JP6454580B2 - 熱硬化性接着シート、及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
1.熱硬化性接着シート
2.半導体装置の製造方法
3.実施例
本実施の形態に係る熱硬化性接着シートは、半導体ウエハをダイシングする際に、半導体ウエハの研磨面に貼り合わされる熱硬化性接着層を有し、ダイシング工程時にウエハを補強し、クラックを防止する補強シートである。
次に、前述の熱硬化性接着シートを用いた半導体装置の製造方法について説明する。本実施の形態に係る半導体装置の製造方法は、半導体ウエハを研磨するグラインド工程と、半導体ウエハの研磨面に熱硬化性接着シートを貼り合わせて硬化させ、半導体ウエハの反り量を低減させる工程と、半導体ウエハの熱硬化性接着シート面にダイシングテープを貼り合わせ、ダイシングするダイシング工程とを有する。半導体ウエハの反り量が低減されるため、容易にダイシングすることができ、生産性を向上させることができる。
図2は、保護テープ貼付工程の概略を示す断面図である。保護テープ貼付工程では、突起電極22が形成されたウエハ21面に保護テープ30を貼り付ける。保護テープ30を貼り付ける貼付温度は、ボイドの減少、ウエハ密着性の向上およびウエハ研削後の反り防止の観点から、25℃以上100℃以下、好ましくは40℃以上80℃以下である。
図3は、グラインド工程の概略を示す断面図である。グラインド工程では、保護テープ30貼付面の反対面をグラインド処理する。保護テープ30を貼り付けたウエハ21の反対面を研削装置に固定して研磨する。このグラインド工程において、研磨によりウエハ21の厚さは、200μm以下、さらには50μm以下である。ウエハ21の厚さを小さくすればするほど、ウエハ21の反り量が大きくなる。なお、ウエハ21の反り量は、平面ステージ(X,Y軸)にウエハ21を置いたときの反り(Z軸)の最大値である。
図4は、熱硬化性接着シート貼付工程の概略を示す断面図である。熱硬化性接着シート貼付工程では、ウエハ21のグラインド処理面に熱硬化性接着シートの熱硬化性接着層12を貼付する。
図5は、保護テープ剥離工程の概略を示す断面図である。保護テープ剥離工程では、保護テープ30を剥離する。
図6は、硬化工程の概略を示す断面図である。硬化工程では、熱硬化性接着層12を硬化させる。硬化方法及び硬化条件としては、熱硬化型の接着剤を硬化させる公知の方法を用いることができる。硬化工程では、例えば、80〜180℃の温度、0.1〜5hの時間でキュアすることにより、熱硬化性接着層12を硬化させることが可能である。これにより、熱硬化性接着層12が大きく収縮し、ウエハ21の反りと逆方向の応力が生じるため、ウエハ21を平坦な状態に維持させることが可能となる。
図7は、粘着テープ貼付工程の概略を示す断面図である。粘着テープ貼付工程では、グラインド処理面に粘着テープ40を貼付する。粘着テープ40は、ダイシングテープ(Dicing Tape)と呼ばれるものであり、ダイシング工程(G)において、ウエハ21を保護、固定し、ピックアップ工程(I)まで保持するためのテープである。
図8は、ダイシング処理工程の概略を示す断面図である。ダイシング処理工程では、粘着テープ40が貼付されたウエハ21をダイシング処理し、個片の半導体チップを得る。ダイシング方法としては、特に限定されず、例えばダイシングソーでウエハ21を切削して切り出すなどの公知の方法を用いることができる。
図9は、エキスパンド工程の概略を示す断面図である。エキスパンド工程では、例えば分割された複数個の半導体チップが貼着されている粘着テープ40を放射方向に伸長させ、個々の半導体チップの間隔を広げる。
図10は、ピックアップ工程の概略を示す断面図である。ピックアップ工程では、粘着テープ40上に貼着固定された半導体チップを、粘着テープ40の下面より突き上げて剥離させ、この剥離された半導体チップをコレットで吸着する。ピックアップされた半導体チップは、チップトレイに収納されるか、またはフリップチップボンダーのチップ搭載ノズルへと搬送される。
図11は、実装工程の概略を示す断面図である。実装工程では、例えば半導体チップと回路基板とをNCF(Non Conductive Film)などの回路接続材料を用いて接続する。回路基板としては、特に限定されないが、ポリイミド基板、ガラスエポキシ基板などのプラスチック基板、セラミック基板などを用いることができる。また、接続方法としては、加熱ボンダー、リフロー炉などを用いる公知の方法を用いることができる。
以下、本発明の実施例について説明する。
第1の実施例では、熱硬化性接着シートを作製し、これを反りが発生したパターン付ウエハに貼り合わせ、積層体の硬化後の反り量について評価した。また、熱硬化性接着シートの硬化速度、密着信頼性、アライメントマーク認識性、及びダイシングテープの貼り付け性について評価した。
下記成分を配合し、樹脂組成物を調製した。これを、剥離処理されたPET(Polyethylene terephthalate)にバーコーターを用いて塗布し、80℃のオーブンで3分間乾燥させ、厚み20μmの熱硬化性接着シートを作製した(カバー剥離PET(25μm)/熱硬化性接着シート(20μm)/ベース剥離PET(50μm))。
FX293:フルオレン型フェノキシ樹脂(新日鉄住金化学(株)製)
YP−50:ビスフェノールA型フェノキシ樹脂(新日鉄住金化学(株)製)
SG−80H:アクリル系エラストマー(ナガセケムテックス(株)製)
RKB−5515B:ブタジエン系エラストマー(レジナス化成(株)製)
DCP:トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート(新中村化学工業(株)、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)=166)
