JP2019141822A - 塗工膜測定装置、塗工膜測定方法、塗工装置および塗工方法 - Google Patents

塗工膜測定装置、塗工膜測定方法、塗工装置および塗工方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2019141822A
JP2019141822A JP2018030778A JP2018030778A JP2019141822A JP 2019141822 A JP2019141822 A JP 2019141822A JP 2018030778 A JP2018030778 A JP 2018030778A JP 2018030778 A JP2018030778 A JP 2018030778A JP 2019141822 A JP2019141822 A JP 2019141822A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coating
coating film
image data
region
positional relationship
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2018030778A
Other languages
English (en)
Inventor
秀一 相良
Shuichi Sagara
秀一 相良
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Screen Holdings Co Ltd
Original Assignee
Screen Holdings Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Screen Holdings Co Ltd filed Critical Screen Holdings Co Ltd
Priority to JP2018030778A priority Critical patent/JP2019141822A/ja
Publication of JP2019141822A publication Critical patent/JP2019141822A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

【課題】長期にわたって基材上に塗布された複数の塗工膜を高精度に測定する。【解決手段】第1方向において第1塗工膜全体および非塗工領域の少なくとも一部を撮像して第1画像データを取得する第1撮像部と、第1方向において第2塗工膜全体および非塗工領域の少なくとも一部を撮像して第2画像データを取得する第2撮像部と、第1画像データおよび第2画像データに基づいて第1方向における第1撮像部および第2撮像部の位置関係を示す位置関係情報を取得する位置関係取得部と、位置関係情報、第1画像データおよび第2画像データに基づいて第1方向における第1塗工膜および第2塗工膜に関する膜情報を取得する膜情報取得部とを備え、非塗工領域のうち第1撮像部により撮像される撮像領域と第2撮像部により撮像される撮像領域とが少なくとも一部分で重複する。【選択図】図5

Description

この発明は、基材上に塗布された複数の塗工膜を測定する測定技術および当該測定技術による測定結果に基づいて基材への塗布液の塗工を制御する塗工技術に関するものである。
シート状の基材を搬送しながらその表面に塗布液を塗布してストライプ状の塗工膜を複数本形成する技術においては、基材搬送を継続しつつ各塗工膜を測定することが必要となる場合がある。従来においては基材の搬送方向と直交する方向に沿ってラインカメラなどの撮像部を配置し、基材の幅方向において基材全体を撮像して得られる画像データに基づいて各塗工膜のエッジ位置を膜情報として求めていた。
しかしながら、基材の幅サイズの増大にしたがって撮像部の画素分解能(=幅方向視野サイズ/幅方向画素数)が大きくなり、高精度な測定が困難となっている。そこで、例えば特許文献1に記載されているように、複数台の撮像部を用いることが提案されていれる。
特開2017−56367号公報(例えば図10参照)
上記従来装置では、塗工膜のエッジ毎に撮像部が設けられており、各エッジの位置を膜情報として求め、さらにエッジの位置に基づいて各塗工膜の幅を算出している。この場合、塗工処理を開始する前に撮像部同士の位置関係が予め調整される。そして、調整完了後に塗工処理が開始され、塗工処理中に塗工膜測定が実施される。この塗工処理中においては、撮像部の発熱等により上記位置関係が崩れることがあるが、それにもかかわらず塗工膜測定を実施すると、測定精度の低下を招く。そこで、測定精度の低下が生じた時あるいはその前に上記位置関係のキャリブレーションを実施することが必要となる。このキャリブレーションの実施のためには、塗工膜の形成を一時的に中断することがあり、このことが処理効率の低下要因のひとつとなっている。また、ロール・トゥ・ロール方式で基材を搬送しながら塗工膜を形成する装置では、基材が連続的につながっているため、途中で塗工処理を中断してキャリブレーションを実施することは難しい。
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、長期にわたって基材上に塗布された複数の塗工膜を高精度に測定することができる塗工膜測定技術ならびに当該塗工膜測定技術を用いて複数の塗工膜を高精度に塗工することができる塗工技術を提供することを目的とする。
この発明の第1態様は、基材上において非塗工領域を挟んで第1方向に隣接しながら第1方向と直交する第2方向に塗工された第1塗工膜および第2塗工膜を測定する塗工膜測定装置であって、第1方向において第1塗工膜全体および非塗工領域の少なくとも一部を撮像して第1画像データを取得する第1撮像部と、第1方向において第2塗工膜全体および非塗工領域の少なくとも一部を撮像して第2画像データを取得する第2撮像部と、第1画像データおよび第2画像データに基づいて第1方向における第1撮像部および第2撮像部の位置関係を示す位置関係情報を取得する位置関係取得部と、位置関係情報、第1画像データおよび第2画像データに基づいて第1方向における第1塗工膜および第2塗工膜に関する膜情報を取得する膜情報取得部とを備え、非塗工領域のうち第1撮像部により撮像される撮像領域と第2撮像部により撮像される撮像領域とが少なくとも一部分で重複することを特徴としている。
