JP6440456B2 - 画像形成方法および画像形成装置 - Google Patents
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Description
すなわち、本発明は、画像形成プロセスの繰り返しとともに感光体の感度が大きく変動し、帯電前露光工程での光量調整範囲を超えてしまった場合においても、正しく電位設定することが可能な画像形成方法および画像形成装置を提供することを目的とする。
前記帯電前露光工程における帯電前露光条件の調整を行う、帯電前露光調整工程をさらに有し、
前記帯電前露光調整工程が、帯電前露光光の露光強度の調整工程および露光波長の調整工程を含み、
前記露光波長の調整工程は、前記表面層の膜厚の減少による表面帯電電位の低下に応じて前記露光波長が短くなるように調整する工程を含む、ことを特徴とする。
前記帯電前露光手段の帯電前露光条件の調整を行う帯電前露光調整手段をさらに有し、
前記帯電前露光調整手段が、帯電前露光光の露光強度の調整手段および露光波長の調整手段を含み、
前記露光波長の調整手段は、前記表面層の膜厚の減少による表面帯電電位の低下に応じて前記露光波長が短くなるように調整する手段を含む、ことを特徴とする。
ライン801は、帯電前露光光の露光強度および露光波長の調整を行う、本発明の帯電前露光調整工程を備えた場合の印刷枚数に対する画像濃度の関係を示したものである。ライン802は、帯電前露光光の露光強度の調整のみを行う、従来の帯電前露光調整工程を備えた場合の印刷枚数に対する画像濃度の関係を示したものである。なお、ライン801およびライン802は、同様の条件で作製された感光体を用いた場合を示している。
ライン802においては、805に示すタイミングで帯電前露光光の露光強度の調整を行っている。
そして、803は、許容される画像濃度の上限を示し、804は、許容される画像濃度の下限を示す。また、ライン802においては、帯電前露光光の調整が露光強度の調整のみであるため、帯電前露光工程における光量調整が、調整可能な範囲を超えてしまい、808に示すタイミングで、許容される画像濃度の下限804を下回っている。
帯電前露光光の露光強度を弱めるような調整を行うことで、正しく電位設定でき、画像濃度が許容範囲内に収まるようになる理由については、以下のように考えている。
光導電層へ到達する帯電前露光光量が大きくなるような変化が起こった場合、帯電前露光光の露光強度と併せて露光波長も調整を行うことで、使用初期と使用終期とで表面層膜厚の差が大きい場合でも正しく電位設定できるようになった理由を以下に示す。
図1に、本発明の画像形成方法および画像形成装置に好適に用いることができるa−Si感光体(以降、感光体と表すことがある。)の層構成の一例を表す模式的断面図を表す。
図1(a)に示す感光体100は、基体101と、基体101の上に順次設けられる光導電層102と表面層103とから構成される。
表面層103におけるケイ素原子の原子密度と炭素原子の原子密度との和が6.60×1022原子/cm3以上であり、
表面層103における赤外線吸収スペクトルにおける波数2960cm-1の吸収係数α1に対する波数2890cm-1の吸収係数α2の比α2/α1が0.50以下であり、
表面層103の電子スピン共鳴法によって測定される欠陥密度が9.0×1018(spins/cm3)以上2.2×1019(spins/cm3)以下であることが、光透過性や耐摩耗性、高湿流れ抑制の観点からより好ましい。
図5は、電源周波数としてRF帯を用いた高周波プラズマCVD法(RF−PCVDとも略記する)による感光体を製造するための装置の一例を示す模式的断面図である。
まず、反応容器5111内に円筒状基体5112を設置し、例えば真空ポンプなどの排気装置(図示せず)により反応容器5111内を排気する。続いて、基体加熱用ヒータ5113により円筒状基体5112の温度を200℃〜350℃の所定の温度に制御する。
次に、堆積膜形成用の原料ガスを、ガス供給装置5200により流量制御し、反応容器5111内に導入する。そして、排気速度を調整することにより所定の圧力に設定する。
