JP6384711B2 - 絶縁性樹脂組成物及びこれを用いたプリプレグ、プリント配線板用積層板 - Google Patents
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Description
例えば、エポキシ樹脂を併用した樹脂組成物(特許文献1参照)、ビスマレイミドを併用した樹脂組成物(特許文献2参照)、シアネートエステルを併用した樹脂組成物(特許文献3参照)、スチレン−ブタジエン共重合体又はポリスチレンと、トリアリルシアヌレートやトリアリルイソシアヌレートを併用した樹脂組成物(特許文献4〜5参照)、ポリブタジエンを併用した樹脂組成物(特許文献6及び特許文献7参照)、水酸基、エポキシ基、カルボキシル基、(メタ)アクリル基等の官能基を有する変性ポリブタジエンとビスマレイミド及び/又はシアネートエステルを予備反応させた樹脂組成物(特許文献8参照)、不飽和二重結合基を有する化合物を付与又はグラフトさせたポリフェニレンエーテルにトリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレートやポリブタジエン等を併用した樹脂組成物(特許文献9及び特許文献10参照)、あるいはポリフェニレンエーテルと不飽和カルボン酸又は不飽和酸無水物との反応生成物とビスマレイミド等を併用した樹脂組成物(特許文献11参照)等が提案されている。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、ハロゲンフリーで、比誘電率が低く優れた誘電特性、耐熱性、接続信頼性に優れた絶縁性樹脂組成物を提供すると共に、これを用いたプリプレグ及びプリント配線板用積層板を提供する。
すなわち、本発明は、[1](a)下記一般式(II)に示す1分子主鎖中に少なくとも2個のベンゼン環を有するジアミン化合物、(b)分子構造中に少なくとも2個のN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物、(c)モノアミン化合物(前記(a)または(b)が分子構造中に酸性置換基(フェノール性水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基)を有しない場合は、酸性置換基を有するモノアミン化合物とする)を反応させて得られる酸性置換基及び分子主鎖中にN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(A)と、1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(B)と、芳香族ビニル化合物と無水マレイン酸を構成成分として含む共重合樹脂(C)と、単環式フェノールの1種類以上の重縮合により得られるポリフェニレンエーテル樹脂とポリスチレン樹脂とを70:30(質量比)で混合した重量平均分子量が80000の混合物(D)とを含み、前記(C)成分の共重合樹脂が、下記一般式(1)に示す芳香族ビニル化合物に由来する構成成分をm、無水マレイン酸に由来する構成成分をnとした場合の構成モル比がm:n=7:1〜9:1で、有機樹脂固形分総量100質量部に対して、(A)成分が15〜65質量部、(B)成分が15〜50質量部、(C)成分が15〜40質量部、(D)成分が5〜10質量部である絶縁性樹脂組成物を提供する。
さらに、本発明は、[3]上記[2]に記載のプリプレグを少なくとも1枚以上重ね合わせ、その少なくとも片面に金属箔を構成後、加熱成形して得られるプリント配線板用積層板を提供する。
((A)成分:分子中にN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物)
本発明で用いる(A)成分の分子中にN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物は、下記の(a)、(b)及び(c)を反応させて得られ、酸性置換基及びN−置換マレイミド基を有する。
(a)一般式(II)に示す1分子主鎖中に少なくとも2個のベンゼン環を有するジアミン化合物、
(b)分子構造中に少なくとも2個のN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物。
(c)モノアミン化合物。
これらの中で、反応率が高く、より高耐熱性化できるビス(4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(4−マレイミドフェニル)スルホン、ビス(4−マレイミドフェニル)スルフィド、ビス(4−マレイミドフェニル)ジスルフィド、N,N´−(1,3−フェニレン)ビスマレイミド、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパンが好ましく、安価である点からビス(4−マレイミドフェニル)メタン、N,N´−(1,3−フェニレン)ビスマレイミドがより好ましく、溶媒への溶解性の点から、ビス(4−マレイミドフェニル)メタンがさらに好ましい。