この発明の第2態様は、基材上において非塗工領域を挟んで第1方向に隣接しながら第1方向と直交する第2方向に塗工された第1塗工膜および第2塗工膜を測定する塗工膜測定方法であって、第1方向において第1塗工膜全体および非塗工領域の少なくとも一部を第1撮像部により撮像して第1画像データを取得する工程と、第1方向において非塗工領域のうち第1撮像部により撮像される撮像領域の少なくとも一部および第2塗工膜全体を第2撮像部により撮像して第2画像データを取得する工程と、第1画像データおよび第2画像データに基づいて第1方向における第1撮像部および第2撮像部の位置関係を示す位置関係情報を取得する工程と、位置関係情報、第1画像データおよび第2画像データに基づいて第1方向における第1塗工膜および第2塗工膜に関する膜情報を取得する工程とを備えることを特徴としている。
この発明の第3態様は、第1方向において互いに離間して配置された第1ノズルおよび第2ノズルから塗工液を基材に供給することで基材上において非塗工領域を挟んで第1方向に隣接しながら第1方向と直交する第2方向に2本の塗工膜を塗工する塗工装置であって、第1方向において第1ノズルからの塗工液の供給により基材上に塗工された第1塗工膜全体および非塗工領域の少なくとも一部を撮像して第1画像データを取得する第1撮像部と、第1方向において第2ノズルからの塗工液の供給により基材上に塗工された第2塗工膜全体および非塗工領域の少なくとも一部を撮像して第2画像データを取得する第2撮像部と、第1画像データおよび第2画像データに基づいて第1方向における第1撮像部および第2撮像部の位置関係を示す位置関係情報を取得する位置関係取得部と、位置関係情報、第1画像データおよび第2画像データに基づいて第1方向における第1塗工膜および第2塗工膜に関する膜情報を取得する膜情報取得部と、膜情報に基づいて第1ノズルおよび第2ノズルによる基材への塗工液の供給を調整する供給調整部とを備え、非塗工領域のうち第1撮像部により撮像される撮像領域と第2撮像部により撮像される撮像領域とが少なくとも一部分で重複することを特徴としている。
この発明の第4態様は、第1方向において互いに離間して配置された第1ノズルおよび第2ノズルから塗工液を基材に供給することで基材上において非塗工領域を挟んで第1方向に隣接しながら第1方向と直交する第2方向に2本の塗工膜を塗工する塗工方法であって、第1方向において第1ノズルからの塗工液の供給により基材上に塗工された第1塗工膜全体および非塗工領域の少なくとも一部を撮像して第1画像データを取得する工程と、第1方向において非塗工領域のうち第1撮像部により撮像される撮像領域の少なくとも一部および第2ノズルからの塗工液の供給により基材上に塗工された第2塗工膜全体を撮像して第2画像データを取得する工程と、第1画像データおよび第2画像データに基づいて第1方向における第1撮像部および第2撮像部の位置関係を示す位置関係情報を取得する工程と、位置関係情報、第1画像データおよび第2画像データに基づいて第1方向における第1塗工膜および第2塗工膜に関する膜情報を取得する工程と、膜情報に基づいて第1ノズルおよび第2ノズルによる基材への塗工液の供給を調整する工程とを実行することを特徴としている。
このように構成された発明では、第1撮像部および第2撮像部が非塗工領域のうちの少なくとも一部を重複して撮像する。このため、第1撮像部により撮像して得られる第1画像データに第1塗工膜の膜情報以外に重複部分の画像情報が含まれるとともに、第2撮像部により撮像して得られる第2画像データに第2塗工膜の膜情報以外に重複部分の画像情報が含まれる。これらの画像データ、特に重複部分の画像情報に関するデータに基づいて位置関係情報が取得され、第1方向における第1撮像部および第2撮像部の位置関係が明らかとなっている。したがって、第1撮像部および第2撮像部の位置関係が変動したとしても上記位置関係情報を考慮することで膜情報が正確に求められる。
以上のように、非塗工領域のうち第1撮像部により撮像される撮像領域と第2撮像部により撮像される撮像領域とが少なくとも一部分で重複しているため、第1方向における第1撮像部および第2撮像部の位置関係を常時把握することができる。その結果、位置関係が変動したとしても、第1画像データおよび第2画像データとともに位置関係情報を考慮することで基材上に塗布された塗工膜を高精度に測定することができる。
本発明にかかる塗工膜測定装置の第1実施形態を装備する塗工装置の概略構成を示す図である。 図1に示す塗工装置の部分拡大斜視図である。 図1に示す塗工装置の電気的構成を示すブロック図である。 図1に示す塗工装置で実行される塗工処理の概要を示すフローチャートである。 塗工処理に含まれる塗工膜測定処理の概要を示す模式図である。 本発明にかかる塗工膜測定装置の比較例を示す模式図である。 本発明にかかる塗工膜測定装置の第2実施形態を装備する塗工装置で実施される塗工膜測定処理の概要を示す模式図である。 本発明にかかる塗工膜測定装置の第3実施形態を装備する塗工装置で実施される塗工膜測定処理の概要を示す模式図である。
図1は本発明にかかる塗工膜測定装置の第1実施形態を装備する塗工装置の概略構成を示す図である。また、図2は図1に示す塗工装置の部分拡大斜視図である。図3は図1に示す塗工装置の電気的構成を示すブロック図である。この塗工装置100は、ロール・トゥ・ロール方式で搬送されるシート状の基材Sに対してペースト状塗布液を塗工する装置であり、例えばリチウムイオン二次電池のような電池用電極の製造に用いることができる。以下の各図における方向を統一的に示すために、図1に示すようにXYZ直交座標系を設定する。ここでXY平面は水平面であり、X軸は基材Sの幅方向に延びる軸である一方、Y軸はX軸と直交し、基材Sの水平搬送方向に延びる軸である。Z軸は鉛直軸を表し、(−Z)方向が鉛直下向き方向を表す。なお、以下の説明理解のため、基材Sの搬送方向の上流側から見て(+X)方向を「右」とし、(−X)方向を「左」と称する。