以上のようにして堆積の準備が完了した後、以下に示す手順で各層の形成を行う。
この放電エネルギーによって反応容器5111内に導入された各原料ガスが分解され、円筒状基体5112の上に所定のケイ素原子を主成分とする堆積膜が形成される。所望の膜厚の形成が行われた後、高周波電力の供給を止め、ガス供給装置の各バルブを閉じて反応容器5111への各原料ガスの流入を止め、堆積膜の形成を終える。
図2に、本発明に好適に用いられる画像形成装置の一例を示す模式的断面図を示す。
この画像形成装置は、表面に静電潜像が形成され、この静電潜像の上に、トナー担持体の上に担持されたトナーが転移されてトナー像が形成されるドラム型の感光体201を有している。感光体201の周りには、感光体201の表面を所定の極性・電位に一様に帯電させる帯電手段202と、帯電された感光体201の表面に画像露光光203を照射して静電潜像を形成する、不図示の潜像形成手段とが配置されている。
さらに、転写手段の一部である中間転写ベルト206にトナー像を転写した後、感光体201の表面に残った転写残トナーを除去するためのクリーニング手段207および感光体201の除電を行う帯電前露光手段208が設けられている。
本発明の帯電前露光手段208は、帯電前露光光の露光強度および露光波長といった帯電前露光条件の調整を行う、不図示の帯電前露光調整手段をさらに有している。帯電前露光調整手段のうち、露光強度の調整手段としては、前述の光源に接続される電圧制御が可能な電源が一例として挙げられ、光源に与える電圧を調整することで露光強度を調整することができる。
図3に、単一波長光を発光できる光源を帯電前露光手段に用いる場合の帯電前露光調整手段の一例の模式的断面図を示す。
また、転写手段は以下の構成となっている。中間転写ベルト206は、感光体201に当接ニップ部を介して駆動するように配置されており、内側には感光体201の上に形成されたトナー像を中間転写ベルト206に転写するための一次転写ローラ209が配備されている。
また、潜像形成手段としては、カラー原稿画像の色分解・結像露光光学系や、画像情報の時系列電気デジタル画素信号に対応して変調されたレーザビームを出力するレーザスキャナによる走査露光系が用いられる。このような露光系により、画像パターンに従って、複数行、複数列の画素マトリックスの各画素ごとに、レーザまたはLEDを光源とする光ビームを照射して静電潜像を感光体の表面に形成することができる。
まず、図2に矢印で示すように、感光体201が、反時計方向に所定の周速度(プロセススピード)で回転駆動され、中間転写ベルト206が、時計方向に、感光体201と同じ周速度で回転駆動される。
次いで、感光体201の除電を行う帯電前露光工程を経る。
その後、感光体201の表面上に、第1色のトナー像の形成と同様に、第2色のトナー像(例えばシアントナー像)が形成され、この第2色のトナー像が、第1色のトナー像が転写された中間転写ベルト206の表面上に重畳転写される。以下同様に、第3色のトナー像(例えばイエロートナー像)、第4色のトナー像(例えばブラックトナー像)が中間転写ベルト206の上に順次重畳転写され、目的のカラー画像に対応したカラートナー像が形成される。
本発明の画像形成方法においては、上述の画像形成が、感光体の表面層の膜厚が、初期の膜厚に対して50%以上減少するまで繰り返し行われる。前述の値に対する上限については、感光体の使用目的や初期の表面層膜厚により、適宜、決定することができるが、耐傷性や環境安定性の観点から、90%以下までが好ましい。
図7に、帯電前露光調整工程の動作フローチャートの一例を示す。
図7では、画像形成装置の稼働時間の積算値などの所定のタイミングで(ステップS701)、帯電前露光調整工程を行う(ステップS702)。
図7では、帯電前露光光の露光強度の調整を先に行っているが、露光波長の調整を先に行っても構わない。帯電前露光光の露光強度の調整は、帯電前露光の光源に与える電圧を調整することで行う。
図4に、帯電前露光調整工程の動作フローチャートの一例を示す。
