JP6320229B2 - アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法 - Google Patents
アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6320229B2 JP6320229B2 JP2014157663A JP2014157663A JP6320229B2 JP 6320229 B2 JP6320229 B2 JP 6320229B2 JP 2014157663 A JP2014157663 A JP 2014157663A JP 2014157663 A JP2014157663 A JP 2014157663A JP 6320229 B2 JP6320229 B2 JP 6320229B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- group
- less
- carbon
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
本発明は、アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法に関し、より詳しくはアルコキシシラン化合物をアルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）と反応させてアルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）を製造する方法に関する。
アルキルシラン化合物やアリールシラン化合物（以下、「アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）」と略す場合がある。）は、シリコーン樹脂の原料や反応剤等の様々な用途に用いることができる非常に有用な化合物であり、アルコキシシランやハロゲン化シランと並び有機ケイ素化学における最も重要な化合物の１つである。
アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）を製造するための代表的な方法としては、アルコキシシラン化合物に対し、グリニャール試薬やリチウム試薬を用いてアルキル化する反応が知られている（特許文献１、非特許文献１、２参照）。
一方、遷移金属化合物を使ったアリール化反応も報告されており、具体的にはビス（シクロペンタジエニル）−ジメチルジルコニウム等の有機ジルコニウム化合物を用いてアリール化する反応が報告されている。
アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）を製造するための代表的な方法としては、アルコキシシラン化合物に対し、グリニャール試薬やリチウム試薬を用いてアルキル化する反応が知られている（特許文献１、非特許文献１、２参照）。
一方、遷移金属化合物を使ったアリール化反応も報告されており、具体的にはビス（シクロペンタジエニル）−ジメチルジルコニウム等の有機ジルコニウム化合物を用いてアリール化する反応が報告されている。
E. T. McBee et al., J. Am. Chem. Soc. 1955, 77(5), 1292-1293
Amy S. Manoso et al., 2004, 69, 8305-8314
特許文献１等で用いられているグリニャール試薬やリチウム試薬は、反応性が非常に高いために、反応の制御が困難という難点がある。そのため、副生成物が生じ易く、また多段階のアルキル化（又はアリール化）が進行する反応においては、各段階の生成物の混合物として得られるなどの問題がある。
本発明は、アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）を得るためのアルキル化（又はアリール化）に有効な化合物を見出し、新規なアルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）を得るためのアルキル化（又はアリール化）に有効な化合物を見出し、新規なアルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、アルコキシシラン化合物をアルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）と反応させることにより、アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）を効率良く製造できることを見出し、本発明を完成させた。
即ち、本発明は以下の通りである。
＜１＞ 下記式（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ａ−３）、又は（Ａ−４）で表されるアルコ
キシシラン化合物を、アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）と反応させて、アルキル化（又はアリール化）する反応工程を含むアルキルシラン化合物（又はア
リールシラン化合物）の製造方法。
（式（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ａ−３）、及び（Ａ−４）中、Ｒ１はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を、Ｒ２はそれぞれ独立して酸素原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも１種を含んでいてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
＜２＞ 前記アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）が、下記式（Ｂ−
１）で表される化合物である、＜１＞に記載のアルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法。
ＬＭｎＲ３ ２ （Ｂ−１）
（式（Ｂ−１）中、Ｒ３はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を、Ｌは任意の配位子を表す。）
＜３＞ 前記アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）が、下記式（Ｂ−
２）で表される化合物である、＜１＞に記載のアルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法。
（式（Ｂ−２）中、Ｒ３はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を、Ｌはそれぞれ独立して任意の配位子を表す。）
＜４＞ 前記アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）が、下記式（Ｂ−
３）で表される化合物である、＜１＞に記載のアルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法。
（ＭｎＲ３ ２）ｎ （Ｂ−３）
（式（Ｂ−３）中、Ｒ３はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を、ｎは１以上、１０００以下の整数を表す。）
＜１＞ 下記式（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ａ−３）、又は（Ａ−４）で表されるアルコ
キシシラン化合物を、アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）と反応させて、アルキル化（又はアリール化）する反応工程を含むアルキルシラン化合物（又はア
リールシラン化合物）の製造方法。
＜２＞ 前記アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）が、下記式（Ｂ−
１）で表される化合物である、＜１＞に記載のアルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法。
ＬＭｎＲ３ ２ （Ｂ−１）
（式（Ｂ−１）中、Ｒ３はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を、Ｌは任意の配位子を表す。）
＜３＞ 前記アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）が、下記式（Ｂ−
２）で表される化合物である、＜１＞に記載のアルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法。
＜４＞ 前記アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）が、下記式（Ｂ−
３）で表される化合物である、＜１＞に記載のアルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法。
（ＭｎＲ３ ２）ｎ （Ｂ−３）
（式（Ｂ−３）中、Ｒ３はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を、ｎは１以上、１０００以下の整数を表す。）