この塗工装置100は、塗布すべき塗布液を内部に貯留するタンク1と、該タンク1から供給される塗布液を吐出する3本のノズル5L、5C、5Rとを備えている。これらのノズル5L、5C、5Rは図2に示すように所定間隔だけ離間しながら幅方向Xに配列されている。この明細書では、ノズル5L、5C、5Rを区別して説明する際には、左側に配置されたノズル5Lを「左ノズル5L」と称し、右側に配置されたノズル5Rを「右ノズル5R」と称し、それらの間に位置するノズル5Cを「中央ノズル5C」と称する。また、区別せずに説明する際には、単に「ノズル5L、5C、5R」と称する。
ノズル5L、5C、5Rはそれぞれ送液系2L、2C、2Rを介してタンク1と接続されている。送液系2L、2C、2Rはいずれも同一構成を有している。送液系2Lは図1に示すようにタンク1と左ノズル5Lとの間を接続する配管21と、該配管21の途中に介挿されて配管21に塗布液を流通させるポンプ22とを有している。ポンプ22は、高粘度の塗布液を安定した流量で送出することのできるものであることが望ましい。このようなポンプとしては例えばねじポンプを用いることができ、例えば一軸ねじポンプの一種であるモーノポンプを好適に適用することができる。ポンプ22の動作は制御ユニット3により制御される。つまり、制御ユニット3がポンプ22を制御することで送液系2Lにおける塗布液の流量を調節し、これによって基材Sに形成される塗工膜の幅が調整される。なお、他の送液系2C、2Rも送液系2Lと同様に構成されている。
ノズル5L、5C、5Rの吐出口は同一方向を向いている。そして、ノズル5L、5C、5Rの吐出口と対向する位置に基材Sが搬送ユニット7により送り込まれる。具体的には、ロール状に巻回された長尺シート状の基材Sが搬送ユニット7の供給ローラ71にセットされるとともに、ロールから引き出された基材Sの一端部が巻取ローラ74に巻回されている。巻取ローラ74が図の矢印Dr方向に回転することにより、基材Sが供給ローラ71から繰り出されて矢印Ds方向に搬送され、巻取ローラ74により巻き取られる。このようにして供給ローラ71および巻取ローラ74に掛け渡された基材Sの搬送経路上に、テンションローラ72およびバックアップローラ73が設けられている。すなわち、供給ローラ71から引き出された基材Sはテンションローラ72およびバックアップローラ73の表面に巻き掛けられており、バックアップローラ73の表面を通過した基材Sが巻取ローラ74により巻き取られる。
テンションローラ72は、搬送経路に沿って搬送される基材Sに一定の張力を与える。これにより、搬送経路における基材Sの弛みが防止され、基材Sが安定した姿勢で搬送される。すなわち、搬送経路に配置されるローラ間においては、基材Sは略平坦な姿勢を保って搬送される。図1の例では、バックアップローラ73から巻取ローラ74までの間で基材Sは略水平姿勢となっている。このときの基材Sの搬送方向Dsは(+Y)方向である。
つまり、搬送ユニット7は、塗布対象物である基材Sを保持する手段としての機能およびこれを搬送する手段としての機能を有する。搬送ユニット7はさらに、制御ユニット3からの制御指令に応じて、巻取ローラ74を所定の回転速度で回転させるローラ駆動機構75を有している。供給ローラ71、テンションローラ72およびバックアップローラ73は駆動機構を持たない従動ローラである。
このように搬送ユニット7により支持・搬送される基材Sの主面のうち、一方面がバックアップローラ73に当接している部分の他方面に対向するように、ノズル5L、5C、5Rが配置されている。言い換えれば、ノズル5L、5C、5Rと対向配置されたバックアップローラ73の表面に基材Sが巻き掛けられることで、基材Sがノズル5L、5C、5Rと対向する。ノズル5L、5C、5Rから吐出される塗布液が基材Sの表面に塗布される。基材Sが矢印Ds方向に搬送されることで、ノズル5L、5C、5Rを基材Sに対して相対的に走査移動させながら塗布液を基材Sに塗布することができる。基材S表面のうち、裏面側がバックアップローラ73に当接する領域にノズル5L、5C、5Rを対向させた状態で塗布液を塗布することにより、ノズル5L、5C、5Rと基材S表面とのギャップを安定に維持しながら塗布を行うことができる。
ノズル5L、5C、5Rは、バックアップローラ73に巻き掛けられた基材Sの表面に対向する面に、基材Sの幅方向、すなわち基材Sの長手方向(搬送方向Ds)に直交する方向に沿って延びるスリット状の吐出口を有している。該吐出口から一定量で連続的に塗布液が吐出されることによって、基材Sの表面には塗布液による略平坦な3本の塗工膜Fが幅方向Xにおいて互いに離間してY方向に延びて形成される。なお、3本の塗工膜Fを区別して説明する際には、左ノズル5L、中央ノズル5C、右ノズル5Rにより形成される塗工膜をそれぞれ「左塗工膜FL」、「中央塗工膜FC」、「右塗工膜FR」と称する。
ここで例えば、集電体として機能する金属などの導電体シートを基材Sとして用い、塗布液として活物質材料を含むペーストを用いることにより、集電体層の表面に活物質層を積層してなる電池用電極を製造することが可能である。このような塗布液は一般に比較的高粘度であり、例えばせん断速度10s-1における粘度が50Pa・sないし300Pa・s程度のものを用いることができる。また、基材Sとしては、例えば樹脂シートの表面に金属薄膜が形成されたものであってもよい。
また、搬送ユニット7による基材Sの搬送方向において、バックアップローラ73よりも下流側であって巻取ローラ74よりも上流側の位置に、硬化ユニット8が設けられている。硬化ユニット8は、その内部に通送される基材Sに塗布された塗布液に対し例えば乾燥空気、熱風、赤外線等を供給することで塗布液の溶媒成分の揮発を促進し、塗布液を乾燥硬化させる。塗布液が特定の電磁波に感応して硬化する材料を含むものである場合には、当該電磁波を塗布液に照射するように構成されてもよい。基材Sの搬送経路に沿った硬化ユニット8の長さは、塗布液の硬化時間に対応する。