まず、感光体201の初期の表面電位を、電位測定手段215を用いて測定し、得られた初期の表面電位の値を、初期電位記憶手段に記憶する初期電位記憶工程を行う(ステップS401)。そして、通常の画像形成を行う(ステップS402)。
次いで、電位測定工程で得られた表面電位の値が、所望の表面電位の範囲内となっているかの比較を行い(ステップS404)、所望の表面電位の範囲内となっていると判断された場合は、画像形成を継続して行う(ステップS413)。
そして、所望の表面電位の範囲内となっていないと判断された場合は、帯電前露光調整工程として、帯電前露光光の露光強度の調整を行う(ステップS406)。
次いで、所望の表面電位の範囲内となっているかの比較を行い(ステップS408)、所望の表面電位の範囲内となっていると判断された場合は、画像形成を継続して行う(ステップS413)。
そして、所望の表面電位の範囲内となっていないと判断された場合で、露光強度の調整範囲内である場合は、再度、帯電前露光光の露光強度の調整を繰り返す(ステップS406)。そして、露光強度の調整範囲を超えてしまった場合は、帯電前露光光の露光波長の調整を行う(ステップS410)。そして再度、電位測定手段215を用いて感光体201の表面電位の測定を行う(ステップS411)。
なお、ここで述べた所望の表面電位の範囲とは、初期電位記憶工程で得られた感光体201の初期の表面電位を中心に、画像形成装置の使用目的や使用環境から適宜決定される許容範囲を反映した、表面電位の範囲を示す。
また、帯電前露光調整工程は、繰り返し行われる画像形成の間に、定期的に行ってもよいし、表面電位測定工程において、所望の表面電位の範囲を逸脱した場合に行ってもよい。
まず、感光体201の初期の表面電位を、電位測定手段215を用いて測定し、得られた初期の表面電位の値を、初期電位記憶手段に記憶する初期電位記憶工程を行う(ステップS601)。そして、通常の画像形成を行う(ステップS602)。
次いで、ステップS603の表面電位測定工程で測定された表面電位と、初期の表面電位とを比較する(ステップS604)。
ステップS603の表面電位測定工程で測定された表面電位の値が、初期の表面電位の値から2%以上乖離している場合(ステップS605でNO)、帯電前露光調整工程をスタートする(ステップS606)。そして、帯電前露光光の露光強度の調整を行う(ステップS607)。
次いで、ステップS608の表面電位測定工程で測定された表面電位と、初期の表面電位とを比較する(ステップS609)。
ステップS608の表面電位測定工程で測定された表面電位の値が、初期の表面電位の値から2%以上乖離している場合(ステップS610でNO)、露光強度の調整範囲内か調べる(ステップS611)。
露光強度の調整範囲内ではない場合(ステップS611でNO)、帯電前露光光の露光波長の調整を行う(ステップS612)。そして再度、電位測定手段215を用いて感光体201の表面電位の測定を行う(ステップS613)。
ステップS613の表面電位測定工程で測定された表面電位の値が、初期の表面電位の値から2%以上乖離していない場合(ステップS615でYES)、画像形成を継続して行う(ステップS616)。
ステップS613の表面電位測定工程で測定された表面電位の値が、初期の表面電位の値から2%以上乖離している場合(ステップS615でNO)、ステップS607の帯電前露光光の露光強度の調整から再度繰り返す。
また、感光体201の使用量を検出する感光体使用量検出工程をさらに有し、感光体使用量検出工程で得られた感光体201の使用量に応じて、帯電前露光調整工程を行うようにしてもよい。感光体使用量検出工程では、パルス検出器を用いて感光体201の回転数を検出し、その回転数から感光体の使用量を検出してもよい。また、分光光度計を用いて表面層の膜厚を測定し、表面層の膜厚から感光体の使用量を検出してもよい。感光体201の表面層膜厚を測定し、表面層の膜厚から感光体の使用量を検出する場合は、さらに、感光体201の初期の表面層膜厚を測定し、得られた表面層膜厚の値を記憶する初期膜厚記憶工程を有していてもよい。
