JP6343042B2 - マルチステージシステムおよびリソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
1.ステップモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンの全体が1回の照射で1つのターゲット部分Cに投影される間、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」および基板テーブルWTまたは「基板サポート」は実質的に静止状態とされる(すなわち1回の静的な露光)。そして基板テーブルWTまたは「基板サポート」がX方向及び/またはY方向に移動されて、異なるターゲット部分Cが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズが単一静的露光で転写されるターゲット部分Cのサイズを制限することになる。
2.スキャンモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」および基板テーブルWTまたは「基板サポート」は同期して走査される(すなわち1回の動的な露光)。パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」に対する基板テーブルWTまたは「基板サポート」の速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)特性及び像反転特性により定められてもよい。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが単一動的露光でのターゲット部分の(非走査方向の)幅を制限し、走査移動距離がターゲット部分の(走査方向の)高さを決定する。
3.別のモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」はプログラマブルパターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、基板テーブルWTまたは「基板サポート」は移動または走査される。このモードでは一般にパルス放射源が用いられ、プログラマブルパターニングデバイスは走査中に基板テーブルWTまたは「基板サポート」が移動するたびに、または連続する放射パルスと放射パルスの間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上述のタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に適用可能である。
制御ユニットまたはコントローラCUはさらに、第1サブセットおよび第2サブセットの電気コイルを駆動する前に、第1サブセットおよび第2サブセットの両方の一部となっている電気コイルを決定し、第1サブセットおよび第2サブセットの両方の一部である少なくともひとつの電気コイルを駆動対象から除く、よう構成される。
1.複数の電気コイルを有するステータと、
第1マグネットアセンブリを有し、前記ステータに対して移動可能な第1ステージと、
第2マグネットアセンブリを有し、前記ステータに対して移動可能な第2ステージと、
前記複数の電気コイルの第1サブセットが前記第1マグネットアセンブリと相互作用するように、および前記複数の電気コイルの第2サブセットが前記第2マグネットアセンブリと相互作用するように、それぞれ駆動することによって、前記ステータに対して前記第1および第2ステージを位置決めするように構成されたコントローラであって、前記第1および第2ステージを前記ステータ上で位置決めするために前記第1および第2サブセットによって同時に共有されることになる少なくとも一つの電気コイルの駆動を防止するように構成される、コントローラと、
を備えるマルチステージシステム。
2.前記複数の電気コイルの前記第1および第2サブセットを駆動する前に、前記コントローラが、
前記第1および第2サブセットの両方の一部である電気コイルを決定し、
前記ステータ上で前記第1および第2ステージを位置決めするために前記第1および第2サブセットによって同時に共有されることになる少なくとも一つの電気コイルの駆動を防止する
ように構成されることを特徴とする実施形態1に記載のマルチステージシステム。
3.前記ステータに対する前記第1および第2ステージの位置を決定するように構成されたセンサを備え、該センサは前記コントローラと通信する実施形態1に記載のマルチステージシステム。
4.前記コントローラは、
前記センサの出力に基づき、前記ステータに対する前記第1ステージの位置を決定し、
決定された前記第1ステージの位置において、前記第1マグネットアセンブリの磁場と無視できない相互作用を有することが可能な、前記複数の電気コイルの前記第1サブセットを選択する
ように構成されることを特徴とする実施形態3に記載のマルチステージシステム。
5.前記コントローラは、
前記センサの出力に基づき、前記ステータに対する前記第2ステージの位置を決定し、
決定された前記第2ステージの位置において、前記第2マグネットアセンブリの磁場と無視できない相互作用を有することが可能な、前記複数の電気コイルの前記第2サブセットを選択する
ように構成されることを特徴とする実施形態3に記載のマルチステージシステム。
6.第1サブセットは前記第1ステージに対して得られるべき要求位置決め精度に基づいて選択され、第2サブセットは前記第2ステージに対して得られるべき要求位置決め精度に基づいて選択されることを特徴とする実施形態1に記載のマルチステージシステム。