一方、前記(a)または(b)の化合物が分子構造中に酸性置換基を有する場合は、モノアミン化合物としては、特に酸性置換基を有していても、有していなくても良く、たとえば、アニリン、(o‐,m‐,p‐)メチルアニリン、(o‐,m‐,p‐)エチルアニリン、(o‐,m‐,p‐)ビニルアニリン、(o‐,m‐,p‐)アリルアニリンなどのモノアミン化合物を使用することもできる。
ここで、(a)の芳香族ジアミン化合物と(c)の酸性置換基を有する場合のモノアミン化合物の使用量は、−NH2基当量の総和と、(b)のマレイミド化合物のC=C基当量との関係が、 0.1≦〔C=C基当量〕/〔−NH2基当量の総和〕≦10.0に示す範囲になることが好ましい。より好ましくは、この関係が、 1.0≦〔C=C基当量〕/〔−NH2基当量の総和〕≦9.0、さらに好ましくは、 2.0≦〔C=C基当量〕/〔−NH2基当量の総和〕≦8.0の範囲とする。
該当量比を0.1以上とすることによりゲル化及び耐熱性が低下することがなく、又、10.0以下とすることにより有機溶媒への溶解性、接着性、及び耐熱性が低下することがない。
有機溶媒の配合量を25質量部以上とすることにより充分な溶解性が得られ、また1000質量部以下とすることにより合成に長時間を要することがない。
触媒の添加量は、(b)のビスマレイミド化合物と(c)のアミン化合物との合計質量に対して、0.001〜5質量%が好ましい。
(A)成分のビスマレイミド化合物は、有機固形分の総量100質量部当り15〜65質量部である。15質量部未満の場合、優れた高耐熱性を発現しにくくなる。また65質量部を超えると、剛直な樹脂骨格が増大し過ぎるために、樹脂の流動性、加工性等が悪化する。
(B)成分の1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂は、1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂であれば特に限定されず、例えば、ビスフェノールA系、ビスフェノールF系、ビフェニル系、ノボラック系、多官能フェノール系、ナフタレン系、脂環式系及びアルコール系のグリシジルエーテル、グリシジルアミン系並びにグリシジルエステル系が挙げられ、1種又は2種以上を混合して使用することができる。具体的には、誘電特性、耐熱性、耐湿性及び銅箔接着性の点からビスフェノールF型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン環含有エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、及びクレゾールノボラック型エポキシ樹脂が好ましく、良好な低熱膨張性や高いガラス転移温度を有する点から、ナフタレン環含有エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、及びフェノールノボラック型エポキシ樹脂がより好ましい。
次に、本発明で使用される(C)成分の芳香族ビニル化合物と無水マレイン酸を構成成分として含む共重合樹脂(C)としては、下記一般式(1)に示す芳香族ビニル化合物に由来する構成成分をm、無水マレイン酸に由来する構成成分をnとした場合の構成モル比がm:n=7:1〜9:1である構造を有する共重合樹脂である。
一般式(1)に示す芳香族ビニル化合物に由来する構成成分となるモノマーとしては、スチレン、1−メチルスチレン、ビニルトルエン、ジメチルスチレン等が挙げられ、1種又は2種以上を混合した化合物から得ることが出来る。
更に、上記のモノマーである芳香族ビニル化合物と無水マレイン酸以外にも、各種の重合可能な成分と共重合させてもよく、これらの成分として例えばエチレン、プロピレン、ブタジエン、イソブチレン、アクリロニトリル等のビニル化合物、メチルメタクリレートのようなメタクリレート及びメチルアクリレートのようなアクリレート等のメタクリロイル基又はアクリロイル基を有する化合物が挙げられる。
ここで任意のモノマーにフリーデル・クラフツ反応やリチウム等の金属系触媒を用いた反応を通じて、アリル基、メタクリロイル基、アクリロイル基及びヒドロキシル基等の置換基を導入する事ができる。
m/nが7未満の場合、誘電特性の改善効果が十分でなく、9を超えると相溶性が悪化する等の問題が発生する。
また、(C)成分の共重合樹脂は、有機樹脂固形分の総量100質量部当り15〜40質量部とする。15質量部未満であると低誘電率化の効果が十分ではなく、40質量部を超えると、共重合樹脂の未反応成分が残ることにより、耐熱性、ピール強度が著しく低下する。
本発明で使用される(D)成分のポリフェニレンエーテル樹脂は、一般式(III)で示される構造単位を有している樹脂であり、単環式フェノールを重縮合させて得られる。
