JP2022141003A - 板状物の処理方法 - Google Patents

板状物の処理方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2022141003A
JP2022141003A JP2021041113A JP2021041113A JP2022141003A JP 2022141003 A JP2022141003 A JP 2022141003A JP 2021041113 A JP2021041113 A JP 2021041113A JP 2021041113 A JP2021041113 A JP 2021041113A JP 2022141003 A JP2022141003 A JP 2022141003A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sheet
thermocompression
wafer
thermocompression bonding
plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2021041113A
Other languages
English (en)
Inventor
逸人 木内
Itsuto Kiuchi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP2021041113A priority Critical patent/JP2022141003A/ja
Publication of JP2022141003A publication Critical patent/JP2022141003A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Dicing (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

【課題】湾曲した板状物を平坦に矯正することができる板状物の処理方法を提供する。【解決手段】本発明の板状物の処理方法は、凸面に熱圧着シートを敷設する熱圧着シート敷設工程と、熱圧着シートを該凸面に密着させて加熱して該凸面に熱圧着シートを熱圧着する熱圧着工程と、熱圧着シートが常温に戻る際に収縮して板状物の湾曲を矯正する湾曲矯正工程と、を含み構成される。【選択図】図1

Description

本発明は、凹面と凸面を表裏に有して湾曲する板状物の処理方法に関する。
IC、LSI等の複数のデバイスが、分割予定ラインによって区画され表面に形成された板状のウエーハは、ダイシング装置、レーザー加工装置によって個々のデバイスチップに分割され携帯電話、パソコン等の電気機器に利用される。
ダイシング装置、レーザー加工装置によって個々のデバイスチップに分割される板状のウエーハとしては、各デバイスの電極にバンプと称する突起状の電極を配設し、バンプの頭が露出するようにウエーハの表面にモールド樹脂を被覆したウエーハレベルチップサイズパッケージ(WL-CSP)と称されるウエーハが知られている(例えば特許文献1参照)。
また、モールド樹脂が被覆される板状物としては、複数のデバイスチップを配線基板に所定の間隔をもって配設し、デバイスチップが配設された表面とは反対側の裏面にモールド樹脂を被覆したチップサイズパッケージ(CSP)基板が知られている(例えば特許文献2を参照)。
特開2000-173954号公報 特開2013-065603号公報
上記したWL-CSPウエーハでは、表面にモールド樹脂を被覆すると、該モールド樹脂がウエーハ上で流動体から固体に変化する際に収縮して表面が凹面となり、裏面が凸面となって湾曲し、WL-CSPウエーハを吸引保持して個々のデバイスチップに分割するのが困難になるという問題がある。また、CSP基板においては、複数のデバイスチップが配設された表面が凸面となり、モールド樹脂が被覆された裏面が凹面となって湾曲し、裏面側のモールド樹脂を均等に研削して薄化することが困難になるという問題がある。
本発明は、上記事実に鑑みなされたものであり、その主たる技術課題は、湾曲した板状物を平坦に矯正することができ、後工程において実施される加工に困難が生じることのない板状物の処理方法を提供することにある。
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、凹面と凸面を表裏に有して湾曲する板状物の処理方法であって、凸面に熱圧着シートを敷設する熱圧着シート敷設工程と、熱圧着シートを該凸面に密着させて加熱して該凸面に熱圧着シートを熱圧着する熱圧着工程と、熱圧着シートが常温に戻る際に収縮して板状物の湾曲を矯正する湾曲矯正工程と、を含み構成される板状物の処理方法が提供される。
好ましくは、板状物の弾性力、湾曲度合いによって、熱圧着シートの厚み、種類を選択する熱圧着シート選択工程が含まれる。また、熱圧着シートは、ポリオレフィン系シート、ポリエステル系シートのいずれかから選択されることが好ましい。さらに、該ポリオレフィン系シートは、ポリエチレンシート、ポリプロピレンシート、ポリスチレンシートのいずれかであり、該ポリエステル系シートは、ポリエチレンテレフタレートシート、ポリエチレンナフタレートシート、のいずれかであることが好ましく、該熱圧着工程において熱圧着シートを加熱する際の加熱温度は、該熱圧着シートとしてポリエチレンシートが選択された場合は120℃~140℃であり、ポリプロピレンシートが選択された場合は160℃~180℃であり、ポリスチレンシートが選択された場合は220℃~240℃であり、ポリエチレンテレフタレートシートが選択された場合は250℃~270℃であり、ポリエチレンナフタレートが選択された場合は160℃~180℃であることが好ましい。
