JP6420874B2 - 定盤洗浄装置 - Google Patents
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Description
120 移動ユニット
130 流体供給部
140 支持部
Claims (14)
- 溝を有する定盤の表面を洗浄する定盤洗浄装置であって、
噴射ヘッド、及び前記噴射ヘッドの上面に配置される少なくとも一つの第1噴射ノズル及び少なくとも一つの第2噴射ノズルを含む噴射ユニット;及び
前記噴射ユニットを洗浄しようとする前記定盤の表面に移動させる移動ユニットを含み、
前記少なくとも一つの第1噴射ノズルは前記定盤の表面へ第1洗浄液を噴射する第1噴射口を含み、前記少なくとも一つの第2噴射ノズルは前記定盤の表面へ第2洗浄液を噴射する第2噴射口を含み、
前記噴射ヘッドの上面から前記第2噴射口までの第2離隔距離は前記噴射ヘッドの上面から前記第1噴射口までの第1離隔距離よりも大きく、
前記第2噴射口から前記定盤の表面に噴射される前記第2洗浄液の第2噴射角度は、前記第1噴射口から前記定盤の表面に噴射される前記第1洗浄液の第1噴射角度よりも小さく、
前記溝は、研磨工程中にスラリーを供給及び排出するためのものであり、
前記第2噴射口と前記溝の底との間の距離は、前記第1噴射口と前記溝の底との間の距離よりも小さく、前記第2洗浄液が前記溝に直接注入される、溝を有する定盤の表面を洗浄する定盤洗浄装置。 - 前記少なくとも一つの第1噴射ノズルは複数の第1噴射ノズルを含み、
前記少なくとも一つの第2噴射ノズルは複数の第2噴射ノズルを含み、
前記複数の第2噴射ノズルのそれぞれの第2離隔距離は前記複数の第1噴射ノズルのそれぞれの第1離隔距離より大きく、
前記複数の第2噴射ノズルのそれぞれの第2噴射口から噴射される第2洗浄液の第2噴射角度は前記複数の第1噴射ノズルのそれぞれの第1噴射口から噴射される第1洗浄液の第1噴射角度より小さい、請求項1に記載の溝を有する定盤の表面を洗浄する定盤洗浄装置。 - 前記噴射ヘッドの一端から他端への方向に前記複数の第1噴射ノズルが一列に配列され、
前記噴射ヘッドの一端から他端への方向に前記複数の第2噴射ノズルが一列に配列される、請求項2に記載の溝を有する定盤の表面を洗浄する定盤洗浄装置。 - 前記噴射ヘッドの一端から他端への方向に前記第1噴射ノズルと前記第2噴射ノズルは互いに交互に配列される、請求項3に記載の溝を有する定盤の表面を洗浄する定盤洗浄装置。
- 前記定盤は第1溝を有する上定盤及び第2溝を有する下定盤を含み、
前記複数の第1噴射ノズル及び前記複数の第2噴射ノズルは前記第1溝が設けられた前記上定盤の下面に前記第1及び第2洗浄液を噴射する、請求項2に記載の溝を有する定盤の表面を洗浄する定盤洗浄装置。 - 前記噴射ユニットは、
前記噴射ヘッドの下面に配置される少なくとも一つの第3噴射ノズル及び少なくとも一つの第4噴射ノズルをさらに含み、
前記少なくとも一つの第3噴射ノズルは前記第2溝を有する下定盤の上面へ第3洗浄液を噴射する第3噴射口を含み、前記少なくとも一つの第4噴射ノズルは前記第2溝を有する下定盤の上面へ第4洗浄液を噴射する第4噴射口を含み、
前記噴射ヘッドの下面から前記第3噴射口までの第3離隔距離と前記噴射ヘッドの下面から前記第4噴射口までの第4離隔距離は互いに違う、請求項5に記載の溝を有する定盤の表面を洗浄する定盤洗浄装置。 - 前記少なくとも一つの第3噴射ノズルは複数の第3噴射ノズルを含み、
前記少なくとも一つの第4噴射ノズルは複数の第4噴射ノズルを含み、
前記複数の第4噴射ノズルのそれぞれの第4離隔距離は前記複数の第3噴射ノズルのそれぞれの第1離隔距離より大きく、
前記複数の第4噴射ノズルのそれぞれの第4噴射口から噴射される第4洗浄液の第4噴射角度は前記複数の第3噴射ノズルのそれぞれの第3噴射口から噴射される第3洗浄液の第3噴射角度より小さい、請求項6に記載の溝を有する定盤の表面を洗浄する定盤洗浄装置。 - 前記噴射ヘッドの一端から他端への方向に前記複数の第3噴射ノズルが一列に配列され、
前記噴射ヘッドの一端から他端への方向に前記複数の第4噴射ノズルが一列に配列される、請求項6に記載の定盤洗浄装置。 - 前記噴射ヘッドの一端から他端への方向に前記第3噴射ノズルと前記第4噴射ノズルは互いに交互に配列される、請求項8に記載の溝を有する定盤の表面を洗浄する定盤洗浄装置。
- 前記第1噴射角度及び前記第3噴射角度のそれぞれは40°〜50°であり、
前記第2噴射角度及び前記第4噴射角度のそれぞれは10°〜20°である、請求項7に記載の溝を有する定盤の表面を洗浄する定盤洗浄装置。 - 前記少なくとも一つの第2噴射ノズルから噴射される前記第2洗浄液の噴射圧力は前記少なくとも一つの第1噴射ノズルから噴射される前記第1洗浄液の噴射圧力より高く、
前記少なくとも一つの第4噴射ノズルから噴射される前記第4洗浄液の噴射圧力は前記少なくとも一つの第3噴射ノズルから噴射される前記第3洗浄液の噴射圧力より高い、請求項6に記載の溝を有する定盤の表面を洗浄する定盤洗浄装置。 - 前記第2及び第4噴射口のそれぞれの直径は前記第1及び第3噴射口のそれぞれの直径より小さい、請求項6に記載の溝を有する定盤の表面を洗浄する定盤洗浄装置。
- 前記第1〜第4噴射ノズルに洗浄液を供給する供給管をさらに含む、請求項12に記載の溝を有する定盤の表面を洗浄する定盤洗浄装置。
- 前記第1噴射角度と前記第2噴射角度の差は20°〜40°である、請求項7に記載の溝を有する定盤の表面を洗浄する定盤洗浄装置。
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