A−DCP:トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(新中村化学工業(株)、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)=152)
M−315:イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジアクリレートとイソシアヌル酸 エチレンオキサイド変性トリアクリレートの混合物(イソシアヌル酸エチレンオキサイド 変性ジアクリレートの含有率が3%〜13%)(東亞合成(株)製、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)=144)
A−DPH:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(新中村化学工業(株)、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)=96)
UV−1700B:ウレタンアクリレート(日本合成化学(株)、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)=222)
4−HBA:4−ヒドロキシブチルアクリレート(新中村化学工業(株)、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)=144)
CEL−2021P:脂環式エポキシ樹脂((株)ダイセル)
JER1031S:特殊多官能エポキシ樹脂(三菱化学(株))
パーロイルL:ジラウロイルパーオキサイド(日油(株)製、1分間半減期温度:116.4℃)
パーオクタO:1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート(日油(株)製、1分間半減期温度:116.4℃)
パーヘキサV:n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレレート(日油(株)製、1分間半減期温度:116.4℃)
TD−2131:フェノールノボラック(DIC(株))
U−CAT5002:DBU系テトラフェニルボレート塩(サンアプロ(株))
アエロジルR202:シリカ(日本アエロジル(株))
#20:カーボンブラック
KBM−5103:アクリル系シランカップリング剤(信越シリコーン(株))
KBM−403:エポキシ系シランカップリング剤(信越シリコーン(株))
厚み20μmの熱硬化性接着シートをパターン付ウエハ上にプレス機にて貼り合わせ、130℃、1hの条件でキュアして積層体を得た。
パターン付ウエハの反り量の測定と同様に、積層体の反り量は、平面ステージ(X,Y軸)に積層体を置いたときの反り(Z軸)の最大値とした。積層体の反り量が1.0mm未満のものを「◎」、積層体の反り量が1.0mm以上1.5mm未満のものを「○」、積層体の反り量が1.5mm以上2.5mm未満のものを「△」、積層体の反り量が2.5mm以上のものを「×」と評価した。
フーリエ変換赤外分光光度計(FT/IR−4100、日本分光社製)を用いて、130℃、1hの条件でキュアした厚み20μmの熱硬化性接着シートのサンプルを透過法にて測定した。未硬化の熱硬化性接着シートのアクリルモノマー(不飽和基)の測定強度と、完全硬化後の熱硬化性接着シートのアクリルモノマー(不飽和基)の測定強度との比から、熱硬化性接着シートのサンプルの反応率を算出した。熱硬化性接着シートの反応率が80%以上のものを「◎」、熱硬化性接着シートの反応率が50%以上80%未満のものを「○」、熱硬化性接着シートの反応率が50%未満のものを「×」と評価した。
130℃、1hの条件でキュアした厚み20μmの熱硬化性接着シートの初期の接着強度と、温度85℃、湿度85%、1000hの信頼性試験後の熱硬化性接着シートの接着強度とを測定した。接着強度は、JIS K 6854に準拠して剥離速度50mm/minで90度剥離試験を行い、引き剥がすのに要した力を剥離強度として測定した。信頼性試験後の接着強度が初期の接着強度の90%以上のものを「◎」、信頼性試験後の接着強度が初期の接着強度の80%以上90%未満のものを「○」、信頼性試験後の接着強度が初期の接着強度の80%未満のものを「×」と評価した。
130℃、1hの条件でキュアした厚み20μmの熱硬化性接着シートについて、赤外線(波長:1μm)の透過率を測定した。IR透過率が50%以上のものを「◎」、IR透過率が30%以上50%未満のものを「○」、IR透過率が30%未満のものを「×」と評価した。
130℃、1hの条件でキュアして得られた積層体の熱硬化性接着層側にダイシングテープをラミネートした。ダイシングテープを目視し、気泡が確認できない場合を「○」と評価し、気泡が確認できた場合を「×」と評価した。
フルオレン型フェノキシ樹脂(FX293)を5質量部、アクリル系エラストマー(SG−80H)を20質量部、3官能アクリレート(M−315)を50質量部、有機過酸化物(パーロイルL)を5質量部、シリカ(アエロジルR202)を100質量部、アクリル系カップリング剤(KBM−5103)を2質量部配合し、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)の加成平均値が144、平均架橋密度が7.1E−03である樹脂組成物を調製し、熱硬化性接着シートを作製した。
3官能アクリレート(M−315)に代えて、2官能アクリレート(A−DCP)を50質量部配合し、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)の加成平均値が152、平均架橋密度が6.6E−03である樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様に熱硬化性接着シートを作製した。
