JP6762043B2 - イオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明はイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法に関する。さらに詳しくは、アリルスルフィド化合物を含むイオウ官能基を有するアルケン類をイリジウム触媒存在下でヒドロシリル化するイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法に関する。
オレフィン類にヒドロシラン類を付加させるヒドロシリル化反応は、炭素−ケイ素結合を形成することができる有用な反応の１つであり、幅広い分野に利用されている。代表的なヒドロシリル化触媒として、Ｋａｒｓｔｅｄｔ’ｓ触媒やＳｐｅｉｅｒ’ｓ触媒などの白金錯体が知られているが、これらは硫黄化合物によって被毒されてしまうため、イオウ官能基を有するオレフィン類のヒドロシリル化に対しては、活性および反応選択性に改善の余地がある（例えば、非特許文献１及び２参照）。
J. B. Perales, D. L. Van Vranken, J. Org. Chem. 2001, 66, 7270-7274.
S. Ding, L.-J. Song, Y. Wang, X. Zhang, L. W. Chung, Y.-D. Wu, J. Sun Angew. Chem. Int. Ed. 2015, 54, 5632-5635.
本発明は、イオウ官能基を有するオレフィン類（アルケン類）を効率よくヒドロシリル化するイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、イリジウム錯体の存在下で、イオウ官能基を有するアルケン類を効率よくヒドロシリル化することができることを見出し、本発明を完成させた。
即ち、本発明は以下の通りである。
＜１＞ 下記式（Ａ）で表されるヒドロシラン類と下記式（Ｂ−１）で表されるアルケン類をイリジウム錯体の存在下で反応させて下記式（Ｃ−１）で表されるイオウ含有有機ケイ素化合物を生成する、又は下記式（Ａ）で表されるヒドロシラン類と下記式（Ｂ−２）で表されるアルケン類をイリジウム錯体の存在下で反応させて下記式（Ｃ−２）で表されるイオウ含有有機ケイ素化合物を生成する反応工程を含むことを特徴とするイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法。
Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＨ （Ａ）
（式（Ａ）中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3はそれぞれ独立して炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、又はシロキシ基（−ＯＳｉＲ3）を、Ｒはそれぞれ独立して炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、又は炭素原子数１〜１０のアルコキシ基を表す。）
（式（Ｂ−１）及び（Ｂ−２）中、Ｒ4は水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数１〜２０のアシル基、又は炭素原子数１〜２０のアシロキシ基を、ｍは１〜５の整数を、ｎは１〜２０の整数を表す。）
（式（Ｃ−１）及び（Ｃ−２）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、及びＲは、前記式（Ａ）のものと同一であり、Ｒ4、ｍ、及びｎは、前記式（Ｂ−１）又は（Ｂ−２）のものと同一である。）
＜２＞ 前記イリジウム錯体が、配位子として下記式（ｄ−１）で表される化合物を含む錯体である、＜１＞に記載のイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法。
（式（ｄ−１）中、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立して水素原子、又はヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、ヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、若しくはヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基を表す。）
＜３＞ 前記反応工程において、下記式（ｄ−１）で表される化合物を添加する、＜２＞に記載のイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法。
（式（ｄ−１）中、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立して水素原子、又はヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、ヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、若しくはヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基を表す。）
＜１＞ 下記式（Ａ）で表されるヒドロシラン類と下記式（Ｂ−１）で表されるアルケン類をイリジウム錯体の存在下で反応させて下記式（Ｃ−１）で表されるイオウ含有有機ケイ素化合物を生成する、又は下記式（Ａ）で表されるヒドロシラン類と下記式（Ｂ−２）で表されるアルケン類をイリジウム錯体の存在下で反応させて下記式（Ｃ−２）で表されるイオウ含有有機ケイ素化合物を生成する反応工程を含むことを特徴とするイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法。
Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＨ （Ａ）
（式（Ａ）中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3はそれぞれ独立して炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、又はシロキシ基（−ＯＳｉＲ3）を、Ｒはそれぞれ独立して炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、又は炭素原子数１〜１０のアルコキシ基を表す。）
＜２＞ 前記イリジウム錯体が、配位子として下記式（ｄ−１）で表される化合物を含む錯体である、＜１＞に記載のイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法。
＜３＞ 前記反応工程において、下記式（ｄ−１）で表される化合物を添加する、＜２＞に記載のイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法。
イオウ官能基を有するアルケン類を効率よくヒドロシリル化し、イオウ含有有機ケイ素化合物の製造を効率的に行うことができる。
本発明の詳細を説明するに当たり、具体例を挙げて説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り以下の内容に限定されるものではなく、適宜変更して実施することができる。