本発明によれば、アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）を効率良く製造することができる。
本発明のアルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法の詳細を説明するに当たり、具体例を挙げて説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り以下の内容に限定されるものではなく、適宜変更して実施することができる。
＜アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法＞
本発明の一態様であるアルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法（以下、「本発明の製造方法」と略す場合がある。）は、下記式（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ａ−３）、又は（Ａ−４）で表されるアルコキシシラン化合物を、アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）と反応させて、アルキル化（又はアリール化）する反応工程を含むことを特徴とする。
（式（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ａ−３）、及び（Ａ−４）中、Ｒ１はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を、Ｒ２はそれぞれ独立して酸素原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも１種を含んでいてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
本発明者らは、新規なアルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法を求め検討を重ねた結果、アルコキシシラン化合物をアルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）と反応させることにより、アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）を効率良く製造できることを見出したのである。アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）は、グリニャール試薬やリチウム試薬と比べて穏和な求核剤として働くため、副生成物が生じ難く、また多段階のアルキル化（又はアリール化）が進行する反応において生成物を選択的に得ることも可能である。また、マンガンは、環境負荷が少なく、安価で汎用的な金属であるため、環境やコストの観点でも優れた製造方法となり得るのである。
なお、「アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）」、「アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）」、「アルキル化（又はアリール化）」は、アルキルマンガン化合物と反応させる場合にはアルキル化してアルキルシラン化合物が得られ、アリールマンガン化合物と反応させる場合にはアリール化してアリールシラン化合物が得られることを意味する。
また、「アルキルマンガン化合物」は、マンガン（Ｍｎ）原子にアルキル基が結合した構造を有する化合物を、「アリールマンガン化合物」は、マンガン（Ｍｎ）原子にアリール基が結合した構造を有する化合物を意味し、その他の構造は特に限定されないものとする。
また、「アルキル化（又はアリール化）する」とは、下記反応式に示される反応のように、アルコキシシラン化合物のケイ素（Ｓｉ）原子にアルキル基（又はアリール基）を少なくとも１つ導入（求核置換反応）することを意味する。
従って、テトラメトキシシランをメチル化する場合、製造されるアルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）は、下記に示されるようなトリメトキシメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、メトキシトリメチルシラン、テトラメチルシラン、又はこれらの混合物の何れであってもよいことを意味する。
本発明の一態様であるアルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法（以下、「本発明の製造方法」と略す場合がある。）は、下記式（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ａ−３）、又は（Ａ−４）で表されるアルコキシシラン化合物を、アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）と反応させて、アルキル化（又はアリール化）する反応工程を含むことを特徴とする。
本発明者らは、新規なアルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法を求め検討を重ねた結果、アルコキシシラン化合物をアルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）と反応させることにより、アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）を効率良く製造できることを見出したのである。アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）は、グリニャール試薬やリチウム試薬と比べて穏和な求核剤として働くため、副生成物が生じ難く、また多段階のアルキル化（又はアリール化）が進行する反応において生成物を選択的に得ることも可能である。また、マンガンは、環境負荷が少なく、安価で汎用的な金属であるため、環境やコストの観点でも優れた製造方法となり得るのである。
なお、「アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）」、「アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）」、「アルキル化（又はアリール化）」は、アルキルマンガン化合物と反応させる場合にはアルキル化してアルキルシラン化合物が得られ、アリールマンガン化合物と反応させる場合にはアリール化してアリールシラン化合物が得られることを意味する。
また、「アルキルマンガン化合物」は、マンガン（Ｍｎ）原子にアルキル基が結合した構造を有する化合物を、「アリールマンガン化合物」は、マンガン（Ｍｎ）原子にアリール基が結合した構造を有する化合物を意味し、その他の構造は特に限定されないものとする。
また、「アルキル化（又はアリール化）する」とは、下記反応式に示される反応のように、アルコキシシラン化合物のケイ素（Ｓｉ）原子にアルキル基（又はアリール基）を少なくとも１つ導入（求核置換反応）することを意味する。
（アルコキシシラン化合物）
反応工程は、下記式（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ａ−３）、又は（Ａ−４）で表されるアルコキシシラン化合物を、アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）と反応させる工程であるが、原料となるアルコキシシラン化合物の具体的種類は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。
（式（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ａ−３）、及び（Ａ−４）中、Ｒ１はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を、Ｒ２はそれぞれ独立して酸素原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも１種を含んでいてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
Ｒ１はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表しているが、Ｒ１の炭素数は、好ましくは１３以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下である。
また、Ｒ１は直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
具体的なＲ１としては、メチル基（−ＣＨ３）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５）、ｎ−プロピル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、イソプロピル基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３）、ｎ−ブチル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ｔ−ブチル基（−Ｃ（ＣＨ３）３）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５）等が挙げられる。