本発明の板状物の処理方法は、凹面と凸面を表裏に有して湾曲する板状物の処理方法であって、凸面に熱圧着シートを敷設する熱圧着シート敷設工程と、熱圧着シートを該凸面に密着させて加熱して該凸面に熱圧着シートを熱圧着する熱圧着工程と、熱圧着シートが常温に戻る際に収縮して板状物の湾曲を矯正する湾曲矯正工程と、を含み構成されることから、湾曲した板状物が平坦に矯正され、後工程において板状物を加工する工程の実施が困難となるという問題が解決する。
第1の実施形態の板状物であるウエーハを熱圧着装置に載置する態様を示す斜視図である。 第1の実施形態における熱圧着シート敷設工程の実施態様を示す斜視図である。 第1の実施形態における熱圧着工程の実施態様の一例を示す斜視図である。 (a)(b)熱圧着工程の他の実施態様を示す斜視図である。 第1の実施形態における余剰部除去工程の実施態様を示す斜視図である。 (a)、(b)第1の実施形態における分割工程の実施態様を示す斜視図である。 第1の実施形態におけるピックアップ工程の実施態様を示す斜視図である。 (a)第2の実施形態の板状物であるCSP基板の斜視図、(b)第2の実施形態における熱圧着シート敷設工程の実施態様を示す斜視図である。 第2の実施形態における熱圧着工程の実施態様を示す斜視図である。 (a)、(b)第2の実施形態における熱圧着工程の他の実施態様を示す斜視図である。 第2の実施形態における余剰部除去工程の実施態様を示す斜視図である。 第2の実施形態においてCSP基板をチャックテーブルに載置する態様を示す斜視図である。 第2の実施形態における裏面研削工程の実施態様を示す斜視図である。 第2の実施形態において、熱圧着シートをCSP基板から剥離する態様を示す斜視図である。
以下、本発明に基づいて構成される板状物の処理方法に係る実施形態について添付図面を参照しながら、詳細に説明する。
図1には、第1の実施形態によって処理される板状物であるウエーハ10が示されている。ウエーハ10は、例えば厚さが800μmであって、分割予定ライン14によって区画された表面10aに複数形成された各デバイス12の電極に、図示を省略するバンプと称する突起状の電極を配設し、該バンプの頭が露出するようにウエーハ10の表面10a側にモールド樹脂16を被覆した、いわゆるウエーハレベルチップサイズパッケージ(WL-CSP)である。上述したように、モールド樹脂16は、ウエーハ10の表面10a側に、流動体として塗布され、その後、温度低下に伴って固体に変化するが、その際に収縮するため、ウエーハ10は、モールド樹脂16が被覆された表面10aが凹面となり、裏面10b側が凸面となって湾曲している。
上記したように湾曲したウエーハ10は、そのままでは、ウエーハ10を切削、又はレーザー加工により分割して、ウエーハ10を、適正に個々のデバイスチップに分割することが困難である。これに対処すべく、以下に説明する本実施形態の板状物の処理方法を実施する。
本実施形態の板状物の処理方法を実施するに際し、まず、凸面となっているウエーハ10の裏面10bに熱圧着シートを敷設する熱圧着シート敷設工程を実施する。より具体的には、図1に示すように、ウエーハ10と、ウエーハ10を収容可能な開口Faを有する環状のフレームFとを用意し、熱圧着装置20(一部のみを示している)に搬送する。熱圧着装置20には、チャックテーブル22が配設されている。チャックテーブル22は、通気性を有する吸着チャック221と、吸着チャック221を囲繞する枠体222とを備え、枠体222には、図示を省略する吸引源が接続されている。該吸引源を作動させることで、吸着チャック221の保持面に吸引負圧を生成することができる。
熱圧着装置20の吸着チャック221上に、フレームF及びウエーハ10の中央位置がチャックテーブル22の中央位置と一致するように載置する(図1の下段を参照)。このとき、ウエーハ10は、図に示すように凸面となっている裏面10b側が上方に向けられている。
上記したように、チャックテーブル22上にウエーハ10とフレームFとを載置したならば、図2に示すように、ウエーハ10、フレームF、及び吸着チャック221を覆う大きさの熱圧着シートT1を用意し、凸面となっているウエーハ10の裏面側から敷設する。なお、本実施形態の熱圧着シートT1は、吸着チャック221よりも大きく枠体222の外縁よりも小さい大きさの円形にカットされた熱圧着シートである。以上により、熱圧着シート敷設工程が完了する。
上記した熱圧着シートT1は、ポリオレフィン系シート、ポリエステル系シートのいずれかから選択することが好ましい。熱圧着シートT1をポリオレフィン系シートから選択する場合は、ポリエチレンシート、ポリプロピレンシート、ポリスチレンシートのいずれかから選択することが好ましい。また、熱圧着シートT1をポリエステル系シートから選択する場合は、ポリエチレンテレフタレートシート、ポリエチレンナフタレートシートのいずれかから選択することが好ましい。なお、以下に説明する実施形態では、熱圧着シートT1として、ポリエチレンシートを選択したものとして説明する。
