JP6418790B2 - 洗浄装置 - Google Patents
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Description
なお、以下の実施形態では、洗浄される被洗浄体として、オリフラ10cを有する輪郭が真円でない半導体ウエハ10(図1参照)を例に挙げて説明するが、被洗浄体は、そのようなウエハ10でなくてもよく、また、輪郭が真円であっても構わない。
まず、洗浄されるべきウエハ10がオペレータによって手動で或いは搬送ロボットにより自動で洗浄装置1内に搬入される。このとき、支持体20(20a〜20f)によって取り囲まれる円形の支持領域内に障害なくウエハ10を搬入できるように、各ブラシ30,35および補助ローラ40は、前述したエアシリンダなどの移動機構により所定の待機位置に待避される。
10 ウエハ(被洗浄体)
10a 主表面
10b 周端側面
20 支持体
30 主表面ブラシ(ロールブラシ)
35 側面(端面)ブラシ(サイドブラシ)
40 補助ローラ
50 線条体(付勢機構)
55 錘(付勢機構)
58 滑車(付勢機構)
Claims (3)
- 被洗浄体を位置規制しつつ回転可能に支持する支持体と、前記支持体上に支持された前記被洗浄体の主表面に接触して回転することにより前記主表面をスクラブ洗浄する主表面ブラシと、前記被洗浄体の周端側面に接触して該側面を洗浄する回転可能な側面ブラシと、前記主表面ブラシと前記側面ブラシとの間に設けられ、前記被洗浄体の主表面と接触して回転する補助ローラとを備える洗浄装置であって、
前記主表面ブラシは、前記被洗浄体の周端縁から前記被洗浄体の中心を越える長さにわたって前記被洗浄体の径方向に延びるとともに、洗浄液を前記被洗浄体に対して供給可能で、前記被洗浄体に対する接触面積が調整可能に配設され、
前記支持体上に支持される前記被洗浄体の周端側面と接触する前記側面ブラシを前記被洗浄体の中心へ向けて常時付勢する付勢機構を備え、
前記主表面ブラシの回転速度をV1、前記側面ブラシの回転速度をV2、前記補助ローラの回転速度をV3、前記被洗浄体に対する前記主表面ブラシの接触圧力をP1、前記被洗浄体に対する前記側面ブラシの接触圧力をP2、前記被洗浄体に対する前記補助ローラの接触圧力P3とした場合、
V1>V2≧V3、及び/又は、P1>P2>P3に設定できる
ことを特徴とする洗浄装置。 - 前記付勢機構は、前記側面ブラシに結合される錘に作用する重力を付勢力として利用することを特徴とする請求項1に記載の洗浄装置。
- 前記補助ローラは、前記被洗浄体の周端縁から前記主表面ブラシの長さよりも短い長さにわたって前記被洗浄体の径方向に延びることを特徴とする請求項1または2に記載の洗浄装置。
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