また、ポリフェニレンエーテル樹脂は、ポリスチレンなどとのアロイ化ポリマーの形で市販されることがある。このようなアロイ化ポリマーも使用できる。アロイ化ポリマーとしては、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテルとポリスチレンとのアロイ化ポリマー、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテルとスチレン−ブタジエンコポリマーとのアロイ化ポリマーが挙げられる。
また、ポリフェニレンエーテル樹脂は、有機樹脂固形分の総量100質量部当り5〜10質量部である。5質量部未満であると低誘電率化の効果が十分ではなく、10質量部を超えると、耐熱性が著しく低下する。
リン化合物の配合量は、(A)〜(D)成分の合計量100質量部当り、リン原子含有率が0.1〜3.0質量部であることが好ましく、0.2〜3.0質量部であることがより好ましく、0.5〜3.0質量部がさらに好ましい。
リン原子含有率が低いと難燃性が不足するため、(A)成分の含有量を高くすることで窒素原子含有率を高くし、難燃性を付与する必要がある。(A)〜(D)成分の含有量を上記の範囲とすることで、本発明の特徴である、低熱膨張で耐熱性が高く、難燃性や吸湿性などでバランスが取れ、高信頼性を有する多層のプリント配線板用積層板とすることができる絶縁樹脂組成物が得られる。
有機溶媒としては、特に制限するものではないが、ケトン系、芳香族炭化水素系、エステル系、アミド系、アルコール系等を用いることができる。
具体的には,ケトン系溶剤として、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンが、芳香族炭化水素系としては、トルエン、キシレンが、エステル系溶剤としてはメトキシエチルアセテート、エトキシエチルアセテート、ブトキシエチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸エチルが、アミド系溶剤としてはN−メチルピロリドン、ホルムアミド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドが、アルコール系溶剤としてはメタノール、エタノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルが挙げられる。
これらの溶媒は1種又は2種以上を混合して用いることができる。
本発明によれば、織布や不織布等の基材に前記ワニスを含浸し、乾燥してプリプレグを製造することができる。
成形条件は、例えば、電気絶縁材料用積層板及び多層板の手法が適用でき、例えば多段プレス、多段真空プレス、連続成形、オートクレーブ成形機等を使用し、温度100〜250℃、圧力0.2〜10MPa、加熱時間0.1〜5時間の範囲で成形することができる。
本発明によれば、プリント配線板用積層板の金属箔に対して回路加工を施すことにより印刷配線板とすることができる。回路加工は、例えば、金属箔表面にレジストパターンを形成後、エッチングにより不要部分の金属箔を除去し、レジストパターンを剥離後、ドリルにより必要なスルーホールを形成し、再度レジストパターンを形成後、スルーホールに導通させるためのメッキを施し、最後にレジストパターンを剥離することにより行うことができる。このようにして得られた印刷配線板の表面に更に上記のプリント配線板用積層板を前記したのと同様の条件で積層し、更に、上記と同様にして回路加工して多層印刷配線板とすることができる。この場合、必ずしもスルーホールを形成する必要はなく、バイアホールを形成してもよく、両方を形成することができる。このような多層化は必要回数行われる。
上記のようにして作製された印刷配線板を内層回路板として、これの片面又は両面に接着剤付き金属箔を積層することができる。この積層成形は、通常加熱加圧下に行われる。金属箔としては、銅箔、アルミニウム箔等が挙げられる。得られた多層積層板には、上記と同様に回路加工を施し、多層印刷配線板とすることができる。
また、(D)成分のポリフェニレンエーテル樹脂とポリスチレン樹脂との混合物として、ノリルPKN4752(日本ジーイープラスチックス株式会社製商品名、ポリ(2,6−ジメチル−1,4フェニレン)エーテル/ポリスチレン=70:30(質量比)、重量平均分子量80000)をトルエン溶媒中で固形分濃度が10〜30%になるよう加熱溶解した。
その他成分として、添加型リン系化合物である、PX−200(芳香族縮合リン酸エステル、大八化学工業株式会社製商品名)、無機充填剤として、シリカF05−30(福島窯業株式会社製商品名)を用いた。
上記に示した(A)〜(D)成分と添加剤を下記表1、2、3に示した通り配合し、メチルエチルケトンをワニスの不揮発分が65〜75%になるよう混合し、実施例1〜6及び比較例1〜10の各絶縁性樹脂組成物を調製した。
次いで、このプリプレグ8枚重ねたものの両面に18μmの銅箔(3EC−VLP−18:三井金属株式会社製品名)を重ね、温度190℃、圧力2.5MPa(25kgf/cm2)にて90分間加熱加圧成形して厚さ0.8mm(プリプレグ8枚)の両面銅張積層板(プリント配線板用積層板)を作製した。