上記したように熱圧着シート敷設工程を実施したならば、熱圧着シートを該凸面である裏面10bに密着させて加熱して該凸面に熱圧着シートを熱圧着する熱圧着工程を実施する。より具体的には、まず、上記した吸引源を作動して、吸着チャック221の上面に吸引負圧Vを生成して、ウエーハ10、フレームF、及び熱圧着シートT1を吸引し、熱圧着シートT1と、ウエーハ10及びフレームFとの間を真空状態とする。次いで、図3に示すように、チャックテーブル22上に、熱圧着装置20に配設された加熱ローラ24を位置付ける。加熱ローラ24の内部には、図示を省略する加熱ヒータ及び温度センサが配設され、所望の温度に調整することが可能に構成されている。加熱ローラ24の表面24aには、フッ素樹脂がコーティングされており、熱圧着シートT1が粘着力を発揮しても、加熱ローラ24に熱圧着シートT1が粘着して巻き込むことがないようになっている。
上記したように、ウエーハ10を覆う熱圧着シートT1の上方に加熱ローラ24を位置付けたならば、加熱ローラ24を作動して、加熱ローラ24の表面24aが、ポリエチレンシートが完全には溶融せず粘着力を発揮する温度である120℃~140℃になるように温度調整し、図に示すように手前側の端部から熱圧着シートT1に押し付けて、ウエーハ10の凸面を形成する裏面10bに密着させる。そして、加熱ローラ24を矢印R1で示す方向に回転させながら、水平方向である矢印R2で示す方向に移動させて奥側の端部まで移動して、熱圧着シートT1をウエーハ10の裏面10b及びフレームFに熱圧着する。以上により熱圧着工程が完了する。
なお、本発明の熱圧着工程は、上記の加熱ローラ24を使用する方法に限定されない。例えば、図4(a)に示すように、チャックテーブル22の上方に赤外線照射装置26を位置付けて、ウエーハ10及びフレームをチャックテーブル22に吸引保持しつつ、上方から赤外線を照射して、熱圧着シートT1を120℃~140℃に加熱して、ウエーハ10の裏面10b側に熱圧着シートT1を熱圧着することもできる。さらに、上記した赤外線照射装置26に替えて、図4(b)に示すように、温風ヒータ28をチャックテーブル22の上方に位置付け、ウエーハ10及びフレームをチャックテーブル22に吸引保持しつつ、上方から温風を吹き付けることにより、熱圧着シートT1を120℃~140℃に加熱し、ウエーハ10の裏面10b側に熱圧着シートT1を熱圧着するようにしてもよい。
上記したように熱圧着工程を実施したならば、フレームFに保持されたウエーハ10に対して、熱圧着シートT1の余剰部分をカットする余剰部除去工程を実施することが好ましい。より具体的には、図5に示すように、切削ブレード32を回転可能に備えた切削手段30を熱圧着シートT1上に移動させて、切削ブレード32をフレームF上に位置付ける。次いで、切削ブレード32を矢印R3で示す方向に回転させて、フレームFに向けて下降させて、熱圧着シートT1の厚みだけ切込み送りすると共に、チャックテーブル22を矢印R4で示す方向に回転させて、フレームFに沿って熱圧着シートT1を円形状に切断する(図中破線100で示している)。フレームFに沿って環状に熱圧着シートT1を切断したならば、外側の余剰部を除去して、図5の下段に示すように、チャックテーブル22から、熱圧着シートT1を介してフレームFに支持されたウエーハ10を取り出して反転させて、モールド樹脂16が被覆された表面10aを露出させる。
上記したように、熱圧着工程を実施した後、板状物の湾曲を矯正する湾曲矯正工程を実施する。より具体的には、熱圧着工程を実施した後、一定時間経過させることで、熱圧着シートT1の温度を、常温(例えば15℃~25℃)まで低下させる。熱圧着シートT1が上記した加熱温度(120℃~140℃)から常温に戻る際に収縮することから、凸面となっていたウエーハ10の裏面10b側に、熱圧着シートT1の収縮による力が作用する。これにより、ウエーハ10の表面10a側にモールド樹脂16を被覆したことにより生じていた湾曲が矯正され、ウエーハ10を平坦にすることができる。以上により湾曲矯正工程が完了する。なお、この湾曲矯正工程は、上記した余剰部除去工程を実施した後に実施することに限定されず、余剰部除去工程を実施する前、又は余剰部除去工程を実施している過程において実施するものであってもよい。
上記した湾曲矯正工程を適正に実施するため、好ましくは、熱圧着工程を実施する際に使用する熱圧着シートT1の厚み、種類(材質)を適宜選択する熱圧着シート選択工程を実施することが好ましい。より具体的には、上記した湾曲矯正工程において熱圧着シートT1が収縮する量、収縮によってウエーハ10に作用する力は、熱圧着シートT1の厚み、種類によって異なる。それがため、凹凸を矯正しようとするウエーハ10の弾性力、湾曲度合いに応じて、湾曲矯正工程において作用する矯正量を調整することが好ましい。このため、予め実験により、熱圧着シートの厚み、種類に応じた収縮量と湾曲矯正力を求め、それらに対応した複数の熱圧着シートを用意しておく。そして、処理しようとするウエーハ10の弾性力、湾曲度合い(素材、厚みに応じて変化する)に応じた適切な熱圧着シートT1を選択する熱圧着シート選択工程を実施する。これにより、ウエーハ10の弾性力や湾曲度合いが変化しても、適切にウエーハ10を平坦化することが可能になる。
上記したように、熱圧着シート敷設工程、熱圧着工程、及び湾曲矯正工程を実施することにより、ウエーハ10を平坦化することができ、その後に続く工程を適正に実施することが可能になる。本実施形態によって平坦化されたウエーハ10は、例えば、以下に説明する分割工程、ピックアップ工程を実施して、ウエーハ10を個々のデバイスチップに分割する。