Ｒ２はそれぞれ独立して酸素原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも１種を含んでいてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を表しているが、「酸素原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも１種を含んでいてもよい」とは、ヒドロキシル基（−ＯＨ）、トリメチルシリル基（−Ｓｉ（ＣＨ３）３）、トリメチルシロキシ基（−ＯＳｉ（ＣＨ３）３）等の酸素原子及び／又はケイ素原子を含む官能基を含んでいてもよいことを意味するほか、エーテル基（−Ｏ−）等の酸素原子及び／又ケイ素原子を含む連結基を炭素骨格の内部に含んでいてもよいことを意味する。従って、「酸素原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも１種を含んでいてもよい」炭化水素基には、例えば−ＣＨ２−ＣＨ２−ＯＨのようにヒドロキシル基を含んでいる炭素数２の炭化水素基、及び−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ３のようにエーテル基を炭素骨格の内部に含んでいる炭素数２の炭化水素基等が含まれる。
Ｒ２の炭素数は、好ましくは１３以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下である。
また、Ｒ２は直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
具体的なＲ２としては、メチル基（−ＣＨ３）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５）、ｎ−プロピル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、イソプロピル基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３）、ｎ−ブチル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ｔ−ブチル基（−Ｃ（ＣＨ３）３ ）等が挙げられる。
反応工程は、下記式（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ａ−３）、又は（Ａ−４）で表されるアルコキシシラン化合物を、アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）と反応させる工程であるが、原料となるアルコキシシラン化合物の具体的種類は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。
Ｒ１はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表しているが、Ｒ１の炭素数は、好ましくは１３以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下である。
また、Ｒ１は直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
具体的なＲ１としては、メチル基（−ＣＨ３）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５）、ｎ−プロピル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、イソプロピル基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３）、ｎ−ブチル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ｔ−ブチル基（−Ｃ（ＣＨ３）３）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５）等が挙げられる。
Ｒ２はそれぞれ独立して酸素原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも１種を含んでいてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を表しているが、「酸素原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも１種を含んでいてもよい」とは、ヒドロキシル基（−ＯＨ）、トリメチルシリル基（−Ｓｉ（ＣＨ３）３）、トリメチルシロキシ基（−ＯＳｉ（ＣＨ３）３）等の酸素原子及び／又はケイ素原子を含む官能基を含んでいてもよいことを意味するほか、エーテル基（−Ｏ−）等の酸素原子及び／又ケイ素原子を含む連結基を炭素骨格の内部に含んでいてもよいことを意味する。従って、「酸素原子及びケイ素原子からなる群より選択される少なくとも１種を含んでいてもよい」炭化水素基には、例えば−ＣＨ２−ＣＨ２−ＯＨのようにヒドロキシル基を含んでいる炭素数２の炭化水素基、及び−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ３のようにエーテル基を炭素骨格の内部に含んでいる炭素数２の炭化水素基等が含まれる。
Ｒ２の炭素数は、好ましくは１３以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下である。
また、Ｒ２は直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
具体的なＲ２としては、メチル基（−ＣＨ３）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５）、ｎ−プロピル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、イソプロピル基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３）、ｎ−ブチル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ｔ−ブチル基（−Ｃ（ＣＨ３）３ ）等が挙げられる。
アルコキシシラン化合物としては、下記式で表されるものが挙げられる。なお、これらの化合物は、市販されているものがあり、それを適宜用いることができる。
（アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物））
反応工程は、アルコキシシラン化合物をアルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）と反応させる工程であるが、アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）は、マンガン（Ｍｎ）原子にアルキル基（又はアリール基）が結合した構造を有する化合物であれば、具体的種類は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。
アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）としては、下記式（Ｂ−１）で表される化合物が挙げられる。
ＬＭｎＲ３ ２ （Ｂ−１）
（式（Ｂ−１）中、Ｒ３はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を、Ｌは任意の配位子を表す。）
Ｒ３はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表しているが、Ｒ３の炭素数は、好ましくは１３以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下である。
また、Ｒ３は直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
具体的なＲ３としては、メチル基（−ＣＨ３）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５）、ｎ−プロピル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、イソプロピル基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３）、ｎ−ブチル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ｔ−ブチル基（−Ｃ（ＣＨ３）３）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５）等が挙げられる。
反応工程は、アルコキシシラン化合物をアルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）と反応させる工程であるが、アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）は、マンガン（Ｍｎ）原子にアルキル基（又はアリール基）が結合した構造を有する化合物であれば、具体的種類は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。
アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）としては、下記式（Ｂ−１）で表される化合物が挙げられる。
ＬＭｎＲ３ ２ （Ｂ−１）
（式（Ｂ−１）中、Ｒ３はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を、Ｌは任意の配位子を表す。）
Ｒ３はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表しているが、Ｒ３の炭素数は、好ましくは１３以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下である。
また、Ｒ３は直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
具体的なＲ３としては、メチル基（−ＣＨ３）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５）、ｎ−プロピル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、イソプロピル基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３）、ｎ−ブチル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ｔ−ブチル基（−Ｃ（ＣＨ３）３）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５）等が挙げられる。
Ｌは任意の配位子を表しているが、具体的な配位子としては、チオフェン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、フェナントロリン、チアゾール、オキサゾール、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール等の構造を有するヘテロ
環化合物；アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、イミノ基等の窒素含有官能基を有する炭化水素化合物；アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基、カルボニル基、エーテル基等の酸素含有官能基を有する炭化水素化合物；アルキルチオ基、アリールチオ基、チオエーテル基等の硫黄含有官能基を有する炭化水素化合物；及びジアルキルホスフィノ基、ジアリールホスフィノ基、トリアルキルホスフィン、トリアリールホスフィン、ホスフィニン基等のリン含有官能基を有する炭化水素化合物等が挙げられる。なお、配位子が芳香族炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常６以上であり、通常３０以下、好ましくは２６以下、好ましくは２４以下である。配位子がヘテロ環化合物である場合の炭素数は、通常２以上であり、通常３０以下、好ましくは１６以下、好ましくは８以下である。配位子が窒素含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常１以上、好ましくは３以上であり、通常３０以下、好ましくは１６以下である。配位子が酸素含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常１以上、好ましくは３以上であり、通常３０以下、好ましくは１６以下である。配位子が硫黄含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常１以上、好ましくは３以上であり、通常３０以下、好ましくは１６以下である。配位子がリン含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常１以上、好ましくは３以上であり、通常３０以下、好ましくは１６以下である。
環化合物；アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、イミノ基等の窒素含有官能基を有する炭化水素化合物；アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基、カルボニル基、エーテル基等の酸素含有官能基を有する炭化水素化合物；アルキルチオ基、アリールチオ基、チオエーテル基等の硫黄含有官能基を有する炭化水素化合物；及びジアルキルホスフィノ基、ジアリールホスフィノ基、トリアルキルホスフィン、トリアリールホスフィン、ホスフィニン基等のリン含有官能基を有する炭化水素化合物等が挙げられる。なお、配位子が芳香族炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常６以上であり、通常３０以下、好ましくは２６以下、好ましくは２４以下である。配位子がヘテロ環化合物である場合の炭素数は、通常２以上であり、通常３０以下、好ましくは１６以下、好ましくは８以下である。配位子が窒素含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常１以上、好ましくは３以上であり、通常３０以下、好ましくは１６以下である。配位子が酸素含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常１以上、好ましくは３以上であり、通常３０以下、好ましくは１６以下である。配位子が硫黄含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常１以上、好ましくは３以上であり、通常３０以下、好ましくは１６以下である。配位子がリン含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常１以上、好ましくは３以上であり、通常３０以下、好ましくは１６以下である。
配位子としては、下記式（Ｌ１）で表されるトリアルキルホスフィン配位子（又はトリアリールホスフィン配位子）が好ましい。
（式（Ｌ１）中、Ｒ４はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
Ｒ４はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表しているが、Ｒ４の炭素数は、好ましくは１８以下、より好ましくは１５以下、さらに好ましくは１２以下である。
また、Ｒ４は直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
具体的なＲ４としては、水素原子、メチル基（−ＣＨ３）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５）、ｎ−プロピル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、イソプロピル基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３）、ｎ−ブチル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ｔ−ブチル基（−Ｃ（ＣＨ３）３）、シクロへキシル基（−Ｃ６Ｈ１１）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５）等が挙げられる。
式（Ｌ１）で表されるトリアルキルホスフィン配位子（又はトリアリールホスフィン配位子）としては、トリシクロへキシルホスフィンが挙げられる。
Ｒ４はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表しているが、Ｒ４の炭素数は、好ましくは１８以下、より好ましくは１５以下、さらに好ましくは１２以下である。
また、Ｒ４は直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
具体的なＲ４としては、水素原子、メチル基（−ＣＨ３）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５）、ｎ−プロピル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、イソプロピル基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３）、ｎ−ブチル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ｔ−ブチル基（−Ｃ（ＣＨ３）３）、シクロへキシル基（−Ｃ６Ｈ１１）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５）等が挙げられる。
式（Ｌ１）で表されるトリアルキルホスフィン配位子（又はトリアリールホスフィン配位子）としては、トリシクロへキシルホスフィンが挙げられる。
また、配位子としては、下記式（Ｌ２−１）、（Ｌ２−２）、又は（Ｌ２−３）で表されるエーテル配位子、下記式（Ｌ３−１）、（Ｌ３−２）、又は（Ｌ３−３）で表されるスルフィド配位子、又は下記式（Ｌ４）で表されるアミン配位子が好ましい。
