JP6822953B2 - 基板キャリア及びパージチャンバの環境制御を伴う基板処理のシステム、装置、及び方法 - Google Patents
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Description
本願は、2015年1月28日に出願された「SUBSTRATE PROCESSING SYSTEMS, APPARATUS, AND METHODS WITH SUBSTRATE CARRIER AND PURGE CHAMBER ENVIRONMENTAL CONTROLS」と題する米国仮出願第62/108,834号(整理番号22444/L2)に対して、及び2014年11月25日に出願された「SUBSTRATE PROCESSING SYSTEMS, APPARATUS, AND METHODS WITH SUBSTRATE CARRIER AND PURGE CHAMBER ENVIRONMENTAL」と題する米国仮出願第62/084,350号(整理番号22444/L)に対して優先権及びその利益を主張し、これらの開示はそれぞれ、全ての目的のために参照によって本書に援用される。
1)相対湿度(RH)、
2)温度(T)、
3)O2の量、
4)不活性ガスの量、または
5)汚染化学物質の量(例えば、アミン、塩基、1つ以上の揮発性有機化合物(VOC)の量など)
のうちの、少なくとも1つを制御し得る。ファクトリインターフェースチャンバからのまたはファクトリインターフェースへのガス流量、もしくはチャンバ圧力、またはその両方といった、ファクトリインターフェースチャンバ114Cの他の環境条件も、モニタ及び/または制御され得る。
Claims (13)
- ファクトリインターフェースチャンバを含むファクトリインターフェースと、
前記ファクトリインターフェースに連結される1つ以上の基板キャリアと、
前記ファクトリインターフェース及び前記1つ以上の基板キャリアに連結され、前記1つ以上の基板キャリア及び前記ファクトリインターフェースチャンバ内の環境を制御するように動作可能な環境制御システムと、
特定の環境条件が満たされるまで、キャリアパージチャンバをパージするように構成され適合されたキャリアパージチャンバ環境制御システムと、
を備え、
前記キャリアパージチャンバは、前記ファクトリインターフェースのロードポートバックプレートの少なくとも一部、及び、前記ロードポートバックプレートの内壁に対して封止されたドアオープナーであって、該ドアオープナーの動作によって前記1つ以上の基板キャリアのキャリアドアを開放するように構成されたドアオープナーの少なくとも一部によって形成され、前記ファクトリインターフェースチャンバ内において前記ドアオープナーを取り囲む追加のハウジングを含まない、
電子デバイス処理システム。 - 前記環境制御システムが、
前記1つ以上の基板キャリアをパージする不活性ガスを提供するように動作可能なキャリア環境制御システムと、
前記ファクトリインターフェースチャンバに不活性ガスを提供するように動作可能なファクトリインターフェース環境制御システムと
を備える、請求項1に記載の電子デバイス処理システム。 - 前記環境制御システムが、
前記1つ以上の基板キャリアに不活性ガスを提供するように動作可能なキャリア環境制御システム
を備え、
前記キャリアパージチャンバ環境制御システムが、前記キャリアパージチャンバに不活性ガスを提供するように動作可能である、
請求項1に記載の電子デバイス処理システム。 - 前記環境制御システムは、前記ファクトリインターフェースチャンバ及び前記1つ以上の基板キャリア内のO2の量、または不活性ガスの量を制御するように動作可能である、請求項1に記載の電子デバイス処理システム。
- 前記ファクトリインターフェースチャンバまたは前記1つ以上の基板キャリアの相対湿度を感知するよう適合された湿度センサを備える、請求項1に記載の電子デバイス処理システム。
- 前記ファクトリインターフェースチャンバまたは前記1つ以上の基板キャリアの酸素レベルを感知するよう適合された酸素センサを備える、請求項1に記載の電子デバイス処理システム。
- 前記ファクトリインターフェースチャンバまたは前記1つ以上の基板キャリア内の、
相対湿度、
O2の量、
温度、
不活性ガスの量、または
汚染化学物質の量
のうちの1つ以上を制御するように構成され適合されたコントローラを備える、請求項1に記載の電子デバイス処理システム。 - 前記環境制御システムが、
コントローラ、及び