3官能アクリレート(M−315)に代えて、2官能メタクリレート(DCP)を50質量部配合し、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)の加成平均値が166、平均架橋密度が6.0E−03である樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様に熱硬化性接着シートを作製した。
3官能アクリレート(M−315)に代えて、多官能メタクリレート(A−DPH)を50質量部配合し、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)の加成平均値が96、平均架橋密度が1.0E−02である樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様に熱硬化性接着シートを作製した。
3官能アクリレート(M−315)に代えて、多官能ウレタンアクリレート(UV−1700B)を50質量部配合し、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)の加成平均値が222、平均架橋密度が4.5E−03である樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様に熱硬化性接着シートを作製した。
3官能アクリレート(M−315)に代えて、多官能メタクリレート(A−DPH)を20質量部配合し、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)の加成平均値が96、平均架橋密度が1.0E−02である樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様に熱硬化性接着シートを作製した。
3官能アクリレート(M−315)に代えて、多官能メタクリレート(A−DPH)を70質量部配合し、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)の加成平均値が96、平均架橋密度が1.0E−02である樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様に熱硬化性接着シートを作製した。
[実施例8]
3官能アクリレート(M−315)を30質量部、2官能メタクリレート(DCP)を18質量部、単官能アクリレート(4−HBA)を2質量部配合し、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)の加成平均値が125、平均架橋密度が6.7E−03である樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様に熱硬化性接着シートを作製した。
フルオレン型フェノキシ樹脂(FX293)を3質量部、ビスフェノールA型フェノキシ樹脂(YP−50)を2質量部配合し、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)の加成平均値が144、平均架橋密度が7.1E−03である樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様に熱硬化性接着シートを作製した。
フルオレン型フェノキシ樹脂(FX293)を配合せずに、アクリル系エラストマー(SG−80H)を25質量部配合し、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)の加成平均値が144、平均架橋密度が7.1E−03である樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様に熱硬化性接着シートを作製した。
アクリル系エラストマー(SG−80H)を15質量部、ブタジエン系エラストマー(RKB−5515B)を5質量部配合し、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)の加成平均値が144、平均架橋密度が7.1E−03である樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様に熱硬化性接着シートを作製した。
アクリル系エラストマー(SG−80H)に代えて、ブタジエン系エラストマー(RKB−5515B)を20質量部配合し、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)の加成平均値が144、平均架橋密度が7.1E−03である樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様に熱硬化性接着シートを作製した。
シリカ(アエロジルR202)を150質量部配合し、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)の加成平均値が144、平均架橋密度が7.1E−03である樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様に熱硬化性接着シートを作製した。
シリカ(アエロジルR202)を50質量部配合し、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)の加成平均値が144、平均架橋密度が7.1E−03である樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様に熱硬化性接着シートを作製した。