7.前記第1および第2ステージの位置決めの間、前記第1および第2マグネットアセンブリのそれぞれの完全な直下にある電気コイルが少なくとも駆動されることを特徴とする実施形態1に記載のマルチステージシステム。
8.前記第1および第2ステージの位置決めの間、前記第1サブセットの少なくとも9個のコイルと前記第2サブセットの少なくとも9個のコイルが駆動されることを特徴とする実施形態1に記載のマルチステージシステム。
9.前記コントローラは、前記第1ステージと前記第2ステージの間に位置する電気コイルの駆動を防止することによって、前記第1ステージおよび前記第2ステージが互いに近づくことを可能とするよう構成されることを特徴とする実施形態1に記載のマルチステージシステム。
10.前記コントローラは、前記第1ステージと前記第2ステージとが近づいて接触した場合、前記第1および第2サブセットの全ての電気コイルを駆動することにより、前記第1ステージおよび前記第2ステージを単一のステージとして制御するよう構成されることを特徴とする実施形態9に記載のマルチステージシステム。
11.前記第1および第2マグネットアセンブリのそれぞれが第1マグネットと第2マグネットとを含み、第1マグネットはキャリアと実質的に直交する磁化の向きを有し、その磁化の向きは前記キャリアを向いており、第2マグネットは前記キャリアと実質的に直交する磁化の向きを有し、その磁化の向きは前記キャリアから離れる向きであり、
前記第1および第2マグネットは、互いに実質的に直交する行と列とからなるパターンにしたがって配置され、前記第1および第2マグネットは各行各列に交互に配置されており、
前記2つのステージは、前記第1ステージと前記第2ステージとが接触するとき前記第1ステージのマグネットシステムのパターンが前記第2ステージのマグネットシステムに続くように配置可能となっている、実施形態10に記載のマルチステージシステム。
12.前記第1および第2マグネットアセンブリのそれぞれが奇数個の行および奇数個の列を有し、前記第1マグネットアセンブリは対角線上に配置された第1マグネットを有し、前記第2マグネットアセンブリは対角線上に配置された第2マグネットを有することを特徴とする実施形態11に記載のマルチステージシステム。
13.前記ステータは、前記第1および第2ステージが移動可能である平面を画成することを特徴とする実施形態1に記載のマルチステージシステム。
14.放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付与放射ビームを形成可能であるパターニングデバイスを支持するサポートと、
第1および第2オブジェクトテーブルと、
前記パターン付与放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
マルチステージシステムと、
を備え、
前記マルチステージシステムは、
複数の電気コイルを有するステータと、
第1マグネットアセンブリを有し、前記ステータに対して移動可能な第1ステージと、
第2マグネットアセンブリを有し、前記ステータに対して移動可能な第2ステージと、
前記複数の電気コイルの第1サブセットが前記第1マグネットアセンブリと相互作用するように、および前記複数の電気コイルの第2サブセットが前記第2マグネットアセンブリと相互作用するように、それぞれ駆動することによって、前記ステータに対して前記第1および第2ステージを位置決めするように構成されたコントローラであって、前記第1および第2ステージを前記ステータ上で位置決めするために前記第1および第2サブセットによって同時に共有されることになる少なくとも一つの電気コイルの駆動を防止するように構成される、コントローラと、
を有し、
前記第1および第2ステージの適切な位置決めによって前記第1および第2オブジェクトテーブルが位置決め可能となるように、前記第1オブジェクトテーブルが前記第1ステージ上に設けられ、前記第2オブジェクトテーブルが前記第2ステージ上に設けられることを特徴とするリソグラフィ装置。
15.前記複数の電気コイルの前記第1および第2サブセットを駆動する前に、前記コントローラは、
前記第1および第2サブセットの両方の一部である電気コイルを決定し、
前記ステータ上で前記第1および第2ステージを位置決めするために前記第1および第2サブセットによって同時に共有されることになる少なくとも一つの電気コイルの駆動を防止する
ように構成されることを特徴とする実施形態14に記載のリソグラフィ装置。
16.前記ステータに対する前記第1および第2ステージの位置を決定するように構成されたセンサを備え、該センサは前記コントローラと通信する実施形態14に記載のリソグラフィ装置。
17.前記コントローラは、
前記センサの出力に基づき、前記ステータに対する前記第1ステージの位置を決定し、
決定された前記第1ステージの位置において、前記第1マグネットアセンブリの磁場と無視できない相互作用を有することが可能な、前記複数の電気コイルの前記第1サブセットを選択する
ように構成されることを特徴とする実施形態16に記載のリソグラフィ装置。
18.前記コントローラは、
前記センサの出力に基づき、前記ステータに対する前記第2ステージの位置を決定し、
決定された前記第2ステージの位置において、前記第2マグネットアセンブリの磁場と無視できない相互作用を有することが可能な、前記複数の電気コイルの前記第2サブセットを選択する
ように構成されることを特徴とする実施形態16に記載のリソグラフィ装置。
