JP6408608B2 - 塗布装置と塗布方法、塗布ユニット - Google Patents
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Description
そこで、本願の課題は、ピンにて液体を塗布する装置で、液体の塗布量を調整できる装置を提供することとする。
実施の形態1を、以下、図を用いて説明する。図3Aは、実施の形態の塗布装置100の斜視図である。図3Bは、塗布プロセスを示す図である。
<構成>
図3Aで示す、塗布装置100は、ノズル11と、移動機構15と、ステージ14と、撮像部21と、測定部20と、制御部30と、を含む。
ノズル11は、従来のノズル11と同じである。ピン10を内部に含み、ピン10で液体12を塗布する。
移動機構15は、ノズル11を1方向へ移動させる機構である。
撮像部21は、測定部20上の液体を撮像するものである。イメージセンサ、デジタルカメラなど使用できる。
この構成により、ノズル11により液体12を基板13の全体に塗布できる。
<塗布プロセス>
事前準備101は、基板13のステージ14の取り付けや、ノズル11への液体の入れ込みなど、塗布前の準備である。
事前塗布102は、基板13へ液体を塗布する前に、測定部20へ液体を塗布する。
塗布物の測定103は、事前塗布102で塗布された液体を測定する。
塗布開始105は、基板13へ液体を塗布する。結果、基板13の塗布必要な位置へ液体が正確に、適量塗布される。
<塗布条件の変更104>
塗布条件の変更104について以下説明する。
塗布物の測定103において、塗布物の位置がわかる。その位置は、ノズル11から液体が塗布される位置である。このことで、ノズル11の位置(機械的に認識されている装置座標)と塗布物の位置との位置関係がわかる。この関係がわかれば、どこにノズル11を移動させればよいか、その位置がわかる。
結果、装置座標に基づき、ノズル11を移動させ、液体を基板13上の液体を塗布すべき位置へ塗布できる。
塗布物の測定103において、塗布物の重さ(塗布量)がわかる。予め、図4A〜図4Cに示すような関係を測定しておく。縦軸は、塗布量(量、または、重さ)である。横軸は、それぞれ、ピン10の移動速度、ピン10の待機時間、塗布回数である。図4Aから、ピン10の移動速度が速いほど、塗布する液体量は少ない。また、図4Bから、ピン10が基板13上で静止して時間(待機時間)が長いほど、塗布量は多い。図4Cから、塗布回数が多いほど、塗布量が多い。
その後、必要な塗布量から、ピン10の移動速度、ピン10の待機時間、塗布回数を求める。図の実線で、その関係を示す。
なお、ピン10の移動速度、ピン10の待機時間、塗布回数の3つ内、少なくともいずれか1つ以上で、塗布量を調整してもよい。
(実施の形態2)
<プロセス>
欠陥の体積を計測し、その体積にあう塗布量にするため、事前塗布102〜塗布開始105までを行う。
<円形の場合>
図6Dは、正常に基板13に液体12が塗布された状態である。
図6A、図7Aでは、塗布すべき液体12が塗布されていない状態である。完全な欠陥である。この場合は、塗布位置61に、所定の塗布量を塗布すればよい。
なお、先に塗布された液体12の上へ塗布する場合は、高さの計測をしておく必要がある。
<ラインの場合>
図8Aでは、液体ラインの一部が完全に途切れている。その途切れの中央に塗布位置61を設定し、液体12を塗布する。
図8Bでは、その途切れが広く、塗布位置61を2箇所設定し、液体12を塗布する。
図6、図7で説明したのと同様に、塗布位置61を設定し、不足している体積に対して、液体12を塗布する。
<効果>実施の形態1の効果に加え、欠陥に液体を的確に塗布できる。
(実施の形態3)
<プロセス>
図10Bは、塗布予定範囲71に塗布する液体12の塗布例を示す。この後、液体12が広がりで、塗布予定範囲71に液体12が広がる。
図10Cでは、重ねて液体12を塗布する例を示す。この後、液体12が広がりで、塗布予定範囲71に液体12が広がる。