実施例1の配合にカーボンブラック(#20)を1質量部配合し、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)の加成平均値が144、平均架橋密度が7.1E−03である樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様に熱硬化性接着シートを作製した。
パーロイルLに代えて、パーオクタOを5質量部配合し、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)の加成平均値が144、平均架橋密度が7.1E−03である樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様に熱硬化性接着シートを作製した。
パーロイルLを4質量部、パーヘキサVを1質量部配合し、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)の加成平均値が144、平均架橋密度が7.1E−03である樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様に熱硬化性接着シートを作製した。
3官能アクリレート(M−315)、パーロイルL、及びアクリル系シランカップリング剤(KBM−5103)に代えて、脂環式エポキシ樹脂(CEL−2021P)を50質量部、フェノールノボラック(TD−2131)を5質量部、DBU系テトラフェニルボレート塩(U−CAT5002)を5質量部、エポキシ系シランカップリング剤(KBM−403)を2質量部配合し、樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様に熱硬化性接着シートを作製した。
3官能アクリレート(M−315)、パーロイルL、及びアクリル系シランカップリング剤(KBM−5103)に代えて、特殊多官能エポキシ樹脂(JER1031S)を50質量部、フェノールノボラック(TD−2131)を5質量部、DBU系テトラフェニルボレート塩(U−CAT5002)を5質量部、エポキシ系シランカップリング剤(KBM−403)を2質量部配合し、樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様に熱硬化性接着シートを作製した。
3官能アクリレート(M−315)に代えて、単官能アクリレート(4−HBA)を50質量部配合し、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)の加成平均値が144、平均架橋密度が6.9E−03である樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様に熱硬化性接着シートを作製した。
3官能アクリレート(M−315)を47.5質量部、単官能アクリレート(4−HBA)を2.5質量部配合し、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)の加成平均値が102、平均架橋密度が7.1E−03である樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様に熱硬化性接着シートを作製した。
パーロイルLに代えて、パーヘキサVを5質量部配合し、(メタ)アクリル当量(分子量/官能基数)の加成平均値が144、平均架橋密度が7.1E−03である樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様に熱硬化性接着シートを作製した。
Claims (9)
- 半導体ウエハをダイシングする際に、該半導体ウエハの研磨面に貼り合わされる熱硬化性接着シートであって、
エラストマーを含むポリマーと、
多官能(メタ)アクリレートを全(メタ)アクリレート中95wt%を超えて含む(メタ)アクリレートと、
1分間半減期温度が130℃以下である有機過酸化物と、
光透過性フィラーと
を含有する熱硬化性接着シート。 - 前記(メタ)アクリレートの(メタ)アクリル当量の加成平均値が、80g/eq以上230g/eq以下である請求項1記載の熱硬化性接着シート。
- 前記(メタ)アクリレートの含有量が、前記ポリマー25質量部に対し、20質量部以上70質量部以下である請求項1又は2記載の熱硬化性接着シート。
- 前記ポリマーが、さらにフェノキシ樹脂を含む請求項1乃至3のいずれか1項に記載の熱硬化性接着シート。
- 前記光透過性フィラーの含有量が、前記ポリマー25質量部に対し、50質量部以上150質量部以下である請求項1乃至4のいずれか1項に記載の熱硬化性接着シート。
- 前記ポリマーが、フルオレン型フェノキシ樹脂と、アクリル系エラストマーとを含む請求項1乃至5のいずれか1項に記載の熱硬化性接着シート。
- 前記有機過酸化物が、ジラウロイルパーオキサイドを含む請求項1乃至6のいずれか1項に記載の熱硬化性接着シート。
- 半導体ウエハを研磨するグラインド工程と、
前記半導体ウエハの研磨面に熱硬化性接着シートを貼付する熱硬化性接着シート貼付工程と、
前記熱硬化性接着シートを硬化させ、前記半導体ウエハの反り量を低減させる硬化工程と、
前記半導体ウエハの熱硬化性接着シート面にダイシングテープを貼付するダイシングテープ貼付工程と、
ダイシングテープが貼付されたウエハをダイシング処理し、個片の半導体チップを得るダイシング処理工程とを有し、
前記熱硬化性接着シートが、エラストマーを含むポリマーと、多官能(メタ)アクリレートを全(メタ)アクリレート中95wt%を超えて含む(メタ)アクリレートと、1分間半減期温度が130℃以下である有機過酸化物と、光透過性フィラーとを含有する半導体装置の製造方法。 - 前記グラインド工程では、厚みが200μm以下となるまで研磨する請求項8記載の半
導体装置の製造方法。
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