また、搬送ユニット7による基材Sの搬送方向において、バックアップローラ73よりも下流側であって硬化ユニット8よりも上流側の位置に、3つのラインカメラ9L、9C、9Rが幅方向Xに配置されている。ラインカメラ9L、9C、9Rはいずれも幅方向Xに延設されている。そして、ラインカメラ9Lは左塗工膜FLと非塗工領域NFとの境界、つまり幅方向Xにおけるエッジ位置を含む画像を撮像可能となっている。また、ラインカメラ9C、9Rも同様に構成されている。なお、3個のラインカメラ9L、9C、9Rを区別して説明する際には、それぞれを「左カメラ9L」、「中央カメラ9C」、「右カメラ9R」と称する。
さらに詳述すると、ラインカメラ9L、9C、9Rはそれぞれ左塗工膜FL、中央塗工膜FCおよび右塗工膜FRの直上位置に配置され、幅方向Xにおいて次の部位を一括して撮像可能となっている。すなわち、ラインカメラ9Lの撮像領域RLは、図2に示すように、
・左塗工膜FLの(−X)方向側の非塗工領域NF1全体、
・左塗工膜FL全体、
・左塗工膜FLと中央塗工膜FCとの間に位置する非塗工領域NF2全体
・中央塗工膜FCのうち(−X)方向側で上記非塗工領域NFと接する接続領域(図5中の符号FCL)、
となっており、それらの画像を含む画像データを出力する。
また、ラインカメラ9Cの撮像領域RCは、
・左塗工膜FLのうち(+X)方向側で非塗工領域NF2と接する接続領域(図5中の符号FLC)、
・非塗工領域NF2全体、
・中央塗工膜FC全体、
・中央塗工膜FCと右塗工膜FRとの間に位置する非塗工領域NF3全体、
・右塗工膜FRのうち(−X)方向側で上記非塗工領域NF3と接する接続領域(図5中の符号FRC)、
となっており、それらの画像を含む画像データを出力する。
さらに、ラインカメラ9Rの撮像領域RRは、
・中央塗工膜FCのうち(+X)方向側で非塗工領域NF3と接する接続領域(図5中の符号FCR)、
・非塗工領域NF3全体、
・右塗工膜FR全体、
・右塗工膜FRの(+X)方向側の非塗工領域NF4全体、
となっており、それらの画像を含む画像データを出力する。なお、各画像データは制御ユニット3の記憶部31に記憶される。
制御ユニット3は図3に示すように記憶部31以外に演算処理部32を有している。演算処理部32はCPUなどを有し、記憶部31に予め記憶されているプログラムにしがって装置各部を制御する。演算処理部32は、幅方向Xにおけるラインカメラ9L、9C、9Rの位置関係を示す位置関係情報を取得し、その位置関係情報と画像データに基づき幅方向Xにおける塗工膜Fのエッジ位置(膜情報)を取得し、さらに膜情報に基づいてポンプ22を制御して基材Sへの塗工液の供給を塗工膜毎に調整する。このように、演算処理部32は本発明の「位置関係取得部」、「膜情報取得部」および「供給調整部」として機能し、ラインカメラ9L、9C、9Rと協働して塗工膜測定処理を実行する。つまり、塗工装置100では、演算処理部32とラインカメラ9L、9C、9Rとの組み合わせが本発明の「塗工膜測定装置」の一例に相当している。なお、図3中の符号6は次に説明する塗工処理(塗工膜測定処理を含む)の進行状況や異常の発生などを必要に応じてユーザに報知するとともにユーザからの各種情報の入力を受け付けるための操作表示ユニットを示している。
図4は図1に示す塗工装置で実行される塗工処理の概要を示すフローチャートである。また、図5は塗工処理に含まれる塗工膜測定処理の概要を示す模式図である。図5中の上段は塗工処理により形成された3本の塗工膜を上方から見た模式図であり、下段は左カメラ9L、中央カメラ9Cおよび右カメラ9Rで撮像された画像の模式図である。同図中においてドットが付された部分は塗工膜および塗工膜の画像を模式的に示している。なお、これらの点については後で説明する図7および図8についても同様である。
塗工処理は、制御ユニット3が予め記憶部31に記憶されているプログラムを実行し、装置各部に所定の動作を行わせることにより実現される。必要な目付量(塗工膜Fの構成材料の基材S表面への供給量)を得るための塗布液供給量は予め設定されている(ステップS101)。そして、巻取ローラ74が回転することで基材Sの搬送が開始され(ステップS102)、設定された塗布液供給量に応じた塗布液がポンプ22から送出されて各ノズル5L、5C、5Rから基材Sに向けて塗布液が吐出される。これによって、図2や図5の上段に示すように、基材Sに対して3本の塗工膜FL、FC、FRが互いに所定間隔を隔てて塗工される(ステップS103)。
そして、塗工膜FL、FC、FRがそれぞれ左カメラ9L、中央カメラ9Cおよび右カメラ9Rで撮像され(ステップS104)、その都度カメラの位置関係の取得(ステップS105)、塗工膜のエッジ位置(端部位置)の取得(ステップS106)および塗工幅の取得(ステップS107)を実行する。ここでは、特許文献1、図5および図6を参照しつつ、上記相対位置関係の取得を行う技術的意義について説明する。
複数の塗工膜をストライプ状に塗工する塗工処理において各塗工膜のエッジ位置を取得するために、特許文献1ではエッジ毎にカメラなどの撮像部を配置しており、撮像部の個数が増大するという問題がある。ここで、図6に示す比較例のように第1カメラ91ないし第4カメラ94を撮像部として準備し、非塗工領域NFごとにカメラを基材Sの上方位置に配置して非塗工領域NFおよびその近傍領域を撮像するように構成してもよい。この比較例においては、第1カメラ91により左塗工膜FLの(−X)方向側のエッジ位置EL1が撮像される。また、第2カメラ92により左塗工膜FLの(+X)方向側のエッジ位置EL2が撮像されるとともに中央塗工膜FCの(−X)方向側のエッジ位置EC1が撮像される。また、第3カメラ93により中央塗工膜FCの(+X)方向側のエッジ位置EC2が撮像されるとともに右塗工膜FRの(−X)方向側のエッジ位置ER1が撮像される。さらに、第4カメラ94により右塗工膜FRの(+X)方向側のエッジ位置ER2が撮像される。このように少ない撮像部により塗工膜FL、FC、FRの測定が可能となる。しかしながら、上記「発明が解決しようとする課題」の項で説明したと同様の課題は残ってしまう。つまり、撮像部同士の位置関係が崩れることで測定精度の低下を招いてしまう。