19.第1サブセットは前記第1ステージに対して得られるべき要求位置決め精度に基づいて選択され、第2サブセットは前記第2ステージに対して得られるべき要求位置決め精度に基づいて選択されることを特徴とする実施形態14に記載のリソグラフィ装置。
20.前記第1および第2ステージの位置決めの間、前記第1および第2マグネットアセンブリのそれぞれの完全な直下にある電気コイルが少なくとも駆動されることを特徴とする実施形態14に記載のリソグラフィ装置。
Claims (10)
- 第1方向および第2方向と実質的に平行に延び、第2方向が第1方向と直交するキャリアと、
キャリアに対して第1方向および第2方向に移動可能な第1ステージと、
キャリアに対して第1方向および第2方向に移動可能な第2ステージと、を備え、
第1ステージおよび第2ステージのそれぞれは、磁場を生成するマグネットシステムを備え、
前記キャリアは、複数の電気コイルのアレイを備え、複数の電気コイルは、前記第1ステージおよび第2ステージを前記キャリアに対して位置決めするよう前記第1ステージおよび第2ステージに力を生成するように、前記第1ステージおよび第2ステージのマグネットシステムによって生成される磁場と相互作用するよう構成されており、
各マグネットシステムは、第1方向および第2方向と実質的に直交する第3方向に磁化の向きを有し、その磁化の向きはキャリアを向く第1マグネットと、第3方向に磁化の向きを有し、その磁化の向きはキャリアから離れる向きである第2マグネットと、を含み、第1マグネットおよび第2マグネットは互いに実質的に直交する奇数個の行と奇数個の列とからなるパターンにしたがって配置され、第1マグネットおよび第2マグネットは各行各列に交互に配置され、前記第1ステージのマグネットシステムは対角線上に配置された第1マグネットを有し、前記第2ステージのマグネットシステムは対角線上に配置された第2マグネットを有するマルチステージシステム。 - 第1方向および第2方向と実質的に平行に延び、第2方向が第1方向と直交するキャリアと、
キャリアに対して第1方向および第2方向に移動可能な第1ステージと、
キャリアに対して第1方向および第2方向に移動可能な第2ステージと、を備え、
第1ステージおよび第2ステージのそれぞれは、磁場を生成するマグネットシステムを備え、
前記キャリアは、複数の電気コイルのアレイを備え、複数の電気コイルは、前記第1ステージおよび第2ステージを前記キャリアに対して位置決めするよう前記第1ステージおよび第2ステージに力を生成するように、前記第1ステージおよび第2ステージのマグネットシステムによって生成される磁場と相互作用するよう構成されており、
各マグネットシステムは、第1方向および第2方向と実質的に直交する第3方向に磁化の向きを有し、その磁化の向きはキャリアを向く第1マグネットと、第3方向に磁化の向きを有し、その磁化の向きはキャリアから離れる向きである第2マグネットと、を含み、第1マグネットおよび第2マグネットは互いに実質的に直交する行と列とからなるパターンにしたがって配置され、第1マグネットおよび第2マグネットは各行各列に交互に配置され、2つのステージが互いに接触して位置決めされるとき前記第1ステージのマグネットシステムのパターンが前記第2ステージのマグネットシステムに続くマルチステージシステム。 - 前記キャリアに対する前記第1および第2ステージの位置を測定するように構成されたセンサシステムをさらに備える請求項1または2に記載のマルチステージシステム。
- 前記センサシステムは、前記キャリアに対する前記第1および第2ステージの位置を測定するために、基準フレームに対する前記第1および第2ステージの位置を測定しかつ前記基準フレームに対する前記キャリアの位置を測定するように構成されている請求項3に記載のマルチステージシステム。
- 前記センサシステムは、複数のセンサを備える請求項3または4に記載のマルチステージシステム。
- 前記センサシステムは、複数の干渉計を備える請求項5に記載のマルチステージシステム。
- 前記センサシステムは、複数のエンコーダ測定システムを備える請求項5に記載のマルチステージシステム。
- 前記センサシステムは、エンコーダ測定システムと干渉計測定システムの組み合わせを備える請求項5に記載のマルチステージシステム。
- −前記第1ステージの前記キャリアに対する第1方向および第2方向における位置を前記センサシステムの第1位置測定結果に基づいて決定し、
−決定された前記第1ステージの位置にある前記第1ステージのマグネットシステムの磁場と無視できない相互作用を有する可能性のある前記キャリアの電気コイルの第1サブセットを選択し、
−前記第2ステージの前記キャリアに対する第1方向および第2方向における位置を前記センサシステムの第2位置測定結果に基づいて決定し、
−決定された前記第2ステージの位置にある前記第2ステージのマグネットシステムの磁場と無視できない相互作用を有する可能性のある電気コイルの第2サブセットを選択し、
−前記第1ステージおよび前記第2ステージを前記キャリアに対して位置決めするように、第1サブセットおよび第2サブセットの電気コイルを駆動する
ように構成された制御ユニットをさらに備える請求項8に記載のマルチステージシステム。 - 前記制御ユニットは、前記第1サブセットおよび前記第2サブセットの電気コイルを駆動する前に、
前記第1サブセットおよび前記第2サブセットの両方の一部となっている電気コイルを決定し、
前記第1サブセットおよび前記第2サブセットの両方の一部である少なくともひとつの電気コイルを駆動対象から除くように構成される請求項9に記載のマルチステージシステム。
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