（式（Ｌ２−１）中、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
（式（Ｌ２−２）及び（Ｌ２−３）中、Ｒ６はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
（式（Ｌ３−１）中、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
（式（Ｌ３−２）及び（Ｌ３−３）中、Ｒ６はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
（式（Ｌ４）中、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表しているが、Ｒ５の炭素数は、好ましくは１８以下、より好ましくは１５以下、さらに好ましくは１２以下である。
また、Ｒ５は直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
具体的なＲ５としては、メチル基（−ＣＨ３）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５）、ｎ−プロピル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、イソプロピル基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３）、ｎ−ブチル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ｔ−ブチル基（−Ｃ（ＣＨ３）３）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５）、トリメチルフェニル基等が挙げられる。
Ｒ６はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基を表しているが、Ｒ６が炭化水素基である場合の炭素数は、好ましくは１３以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下である。
また、Ｒ６が炭化水素基である場合、直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、
環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
具体的なＲ６としては、水素原子、メチル基（−ＣＨ３）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５）、ｎ−プロピル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、イソプロピル基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３）、ｎ−ブチル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ｔ−ブチル基（−Ｃ（ＣＨ３）３）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５）等が挙げられる。
Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表しているが、Ｒ５の炭素数は、好ましくは１８以下、より好ましくは１５以下、さらに好ましくは１２以下である。
また、Ｒ５は直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
具体的なＲ５としては、メチル基（−ＣＨ３）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５）、ｎ−プロピル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、イソプロピル基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３）、ｎ−ブチル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ｔ−ブチル基（−Ｃ（ＣＨ３）３）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５）、トリメチルフェニル基等が挙げられる。
Ｒ６はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基を表しているが、Ｒ６が炭化水素基である場合の炭素数は、好ましくは１３以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下である。
また、Ｒ６が炭化水素基である場合、直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、
環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
具体的なＲ６としては、水素原子、メチル基（−ＣＨ３）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５）、ｎ−プロピル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、イソプロピル基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３）、ｎ−ブチル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ｔ−ブチル基（−Ｃ（ＣＨ３）３）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５）等が挙げられる。
式（Ｂ−１）で表される化合物としては、ジフェニルトリシクロヘキシルホスフィンマンガンが挙げられる。
また、アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）としては、下記式（Ｂ−２）で表される化合物が挙げられる。
（式（Ｂ−２）中、Ｒ３はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を、Ｌはそれぞれ独立して任意の配位子を表す。）
Ｒ３はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表しているが、Ｒ３の炭素数は、好ましくは１３以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下である。
また、Ｒ３は直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
具体的なＲ３としては、メチル基（−ＣＨ３）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５）、ｎ−プロピル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、イソプロピル基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３）、ｎ−ブチル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ｔ−ブチル基（−Ｃ（ＣＨ３）３）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５）等が挙げられる。
Ｒ３はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表しているが、Ｒ３の炭素数は、好ましくは１３以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下である。
また、Ｒ３は直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
具体的なＲ３としては、メチル基（−ＣＨ３）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５）、ｎ−プロピル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、イソプロピル基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３）、ｎ−ブチル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ｔ−ブチル基（−Ｃ（ＣＨ３）３）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５）等が挙げられる。
Ｌはそれぞれ独立して任意の配位子を表しているが、具体的な配位子としては、チオフェン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、フェナントロリン、チアゾール、オキサゾール、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール等の構造を有するヘテロ環化合物；アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、イミノ基等の窒素含有官能基を有する炭化水素化合物；アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シリルオキシ基、カルボニル基、エーテル基等の酸素含有官能基を有する炭化水素化合物；アルキルチオ基、アリールチオ基、チオエーテル基等の硫黄含有官能基を有する炭化水素化合物；及びジアルキルホスフィノ基、ジアリールホスフィノ基、トリアルキルホスフィン、トリアリールホスフィン、ホスフィニン基等のリン含有官能基を有する炭化水素化合物等が挙げられる。なお、配位子が芳香族炭化水素化合物である