図10Eは、図10Bの後、さらに、中央に液体12を塗布したものである。この後、液体12が広がりで、塗布予定範囲71に液体12が広がる。
事前塗布102の工程により、塗布位置、塗布形状が正確にわかるので、いろいろな位置のいろいろな形状に、液体を塗布できる。
なお、図10Aの塗布予定範囲71として、実施の形態2の欠陥として、上記方法を適用できる。
<効果>上記実施の形態の効果に加え、いろいろな領域にいろいろな量、形状で液滴を塗布できる。
(実施の形態4)
実施の形態4では、液だめ16がピン10に対して別途設けられている。
図11Bでは、図11Aの状態からピン10の先端が液だめ16に一端入り込み、ピン10が引き上げられたところである。
図11Cでは、図11Bの状態から、ピン10が、基板13へ、その先端の液体12を塗布するところである。この後、図11Aの状態へ戻り繰り返す。
図12のピン10の断面図に示すように、ピン10の内部に液だめ16を有し、液体12を外部へ吐出するものでもよい。
上記の実施の形態1〜4のいずれかの構造、方法によれば、実際の液体の塗布場所と、塗布すべき場所とを、正確に、位置合わせすることができる。塗布液を、基板の必要な場所に塗布できる。
つまり、上記実施の形態1〜4で、ピンとして以下のピンを使用できる。ピンの動作として以下の動作を使用できる。
(実施の形態5:ネジ)
図13Aは、ピン62の本体58に対して、凹部56と凸部57を設けている。
図13Bは、ピン62の本体58に対して、凸部57のみを設けている。
図13Cは、ピン62の本体58に対して、凹部56のみを設けている。
図13A〜図13Cでは、ピン62の側面で、凹凸が連続している。下方に向かってネジ(螺旋状溝)が形成されている。
図13Eは、ピン52の本体58に対して、凹部56を設けている。
図13Fは、ピン52の本体58の側面に凹凸がない。
図13D〜図13Eでは、凹凸はあるが、連続していない。複数の凹凸が個別に存在する。
<評価>
(実施の形態6:撥液処理)
図14Aは、比較例の円筒状のピン52である。
図14Bは、ピン62の側面55に撥液処理81をしている。
図14Cは、ピン62の側面55の螺旋状の凹凸すべてに撥液処理をしている。
図14Dでは、ピン62の側面の凹部56に撥液処理81をし、凸部57には、撥液処理81をしていない。
図14Fは、ピン62の側面の凹部56に親液処理82をし、凸部57には、撥液処理81をしている。
図14C〜図14Fでは、側面に凹凸があり、連続している。図13A〜図13Cと同様である。
<評価>
上記ピン52、ピン62を使用して、液の吐出実験をした。塗布液のばらつきを調べた。結果を表2に示す。
図14C〜図14Fでは、図14Bと比較して、側面55に螺旋状の凹凸があるので、液53の着脱がより改善されている。
図14Eでは、ピン62の側面55の凹部56の撥液処理81をしていない部分を介して、液がピンと着脱をスムーズにできる。
図14Fでは、ピン52の側面55の凹部56の親液処理82部分を介して、液がピンと着脱をスムーズにできる。結果、最もよい。
たとえば、液が、水系の場合、疎水性の材料を使用する。例えば、フッ素系化合物を使用できる。液が、油系の場合、疎油性の材料を使用する。
蒸着や焼きつけなどいろいろな方法で、皮膜形成できる。
図14Cから図14Fで、撥液処理81、親液処理82の膜厚は限定されないが、ピン62の側面に凹凸が確保される必要がある。
(実施の形態7:先端部)
図15Aは、比較例の円筒形状のピン52である。
図15Bは、実施例のピン62で、先端が球状である。その上部側面は、螺旋の溝がある。
図15Dは、実施例のピン62で、先端が小さい球の形状である。その上部側面は、螺旋の溝がある。球と螺旋との間に傾斜88がある。
<評価>
上記ピン52、ピン62を使用して、液の吐出実験をした。塗布液のばらつきを評価した。結果を表3に示す。
一方、実施例(図15B〜図15D)では、側面74と底面73との間に変化があり(不連続部分)、液53が留まる位置が固定されやすい。
図15Cでは、凹部85のところで液53が止まりやすい。
図15Dでは、傾斜88のところで液53が止まりやすい。