前記コントローラに応答し、ある量の不活性ガスを前記1つ以上の基板キャリア及び前記ファクトリインターフェースの前記ファクトリインターフェースチャンバに流すように構成され適合された不活性ガス供給部を備える、請求項1に記載の電子デバイス処理システム。 - 前記環境制御システムは、前記1つ以上の基板キャリアの底部に連結されたキャリア環境制御システムを備える、請求項1に記載の電子デバイス処理システム。
- ファクトリインターフェースチャンバを含むファクトリインターフェース、
前記ファクトリインターフェースに連結される1つ以上の基板キャリア、
前記ファクトリインターフェースチャンバと前記1つ以上の基板キャリアとの間のキャリアパージチャンバであって、前記ファクトリインターフェースのロードポートバックプレートの少なくとも一部、及び、前記ロードポートバックプレートの内壁に対して封止されたドアオープナーであって、該ドアオープナーの動作によって前記1つ以上の基板キャリアのキャリアドアを開放するように構成されたドアオープナーの少なくとも一部によって形成され、前記ファクトリインターフェースチャンバ内において前記ドアオープナーを取り囲む追加のハウジングを含まない、キャリアパージチャンバ、並びに
前記キャリアパージチャンバ及び前記1つ以上の基板キャリアに連結され、前記1つ以上の基板キャリア内及び前記キャリアパージチャンバ内の環境を制御するように動作可能な環境制御システム
を備える、電子デバイス処理システム。 - ファクトリインターフェースチャンバを含むファクトリインターフェースを設けること、
前記ファクトリインターフェースにドッキングされる、1つ以上の基板キャリアを設けること、
前記ファクトリインターフェースチャンバと前記1つ以上の基板キャリアとの間に、キャリアパージチャンバであって、前記ファクトリインターフェースのロードポートバックプレートの少なくとも一部、及び、前記ロードポートバックプレートの内壁に対して封止されたドアオープナーであって、該ドアオープナーの動作によって前記1つ以上の基板キャリアのキャリアドアを開放するように構成されたドアオープナーの少なくとも一部によって形成され、前記ファクトリインターフェースチャンバ内において前記ドアオープナーを取り囲む追加のハウジングを含まない、キャリアパージチャンバを設けること、及び
前記キャリアパージチャンバ及び前記1つ以上の基板キャリア内の環境条件を制御すること
を含む、電子デバイス処理システム内で基板を処理する方法。 - ファクトリインターフェースチャンバを含むファクトリインターフェース、前記ファクトリインターフェースにドッキングされる1つ以上の基板キャリア、及び前記ファクトリインターフェースチャンバ内の1つ以上のキャリアパージチャンバを設けることであって、前記1つ以上のキャリアパージチャンバは、前記ファクトリインターフェースのロードポートバックプレートの少なくとも一部、及び、前記ロードポートバックプレートの内壁に対して封止されたドアオープナーであって、該ドアオープナーの動作によって前記1つ以上の基板キャリアのキャリアドアを開放するように構成されたドアオープナーの少なくとも一部によって形成され、前記ファクトリインターフェースチャンバ内において前記ドアオープナーを取り囲む追加のハウジングを含まないものである、設けること、並びに、
前記ファクトリインターフェースチャンバ内、前記1つ以上のキャリアパージチャンバ内、及び前記1つ以上の基板キャリア内の環境条件を制御すること
を含む、電子デバイス処理システム内で基板を処理する方法。 - ファクトリインターフェースチャンバを含むファクトリインターフェース、
前記ファクトリインターフェースに連結された1つ以上の基板キャリア、
前記ファクトリインターフェースチャンバと前記1つ以上の基板キャリアの間のキャリアパージチャンバであって、前記ファクトリインターフェースのロードポートバックプレートの少なくとも一部と、前記ロードポートバックプレートの内壁に対して封止されたドアオープナーであって、該ドアオープナーの動作によって前記1つ以上の基板キャリアのキャリアドアを開放するように構成されたドアオープナーの少なくとも一部とによって形成され、前記ファクトリインターフェースチャンバ内において前記ドアオープナーを取り囲む追加のハウジングを含まない、キャリアパージチャンバ、及び、
特定の環境条件が満たされるまで、前記キャリアパージチャンバをパージするように構成され適合された、キャリアパージチャンバ環境制御システム
を備える、電子デバイス処理システム。
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