ウエーハ10を分割する分割工程は、例えば、図6(a)に示す切削装置40を使用して実施することが可能である。切削装置40は、ウエーハ10を吸引保持するチャックテーブル(図示は省略する)と、該チャックテーブルに吸引保持されたウエーハ10を切削する切削手段42とを備える。該チャックテーブルは、回転自在に構成され、図中矢印Xで示す方向にチャックテーブルを加工送りする移動手段(図示は省略する)を備えている。また、切削手段42は、図中矢印Yで示すY軸方向に配設されたスピンドル44を保持するスピンドルユニット43と、スピンドル44の先端に保持された環状の切削ブレード45と、切削部位に切削水を供給する切削水ノズル46とを備え、切削ブレード45をY軸方向で割り出し送りするY軸移動手段(図示は省略する)を備えている。スピンドル44は、図示を省略するスピンドルモータにより回転駆動される。
分割工程を実施するに際し、まず、ウエーハ10の表面10aを上方に向けて切削装置40のチャックテーブルに載置して吸引保持し、図示を省略するアライメント手段を使用してアライメント工程を実施し、ウエーハ10の所定の分割予定ライン14をX軸方向に整合させると共に、分割予定ライン14と切削ブレード45との位置合わせを実施する。次いで、X軸方向に整合させた分割予定ライン14に高速回転させた切削ブレード45を位置付けて、表面10a側から切り込ませると共に、チャックテーブルをX軸方向に加工送りして分割溝110を形成する。さらに、分割溝110を形成した分割予定ライン14にY軸方向で隣接し、分割溝110が形成されていない分割予定ライン14上に切削手段42の切削ブレード45を割り出し送りして、上記と同様にして分割溝110を形成する切削加工を実施する。これらを繰り返すことにより、X軸方向に沿うすべての分割予定ライン14に沿って分割溝110を形成する。次いで、チャックテーブルを90度回転し、先に分割溝110を形成した方向と直交する方向をX軸方向に整合させ、上記した切削加工を新たにX軸方向に整合させたすべての分割予定ライン14に対して実施し、ウエーハ10に形成されたすべての分割予定ライン14に沿って分割溝110を形成する。この結果、図中下方側に示すように、分割予定ライン14に沿ってウエーハ10が個々のデバイスチップ12’に分割されて、分割工程が完了する。
上記の分割工程は、上記した切削装置40によって実施される切削加工に限定されず、図6(b)に示すレーザー加工装置50を使用して実施することも可能である。レーザー加工装置50は、図示を省略するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されるウエーハ10に対して吸収性を有する波長のレーザー光線LBを照射するレーザー光線照射手段52とを備えている。該チャックテーブルは、該チャックテーブルとレーザー光線照射手段52とを相対的にX軸方向に加工送りするX軸送り手段と、該チャックテーブルとレーザー光線照射手段52とを相対的にX軸方向と直交するY軸方向に加工送りするY軸送り手段と、該チャックテーブルを回転させる回転駆動手段とを備えている(いずれも図示は省略する)。
レーザー加工装置50に搬送されたウエーハ10は、モールド樹脂16が被覆された表面10aを上方に向けて該チャックテーブルに吸引保持される。次いで、レーザー加工装置50に配設されたアライメント手段(図示は省略する)を使用してアライメント工程が実施され、表面10aに形成された分割予定ライン14の位置を検出すると共に、該回転駆動手段によってウエーハ10を回転して所定方向の分割予定ライン14をX軸方向に整合させる。検出された分割予定ライン14の位置の情報は、図示しない制御手段に記憶される。
上記したアライメント工程によって検出された位置情報に基づき、所定方向の分割予定ライン14の加工開始位置にレーザー光線照射手段52の集光器54を位置付け、ウエーハ10の表面10aにレーザー光線LBの集光点を位置付けて照射すると共に、該チャックテーブルと共にウエーハ10をX軸方向に加工送りしてウエーハ10の所定の分割予定ライン14に沿ってアブレーション加工を施して分割溝112を形成する。所定の分割予定ライン14に沿って分割溝112を形成したならば、ウエーハ10をY軸方向に分割予定ライン14の間隔だけ割り出し送りして、Y軸方向で隣接する未加工の分割予定ライン14を集光器54の直下に位置付ける。そして、上記したのと同様にしてレーザー光線LBの集光点をウエーハ10の分割予定ライン14に位置付けて照射し、ウエーハ10をX軸方向に加工送りして分割溝112を形成する。同様にして、ウエーハ10をX軸方向、及びY軸方向に加工送りして、X軸方向に沿うすべての分割予定ライン14に沿って分割溝112を形成する。次いで、ウエーハ10を90度回転させて、既に分割溝112を形成した分割予定ライン14に直交する方向の未加工の分割予定ライン14をX軸方向に整合させる。そして、残りの各分割予定ライン14に対しても、上記したのと同様にしてレーザー光線LBの集光点を位置付けて照射して、ウエーハ10の表面10aに形成された全ての分割予定ライン14に沿って分割溝112を形成して、ウエーハ10を個々のデバイスチップ12’に分割して、分割工程が完了する。
上記した分割工程が完了したならば、ウエーハ10を図7に示すピックアップ装置60に搬送して、以下に説明するピックアップ工程を実施することができる。ピックアップ装置60は、ウエーハ10を分割することにより個々に分割されたデバイスチップ12’を吸着して搬送するピックアップコレット62と、熱圧着シートT1を拡張して、隣接するデバイスチップ12’同士の間隔を拡張する拡張手段64と、を備える。