これに対し、本実施形態では、図5に示すように、左カメラ9Lと中央カメラ9Cとは接続領域FLC、FCLおよび非塗工領域NF2を重複して撮像しており、左カメラ9Lおよび中央カメラ9Cからそれぞれ出力される画像データには重複部分(=接続領域FLC−非塗工領域NF2−接続領域FCL)が含まれる。したがって、左塗工膜FLの(−X)方向側のエッジ位置EL1および中央塗工膜FCの(+X)方向側のエッジ位置EC2の少なくとも一方を基準に左カメラ9Lと中央カメラ9Cとの位置関係を特定することができる。これは、塗工処理の初期段階(同図の(a)欄)だけでなく、例えば同図の(b)欄に示すように左カメラ9Lが幅方向Xに変位した場合についても成立する。つまり、中央カメラ9Cに対する左カメラ9Lの相対位置が幅方向Xに変動したとしても幅方向Xにおける両者の位置関係を常に正確に把握することができる。また同様にして、中央カメラ9Cに対する右カメラ9Rの相対位置が幅方向Xに変動したとしても幅方向Xにおける中央カメラ9Cと右カメラ9Rとの位置関係を常に正確に把握することができる。さらに、これらの位置関係に基づいて左カメラ9Lと右カメラ9Rとの位置関係について正確に取得することができる。よって、特許文献1や図6に示す比較例のように塗工処理を中断してキャリブレーションを実施する必要がなく、塗工処理を継続させながらラインカメラ9L、9C、9Rの位置関係を取得することができる(ステップS105)。
また、ラインカメラ9L、9C、9Rの位置関係を把握した状態で各画像データを解析することで左塗工膜FLの両エッジ位置EL1、EL2、中央塗工膜FCの両エッジ位置EC1、EC2および右塗工膜FRの両エッジ位置ER1、ER2を正確に取得することができる(ステップS106)。
次のステップS107では、上記のようにして取得されたエッジ位置(膜情報)から基材S表面における各塗工膜FL、FC、FRの幅(塗工幅)が算出される。そして、所定長さの塗布が終了するまでステップS103以降の処理が継続される(ステップS108)。このとき、算出された塗工幅が予め定められた規定範囲内にあるか否かが判定され(ステップS109)、規定範囲から外れていれば(ステップS109においてNO)、塗布液供給量の設定が塗工膜FL、FC、FRごとに変更されて塗工幅の調整が行われる(ステップS110)。塗工幅が規定範囲内であれば(ステップS109においてYES)、そのまま塗布が継続される。一方、所定長さ分の塗布が終了すると(ステップS108においてYES)、ノズル5L、5C、5Rからの塗布液の吐出および基材Sの搬送が停止されて(ステップS111)、処理が完了する。
以上のように、第1実施形態にかかる塗工膜測定装置を装備する塗工装置100では、ラインカメラ9L、9Cのいずれもが重複部分(=接続領域FLC−非塗工領域NF2−接続領域FCL)を撮像して画像データをそれぞれ出力し、ラインカメラ9R、9Cのいずれもが重複部分(=接続領域FRC−非塗工領域NF3−接続領域FCR)を撮像して画像データをそれぞれ出力している。そして、それらの画像データに基づいて幅方向Xにおけるラインカメラ9L、9C、9Rの位置関係を取得している。したがって、塗工処理中であっても上記位置関係を正確に把握することができるとともに、当該位置情報と画像データに基づいて各塗工膜FL、FC、FRのエッジ位置を高精度に測定することができる。しかも、測定結果を用いて塗布液の供給量を調整しているため、塗工処理を中断させることなく、長時間にわかって塗工幅の変動を抑えて高品質な塗工膜FL、FC、FRを基材S上に形成することができる。
このように第1実施形態では、幅方向Xおよび搬送方向Yが本発明の「第1方向」および「第2方向」に相当している。また、エッジ位置EL1、EL2、EC1、EC2、ER1、ER2が本発明の「エッジ位置情報」の一例に相当している。
また、非塗工領域NF2を挟んで隣接する塗工膜FL、FCについては、塗工膜FLを「第1塗工膜」とし、塗工膜FCを「第2塗工膜」とした場合、ノズル5L、5Cがそれぞれ本発明の「第1ノズル」および「第2ノズル」に相当する。また、左カメラ9Lおよび左カメラ9Lから出力される画像データがそれぞれ本発明の「第1撮像部」および「第1画像データ」に相当し、中央カメラ9Cおよび左カメラ9Lから出力される画像データがそれぞれ本発明の「第2撮像部」および「第2画像データ」に相当する。「第1塗工膜」と「第2塗工膜」との関係を逆転させた場合には、ノズル5L、5Cがそれぞれ本発明の「第2ノズル」および「第1ノズル」に相当し、左カメラ9Lおよび左カメラ9Lから出力される画像データがそれぞれ本発明の「第2撮像部」および「第2画像データ」に相当し、中央カメラ9Cおよび左カメラ9Lから出力される画像データがそれぞれ本発明の「第1撮像部」および「第1画像データ」に相当する。また、非塗工領域NF3を挟んで隣接する塗工膜FR、FCについても、上記と同様である。
図7は本発明にかかる塗工膜測定装置の第2実施形態を装備する塗工装置で実施される塗工膜測定処理の概要を示す模式図である。第2実施形態が第1実施形態と大きく相違する点は、非塗工領域NF2,NF3に対して共通ラインL2、L3がそれぞれ搬送方向Yに延設されている点と、幅方向Xにおけるラインカメラ9L、9C、9Rの長さが短縮されている点と、演算処理部32は画像データに含まれる共通ラインL2、L3を利用してラインカメラ9L、9C、9Rの位置関係を取得している点であり、その他の構成は基本的に同一である。以下、相違点を中心に説明し、同一構成については同一符号を付して説明を省略する。
この第2実施形態にかかる塗工装置100は、共通ラインL2、L3を有する基材Sに対して3本の塗工膜FL、FC、FRを塗工する装置である。塗工装置100では、装置塗工膜FL、FC、FRを測定するために第1実施形態と同様にバックアップローラ73と硬化ユニット8との間にラインカメラ9L、9C、9Rが配置されている。第2実施形態においても、第1実施形態と同様に、ラインカメラ9L、9C、9Rはそれぞれ左塗工膜FL、中央塗工膜FCおよび右塗工膜FRの直上位置に配置されているが、撮像領域RL、RC、RRは一部相違している。すなわち、ラインカメラ9Lの撮像領域RLは、図7の上段に示すように、
・左塗工膜FLの(−X)方向側の非塗工領域NF1全体、
・左塗工膜FL全体、
・非塗工領域NF2のうち(−X)方向側の端部(ただし、共通ラインL2が形成された部位を含む)
となっており、それらの画像を含む画像データを出力する。
また、ラインカメラ9Cの撮像領域RCは、
・非塗工領域NF2のうち(+X)方向側の端部(ただし、共通ラインL2が形成された部位を含む)、