また、このプリプレグを1枚使用し、両面に18μmの銅箔(YGP−18:日本電解株式会社製商品名)を重ね、温度190℃、圧力2.5MPa(25kgf/cm2)にて90分間加熱加圧成形して厚さ0.1mm(プリプレグ1枚)の両面銅張積層板を作製した後、両銅箔面に内層密着処理(BF処理:日立化成株式会社製商品名)を施した後に、プリプレグを1枚ずつ重ね両面に18μmの銅箔(YGP−18:日本電解株式会社製商品名)を重ね、温度190℃、圧力2.5MPa(25kgf/cm2)にて90分間加熱加圧成形して4層銅張積層板を作製した。
また、作製した4層銅張積層板について、リフロー耐熱性(266℃)を評価した。
なお、特性試験の方法は以下の通りとした。
最高到達温度を266℃とし、260℃以上の恒温槽環境下で30秒以上基板を流すことを1サイクルとし、基板が膨れるまでのサイクル数を求めた。
ヒューレットパッカード社製ネットワークアナライザ(8722C)を用い、トリプレート構造直線線路共振器法により1〜10GHzにおける銅張積層板の比誘電率の測定を実施した。試験片サイズは200mm×50mm×厚さ0.8mmで、1枚の銅張積層板の片面の中心にエッチングにより幅1.0mmの直線線路(ライン長さ200mm)を形成し、裏面は全面に銅を残しグランド層とした。もう1枚は片面を全面エッチングし、裏面はグランド層とした。ついで2枚の積層板のグランド層を外側にして重ね合わせストリップ線路とし、測定は25℃で行った。
積層板を銅エッチング液に浸漬することにより3mm幅の銅箔ラインを形成して評価基板を作製し、オートグラフ(株式会社島津製作所製AG−100C)を用いてピール強度を測定した。
銅張積層板を銅エッチング液に浸漬することにより銅箔を取り除いた評価基板を5mm角に切断したサンプルを作製した。これをTAインスツルメンツ社製TMA(製品名:Q400EM)を用いて、昇温速度10℃/min、測定温度範囲30〜230℃で得られた銅張積層板の評価基板の熱膨張特性を観察することにより評価した。
上記の測定結果をまとめて表4〜6に示した。
これに対し、(A)成分のマレイミド化合物の配合部数を10部とした比較例1は、耐熱性、誘電率、Tgが十分ではなく、80部とした比較例2は、誘電率が十分ではない。エポキシ樹脂の配合部数が10部である比較例3は、耐熱性の低下が著しく、60部である比較例4でも耐熱性、誘電特性が悪化する。芳香族ビニル化合物と無水マレイン酸からなる共重合樹脂の配合部数が5部である比較例5は耐熱性、誘電特性の低下が起こり、50部である比較例6は耐熱性、ピール強度が十分ではない。また、芳香族ビニル化合物と無水マレイン酸からなる共重合樹脂であるスチレン/無水マレイン酸=4、1.3である比較例7、8は誘電特性が十分ではない。ポリフェニレンエーテル樹脂の配合部数が2部である比較例9では、優れた誘電特性が発現せず、比較例10の20部の場合、著しい耐熱性、ピール強度の低下が起こる。
Claims (3)
- (a)下記一般式(II)に示す1分子主鎖中に少なくとも2個のベンゼン環を有するジアミン化合物、(b)分子構造中に少なくとも2個のN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物、(c)モノアミン化合物(前記(a)または(b)が分子構造中に酸性置換基(フェノール性水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基)を有しない場合は、酸性置換基を有するモノアミン化合物とする)を反応させて得られる酸性置換基及び分子中にN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(A)と、1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(B)と、芳香族ビニル化合物と無水マレイン酸を構成成分として含む共重合樹脂(C)と、単環式フェノールの1種類以上の重縮合により得られるポリフェニレンエーテル樹脂とポリスチレン樹脂とを70:30(質量比)で混合した重量平均分子量が80000の混合物(D)とを含み、前記(C)成分の共重合樹脂が、下記一般式(1)に示す芳香族ビニル化合物に由来する構成成分をm、無水マレイン酸に由来する構成成分をnとした場合の構成モル比がm:n=7:1〜9:1で、有機樹脂固形分総量100質量部に対して、(A)成分が15〜65質量部、(B)成分が15〜50質量部、(C)成分が15〜40質量部、(D)成分が5〜10質量部である絶縁性樹脂組成物。
- 請求項1に記載の絶縁性樹脂組成物をワニスとし、このワニスを基材に含浸乾燥してなるプリプレグ。
- 請求項2に記載のプリプレグを少なくとも1枚以上重ね合わせ、その少なくとも片面に金属箔を構成後、加熱成形して得られるプリント配線板用積層板。
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