場合の炭素数は、通常６以上であり、通常３０以下、好ましくは２６以下、好ましくは２４以下である。配位子がヘテロ環化合物である場合の炭素数は、通常２以上であり、通常３０以下、好ましくは１６以下、好ましくは８以下である。配位子が窒素含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常１以上、好ましくは３以上であり、通常３０以下、好ましくは１６以下である。配位子が酸素含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常１以上、好ましくは３以上であり、通常３０以下、好ましくは１６以下である。配位子が硫黄含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常１以上、好ましくは３以上であり、通常３０以下、好ましくは１６以下である。配位子がリン含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常１以上、好ましくは３以上であり、通常３０以下、好ましくは１６以下である。
具体的なＲ３としては、
場合の炭素数は、通常６以上であり、通常３０以下、好ましくは２６以下、好ましくは２４以下である。配位子がヘテロ環化合物である場合の炭素数は、通常２以上であり、通常３０以下、好ましくは１６以下、好ましくは８以下である。配位子が窒素含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常１以上、好ましくは３以上であり、通常３０以下、好ましくは１６以下である。配位子が酸素含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常１以上、好ましくは３以上であり、通常３０以下、好ましくは１６以下である。配位子が硫黄含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常１以上、好ましくは３以上であり、通常３０以下、好ましくは１６以下である。配位子がリン含有官能基を有する炭化水素化合物である場合の炭素数は、通常１以上、好ましくは３以上であり、通常３０以下、好ましくは１６以下である。
具体的なＲ３としては、
配位子としては、下記式（Ｌ１）で表されるトリアルキルホスフィン配位子（又はトリアリールホスフィン配位子）が好ましい。
（式（Ｌ１）中、Ｒ４はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
Ｒ４はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表しているが、Ｒ４の炭素数は、好ましくは１８以下、より好ましくは１５以下、さらに好ましくは１２以下である。
また、Ｒ４は直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
具体的なＲ４としては、水素原子、メチル基（−ＣＨ３）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５）、ｎ−プロピル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、イソプロピル基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３）、ｎ−ブチル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ｔ−ブチル基（−Ｃ（ＣＨ３）３）、シクロへキシル基（−Ｃ６Ｈ１１）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５）等が挙げられる。
式（Ｌ１）で表されるトリアルキルホスフィン配位子（又はトリアリールホスフィン配位子としては、トリシクロへキシルホスフィンが挙げられる。
Ｒ４はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表しているが、Ｒ４の炭素数は、好ましくは１８以下、より好ましくは１５以下、さらに好ましくは１２以下である。
また、Ｒ４は直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
具体的なＲ４としては、水素原子、メチル基（−ＣＨ３）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５）、ｎ−プロピル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、イソプロピル基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３）、ｎ−ブチル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ｔ−ブチル基（−Ｃ（ＣＨ３）３）、シクロへキシル基（−Ｃ６Ｈ１１）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５）等が挙げられる。
式（Ｌ１）で表されるトリアルキルホスフィン配位子（又はトリアリールホスフィン配位子としては、トリシクロへキシルホスフィンが挙げられる。
また、配位子としては、下記式（Ｌ２−１）、（Ｌ２−２）、又は（Ｌ２−３）で表されるエーテル配位子、下記式（Ｌ３−１）、（Ｌ３−２）、又は（Ｌ３−３）で表されるで表されるスルフィド配位子、又は下記式（Ｌ４）で表されるアミン配位子が好ましい。
（式（Ｌ２−１）中、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
（式（Ｌ２−２）及び（Ｌ２−３）中、Ｒ６はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
（式（Ｌ３−１）中、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
（式（Ｌ３−２）及び（Ｌ３−３）中、Ｒ６はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
（式（Ｌ４）中、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
また、アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）としては、下記式（Ｂ−３）で表される化合物が挙げられる。
（ＭｎＲ３ ２）ｎ （Ｂ−３）
（式（Ｂ−３）中、Ｒ３はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を、ｎは１以上、１０００以下の整数を表す。）
Ｒ３はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表しているが、Ｒ３の炭素数は、好ましくは１８以下、より好ましくは１５以下、さらに好ましくは１２以下である。
また、Ｒ３は直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
具体的なＲ３としては、メチル基（−ＣＨ３）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５）、ｎ−プロピル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、イソプロピル基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３）、ｎ−ブチル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ｔ−ブチル基（−Ｃ（ＣＨ３）３）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５）、トリメチルフェニル基等が挙げられる。
ｎは、通常１以上、１０００以下の整数である。
（ＭｎＲ３ ２）ｎ （Ｂ−３）
（式（Ｂ−３）中、Ｒ３はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を、ｎは１以上、１０００以下の整数を表す。）
Ｒ３はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表しているが、Ｒ３の炭素数は、好ましくは１８以下、より好ましくは１５以下、さらに好ましくは１２以下である。
また、Ｒ３は直鎖状の飽和炭化水素基に限られず、分岐構造、環状構造、炭素−炭素不飽和結合のそれぞれを有していてもよい（分岐構造、環状構造、及び炭素−炭素不飽和結合からなる群より選択される少なくとも１種を有していてもよい。）。