なお、本発明の帯電前露光調整工程は、帯電工程や潜像形成工程、現像工程、転写工程、クリーニング工程、帯電前露光工程といった作像プロセスを行っている間に行ってもよいし、作像プロセスと作像プロセスの間の調整工程として行ってもよい。
<実施例1>
図5に示したプラズマCVD装置を用い、直径84mmの鏡面加工を施したアルミニウムシリンダー(基体)上に、表1に示した条件で、図1(b)に示した層構成の感光体を1本製作した。
なお、本実施例では、図2における電位測定手段215と初期電位記憶手段(不図示)、感光体使用量検出手段216は取り外した。また、帯電前露光手段208には、光源としてLEDを用いた。そして、帯電前露光調整手段のうち、露光強度の調整手段として、光源に与える電圧を調整することできる構成とし、露光波長の調整手段として、それぞれの発光波長が異なる3つのLEDが設置された、図3に示す帯電前露光調整手段を設置した。3つのLEDのそれぞれの波長は、660nmと630nm、590nmとした。
なお、帯電前露光調整工程は、図7に示すフローチャートに従い、図7中の所定のタイミングを、画像形成工程開始から30分経過する毎として行った。そして、露光強度の調整は、光源に与える電圧を調整することで行い、露光波長の調整は、図3に示す光源担持体305を回転させることで行った。
そして、以下に示す項目について評価を行った。その結果を表5に示す。
画像形成を繰り返し行うと、表面層の膜厚が減少することで感光体の感度が変化し、感光体の表面電位が変動することは前述のとおりである。また、感光体の電位変動が、画像濃度の変動を引き起こすことも前述のとおりである。本発明の画像形成方法および画像形成装置は、前述の電位変動を抑制することで、前述の画像濃度の変動を抑制する効果を発揮するため、実施例および比較例の評価として濃度変動を評価した。
得られた濃度変動値は、後述する実施例2−3の値をリファレンス(100%)とし、以下に示す判断基準によってランク判定を行った。
この評価項目では、濃度変動値の値が小さいほど良好な結果であると判断している。
AA:リファレンスに比べて40%以上80%未満
A:リファレンスに比べて80%以上120%未満
B:リファレンスに比べて120%以上
各実施例および各比較例で示した条件の画像形成装置に、各実施例および比較例で示した条件で作製した感光体を設置した。次いで、画素密度が30%のブラック単色のA4サイズのハーフトーン画像を、表面層の膜厚が各実施例および各比較例で示した条件の膜厚になるまで、もしくは、許容される画像濃度を逸脱するまで繰り返しコピーを行った。前述の何れかの条件になるまでに得られたコピー画像の枚数を、印刷枚数とした。
この評価項目では、印刷枚数の値が大きいほど良好な結果であると判断している。
AAA:リファレンスに比べて250%より大きい
AA:リファレンスに比べて150%より大きく250%以下
A:リファレンスに比べて50%より大きく150%以下
B:リファレンスに比べて50%以下
濃度変動、印刷枚数の評価で得られた結果を、AAAランクが3点、AAランクが2点、Aランクが1点、Bランクが0点として合計した得点をもとに、以下のように総合的にランク付けを行った。
AA…Bランクがなく、4点以上のもの
A…Bランクがなく、2点以上3点以下のもの
B…Bランクがあるもの、もしくは、0点以上1点以下のもの
総合評価においては、Aランク以上で本発明の効果が得られていると判断している。
実施例1と同様の条件で、感光体を5本製作した。
このようにして作製した感光体を、実施例1と同様の条件の画像形成装置に設置し、表面層の膜厚が表2に示す膜厚になるまで繰り返し画像形成を行った以外は実施例1と同様の条件で画像形成を行った。そして、実施例1と同様の手法で評価を行った。その結果を表5に示す。
各実施例および各比較例で作製した感光体と同一条件で、基体の上に下部電荷注入阻止層のみを形成したもの、下部電荷注入阻止層と光導電層のみを形成したもの、下部電荷注入阻止層と光導電層と上部電荷注入阻止層のみを形成したものを作製した。これらを長手方向の中央部を15mm角で切り出し、リファレンス試料を作製した。