・中央塗工膜FC全体、
・非塗工領域NF3のうち(−X)方向側の端部(ただし、共通ラインL3が形成された部位を含む)、
となっており、それらの画像を含む画像データを出力する。
さらに、ラインカメラ9Rの撮像領域RRは、
・非塗工領域NF3のうち(+X)方向側の端部(ただし、共通ラインL3が形成された部位を含む)、
・右塗工膜FR全体、
・右塗工膜FRの(+X)方向側の非塗工領域NF4全体、
となっており、それらの画像を含む画像データを出力する。
このように第2実施形態では、左カメラ9Lと中央カメラ9Cとで重複して撮像する重複部分は第1実施形態に比べて狭まるものの、当該重複部分には共通ラインL2が存在する。したがって、共通ラインL2の位置P2を基準に左カメラ9Lと中央カメラ9Cとの位置関係を特定することができる。これは、塗工処理の初期段階(図7の(a)欄)だけでなく、例えば同図の(b)欄に示すように左カメラ9Lが幅方向Xに変位した場合についても成立する。つまり、中央カメラ9Cに対する左カメラ9Lの相対位置が幅方向Xに変動したとしても幅方向Xにおける両者の位置関係を常に正確に把握することができる。また同様に、右カメラ9Rと中央カメラ9Cとで重複して撮像する重複部分には共通ラインL3が存在するため、共通ラインL3の位置P3を基準に右カメラ9Rと中央カメラ9Cとの位置関係を特定することができる。したがって、中央カメラ9Cに対する右カメラ9Rの相対位置が幅方向Xに変動したとしても幅方向Xにおける両者の位置関係を常に正確に把握することができる。
よって、第2実施形態においても、第1実施形態と同様の作用効果が得られる。すなわち、ラインカメラ9L、9Cのいずれもが共通ラインL2を含む重複部分を撮像して画像データをそれぞれ出力し、ラインカメラ9R、9Cのいずれもが共通ラインL3を含む重複部分を撮像して画像データをそれぞれ出力している。そして、それらの画像データに基づいて幅方向Xにおけるラインカメラ9L、9C、9Rの位置関係を取得している。したがって、塗工処理中であっても上記位置関係を正確に把握することができるとともに、当該位置情報と画像データに基づいて各塗工膜FL、FC、FRのエッジ位置を高精度に測定することができる。しかも、測定結果を用いて塗布液の供給量を調整しているため、塗工処理を中断させることなく、長時間にわかって塗工幅の変動を抑えて高品質な塗工膜FL、FC、FRを基材S上に形成することができる。
また、ラインカメラ9L、9C、9Rの撮像範囲を短縮することができるため、第1実施形態に比べて画素分解能が小さく、より高精度な測定が可能となる。
このように第2実施形態では、上記した重複部分が本発明の「共通撮像領域」の一例に相当し、重複部分に存在する共通ラインL2、L3が本発明の「マーク」の一例に相当している。また、共通ラインL2、L3の位置P2、P3が本発明の「マークの形成位置情報」の一例に相当している。ここで、マークは実線状のラインに限定されるものではなく、破線、点線、一点鎖線などであってもよいし、ラインの代わりに特定に印であってもよい。また、ラインや印などのマークについては、供給ローラ71にセットする前に基材Sに付与しておいてもよいし、搬送方向Yにおけるラインカメラ9L、9C、9Rよりも上流側にインクジェット印刷用のヘッドを配置し、基材Sの搬送に連動してヘッドによりマークを印刷してもよい。
図8は本発明にかかる塗工膜測定装置の第3実施形態を装備する塗工装置で実施される塗工膜測定処理の概要を示す模式図である。第3実施形態が第1実施形態と大きく相違する点は、幅方向Xにおける中央カメラ9Cの長さが短縮されている点と、演算処理部32は中央塗工膜FCのエッジ位置EC1、EC2のみを利用してラインカメラ9L、9C、9Rの位置関係を取得している点であり、その他の構成は基本的に同一である。以下、相違点を中心に説明し、同一構成については同一符号を付して説明を省略する。
この第3実施形態にかかる塗工装置100では、ラインカメラ9Cの撮像領域RCは、
・非塗工領域NF2のうち(+X)方向側の端部、
・中央塗工膜FC全体、
・非塗工領域NF3のうち(−X)方向側の端部、
となっており、それらの画像を含む画像データを出力する。
そして、図8に示すように、左カメラ9Lと中央カメラ9Cとは非塗工領域NF2のうち(+X)方向側の端部および接続領域FCLを重複して撮像しており、左カメラ9Lおよび中央カメラ9Cからそれぞれ出力される画像データには重複部分(=非塗工領域NF2の(+X)方向側端部−接続領域FCL)が含まれる。したがって、中央塗工膜FCの(+X)方向側のエッジ位置EC2を基準に左カメラ9Lと中央カメラ9Cとの位置関係を特定することができる。これは、塗工処理の初期段階(同図の(a)欄)だけでなく、例えば同図の(b)欄に示すように左カメラ9Lが幅方向Xに変位した場合についても成立する。つまり、中央カメラ9Cに対する左カメラ9Lの相対位置が幅方向Xに変動したとしても幅方向Xにおける両者の位置関係を常に正確に把握することができる。また同様にして、中央カメラ9Cに対する右カメラ9Rの相対位置が幅方向Xに変動したとしても幅方向Xにおける中央カメラ9Cと右カメラ9Rとの位置関係を常に正確に把握することができる。さらに、これらの位置関係に基づいて左カメラ9Lと右カメラ9Rとの位置関係について正確に取得することができる。よって、特許文献1や図6に示す比較例のように塗工処理を中断してキャリブレーションを実施する必要がなく、塗工処理を継続させながらラインカメラ9L、9C、9Rの位置関係を取得することができる。
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態では、ノズル5L、5C、5Rを個別に配置しているが、これらを一体化したノズルを用いてもよい。
また、上記実施形態では、塗工膜FL、FC、FR毎にポンプ22を制御して塗工幅を調整しているが、ノズル5L、5C、5Rを個別に移動させて基材Sとのギャップを制御することで塗工幅を調整してもよい。
また、上記実施形態では、3本の塗工膜Fを基材Sに塗工する塗工装置100に対して本発明にかかる塗工膜測定装置(=ラインカメラ9L、9C、9R+演算処理部32の位置関係取得部、膜情報取得部)を適用しているが、2本または4本以上の塗工膜Fをストライプ状に塗工する塗工装置にも適用可能である。