具体的なＲ３としては、メチル基（−ＣＨ３）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５）、ｎ−プロピル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、イソプロピル基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ３）、ｎ−ブチル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）、ｔ−ブチル基（−Ｃ（ＣＨ３）３）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５）、トリメチルフェニル基等が挙げられる。
ｎは、通常１以上、１０００以下の整数である。
反応工程におけるアルコキシシラン化合物とアルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）の仕込比率は、目的に応じて適宜変更することができるが、アルコキシシ
ラン化合物の仕込量／アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）の仕込量として、通常１以上、好ましくは２以上、より好ましくは５以上であり、通常２０以下、好ましくは１０以下、より好ましくは８以下である。上記範囲内であると、アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）をより収率良く製造することができる。
ラン化合物の仕込量／アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）の仕込量として、通常１以上、好ましくは２以上、より好ましくは５以上であり、通常２０以下、好ましくは１０以下、より好ましくは８以下である。上記範囲内であると、アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）をより収率良く製造することができる。
反応工程は、溶媒を使用しても、使用しなくてもよいが、使用する場合の具体的な溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル系溶媒、アセトン、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等の非プロトン性極性溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。
反応工程における反応温度、反応時間等の条件は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。
反応温度は、通常２５℃以上、好ましくは５０℃以上であり、通常２００℃以下、好ましくは１５０℃以下である。上記範囲内であると、アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）をより収率良く製造することができる。
反応時間は、通常１時間以上、好ましくは３時間以上、より好ましくは５時間以上であり、通常５０時間以下、好ましくは２０時間以下、より好ましくは１０時間以下である。
反応は、通常窒素、アルゴン等の不活性雰囲気下で行う。
反応温度は、通常２５℃以上、好ましくは５０℃以上であり、通常２００℃以下、好ましくは１５０℃以下である。上記範囲内であると、アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）をより収率良く製造することができる。
反応時間は、通常１時間以上、好ましくは３時間以上、より好ましくは５時間以上であり、通常５０時間以下、好ましくは２０時間以下、より好ましくは１０時間以下である。
反応は、通常窒素、アルゴン等の不活性雰囲気下で行う。
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
＜実施例１＞
窒素充填ドライボックスにおいて、ガラスシュレンク管に下記式で表されるアリールマンガン化合物（３０．０ｍｇ，０．０６２ｍｍｏｌ）と内標のエイコサン（１０．１ｍｇ，０．０３６ｍｍｏｌ）を充填し、トルエンを加えて２．５ｍＬとした。別のバイアルに用意したＳｉ（ＯＥｔ）４（１２．８ｍｇ，０．０６１ｍｍｏｌ）をベンゼン１．５ｍＬを使ってこれに加えた。反応は、１００℃で撹拌しながら２７時間行った。
Ｓｈｉｍａｄｚｕ ＧＣ−２０１０ ガスクロマトグラフにより、ＳｉＰｈ（ＯＥｔ）３が７３％、ＳｉＰｈ２（ＯＥｔ）２が１１％生成していることを確認した。
窒素充填ドライボックスにおいて、ガラスシュレンク管に下記式で表されるアリールマンガン化合物（３０．０ｍｇ，０．０６２ｍｍｏｌ）と内標のエイコサン（１０．１ｍｇ，０．０３６ｍｍｏｌ）を充填し、トルエンを加えて２．５ｍＬとした。別のバイアルに用意したＳｉ（ＯＥｔ）４（１２．８ｍｇ，０．０６１ｍｍｏｌ）をベンゼン１．５ｍＬを使ってこれに加えた。反応は、１００℃で撹拌しながら２７時間行った。
Ｓｈｉｍａｄｚｕ ＧＣ−２０１０ ガスクロマトグラフにより、ＳｉＰｈ（ＯＥｔ）３が７３％、ＳｉＰｈ２（ＯＥｔ）２が１１％生成していることを確認した。
＜実施例２＞
窒素充填ドライボックスにおいて、ガラスバイアルに下記式で表されるアリールマンガン化合物（３０．０ｍｇ，０．０３９ｍｍｏｌ）と内標のエイコサン（１０．０ｍｇ，０．０３５ｍｍｏｌ）を充填し、トルエンを加えて１ｍＬとした。別のバイアルに用意したＳｉ（ＯＥｔ）４（１６．０ｍｇ，０．０７７ｍｍｏｌ）をトルエン１ｍＬを使ってこれに加えた。反応は、１００℃で撹拌しながら２４時間行った。
Ｓｈｉｍａｄｚｕ ＧＣ−２０１０ ガスクロマトグラフにより、ＳｉＰｈ（ＯＥｔ）３が８０％、ＳｉＰｈ２（ＯＥｔ）２が１１％生成していることを確認した。
なお、使用した（ＭｎＰｈ２）ｎのｎの値は未確定であるが、Reinald Fischer et al., Journal of Organometallic Chemistry 694 (2009) 1107-1111.に記載されている方法
により準備したものである。
窒素充填ドライボックスにおいて、ガラスバイアルに下記式で表されるアリールマンガン化合物（３０．０ｍｇ，０．０３９ｍｍｏｌ）と内標のエイコサン（１０．０ｍｇ，０．０３５ｍｍｏｌ）を充填し、トルエンを加えて１ｍＬとした。別のバイアルに用意したＳｉ（ＯＥｔ）４（１６．０ｍｇ，０．０７７ｍｍｏｌ）をトルエン１ｍＬを使ってこれに加えた。反応は、１００℃で撹拌しながら２４時間行った。
Ｓｈｉｍａｄｚｕ ＧＣ−２０１０ ガスクロマトグラフにより、ＳｉＰｈ（ＯＥｔ）３が８０％、ＳｉＰｈ２（ＯＥｔ）２が１１％生成していることを確認した。
により準備したものである。
＜実施例３＞
テトラエトキシシランの量を８倍量に、反応時間を４０時間に変更した以外は、実施例２と同様の方法により反応を行った。ＳｉＰｈ（ＯＥｔ）３が８７％、ＳｉＰｈ２（ＯＥｔ）２が１．１％生成していることを確認した。
テトラエトキシシランの量を８倍量に、反応時間を４０時間に変更した以外は、実施例２と同様の方法により反応を行った。ＳｉＰｈ（ＯＥｔ）３が８７％、ＳｉＰｈ２（ＯＥｔ）２が１．１％生成していることを確認した。
＜実施例４＞
アリールマンガン化合物を下記式で表されるアリールマンガン化合物に、反応時間を２０時間に変更した以外は、実施例２と同様の方法により反応を行った。ＳｉＸｙｌ（ＯＥｔ）３が２７％生成していることを確認した。
なお、使用した（ＭｎＸｙｌ２）ｎのｎの値は未確定であるが、Reinald Fischer et al., Journal of Organometallic Chemistry 694 (2009) 1107-1111.に記載されている方
法と同様の方法により準備したものである。
アリールマンガン化合物を下記式で表されるアリールマンガン化合物に、反応時間を２０時間に変更した以外は、実施例２と同様の方法により反応を行った。ＳｉＸｙｌ（ＯＥｔ）３が２７％生成していることを確認した。
法と同様の方法により準備したものである。
＜実施例５＞
Ｓｉ（ＯＥｔ）４をＳｉ（ＯＭｅ）４に、反応温度を１００℃から８０℃に、反応時間を２時間に変更した以外は、実施例２と同様の方法により反応を行った。ＳｉＰｈ（ＯＭｅ）３が１２％、ＳｉＰｈ２（ＯＭｅ）２が７７％生成していることを確認した。
Ｓｉ（ＯＥｔ）４をＳｉ（ＯＭｅ）４に、反応温度を１００℃から８０℃に、反応時間を２時間に変更した以外は、実施例２と同様の方法により反応を行った。ＳｉＰｈ（ＯＭｅ）３が１２％、ＳｉＰｈ２（ＯＭｅ）２が７７％生成していることを確認した。
本発明の製造方法によって得られたアルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）は、様々な材料の原料として使用することができる。
Claims (4)
- 下記式（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ａ−３）、又は（Ａ−４）で表されるアルコキシシラン化合物を、アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）と反応させて、アルキル化（又はアリール化）する反応工程を含むアルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法。