図7に示すとおり、拡張手段64は、円筒状の拡張ドラム64aと、拡張ドラム64aに隣接し、周方向に間隔をおいて上方に延びるロッドを備えた複数のエアシリンダ64bと、エアシリンダ64bのそれぞれの上端に連結された環状の保持部材64cと、保持部材64cの外周縁部に周方向に間隔をおいて配置された複数のクランプ64dとを含む。拡張ドラム64aの内径はウエーハ10の直径よりも大きく、拡張ドラム64aの外径はフレームFの開口Faよりも小さい。また、保持部材64cは、フレームFに対応しており、保持部材64cの平坦な上面にフレームFが載せられるようになっている。
図7に示すように、複数のエアシリンダ64bは、保持部材64cの上面が拡張ドラム64aの上端とほぼ同じ高さの基準位置(実線で示す)と、保持部材64cの上面が拡張ドラム64aの上端よりも下方に位置する拡張位置(二点鎖線で示す)との間で、拡張ドラム64aに対して相対的に保持部材64cを昇降させるようになっている。
図7に示すピックアップコレット62は、水平方向および上下方向に移動自在に構成されている。また、ピックアップコレット62には吸引手段(図示は省略する)が接続されており、ピックアップコレット62の先端下面62aでデバイスチップ12’を吸着するようになっている。なお、本実施形態では、拡張ドラム64aの内部において、ピックアップコレット62の先端下面62aの移動に連動して移動し、ピックアップされるデバイスチップ12’を下方から押し上げる押し上げ部材65が配設されている。押し上げ部材65は、エアシリンダ65aとプッシュロッド65bを備えている。
図7を参照して説明を続けると、ピックアップ工程では、まず、個々のデバイスチップ12’に分割されたウエーハ10を上に向けて、基準位置に位置する保持部材64cの上面にフレームFを載せる。次いで、複数のクランプ64dでフレームFを固定する。次いで、保持部材64cを拡張位置に下降させることによって、熱圧着シートT1に放射状の張力を作用させる。そうすると、図7に二点鎖線で示すとおり、熱圧着シートT1に貼着されているデバイスチップ12’同士の間隔が拡張する。
次いで、ピックアップ対象のデバイスチップ12’に対応する上下位置にピックアップコレット62の先端下面62aと押し上げ部材65を位置付け、押し上げ部材65のプッシュロッド65bによってデバイスチップ12’を押し上げると共にピックアップコレット62の先端下面62aでデバイスチップ12’の上面を吸着する。次いで、ピックアップコレット62を上昇させ、デバイスチップ12’を熱圧着シートT1から剥離しピックアップする。ピックアップしたデバイスチップ12’は、図示しないトレー等に搬送して収容するか、又は次工程の所定の搬送位置に搬送する。このようなピックアップ作業を、すべてのデバイスチップ12’に対して順次行うことで、ピックアップ工程が完了する。
本実施形態によれば、表面10a側にモールド樹脂16が被覆されていることにより湾曲したウエーハ10が、上記した板状物の処理方法が施されていることによって平坦に矯正されて、ウエーハ10を個々のデバイスチップ12’に適正に分割することができる。
本発明は、上記した第1の実施形態に限定されず、以下に説明する第2の実施形態であってもよい。
図8(a)には、第2の実施形態によって処理される板状物であるCSP基板70が示されている。CSP基板70は、例えば、厚さが1mm程度の矩形状の基板であり、複数のデバイスチップ72を配線基板上に所定の間隔をもって配設し、デバイスチップ72が配設された表面70aとは反対側の裏面70bにモールド樹脂73を被覆した基板である。上記したように、裏面70b側にモールド樹脂73が被覆されることにより、モールド樹脂73が流動体から固体化する際に収縮し、表面70a側が凸面に、裏面70b側が凹面となって湾曲した状態となる。この状態では、CSP基板70の裏面70b側を研削して均一に薄化する裏面研削加工を適正に実施することが困難である。よって、この問題に対処すべく、以下に説明する本発明の板状物の処理方法を実施する。
本実施形態の板状物の処理方法を実施するに際し、上記したCSP基板70を用意したならば、凸面となっているCSP基板70の表面70aに熱圧着シートを敷設する熱圧着シート敷設工程を実施する。より具体的には、まず、上記したCSP基板70を、図8(a)に示す熱圧着装置80(一部のみを示している)に搬送する。熱圧着装置80には、チャックテーブル82が配設されている。チャックテーブル82は、通気性を有する吸着チャック821と、吸着チャック821を囲繞する枠体822とを備え、枠体822には、図示を省略する吸引源が接続されている。該吸引源を作動させることで、吸着チャック821の上面に吸引負圧を生成することができる。
熱圧着装置80の吸着チャック821の中央位置に、上記したCSP基板70を載置する(図8(a)を参照)。このとき、CSP基板70は、凸面となっている表面70a側が上方に向けられて、チャックテーブル82の中央に載置される。
チャックテーブル82上にCSP基板70を載置したならば、図8(b)に示すように、吸着チャック821を覆う大きさの熱圧着シートT2を用意し、凸面となっているCSP基板70の表面70a側から敷設する。なお、本実施形態の熱圧着シートT2は、吸着チャック821よりも大きく枠体822の外縁よりも小さい大きさで円形にカットされたシートである。以上により、熱圧着シート敷設工程が完了する。
