JP6422679B2 - 中空粒子の製造装置 - Google Patents
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Description
〔2〕前記溶融ゾーンの内径が、他の2段階加熱ゾーンよりも小さいものである〔1〕記載の酸化物中空粒子製造装置。
〔3〕前記酸化物中空粒子形成ゾーンと前記溶融ゾーンの間に、酸化物中空粒子表面の溶融成分をスプレーするノズルを有する〔1〕又は〔2〕記載の酸化物中空粒子製造装置。
〔4〕前記乾燥ゾーンの温度が室温〜600℃、前記酸化物中空粒子形成ゾーンの温度が150〜1000℃、前記溶融ゾーンの温度が600℃以上である〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の酸化物中空粒子製造装置。
図1に示す装置を用いてムライト中空粒子、及び非晶質アルミナ/シリカ系酸化物中空粒子を製造した。ムライト中空粒子の製造においては、硝酸アルミニウム、オルトケイ酸テトラエチルを溶解した0.2mol/L水溶液を用いた。非晶質アルミナ/シリカ系酸化物中空粒子の製造には、硝酸アルミニウム、オルトケイ酸テトラエチル、硝酸カルシウム4水和物、ホウ酸ナトリウム、硝酸マグネシウムを用いた。溶液は、2流体ノズルを介してミスト状に噴霧し、乾燥ゾーン、熱分解ゾーン及び溶融ゾーンを通過させた。得られた酸化物中空粒子は、冷却後、バグフィルターを用いて回収した。表1に、ミストの平均粒子径及びBET比表面積を示した。表2に、噴霧方式、各ゾーンの温度を示した。また、表2には、得られた酸化物中空粒子の外殻表面に孔が存在するか否かを、溶媒に浮遊するか否かで評価した。外殻表面に孔があれば、粒子は浮遊せずに沈む。
2:熱分解ゾーン
3:溶融ゾーン
4:噴霧ノズル
5:ポンプ
6:加熱装置
7:加熱炉内壁
8:加熱炉外壁
9:溶融成分スプレーノズル
Claims (3)
- 酸化物を構成する元素を含有する溶液の噴霧液滴から外殻に孔が存在しない酸化物中空粒子を製造する装置であって、前記溶液の噴霧液滴から溶媒を除去する乾燥ゾーン、乾燥された粒子を熱分解して酸化物中空粒子を形成するゾーン、及び形成された酸化物中空粒子の表面を溶融するゾーンの3段階加熱ゾーンを有し、前記溶融ゾーンの内径が、他の2段階加熱ゾーンよりも小さいものであることを特徴とする、外殻に孔が存在しない酸化物中空粒子製造装置。
- 酸化物を構成する元素を含有する溶液の噴霧液滴から外殻に孔が存在しない酸化物中空粒子を製造する装置であって、前記溶液の噴霧液滴から溶媒を除去する乾燥ゾーン、乾燥された粒子を熱分解して酸化物中空粒子を形成するゾーン、及び形成された酸化物中空粒子の表面を溶融するゾーンの3段階加熱ゾーンを有し、前記酸化物中空粒子形成ゾーンと前記溶融ゾーンの間に、酸化物中空粒子表面の溶融成分をスプレーするノズルを有することを特徴とする、外殻に孔が存在しない酸化物中空粒子製造装置。
- 前記乾燥ゾーンの温度が室温〜600℃、前記酸化物中空粒子形成ゾーンの温度が150〜1000℃、前記溶融ゾーンの温度が600℃以上である請求項1又は2に記載の外殻に孔が存在しない酸化物中空粒子製造装置。
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