- 前記アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）が、下記式（Ｂ−１）で表される化合物である、請求項１に記載のアルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法。
ＬＭｎＲ３ ２ （Ｂ−１）
（式（Ｂ−１）中、Ｒ３はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。Ｌは任意の配位子を表す。） - 前記アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）が、下記式（Ｂ−２）で表される化合物である、請求項１に記載のアルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法。
- 前記アルキルマンガン化合物（又はアリールマンガン化合物）が、下記式（Ｂ−３）で表される化合物である、請求項１に記載のアルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法。
（ＭｎＲ３ ２）ｎ （Ｂ−３）
（式（Ｂ−３）中、Ｒ３はそれぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を、ｎは１以上、１０００以下の整数を表す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014157663A JP6320229B2 (ja) | 2014-08-01 | 2014-08-01 | アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014157663A JP6320229B2 (ja) | 2014-08-01 | 2014-08-01 | アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016034912A JP2016034912A (ja) | 2016-03-17 |
| JP6320229B2 true JP6320229B2 (ja) | 2018-05-09 |
Family
ID=55523054
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014157663A Expired - Fee Related JP6320229B2 (ja) | 2014-08-01 | 2014-08-01 | アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6320229B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102019122174A1 (de) | 2019-08-19 | 2021-02-25 | Voco Gmbh | Dentale polymerisierbare Zusammensetzung auf der Basis kondensierter Silane |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2380057A (en) * | 1941-10-23 | 1945-07-10 | Corning Glass Works | Dialkylated silicon esters and method of making them |
| US6160151A (en) * | 1999-12-08 | 2000-12-12 | Nusil Technology | Process for production of diphenyl-dialkoxysilane, phenylalkyl-dialkoxysilane, octaphenylcyclotetrasilozane and sym-tetraalkyltetraphenyl-cyclotetrasiloxane |
| US6667411B2 (en) * | 2000-04-05 | 2003-12-23 | General Electric Company | Method for making organooxysilanes |
| JP3918062B2 (ja) * | 2003-09-12 | 2007-05-23 | 国立大学法人 筑波大学 | 混合反応剤及びそれを用いたアセタール類のアルキル化方法 |
| CN103113400B (zh) * | 2013-03-12 | 2016-04-27 | 天津楷美肽生物科技有限公司 | 合成苯基甲基二烷氧基硅烷的方法 |
-
2014
- 2014-08-01 JP JP2014157663A patent/JP6320229B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2016034912A (ja) | 2016-03-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102008593B1 (ko) | 저밀렌 유래 유기 촉매를 사용하는 히드로실릴화 방법 | |
| JP6621226B2 (ja) | シロキサン及びその製造方法 | |
| JP2020012007A (ja) | オリゴシロキサン、及びシリルアセタールからのオリゴシロキサンの製造方法 | |
| Musalova et al. | A regio-and stereospecific reaction of tellurium tetrachloride with (trimethyl)(propargyl) silane | |
| JP6320229B2 (ja) | アルキルシラン化合物（又はアリールシラン化合物）の製造方法 | |
| JP2016155771A (ja) | シロキシ基を有するビスシリルエタン化合物及びその製造方法 | |
| US8859797B1 (en) | Synthesis methods for carbosilanes | |
| JP2012530823A (ja) | ポリシランの製造方法 | |
| WO2010005106A1 (ja) | 重合体の製造方法 | |
| WO2019044793A1 (ja) | シルセスキオキサン化合物の製造方法 | |
| KR20190045847A (ko) | 다환식 아미노실란 화합물 및 그의 제조 방법 | |
| JP2015527312A (ja) | オキサシラサイクルおよびこれらの製造方法 | |
| WO2016170851A1 (ja) | 加水分解性シリル基含有環状オルガノハイドロジェンシロキサン | |
| JP7126088B2 (ja) | ハロシラン類を原料に用いる有機ケイ素化合物の製造方法 | |
| JP6292552B2 (ja) | シロキサン化合物の製造方法 | |
| KR20170122124A (ko) | 질소 함유 오르가녹시실란 화합물 및 그의 제조 방법 | |
| JP6846736B2 (ja) | ボラン還元を用いたヒドロシランの製造方法 | |
| JP6762043B2 (ja) | イオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法 | |
| JP6842086B2 (ja) | アルケニルシランの製造方法 | |
| JP6598406B2 (ja) | イリジウム錯体等を用いたアリル化合物のヒドロシリル化によるシリル化合物の製造方法 | |
| WO2023196158A1 (en) | Acylphosphine oxide photoinitiator | |
| JP6020410B2 (ja) | ［３−（２−ノルボルニル）−２−ノルボルニル］シラン化合物及びその製造方法 | |
| JP2015231965A (ja) | 有機ケイ素化合物の製造方法及び触媒組成物 | |
| JP4850243B2 (ja) | 有機ケイ素化合物及び関連する製造方法 | |
| TW202016122A (zh) | 環狀胺基有機氧矽烷化合物及其製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170316 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171219 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20171221 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180214 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180313 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180403 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6320229 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |