
定されるものではないが、本実施の形態では、図12に
示したように、処理装置60内におけるシャッタ61の
下方に上下動部材62を配設し、この上下動部材62か
ら上方に突出する上下駆動軸63の上部にシャッタ61
を連結することにより上下動可能としている。さらに、
この上下動部材62は、処理装置60内において搬入出
口60aに離接する方向にレール64に沿って僅かに移
動可能となっている。
【0056】次に、本実施の形態にかかる基板搬送装置
40および処理装置60の作用を説明する。まず、搬送
方向移動体41の駆動により基板搬送装置40が搬送路
10に沿って移動し、ローダ・アンローダ4に接近し、
該ローダ・アンローダ4に保持されている収容ボックス
50を離接方向移動体45のアーム47,48上に、蓋
部材52が前方となる向きで受け取る。この際、必要に
応じて離接方向移動体45を前後動させてローダ・アン
ローダ4から受け取るが、ローダ・アンローダ4のみを
動作させて、該離接方向移動体45上に載せるようにし
てもよい。また、ここで受け渡される収容ボックス50
は、上記したように、その基板支持部51d,51e上
にガラス基板Gを保持し収容しているものである。
【0057】基板搬送装置40は、収容ボックス50を
受け取ったならば、目的とする処理装置60の配置され
ている付近まで搬送方向移動体41の駆動によりY方向
に移動する。次に、モータ42により回転軸43を所定
角度θ方向に回転させ、アーム47,48上で前方に位
置している蓋部材52を当該処理装置60と向き合わ
せ、さらに、回転軸43を上下方向(Z方向)に動作さ
せ、シャッタ61と対向させる。
【0058】かかる状態で、基板搬送装置40の離接方
向移動体45を前進させ、蓋部材52を含む収容ボック
ス50の外周部50aと処理装置40の搬入出口60a
の周囲(外側)とを接触させる(図13参照)。これに
より、蓋部材52に形成された突出部52bがシャッタ
61の嵌合溝61bに嵌合され、爪部61c,61cが
プッシュ部材52d,52dを押圧する。プッシュ部材
52d,52dが押圧されると、係合突起52c,52
cが側壁部51b,51cの内面(蓋部材形成枠)であ
って前面開口部51f寄りに形成された被係合部である
溝部51g,51gから離脱し、係合状態が解除され
る。
【0059】次に、図14に示したように、処理装置6
0内に配設された上下動部材62をレール64に沿って
僅かに後退させると、この上下動部材62に連結された
シャッタ61と共に蓋部材52が蓋部材形成枠から外れ
る。次に、図15に示したように、上下動部材62を駆
動してシャッタ61を蓋部材52と共に下降させる。こ
れにより、処理装置60の搬入出口60aと収容ボック
ス50の前面開口部51fとが連通する。
【0060】上記したシャッタ61と蓋部材52を開放
させる作業は、収容ボックス50の収容ボックス50の
外周部50aと処理装置40の搬入出口60aの周囲
(外側)とを接触した後に行っているため、最終的にシ
ャッタ61と蓋部材52が開放したときには既に両者が
外部と隔離された状態で連通しており、この作業中に外
部パーティクルが処理装置60の搬入出口60aから侵
入したり、ガラス基板Gに付着したりすることがない。
【0061】シャッタ61と蓋部材52が開放されたな
らば、処理装置60内に配設された中継用搬送機構70
を処理装置60内において搬入出口60a付近に移動さ
せ、あるいは、予めこの位置に待機させておき、その受
け渡し部材74を支持板73に沿って前進させ、収容ボ
ックス50内に保持されているガラス基板Gの下側に挿
入する(図10参照)。次に、回転軸72を上昇させ
て、ガラス基板Gをすくい上げ、受け渡し部材74を後
退させて、収容装置60内で、図10において想像線で
示したように、受け渡し部材74の前端が処理部62と
対峙するように回転軸72を回転させ、さらに、移動体
71により処理部62に接近させた後、受け渡し部材7
4を前進させて処理部に受け渡す。
【0062】なお、シャッタ61は、中継用搬送機構7
0の受け渡し部材74にガラス基板Gが移されたなら
ば、上下動部材62により上昇動作され、処理装置60
の搬入出口60aを閉じる。
【0063】処理部62において所定の処理が終了した
ならば、上記と逆に、中継用搬送機構70が処理部62
から処理済みのガラス基板Gを受け取り、シャッタ61
方向に向かって移動する。上下動部材62により搬入出
口60aを閉鎖しているシャッタ61を下降させ、再
び、処理装置60の搬入出口60aと基板搬送装置40
の収容ボックス50の前面開口部51fとを連通させ、
中継用搬送機構70の受け取り部材74を収容ボックス
50内に挿入し、基板支持部51d,51e上に処理済
みのガラス基板Gを載置する。中継用搬送機構70の受
け渡し部材74は、その後収容ボックス50内から抜け
出るように後退する。
【0064】次に、シャッタ61を上下動部材62によ
り上昇動作させ、さらに所定の位置に至ったならば、収
容ボックス50の前端部に接近する方向に移動させる。
これにより、収容ボックス50の前端部が再びシャッタ
61の凸状部61aと対向すると共に、シャッタ61に
より搬入出口60aが再び閉じられる。次に、爪部61
c,61cとプッシュ部材52d,52dとの係合状態
を解除する。この係合状態が解除されると、押圧されて
いた蓋部材52のプッシュ部材52d,52dが弾性復
帰するため、係合突起52c,52cが蓋部材52の両
側面から突出し、側壁部51b,51cの内面(蓋部材
形成枠)であって前面開口部51f寄りに形成された被
係合部である溝部に係合する。この結果、シャッタ61
が閉じられると同時に、収容ボックス50内に処理済み
のガラス基板Gが外部と隔絶された状態で保持される。
基板搬送装置40は、次工程の処理装置に至るまで移動
し、当該処理装置との間で上記動作を繰り返す。
【0065】ここで、上記のように、蓋部材52をシャ
ッタ61から収容ボックス50側に受け渡す際には、爪
部61c,61cとプッシュ部材52d,52dとの係
合状態を解除する必要がある。この係合状態を解除する
手段は任意であるが、例えば、シャッタ61の凸状部6
1a内に前方に突出可能な押圧部材(図示せず)を設け
ておき、この押圧部材を突出させて、蓋部材52を強制
的に押し出すような構造とすることができる。また、爪
部61c,61cを、常態においては突出しているが、
上下動部材62により上下駆動軸63が上昇動作したな
らば、該爪部61c,61cが自動的に引っ込むように
電気的に制御する構成とすることも可能である。
【0066】また、収容ボックス50を構成する本体部
51の後方部位、好ましくは浮遊パーティクルができる
だけ内部に侵入しないように本体部51の底面の後方部
位にパーティクルを排出するための塵芥排出孔53を設
けておき、収容ボックス50内のパーティクルをこの塵
芥排出孔を通じて外部に排出するための塵芥排出機構を
基板搬送装置40に設けておくことが好ましい。この塵
芥排出機構としては、例えば、図16に示したように、
基板搬送装置40の支持板44において、載置される収
容ボックス50の孔部と連通する位置に形成した貫通孔
44aと、この貫通孔44aに接続されるファン44b
とを有するものを用いることができ、収容ボックス50
と処理装置60との間でガラス基板Gの受け渡しを行う
際に、このファン44bを起動させることにより、収容
ボックス50内に混入していたパーティクルが処理装置
60内に侵入することを防止できる。
【0067】また、上記した説明では、処理装置60内
において処理が終了した後、当該処理装置60にガラス
基板Gを搬送してきた基板搬送装置40により、処理済
みのガラス基板Gを次工程に搬送しているが、処理装置
60にガラス基板Gを受け渡したならば、シャッタ61
が閉成動作する際に、蓋部材52を収容ボックス50に
装着して元に戻してしまい、当該基板搬送装置40が異
なる処理装置60にアクセスして別のガラス基板Gの受
け渡しを行うようにさせることもできる。この場合、収
容ボックス50内に複数のガラス基板Gが保持されてい
る場合には、当該収容ボックス50内に残っているガラ
ス基板Gを他の処理装置60に搬送するようにすること
もできる。また、当該処理装置60で処理されたガラス
基板Gは、別の基板搬送装置40が受け取りにくるよう
に運用することができる。
【0068】なお、上記した説明では、収容ボックス5
0の蓋部材52を取り外す機構を処理装置50のシャッ
タ61に設けているが、ガラス基板Gの出し入れ時に自
動的に取り外しできる機構であればどのような機構であ
ってもよく、例えば、基板搬送装置40に取り外し用の
吸着部材を備えたアーム(図示せず)を設けたりする手
段を採用することもできる。また、収容ボックス50内
の温度や湿度を検知するためのセンサを設けると共に、
これらを適正な範囲で制御する機構を組み込むこともで
きる。
【0069】また、本発明の基板搬送装置の搬送対象と
なる基板は、上記したLCD用のガラス基板Gだけでな
く、半導体ウェハ等の基板についても本発明を当然適用
できる。さらに、上記した塗布・現像処理システムの処
理装置の組み合わせはあくまで一例であり、CVD、ア
ッシャー、エッチャーなどが配置されたラインにおいて
も本発明は当然有効である。そして、真空中で基板を処
理するラインにおいては、本発明に係る収容ボックス内
を真空状態にしてもよい。その手段として、収容ボック
ス内を真空にするための専用処理室を設けてもよいが、
基板搬送装置に収容ボックスを搬送中に収容ボックス内
を真空にするための真空ポンプを設ければ、効率よく収
容ボックス内を真空状態にすることができる。
【0070】
【発明の効果】請求項1記載の本発明の基板搬送装置
は、箱形に形成された収容ボックスの内部に処理対象と
なる基板を支持しているため、収容ボックス外に浮遊す
るパーティクルと接触することを少なくすることができ
る。従って、基板の搬送エリアをクリーン環境にする必
要がなくなり、クリーン環境の形成コストを大幅に削減
できる。
【0071】請求項2記載の本発明の基板搬送装置は、
それぞれ異なる離接方向移動体に支持された収容ボック
スを複数有するため、処理装置に対して交互にアクセス
することができる。従って、基板の連続処理に適する。
【0072】請求項3記載の本発明の基板搬送装置は、
さらに、前記収容ボックス内に、上下に高さの異なる複
数の基板支持部が形成されているため、処理装置との間
でこれらを連続的に受け渡すことができ、基板の連続処
理に適する。
【0073】請求項4記載の本発明の基板搬送装置で
は、前記収容ボックスの前端部が処理装置のシャッタに
当接した際に蓋部材が開口する。このため、収容ボック
スと処理装置の搬入出口との連通部を通じての外部パー
ティクルの侵入を防止できる。
【0074】請求項5記載の本発明の基板搬送装置で
は、蓋部材を構成する突出部に設けられたプッシュ部材
を押圧するだけで係合突起と蓋部材形成フレームの被係
合部との係合が解除され、蓋部材が外れる。従って、収
容ボックスを処理装置の搬入出口に密接させた後、この
プッシュ部材を押圧すれば双方が迅速に連通することに
なり、蓋部材の開放操作中に外部パーティクルが侵入す
るようなこともない。
【0075】請求項6記載の本発明の基板搬送装置は、
収容ボックス内の塵芥(パーティクル)を外部に排出可
能な塵芥排出機構が付設されているため、収容ボックス
と処理装置の搬入出口とを連通させる際、この塵芥排出
機構を通じて排気するように動作させれば、収容ボック
ス内のパーティクルが処理装置内に侵入することを防止
できる。請求項7記載の本発明の基板搬送装置は、収容
ボックス内のパーティクルが処理装置内に侵入すること
を防止でき、更には次工程が真空状態で処理する場合に
はロードロック室等は不要となる。
【0076】請求項8記載の本発明の処理装置では、基
板の搬入出口を開閉するシャッタに形成された嵌合溝
に、基板搬送装置の収容ボックスの突出部が嵌合する
と、嵌合溝に形成された爪部によりプッシュ部材が押圧
され、前記蓋部材を構成する本体プレート部の周面から
突出可能に設けられた係合突起と蓋部材形成枠内に設け
られた被係合部との係合状態を解除する。これにより、
該蓋部材が前記収容ボックスから外れ、シャッタに形成
された凹状部内に収容される。その後、シャッタが下方
に移動すると、収容ボックスの開口部と連通する。従っ
て、この蓋部材の開放作業時に外部パーティクルが処理
装置内に侵入することがない。
【0077】請求項9記載の本発明の処理装置は、中継
用搬送機構の基板の受け渡し部材が、基板搬送装置の収
容ボックスにアクセスして未処理基板を保持して処理部
に受け渡し、また、処理部から処理済みの基板を保持し
て基板搬送装置の収容ボックスに受け渡す。すなわち、
処理装置内に基板を搬送する手段が設けられている。従
って、基板搬送装置において基板を保持している部位
が、積極的に動作するものではなく、単に基板を収容し
ているに過ぎない収容ボックスである場合に基板の受け
渡しを円滑に行える装置として適している。
【0078】請求項10記載の本発明の処理装置では、
基板の搬入出口を開閉するシャッタに形成された嵌合溝
に、基板搬送装置の収容ボックスの突出部が嵌合する
と、嵌合溝に形成された爪部によりプッシュ部材が押圧
され、前記蓋部材を構成する本体プレート部の周面から
突出可能に設けられた係合突起と蓋部材形成枠内に設け
られた被係合部との係合状態を解除する。これにより、