また上記実施形態では基材Sとして集電体となる金属膜を、塗工膜Fとして活物質材料を用いて電池用電極を製造するが、この発明に適用対象となる基材および塗工膜(塗布液)の材料はこれに限定されず任意である。
この発明は、基材上に塗布された複数の塗工膜を測定する測定技術全般および当該測定技術による測定結果に基づいて基材への塗布液の塗工を制御する塗工技術全般に適用可能である。
3…制御ユニット
5C,5L,5R…ノズル
7…搬送ユニット
9C,9L,9R…ラインカメラ(撮像部)
32…演算処理部(位置関係取得部、膜情報取得部、供給調整部)
100…塗工装置
EC1,EC2,EL1,EL2,ER1,ER2…エッジ位置
F,FC,FL,FR…塗工膜
FCL,FLC,FRC,FCR…接続領域
L2,L3…共通ライン
NF,NF1,NF2,NF3,NF4…非塗工領域
P2,P3…(共通ラインの)位置
RC,RL,RR…撮像領域
S…基材
X…幅方向(第1方向)
Ds…搬送方向(第2方向)

Claims (8)

  1. 基材上において非塗工領域を挟んで第1方向に隣接しながら前記第1方向と直交する第2方向に塗工された第1塗工膜および第2塗工膜を測定する塗工膜測定装置であって、
    前記第1方向において前記第1塗工膜全体および前記非塗工領域の少なくとも一部を撮像して第1画像データを取得する第1撮像部と、
    前記第1方向において前記第2塗工膜全体および前記非塗工領域の少なくとも一部を撮像して第2画像データを取得する第2撮像部と、
    前記第1画像データおよび前記第2画像データに基づいて前記第1方向における第1撮像部および前記第2撮像部の位置関係を示す位置関係情報を取得する位置関係取得部と、
    前記位置関係情報、前記第1画像データおよび前記第2画像データに基づいて前記第1方向における前記第1塗工膜および前記第2塗工膜に関する膜情報を取得する膜情報取得部とを備え、
    前記非塗工領域のうち前記第1撮像部により撮像される撮像領域と前記第2撮像部により撮像される撮像領域とが少なくとも一部分で重複することを特徴とする塗工膜測定装置。
  2. 請求項1に記載の塗工膜測定装置であって、
    前記第1撮像部は、前記第1方向において前記非塗工領域全体を撮像するとともに前記第2塗工膜のうち前記第1方向において前記非塗工領域と接する接続領域を撮像し、
    前記第2撮像部は、前記第1方向において前記非塗工領域全体を撮像するとともに前記第1塗工膜のうち前記第1方向において前記非塗工領域と接する接続領域をさらに撮像し、
    前記位置関係取得部は、前記第1方向における前記第1塗工膜と前記非塗工領域との境界を示すエッジ位置情報を前記第1画像データおよび前記第2画像データからそれぞれ求め、前記エッジ位置情報から前記位置関係を取得する塗工膜測定装置。
  3. 請求項1に記載の塗工膜測定装置であって、
    前記位置関係取得部は、前記第1方向における、前記非塗工領域のうち前記第1撮像部および前記第2撮像部により撮像される共通撮像領域に対する前記第1塗工膜および前記第2塗工膜の位置情報をそれぞれ求め、前記位置情報から前記位置関係を取得する塗工膜測定装置。
  4. 請求項3に記載の塗工膜測定装置であって、
    前記第1撮像部および前記第2撮像部は前記共通撮像領域に予め形成されたマークを撮像し、
    前記位置関係取得部は、前記第1方向における前記マークの形成位置情報を前記第1画像データおよび前記第2画像データからそれぞれ求め、前記2つの形成位置情報から前記位置関係を取得する塗工膜測定装置。
  5. 請求項1ないし4のいずれか一項に記載の塗工膜測定装置であって、
    前記膜情報取得部は、前記膜情報として、前記第1画像データに基づいて前記第1方向における前記第1塗工膜の幅を求めるとともに前記第2画像データに基づいて前記第1方向における前記第2塗工膜の幅を求める塗工膜測定装置。
  6. 基材上において非塗工領域を挟んで第1方向に隣接しながら前記第1方向と直交する第2方向に塗工された第1塗工膜および第2塗工膜を測定する塗工膜測定方法であって、
    前記第1方向において前記第1塗工膜全体および前記非塗工領域の少なくとも一部を第1撮像部により撮像して第1画像データを取得する工程と、
    前記第1方向において前記非塗工領域のうち前記第1撮像部により撮像される撮像領域の少なくとも一部および前記第2塗工膜全体を第2撮像部により撮像して第2画像データを取得する工程と、
    前記第1画像データおよび前記第2画像データに基づいて前記第1方向における前記第1撮像部および前記第2撮像部の位置関係を示す位置関係情報を取得する工程と、
    前記位置関係情報、前記第1画像データおよび前記第2画像データに基づいて前記第1方向における前記第1塗工膜および前記第2塗工膜に関する膜情報を取得する工程とを備えることを特徴とする塗工膜測定方法。
  7. 第1方向において互いに離間して配置された第1ノズルおよび第2ノズルから塗工液を基材に供給することで前記基材上において非塗工領域を挟んで前記第1方向に隣接しながら前記第1方向と直交する第2方向に2本の塗工膜を塗工する塗工装置であって、
    前記第1方向において前記第1ノズルからの前記塗工液の供給により前記基材上に塗工された第1塗工膜全体および前記非塗工領域の少なくとも一部を撮像して第1画像データを取得する第1撮像部と、
    前記第1方向において前記第2ノズルからの前記塗工液の供給により前記基材上に塗工された第2塗工膜全体および前記非塗工領域の少なくとも一部を撮像して第2画像データを取得する第2撮像部と、
    前記第1画像データおよび前記第2画像データに基づいて前記第1方向における第1撮像部および前記第2撮像部の位置関係を示す位置関係情報を取得する位置関係取得部と、
    前記位置関係情報、前記第1画像データおよび前記第2画像データに基づいて前記第1方向における前記第1塗工膜および前記第2塗工膜に関する膜情報を取得する膜情報取得部と、
    前記膜情報に基づいて前記第1ノズルおよび前記第2ノズルによる前記基材への前記塗工液の供給を調整する供給調整部とを備え、