なお、本実施形態の熱圧着シートT2も、上記した第1の実施形態の熱圧着シートT1と同様に、ポリオレフィン系シート、ポリエステル系シートのいずれかから選択することが好ましく、熱圧着シートT2をポリオレフィン系シートから選択する場合は、ポリエチレンシート、ポリプロピレンシート、ポリスチレンシートのいずれかから選択することが好ましい。また、熱圧着シートT2をポリエステル系シートから選択する場合は、ポリエチレンテレフタレートシート、ポリエチレンナフタレートシートのいずれかから選択することが好ましい。なお、以下に説明する実施形態では、熱圧着シートT2として、ポリエステル系シートのポリエチレンナフタレートシートを選択したものとして説明する。
上記したように本実施形態の熱圧着シート敷設工程を実施したならば、熱圧着シートT2を、凸面を構成する表面70aに密着させて加熱して該表面70aに熱圧着シートT2を熱圧着する熱圧着工程を実施する。より具体的には、まず、上記した吸引源を作動して、吸着チャック821に吸引負圧Vを生成してCSP基板70及び熱圧着シートT2を吸引し、吸着チャック821上における熱圧着シートT2と、CSP基板70との間を真空状態とする。次いで、図9に示すように、チャックテーブル82上に、熱圧着装置80に配設された加熱ローラ84を位置付ける。加熱ローラ84の内部には、図示を省略する加熱ヒータ及び温度センサが配設され、所望の温度に調整することが可能に構成されている。また、加熱ローラ84の表面84aには、フッ素樹脂がコーティングされており、熱圧着シートT2が粘着力を発揮しても、加熱ローラ84に熱圧着シートT2が粘着して巻き込まれることがないようになっている。
上記したように、CSP基板70を覆う熱圧着シートT2の上方に加熱ローラ84を位置付けたならば、手前側の端部の上方から、加熱ローラ84を作動して、表面84aが160℃~180℃になるように温度調整し、熱圧着シートT2に押し付けて、CSP基板70の表面70a、すなわち凸面に密着させる。そして、加熱ローラ84を矢印R5で示す方向に回転させながら、水平方向である矢印R6で示す方向の奥側の端部まで移動して、熱圧着シートT2をCSP基板70の表面70aに熱圧着する。以上により熱圧着工程が完了する。
なお、本発明の熱圧着工程も、上記した第1の実施形態と同様に、上記の加熱ローラ84を使用する方法に限定されず、例えば、図10(a)に示すように、チャックテーブル82の上方に赤外線照射装置86を位置付けて、CSP基板70をチャックテーブル82に吸引保持しつつ上方から赤外線を照射して、熱圧着シートT2を上記した温度(160℃~180℃)に加熱し、CSP基板70の表面70aに熱圧着シートT2を熱圧着することができ、さらに、図10(b)に示す温風ヒータ88をチャックテーブル82の上方に位置付けて、CSP基板70をチャックテーブル82に吸引保持しつつ、上方から温風により熱圧着シートT2を上記した温度(160℃~180℃)に加熱してCSP基板70の表面70aに熱圧着シートT2を熱圧着することができる。
上記したように熱圧着工程を実施したならば、第1の実施形態と同様に、CSP基板70に熱圧着された熱圧着シートT2の余剰部分をカットする余剰部除去工程を実施することが好ましい。より具体的には、図11に示すように、切削ブレード92を回転可能に備えた切削手段90を熱圧着シートT2上に移動し、切削ブレード92をCSP基板70の外縁に位置付ける。次いで、切削ブレード92を矢印R7で示す方向に回転させて、CSP基板70の外縁に向けて下降させて、熱圧着シートT2の厚みだけ切込み送りすると共に、チャックテーブル82をX軸方向、Y軸方向、回転方向に適宜移動させて、CSP基板70の外縁に沿って熱圧着シートT2を矩形状に切断する。このように熱圧着シートT2を切断したならば、図11の下方に示すように、外側の余剰部を除去して、チャックテーブル82からCSP基板70を搬出する。
上記したように、熱圧着工程を実施したならば、CSP基板70の湾曲を矯正する湾曲矯正工程を実施する。より具体的には、上記熱圧着工程を実施した後、一定時間経過させることで、熱圧着シートT2の温度を、常温(例えば15℃~25℃)まで低下させる。熱圧着シートT2が上記した加熱温度(160℃~180℃)から常温に戻る際に収縮することにより、凸面となっていたCSP基板70の表面70a側に、熱圧着シートT2の収縮による力が作用する。これにより、CSP基板70の裏面70b側にモールド樹脂73を被覆したことにより生じていた湾曲が矯正され、CSP基板70を平坦にすることができる。以上により湾曲矯正工程が完了する。なお、この湾曲矯正工程は、上記した余剰部除去工程を実施した後に実施することに限定されず、余剰部除去工程を実施する前、又は余剰部除去工程を実施している過程で実施してもよい。
上記した第2の実施形態における湾曲矯正工程を適正に実施するため、第1の実施形態と同様に、好ましくは、熱圧着工程を実施する際に使用する熱圧着シートT2の厚み、種類(材質)を適宜選択する熱圧着シート選択工程を実施することが好ましい。より具体的には、第1の実施形態と同様に、予め実験により、熱圧着シートT2の厚み、種類に応じた収縮量と湾曲矯正力を求め、それらに対応した複数の熱圧着シートを用意しておく。そして、処理しようとするCSP基板70の弾性力、湾曲度合い(素材、厚みに応じて変化する)に応じた適切な熱圧着シートT2を選択する熱圧着シート選択工程を実施する。これにより、CSP基板70の弾性力や湾曲度合いが変化しても、適切にCSP基板70を平坦化することが可能になる。
上記したように、本実施形態においても、熱圧着シート敷設工程、熱圧着工程、及び湾曲矯正工程を実施することにより、湾曲した板状物であるCSP基板70を平坦化することができ、その後に続く工程を適正に実施することが可能になる。本実施形態によって平坦とされたCSP基板70に対しては、例えば、以下に説明する加工によって裏面研削工程を実施することができる。