該蓋部材が前記収容ボックスから外れ、シャッタに形成
された凹状部内に収容される。その後、シャッタが下方
に移動すると、収容ボックスの開口部と連通する。従っ
て、この蓋部材の開放作業時に外部パーティクルが処理
装置内に侵入することがない。また、処理装置内に基板
を搬送する中継用搬送機構が設けられている。従って、
基板搬送装置において基板を保持している部位が、積極
的に動作するものではなく、単に基板を収容しているに
過ぎない収容ボックスである場合に基板の受け渡しを円
滑に行える装置として適している。
【0079】請求項11記載の本発明の処理装置では、
未処理の基板と処理済みの基板とを異なる受け渡し部材
で保持できる。従って、例えば、加熱装置においては、
未処理の低温の基板と処理済みの高温の基板を専用の受
け渡し部材で保持できるため、一つの受け渡し部材でい
ずれの受け渡しも行う場合と比較して、受け渡し部材に
蓄熱された熱等による基板への悪影響を小さくすること
ができる。
【0080】請求項12記載の本発明の基板の処理シス
テムは、箱形に形成された収容ボックスの内部に処理対
象となる基板を収容して搬送するため、収容ボックス外
に浮遊するパーティクルと接触することを少なくするこ
とができる。従って、基板の搬送エリアをクリーン環境
にする必要がなくなり、クリーン環境の形成コストを大
幅に削減できる。
【0081】請求項13記載の本発明の基板の搬送方法
は、箱形に形成された収容ボックスの内部に処理対象と
なる基板を収容して搬送するため、収容ボックス外に浮
遊するパーティクルと接触することを少なくすることが
できる。従って、基板の搬送エリアをクリーン環境にす
る必要がなくなり、クリーン環境の形成コストを大幅に
削減できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の処理システムの実施の形態を示す斜
視図である。
【図2】 上記実施の形態で用いたローダ・アンローダ
の構成を説明するための図である。
【図3】 本発明の基板搬送装置の実施の形態を示す斜
視図である。
【図4】 上記実施の形態にかかる基板搬送装置を示す
側面図である。
【図5】 上記実施の形態で用いた収容ボックスを示す
斜視図である。
【図6】 図5のA−A線断面図である。
【図7】 収容ボックスの蓋部材を示す斜視図である。
【図8】 収容ボックスの正面図である。
【図9】 図8のB−B線断面図である。
【図10】 本発明の処理装置の実施の形態を模式的に
示す図である。
【図11】 上記実施の形態にかかる処理装置のシャッ
タの一部を示す斜視図である。
【図12】 シャッタの構造を説明するための断面図で
ある。
【図13】 シャッタの動作(その1)を説明するため
の図である。
【図14】 シャッタの動作(その2)を説明するため
の図である。
【図15】 シャッタの動作(その3)を説明するため
の図である。
【図16】 基板搬送装置に設けた塵芥排出機構を説明
するための断面図である。
【符号の説明】
10 第1の搬送路 11 第2の搬送路 40 基板搬送装置 41 搬送方向移動体 43 回転軸 44a 貫通孔 44b ファン 45 離接方向移動体 50 収容ボックス 51 本体部 51d 基板支持部 51e 基板支持部 51g 溝部 52 蓋部材 52a 本体プレート部 52b 突出部 52c 係合突起 52d プッシュ部材 60 処理装置 60a 搬入出口 61 シャッタ 61a 凹状部 61b 嵌合溝 61c 爪部 62 処理部 70 中継用搬送機構 74 受け渡し部材 G ガラス基板G
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 荒木 真一郎 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成 272番地の4 東京エレクトロン九州株 式会社 大津事業所内 (72)発明者 岩崎 達也 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成 272番地の4 東京エレクトロン九州株 式会社 大津事業所内 (72)発明者 穴井 徳行 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成 272番地の4 東京エレクトロン九州株 式会社 大津事業所内 (72)発明者 岩津 春生 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成 272番地の4 東京エレクトロン九州株 式会社 大津事業所内 (56)参考文献 特開 平6−104331(JP,A) 特開 平7−335715(JP,A) 特開 平10−98087(JP,A) 特開 平8−162515(JP,A) 特開 平7−312335(JP,A) 特開 平3−214645(JP,A) 特開 平9−51028(JP,A) 特開 平8−88263(JP,A) 特開 平11−145239(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/68 B65G 49/06