    前記非塗工領域のうち前記第1撮像部により撮像される撮像領域と前記第2撮像部により撮像される撮像領域とが少なくとも一部分で重複することを特徴とする塗工装置。
  8. 第1方向において互いに離間して配置された第1ノズルおよび第2ノズルから塗工液を基材に供給することで前記基材上において非塗工領域を挟んで前記第1方向に隣接しながら前記第1方向と直交する第2方向に2本の塗工膜を塗工する塗工方法であって、
    前記第1方向において前記第1ノズルからの前記塗工液の供給により前記基材上に塗工された第1塗工膜全体および前記非塗工領域の少なくとも一部を撮像して第1画像データを取得する工程と、
    前記第1方向において前記非塗工領域のうち前記第1撮像部により撮像される撮像領域の少なくとも一部および前記第2ノズルからの前記塗工液の供給により前記基材上に塗工された第2塗工膜全体を撮像して第2画像データを取得する工程と、
    前記第1画像データおよび前記第2画像データに基づいて前記第1方向における第1撮像部および前記第2撮像部の位置関係を示す位置関係情報を取得する工程と、
    前記位置関係情報、前記第1画像データおよび前記第2画像データに基づいて前記第1方向における前記第1塗工膜および前記第2塗工膜に関する膜情報を取得する工程と、
    前記膜情報に基づいて前記第1ノズルおよび前記第2ノズルによる前記基材への前記塗工液の供給を調整する工程と
    を実行することを特徴とする塗工方法。
JP2018030778A 2018-02-23 2018-02-23 塗工膜測定装置、塗工膜測定方法、塗工装置および塗工方法 Pending JP2019141822A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018030778A JP2019141822A (ja) 2018-02-23 2018-02-23 塗工膜測定装置、塗工膜測定方法、塗工装置および塗工方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018030778A JP2019141822A (ja) 2018-02-23 2018-02-23 塗工膜測定装置、塗工膜測定方法、塗工装置および塗工方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2019141822A true JP2019141822A (ja) 2019-08-29

Family

ID=67770682

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018030778A Pending JP2019141822A (ja) 2018-02-23 2018-02-23 塗工膜測定装置、塗工膜測定方法、塗工装置および塗工方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2019141822A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021020491A1 (ja) 2019-07-31 2021-02-04 キヤノン株式会社 シンチレータユニット、及び放射線検出器
JP2021089240A (ja) * 2019-12-05 2021-06-10 住友化学株式会社 測定方法、管理方法及び光学部品の製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021020491A1 (ja) 2019-07-31 2021-02-04 キヤノン株式会社 シンチレータユニット、及び放射線検出器
JP2021089240A (ja) * 2019-12-05 2021-06-10 住友化学株式会社 測定方法、管理方法及び光学部品の製造方法
JP7460359B2 (ja) 2019-12-05 2024-04-02 住友化学株式会社 測定方法、管理方法及び光学部品の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102219719B1 (ko) 도공 장치 및 도공 방법
TWI446972B (zh) Ink jet applicator and method
US7690326B2 (en) System and method for controlling coating width of electrode plate
JP5711031B2 (ja) 塗布装置および塗布膜形成システム
JP2019141822A (ja) 塗工膜測定装置、塗工膜測定方法、塗工装置および塗工方法
KR102117768B1 (ko) 도공 장치 및 도공 방법
TW201900537A (zh) 薄膜構件黏貼裝置及方法
JP2007130588A (ja) パターン形成方法
JP6632280B2 (ja) 塗工装置
TW201731594A (zh) 膜圖案描繪方法、塗布膜基材、及塗布裝置
JP2019055388A (ja) 塗工装置および塗工方法
KR101597044B1 (ko) 도포 장치 및 도포 방법
CN113752148A (zh) 薄膜处理系统和方法
JP2012103361A (ja) 露光装置
CN113766735A (zh) 薄膜处理系统和方法
JP2019155226A (ja) 塗布装置
JP6208515B2 (ja) 塗布装置および塗布方法
WO2022168750A1 (ja) スロットダイおよび薄膜の製造方法
JP2022119189A (ja) スロットダイおよび薄膜の製造方法
JP2021062328A (ja) 塗布方法及び塗布装置
CN113766759A (zh) 薄膜处理系统和方法
JP2021045729A (ja) アライメント装置、塗布装置及びアライメント方法
JP6420608B2 (ja) 基材処理方法および基材処理装置
JP2013210653A (ja) 表示素子の製造方法、及び表示素子の製造装置
JP2004081963A (ja) 塗布方法、塗布装置及びこれにより塗布膜が形成された帯状可撓性支持体を使用したパターン部材の製造方法