本実施形態によって裏面研削工程を実施するに際し、平坦化されたCSP基板70を図12に示す研削装置120(一部のみ示している)に搬送する。研削装置120は、チャックテーブル122を備えている。チャックテーブル122は、CSP基板70の形状に対応する吸着チャック122aと、吸着チャック122aを囲繞する枠体122bとを備えており、枠体122bは、図示を省略する吸引源に接続されている。研削装置120に搬送されたCSP基板70は、モールド樹脂73が被覆された裏面70bを上方に、熱圧着シートT2側を下方に向けて、吸着チャック122aに載置され、該吸引源を作動させることにより、吸着チャック122aに吸引負圧Vを生成して、CSP基板70を吸引保持する。研削装置120は、図13に示すように、研削手段124を備えている。研削手段124は、図示しない回転駆動機構により回転させられる回転スピンドル124aと、回転スピンドル124aの下端に装着されたホイールマウント124bと、ホイールマウント124bの下面に取り付けられる研削ホイール124cと、研削ホイール124cの下面に環状に配設された複数の研削砥石124dとを備えている。
上記したように、CSP基板70をチャックテーブル122上に吸引保持したならば、研削手段124の回転スピンドル124aを図13において矢印R8で示す方向に、例えば6000rpmで回転させつつ、チャックテーブル122を矢印R9で示す方向に、例えば300rpmで回転させる。そして、研削水をCSP基板70の裏面70b上に供給しつつ、研削砥石124dをCSP基板70の裏面70bに接触させ、研削ホイール124cを、例えば1μm/秒の研削送り速度で下方に向けて研削送りして、CSP基板70を所定の厚さとする。所定の厚さ(例えば100μm程度)まで研削したならば、研削手段124を停止し、説明を省略する洗浄、乾燥工程等を経て、CSP基板70の裏面70bに被覆されたモールド樹脂73を研削して薄化する裏面研削工程が完了する。
上記した裏面研削工程が完了したならば、図14(a)に示す剥離用テーブル130にCSP基板70を搬送し、剥離用テーブル130の表面130aに対して、CSP基板70において、熱圧着シートT2が熱圧着された側(表面70a側)を上方に向けて載置する。剥離用テーブル130には、載置されたCSP基板70を加熱手段、又は冷却手段が内蔵されており(図示は省略する)、CSP基板70を加熱、又は冷却することができる。この加熱手段、又は冷却手段によってCSP基板70を加熱、又は冷却することで、CSP基板70に熱圧着された熱圧着シートT2の粘着力を低下させる。これにより、図14(b)に示すように、CSP基板70から熱圧着シートT2を容易に剥離させることができる。
本実施形態によれば、CSP基板70の裏面70b側にモールド樹脂73が被覆されていることにより湾曲したCSP基板70が、平坦に矯正されて、CSP基板70の裏面70bを均等に研削して薄化することができる。
上記した第1、第2の実施形態では、熱圧着シートとして、ポリエチレンシート、ポリエチレンナフタレートを選択した例を示したが、本発明はこれに限定されず、熱圧着シートとして、ポリプロピレンシート、ポリスチレンシート、ポリエチレンテレフタレートシートを選択してもよい。熱圧着シートとして、ポリプロピレンシートを選択した場合は、熱圧着工程を実施する際の加熱温度を、160℃~180℃に設定することが好ましい。また、熱圧着シートとして、ポリスチレンシートを選択した場合は、熱圧着工程を実施する際の加熱温度を、220℃~240℃に設定することが好ましい。さらに、熱圧着シートとして、ポリエチレンテレフタレートを選択した場合は、熱圧着工程を実施する際の加熱温度は250℃~270℃に設定することが好ましい。
10:ウエーハ
10a:表面
10b:裏面
12:デバイス
14:分割予定ライン
16:モールド樹脂
20:熱圧着装置
22:チャックテーブル
221:吸着チャック
222:枠体
24:加熱ローラ
24a:表面
30:切削手段
32:切削ブレード
40:切削装置
42:切削手段
43:スピンドルユニット
44:スピンドル
45:切削ブレード
46:切削水ノズル
50:レーザー加工装置
52:レーザー光線照射手段
54:集光器
60:ピックアップ装置
62:ピックアップコレット
64:拡張手段
64a:拡張ドラム
64b:エアシリンダ
64c:保持部材
64d:クランプ
65:押し出し部材
65a:エアシリンダ
65b:プッシュロッド
70:CSP基板
70a:表面
70b:裏面
73:モールド樹脂
80:熱圧着装置
82:チャックテーブル
821:吸着チャック
822:枠体
84:加熱ローラ
84a:表面
90:切削手段
92:切削ブレード
110、112:分割溝
120:研削装置
122:チャックテーブル
122a:吸着チャック
122b:枠体
124:研削手段
124a:回転スピンドル
124c:研削ホイール
124d:研削砥石
130:剥離用テーブル
T1、T2:熱圧着シート
F:フレーム
Fa:開口部

Claims (5)

  1. 凹面と凸面を表裏に有して湾曲する板状物の処理方法であって、
    凸面に熱圧着シートを敷設する熱圧着シート敷設工程と、
    熱圧着シートを該凸面に密着させて加熱して該凸面に熱圧着シートを熱圧着する熱圧着工程と、
    熱圧着シートが常温に戻る際に収縮して板状物の湾曲を矯正する湾曲矯正工程と、