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 搬送路に沿って移動可能な搬送方向移動
    体と、 前記搬送方向移動体に対し、水平方向に回転可能な回転
    軸を介して支持され、各処理装置の搬入出口に対峙した
    姿勢において該搬入出口に離接する方向に移動可能であ
    り、かつ、内部に処理対象となる基板を支持する基板支
    持部を備えると共に、前面に基板の出し入れを行うため
    の蓋部材を備えた箱形の収容ボックスを支持可能な離接
    方向移動体とを具備し、 前記蓋部材は、前記収容ボックスの前端部が処理装置の
    搬入出口を開閉するシャッタに当接した際に開口するよ
    うに設けられており、さらに、本体プレート部と、該本
    体プレート部の前面に突出する突出部と、該本体プレー
    ト部の周面から突出可能に設けられ、収容ボックスの蓋
    部材形成枠内に設けられた被係合部に係合する係合突起
    と、前記突出部に設けられると共に、押圧手段によって
    押圧されることにより前記係合突起を本体プレート部の
    周面内に埋没させることができるプッシュ部材とを具備
    する ことを特徴とする基板搬送装置。
  2. 【請求項2】 搬送路に沿って移動可能な搬送方向移動
    体と、 前記搬送方向移動体に対し、水平方向に回転可能な回転
    軸を介して支持され、各処理装置の搬入出口に対峙した
    姿勢において該搬入出口に離接する方向に移動可能であ
    ると共に、上下に間隔をおいて複数設けられ、かつ、内
    部に処理対象となる基板を支持する基板支持部を備える
    と共に、前面に基板の出し入れを行うための蓋部材を備
    えた箱形の収容ボックスをそれぞれ支持可能な離接方向
    移動体とを具備し、 前記蓋部材は、前記収容ボックスの前端部が処理装置の
    搬入出口を開閉するシャッタに当接した際に開口するよ
    うに設けられており、さらに、本体プレート部と、該本
    体プレート部の前面に突出する突出部と、該本体プレー
    ト部の周面から突出可能に設けられ、収容ボックスの蓋
    部材形成枠内に設けられた被係合部に係合する係合突起
    と、前記突出部に設けられると共に、押圧手段によって
    押圧されることにより前記係合突起を本体プレート部の
    周面内に埋没させることができるプッシュ部材とを具備
    する ことを特徴とする基板搬送装置。
  3. 【請求項3】 請求項1または2記載の基板搬送装置で
    あって、前記収容ボックス内に、上下に高さを違えて複
    数の基板支持部が形成されていることを特徴とする基板
    搬送装置。
  4. 【請求項4】 請求項1〜3のいずれか1に記載の基板
    搬送装置であって、前記収容ボックスに形成した塵芥排
    出孔を通じて、該収容ボックス内の塵芥を外部に排出可
    能な塵芥排出機構が付設されていることを特徴とする基
    板搬送装置。
  5. 【請求項5】 請求項1〜4のいずれか1に記載の基板
    搬送装置であって、前記収容ボックスが真空状態されて
    いることを特徴とする基板搬送装置。
  6. 【請求項6】 基板の搬入出口を開閉するシャッタを備
    えた処理装置であって、 前記シャッタは、内部に設けられた基板支持部に基板を
    支持し、該基板を外部と隔離した状態で搬送する基板搬
    送装置の収容ボックスの前端部を受け入れ可能な凹状部
    が前面に形成されていると共に、該凹状部内に、該収容
    ボックスの蓋部材に突出形成された突出部を受け入れ可
    能な突出部用の嵌合溝が形成され、かつ該嵌合溝の内周
    面に、前記突出部に設けられたプッシュ部材を押圧可能
    な爪部が突設され、前記突出部が嵌合溝に嵌合すると、
    該爪部によりプッシュ部材が押圧され、前記蓋部材を構
    成する本体プレート部の周面から突出可能に設けられた
    係合突起と蓋部材形成枠内に設けられた被係合部との係
    合状態を解除して該蓋部材を前記収容ボックスから取り
    外し、前記凹状部内に収容することができると共に、上
    下動可能に支持されていることを特徴とする処理装置。
  7. 【請求項7】 基板の搬入出口を開閉するシャッタを備
    えた処理装置であって、 前記シャッタは、内部に設けられた基板支持部に基板を
    支持し、該基板を外部と隔離した状態で搬送する基板搬
    送装置の収容ボックスの前端部を受け入れ可能な凹状部
    が前面に形成されていると共に、該凹状部内に、該収容
    ボックスの蓋部材に突出形成された突出部を受け入れ可
    能な突出部用の嵌合溝が形成され、かつ該嵌合溝の内周
    面に、前記突出部に設けられたプッシュ部材を押圧可能
    な爪部が突設され、前記突出部が嵌合溝に嵌合すると、
    該爪部によりプッシュ部材が押圧され、前記蓋部材を構
    成する本体プレート部の周面から突出可能に設けられた
    係合突起と蓋部材形成枠内に設けられた被係合部との係
    合状態を解除して該蓋部材を前記収容ボックスから取り
    外し、前記凹状部内に収容することができると共に、上
    下動可能に支持され、 前端部が搬入口に密接するように位置している基板搬送
    装置の収容ボックスに対して離接可能に設けられた基板
    の受け渡し部材を有し、該収容ボックスから受け取った
    基板を処理部に受け渡し、処理部から受け取った基板を
    該収容ボックスに受け渡す中継用搬送機構が、内部に設
    けられていることを特徴とする処理装置。
  8. 【請求項8】 請求項7に記載の処理装置であって、前
    記中継用搬送機構は、基板搬送装置の収容ボックスから
    未処理の基板を受け取って処理部に受け渡す未処理基板
    用の受け渡し部材と、処理部において処理済みの基板を
    受け取って基板搬送装置の収容ボックスに受け渡す処理
    済み基板用の受け渡し部材とが別々に設けられているこ
    とを特徴とする処理装置。
  9. 【請求項9】 搬送路に沿って走行する基板搬送装置に
    より、該搬送路付近に配置された複数の処理装置との間
    で基板の受け渡しを行いながら当該基板に対して所定の
    処理を行う基板の処理システムであって、 基板搬送装置に載置可能であると共に、前面に開閉可能
    な蓋部材を備えた、搬送時に基板を収容する箱形の収容
    ボックスを有し、 前記蓋部材は、前記収容ボックスの前端部が処理装置の
    搬入出口を開閉するシャッタに当接した際に開口するよ
    うに設けられており、さらに、本体プレート部と、該本
    体プレート部の前面に突出する突出部と、該本体プレー
    ト部の周面から突出可能に設けられ、収容ボックスの蓋
    部材形成枠内に設けられた被係合部に係合する係合突起
    と、前記突出部に設けられると共に、押圧手段によって
    押圧されることにより前記係合突起を本体プレート部の
    周面内に埋没させることができるプッシュ部材とを具備
    することを特徴とする基板の処理システム。
  10. 【請求項10】 搬送路に沿って走行する基板搬送装置
    により、該搬送路付近に配置された処理装置との間で基
    板の受け渡しを行うとともに、前記基板を、前面に開閉
    可能な蓋部材を備えた箱形の収容ボックス内に収容して
    搬送する基板の搬送方法であって、前記蓋部材は、前記収容ボックスの前端部が処理装置の
    搬入出口を開閉するシャッタに当接した際に開口するよ
    うに設けられており、さらに、本体プレート部と、該本
    体プレート部の前面に突出する突出部と、該本体プレー
    ト部の周面から突出可能に設けられ、収容ボックスの蓋
    部材形成枠内に設けられた被係合部に係合する係合突起
    と、前記突出部に設けられると共に、押圧手段によって
    押圧されることにより前記係合突起を本体プレート部の
    周面内に埋没させることができるプッシュ部材とを具備
    する ことを特徴とする基板の搬送方法。
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