上記、リファレンス試料と表面層測定用試料を分光エリプソメトリー(J.A.Woollam社製:高速分光エリプソメトリー M−2000)により測定し、表面層の屈折率を求めた。具体的な測定条件は、入射角:60°、65°、70°、測定波長:195nmから700nm、解析ソフト:WVASE32、ビーム径:1mm×2mmである。
表面層を表3に示す条件で作製した以外は実施例1と同様の条件で、感光体を1本作製した。
このようにして作製した感光体を、実施例1と同様の条件の画像形成装置に設置し、実施例2−3と同様の条件で画像形成を行い、実施例1と同様の手法で評価を行った。その結果を表5に示す。
(ケイ素原子の原子数(Si)と炭素原子の原子数(C)との和に対する炭素原子の原子数(C)の比(C/(Si+C)))
RBSの具体的な測定条件は、入射イオン:4He+、入射エネルギー:2.3MeV、入射角:75°、試料電流:35nA、入射ビーム経:1mmである。また、RBSの検出器は、散乱角:160°、アパーチャ径:8mmで測定を行った。
感光体の長手方向の中央部で、周方向においては任意の位置で、10mm×10mmの大きさで切り出した。そして、RBS(ラザフォード後方散乱法)(日新ハイボルテージ(株)製:後方散乱測定装置 AN−2500)により、RBSの測定面積における表面層中のケイ素原子および炭素原子の原子数を測定した。次に、RBSの測定面積から求めたケイ素原子および炭素原子に対し、前述の手法で求めた表面層膜厚を用いて、Si原子密度、C原子密度を求め、ケイ素原子の原子密度と炭素原子の原子密度との和を算出した。RBSの具体的な測定条件は、前述の条件と同様の条件で測定を行った。
表面層膜厚を1.0μmにした以外は実施例3と同様の条件で感光体を1本作製した。
このようにして作製した感光体を、電位測定手段と初期電位記憶手段を取り付けた以外は実施例1と同様の条件の画像形成装置に設置した。そして、電位測定工程と初期電位記憶工程を加え、帯電前露光調整工程を、図4に示すフローチャートに従って行った以外は、実施例2−3と同様の条件で画像形成を行った。
そして、実施例1と同様の手法で評価を行った。その結果を表5に示す。
表面層膜厚を1.6μmにした以外は実施例3と同様の条件で感光体を1本作製した。
このようにして作製した感光体を、実施例4と同様の条件の画像形成装置に設置した。そして、帯電前露光調整工程を、図6に示すフローチャートに従って行った以外は、実施例4と同様の条件で画像形成を行った。
そして、実施例1と同様の手法で評価を行った。その結果を表5に示す。
表面層膜厚を2.2μmにした以外は実施例3と同様の条件で感光体を1本作製した。
このようにして作製した感光体を、感光体使用量検出手段としてパルス検出器を取り付けた以外は実施例4と同様の条件の画像形成装置に設置した。そして、感光体使用量検出工程を加え、帯電前露光調整工程を、図7に示すフローチャートに従って行った以外は、実施例4と同様の条件で画像形成を行った。
そして、実施例1と同様の手法で評価を行った。その結果を表5に示す。
表面層膜厚を2.5μmにした以外は実施例3と同様の条件で感光体を1本作製した。
このようにして作製した感光体を、感光体使用量検出手段として分光光度計を取り付け、帯電前露光手段の光源としてハロゲンランプを用い、露光波長調整手段として複数の光学フィルタを用いた以外は実施例1と同様の条件の画像形成装置に設置した。そして、感光体使用量検出工程と初期膜厚記憶工程を加え、帯電前露光調整工程を、図7中の所定のタイミングを表面層膜厚が初期の表面層膜厚に対して2%の膜厚が減少する毎として行った以外は、実施例2−3と同様の条件で画像形成を行った。また、露光強度の調整は、光源に与える電圧を調整することで行い、露光波長の調整は、複数の光学フィルタを切り替えることで行った。
そして、実施例1と同様の手法で評価を行った。その結果を表5に示す。
実施例1と同様の条件で、感光体を1本製作した。
このようにして作製した感光体を、630nmと590nmのLEDを取り外した以外は実施例1と同様の条件の画像形成装置に設置した。そして、帯電前露光調整工程を、帯電前露光光の露光強度の調整のみで行う以外は、実施例1と同様の条件で画像形成を行った。そして、実施例1と同様の手法で評価を行った。その結果を表5に示す。