    を含み構成される板状物の処理方法。
  2. 板状物の弾性力、湾曲度合いによって、熱圧着シートの厚み、種類を選択する熱圧着シート選択工程が含まれる請求項1に記載の板状物の処理方法。
  3. 熱圧着シートは、ポリオレフィン系シート、ポリエステル系シートのいずれかから選択される請求項1、又は2に記載の板状物の処理方法。
  4. 該ポリオレフィン系シートは、ポリエチレンシート、ポリプロピレンシート、ポリスチレンシートのいずれかであり、
    該ポリエステル系シートは、ポリエチレンテレフタレートシート、ポリエチレンナフタレートシート、のいずれかである請求項3に記載の板状物の処理方法。
  5. 該熱圧着工程において熱圧着シートを加熱する際の加熱温度は、該熱圧着シートとしてポリエチレンシートが選択された場合は120℃~140℃であり、ポリプロピレンシートが選択された場合は160℃~180℃であり、ポリスチレンシートが選択された場合は220℃~240℃であり、ポリエチレンテレフタレートシートが選択された場合は250℃~270℃であり、ポリエチレンナフタレートが選択された場合は160℃~180℃である請求項4に記載の板状物の処理方法。
JP2021041113A 2021-03-15 2021-03-15 板状物の処理方法 Pending JP2022141003A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021041113A JP2022141003A (ja) 2021-03-15 2021-03-15 板状物の処理方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021041113A JP2022141003A (ja) 2021-03-15 2021-03-15 板状物の処理方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2022141003A true JP2022141003A (ja) 2022-09-29

Family

ID=83402836

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021041113A Pending JP2022141003A (ja) 2021-03-15 2021-03-15 板状物の処理方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2022141003A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP4418304A1 (en) * 2023-02-17 2024-08-21 Carl Zeiss SMS Ltd. Wafer conditioning

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP4418304A1 (en) * 2023-02-17 2024-08-21 Carl Zeiss SMS Ltd. Wafer conditioning
WO2024171192A1 (en) * 2023-02-17 2024-08-22 Carl Zeiss Sms Ltd. Wafer conditioning

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2022097506A (ja) 基板処理システム、基板処理方法及びコンピュータ記憶媒体
JPWO2019208359A1 (ja) 基板処理システム及び基板処理方法
US7135081B2 (en) Adhesive tape applying method and apparatus
JP7154686B2 (ja) ウェーハの加工方法
JP7130323B2 (ja) ウェーハの加工方法
JP2017092125A (ja) ウエーハの加工方法
JP7139047B2 (ja) ウェーハの加工方法
JP2022141003A (ja) 板状物の処理方法
TWI825091B (zh) 晶圓之加工方法
JP7139048B2 (ja) ウェーハの加工方法
KR20180028932A (ko) 칩 간격 유지 방법
TWI813674B (zh) 晶圓的加工方法
JP7303704B2 (ja) ウェーハの分割方法
JP7143023B2 (ja) ウェーハの加工方法
JP7143019B2 (ja) ウェーハの加工方法
JP7191458B2 (ja) ウェーハの加工方法
JP7139040B2 (ja) ウェーハの加工方法
JP2020077812A (ja) 板状物加工方法
JP7521978B2 (ja) 保護部材形成装置
KR20210133139A (ko) 웨이퍼의 가공 방법
JP7404109B2 (ja) 一体化方法
JP7173792B2 (ja) ウエーハの保護方法
TW202145327A (zh) 晶圓之加工方法
KR102719938B1 (ko) 기판 처리 시스템, 기판 처리 방법 및 컴퓨터 기억 매체
TW202314824A (zh) 板狀的被加工物的加工方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20240219

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20240221