特に図15Cは、凹部85により、その部分で液53が留まりやすく、好ましい。
なお、先端部は球でなくとも三角すいなど下部に向かって、凸状であればよい。
(実施の形態8:温度、超音波)
図16A、図16Bに、実施の形態8の例の断面図を示す。
また、一定の温度に保つことで、塗布量のバラツキを低減できる。
(実施の形態9:回転)
図17Aは、比較例のピン52、図17B〜図17Dは、実施例のピン62である。図17Bから図17Dの下部の矢印は回転方向90を示す。
図17Bは、円柱のピン62で右回転し、上下方向に移動する。
図17Aは、側面に螺旋の溝があるピン62で、右回転し、上下方向に移動する。右回転は、ネジと仮定した場合、下方向へ入り込む方向である。
図17Aは、側面に螺旋の溝があるピン62で、左回転し、上下方向に移動する。左回転は、ネジと仮定した場合、下方向へ入り込む方向と逆方向である。
<評価>
上記ピン52、ピン62を使用して、液の吐出実験をした。塗布液のばらつきを評価した。結果を表4に示す。
側面に溝がない場合、ピンを回転させても、液のばらつきは改善されない。また、溝があってもその方向が溝の方向であると、改善されない。溝の方向と逆方向に回転させることで、液のばらつきを抑えることができる。逆方向へ回転させることで、液とピンとの繋がりがカットされ、液のばらつきが抑えられる。
なお、回転速度は、5〜500rpmが好ましい。これ以外でもよい。
(実施の形態10:塗布装置)
塗布ユニット110は、上記実施の形態のいずれかのノズル51(ピン62)である。
(なお書き)
上記実施の形態は、組み合わせることができる。上記の工程の順番は、前工程の結果を使用するなどがなければ、変更できる。
液は、固形成分を含んでいてもよい。上記実施の形態は組み合わせることができる。
11 ノズル
12 液体
13 基板
14 ステージ
15 移動機構
20 測定部
21 撮像部
30 制御部
50 基板
51 ノズル
52、62 ピン
53 液
54、53 底面
55、74 側面
56、85 凹部
57 凸部
58 本体
61 塗布位置
71 塗布予定範囲
72 超音波ホーン
73 ヒータ
81 撥液処理
82 親液処理
86 丸み
88 傾斜
90 回転方向
100 塗布装置
101 事前準備
102 事前塗布
103 測定
104 変更
105 塗布開始
110 塗布ユニット
112 被塗布物
113 ステージ
114 枠
115 制御装置
201 欠陥検査
240 塗布装置
301 塗布方法決定
Claims (8)
- 液を内部に保持するノズルと、
前記ノズルの内部と外部とを移動し、前記液を被塗布物へ塗布するピンと、を含む塗布ユニットであり、
前記ピンの側面に連続した凹部があり、
前記ピンの側面は、撥液処理がされている塗布ユニット。 - 液を内部に保持するノズルと、
前記ノズルの内部と外部とを移動し、前記液を被塗布物へ塗布するピンと、を含む塗布ユニットであり、
前記ピンの側面に連続した凹部があり、
前記ピンは、回転可能である塗布ユニット。 - 前記凹部は、螺旋状の溝がある請求項1または2記載の塗布ユニット。
- 前記ピンの底が凸状である請求項1から3のいずれか1項に記載の塗布ユニット。
- 前記ピンの底と前記側面との間に不連続部分がある請求項1から4のいずれか1項に記載の塗布ユニット。
- 前記ノズルには、超音波印加機構、または、加熱手段がある請求項1から5のいずれか1項に記載の塗布ユニット。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の前記塗布ユニットと、
被塗布物を保持するステージと、
前記ステージと前記塗布ユニットとを相対的に移動させる駆動部と、
を含む塗布装置。 - 請求項1〜6のいずれか1項に記載の前記塗布ユニットを用い、被塗布物と前記ノズルとを相対的に移動させ、前記被塗布物に液を塗布する塗布方法。
Applications Claiming Priority (3)
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