実施例1と同様の条件で、感光体を1本製作した。
このようにして作製した感光体を、露光強度の調整手段を取り外した以外は実施例1と同様の条件の画像形成装置に設置した。そして、帯電前露光調整工程を、帯電前露光光の露光波長調整のみで行う以外は、実施例1と同様の条件で画像形成を行った。そして、実施例1と同様の手法で評価を行った。その結果を表5に示す。
また実施例5から、帯電前露光調整工程を初期の表面電位から2%以上乖離した場合に行うことで、より適正な画像形成条件で適正な画像が得られる状態を長期間持続できることが明らかとなった。
また実施例7から、感光体使用量検出工程および初期膜厚記憶工程を加え、帯電前露光調整工程を初期の表面層膜厚に対して2%の膜厚が減少する毎に行うことで、より適正な画像形成条件で適正な画像が得られる状態を長期間持続できることが明らかとなった。また、帯電前露光手段を連続波長光を発光できる光源に変え、露光波長調整手段として複数の光学フィルタを用いた場合でも、本発明の効果を発揮できることが明らかとなった。
101 基体
102 光導電層
103 表面層
104 下部電荷注入阻止層
105 上部電荷注入阻止層
202 帯電手段
203 画像露光
204a 第1現像手段
204b 第2現像手段
205 転写前帯電手段
206 中間転写ベルト
207 クリーニング手段
208 帯電前露光手段
209 一次転写ローラ
210 二次転写ローラ
211 中間転写ベルトクリーナ
212 記録材
213 給紙カセット
214 定着器
215 電位測定手段
216 感光体使用量検出手段
301 帯電前露光調整手段
303a、303b、303c LED
304 開口
305 光源担持体
Claims (11)
- 少なくとも光導電層と表面層を有する電子写真感光体の表面を帯電する帯電工程と、帯電された前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する潜像形成工程と、トナー担持体の上に担持させたトナーを転移させて前記静電潜像を現像し、前記電子写真感光体の表面にトナー像を形成する現像工程と、前記トナー像を前記電子写真感光体の表面から転写材に転写する転写工程と、前記電子写真感光体の表面に残った転写残トナーを前記電子写真感光体から除去するためのクリーニング工程と、前記電子写真感光体を除電する帯電前露光工程とを有し、前記表面層の膜厚が初期の膜厚に対して50%以上減少するまで繰り返し画像形成を行う画像形成方法において、
前記帯電前露光工程における帯電前露光条件の調整を行う、帯電前露光調整工程をさらに有し、
前記帯電前露光調整工程が、帯電前露光光の露光強度の調整工程および露光波長の調整工程を含み、
前記露光波長の調整工程は、前記表面層の膜厚の減少による表面帯電電位の低下に応じて前記露光波長が短くなるように調整する工程を含む、ことを特徴とする画像形成方法。 - 前記表面層が水素化アモルファスシリコンカーバイトで構成され、前記表面層におけるケイ素原子の原子数(Si)と炭素原子の原子数(C)との和に対する炭素原子の原子数(C)の比(C/(Si+C))が0.50以上0.65以下であり、
前記表面層におけるケイ素原子の原子密度と炭素原子の原子密度との和が6.60×1022原子/cm3以上であり、
前記表面層における赤外線吸収スペクトルにおける波数2960cm-1の吸収係数α1に対する波数2890cm-1の吸収係数α2の比α2/α1が0.50以下であり、
前記表面層の電子スピン共鳴法によって測定される欠陥密度が9.0×1018(spins/cm3)以上2.2×1019(spins/cm3)以下である請求項1に記載の画像形成方法。 - 前記電子写真感光体の初期の表面電位を測定し、得られた表面電位の値を記憶する初期電位記憶工程をさらに有し、
前記帯電前露光調整工程が、前記初期電位記憶工程で記憶された初期の表面電位に近づけるように、帯電前露光条件の調整を行う請求項1または2に記載の画像形成方法。 - 前記電子写真感光体の表面電位を測定する電位測定工程をさらに有し、
前記電位測定工程において、前記初期電位記憶工程で記憶された初期の表面電位から2%以上乖離した表面電位が測定された場合に、前記帯電前露光調整工程を行う請求項3に記載の画像形成方法。 - 前記電子写真感光体の使用量を検出する感光体使用量検出工程をさらに有し、
前記感光体使用量検出工程で得られた電子写真感光体の使用量に応じて、前記帯電前露光調整工程を行う請求項1〜3の何れか1項に記載の画像形成方法。 - 前記電子写真感光体の初期の表面層膜厚を測定し、得られた表面層膜厚の値を記憶する初期膜厚記憶工程をさらに有し、
前記感光体使用量検出工程が前記表面層の膜厚を検出する工程であり、
前記感光体使用量検出工程において、前記初期膜厚記憶工程で記憶された初期の表面層膜厚に対して2%の膜厚が減少する毎に、前記帯電前露光調整工程を行うことを特徴とする請求項5に記載の画像形成方法。 - 少なくとも光導電層と表面層を有する電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電された前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する潜像形成手段と、トナー担持体の上に担持させたトナーを転移させて前記静電潜像を現像して前記電子写真感光体の表面にトナー像を形成する現像手段と、前記トナー像を前記電子写真感光体の表面から転写材に転写する転写手段と、前記電子写真感光体の表面に残った転写残トナーを前記電子写真感光体から除去するためのクリーニング手段と、前記電子写真感光体を除電する帯電前露光手段とを有し、前記表面層の膜厚が初期の膜厚に対して50%以上減少するまで繰り返し画像形成を行う画像形成装置であって、
前記帯電前露光手段の帯電前露光条件の調整を行う帯電前露光調整手段をさらに有し、
前記帯電前露光調整手段が、帯電前露光光の露光強度の調整手段および露光波長の調整手段を含み、
前記露光波長の調整手段は、前記表面層の膜厚の減少による表面帯電電位の低下に応じて前記露光波長が短くなるように調整する手段を含む、ことを特徴とする画像形成装置。 - 表面層が水素化アモルファスシリコンカーバイトで構成され、前記表面層におけるケイ素原子の原子数(Si)と炭素原子の原子数(C)との和に対する炭素原子の原子数(C)の比(C/(Si+C))が0.50以上0.65以下であり、
前記表面層におけるケイ素原子の原子密度と炭素原子の原子密度との和が6.60×1022原子/cm3以上であり、
前記表面層における赤外線吸収スペクトルにおける波数2960cm-1の吸収係数α1に対する波数2890cm-1の吸収係数α2の比α2/α1が0.50以下であり、
前記表面層の電子スピン共鳴法によって測定される欠陥密度が9.0×1018(spins/cm3)以上2.2×1019(spins/cm3)以下である請求項7に記載の画像形成装置。 - 前記電子写真感光体の初期の表面電位を測定して得られた表面電位の値を記憶する初期電位記憶手段をさらに有し、
前記帯電前露光調整手段が、前記初期電位記憶手段に記憶された初期の表面電位に近づけるように、帯電前露光条件の調整を行う請求項7または8に記載の画像形成装置。 - 前記電子写真感光体の使用量を検出する感光体使用量検出手段をさらに有し、
前記感光体使用量検出手段によって得られた電子写真感光体の使用量に応じて、前記帯電前露光調整手段が帯電前露光条件の調整を行う請求項7〜9の何れか1項に記載の画像形成装置。 - 前記電子写真感光体の初期の表面層膜厚を測定して得られた表面層膜厚の値を記憶する初期膜厚記憶手段をさらに有し、
前記感光体使用量検出手段が前記電子写真感光体の表面層膜厚を検出する手段であり、
前記初期膜厚記憶手段によって記憶されている初期の表面層膜厚と、前記感光体使用量検出手段によって検出された表面層膜厚とに応じて、前記帯電前露光調整手段が帯電前露光条件の調整を行う請求項10に記載の画像形成装置。
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