＜イオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法＞
本発明の一態様であるイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法は、下記式（Ａ）で表されるヒドロシラン類と下記式（Ｂ−１）で表されるアルケン類をイリジウム錯体の存在下で反応させて下記式（Ｃ−１）で表されるイオウ含有有機ケイ素化合物を生成する、又は下記式（Ａ）で表されるヒドロシラン類と下記式（Ｂ−２）で表されるアルケン類をイリジウム錯体の存在下で反応させて下記式（Ｃ−２）で表されるイオウ含有有機ケイ素化合物を生成する反応工程（以下、「反応工程」と略す場合がある。）を含むことを特徴とする。
Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＨ （Ａ）
（式（Ａ）中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3はそれぞれ独立して炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、又はシロキシ基（−ＯＳｉＲ3）を、Ｒはそれぞれ独立して炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、又は炭素原子数１〜１０のアルコキシ基を表す。）
（式（Ｂ−１）及び（Ｂ−２）中、Ｒ4は水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数１〜２０のアシル基、又は炭素原子数１〜２０のアシロキシ基を、ｍは１〜５の整数を、ｎは１〜２０の整数を表す。）
（式（Ｃ−１）及び（Ｃ−２）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、及びＲは、前記式（Ａ）のものと同一であり、Ｒ4、ｍ、及びｎは、前記式（Ｂ−１）又は（Ｂ−２）のものと同一である。）
代表的なヒドロシリル化触媒として白金錯体が知られているが、式（Ｂ−１）や式（Ｂ−２）のようなイオウ官能基を有するアルケン類のヒドロシリル化反応において使用する場合、これらが白金錯体を被毒して、活性および反応選択性に影響してしまうものと考えられる。本発明者らは、触媒としてイリジウム錯体を利用することにより、イオウ官能基を有するアルケン類を効率よくヒドロシリル化することができることを見出したのである。
以下、「式（Ａ）で表されるヒドロシラン類」、「式（Ｂ−１）で表されるアルケン類・式（Ｂ−２）で表されるアルケン類」、「イリジウム錯体」等について詳細に説明する。
本発明の一態様であるイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法は、下記式（Ａ）で表されるヒドロシラン類と下記式（Ｂ−１）で表されるアルケン類をイリジウム錯体の存在下で反応させて下記式（Ｃ−１）で表されるイオウ含有有機ケイ素化合物を生成する、又は下記式（Ａ）で表されるヒドロシラン類と下記式（Ｂ−２）で表されるアルケン類をイリジウム錯体の存在下で反応させて下記式（Ｃ−２）で表されるイオウ含有有機ケイ素化合物を生成する反応工程（以下、「反応工程」と略す場合がある。）を含むことを特徴とする。
Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＨ （Ａ）
（式（Ａ）中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3はそれぞれ独立して炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、又はシロキシ基（−ＯＳｉＲ3）を、Ｒはそれぞれ独立して炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、又は炭素原子数１〜１０のアルコキシ基を表す。）
代表的なヒドロシリル化触媒として白金錯体が知られているが、式（Ｂ−１）や式（Ｂ−２）のようなイオウ官能基を有するアルケン類のヒドロシリル化反応において使用する場合、これらが白金錯体を被毒して、活性および反応選択性に影響してしまうものと考えられる。本発明者らは、触媒としてイリジウム錯体を利用することにより、イオウ官能基を有するアルケン類を効率よくヒドロシリル化することができることを見出したのである。
以下、「式（Ａ）で表されるヒドロシラン類」、「式（Ｂ−１）で表されるアルケン類・式（Ｂ−２）で表されるアルケン類」、「イリジウム錯体」等について詳細に説明する。
（式（Ａ）で表されるヒドロシラン類）
反応工程において使用する式（Ａ）で表されるヒドロシラン化合物の具体的種類は、特に限定されず、目的とするイオウ含有有機ケイ素化合物に応じて適宜選択されるべきである。
Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＨ （Ａ）
式（Ａ）中のＲ1、Ｒ2、及びＲ3は、それぞれ独立して「炭素原子数１〜２０のアルキル基」、「炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基」、「炭素原子数６〜２０のアリール基」、「炭素原子数１〜１０のアルコキシ基」、又は「シロキシ基（−ＯＳｉＲ3）」を表しているが、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及びアルコキシ基は、それぞれ炭素鎖が２以上に枝分かれしている分岐構造を有するものであってもよいものとする。
また、シロキシ基（−ＯＳｉＲ3）のＲは、それぞれ独立して「炭素原子数１〜２０のアルキル基」、「炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基」、「炭素原子数６〜２０のアリール基」、又は「炭素原子数１〜１０のアルコキシ基」を表しているが、これらも同じく分岐構造を有するものであってもよい。
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒの炭素原子数は、アルキル基、アリール基、又はアルコキシ基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。シクロアルキル基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下であり、好ましくは４以上、より好ましくは５以上である。
Ｒとしては、メチル基（−ＣＨ3，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ2Ｈ5，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−nＣ3Ｈ7，−nＰｒ）、ｉ−プロピル基（−iＣ3Ｈ7，−iＰｒ）、ｎ−ヘキシル基（−nＣ6Ｈ13，−nＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−cＣ6Ｈ11，−Ｃｙ）、フェニル基（−Ｃ6Ｈ5，−Ｐｈ）、メトキシ基（−ＯＣＨ3，−ＯＭｅ）、エトキシ基（−ＯＣ2Ｈ5，−ＯＥｔ）、ｎ−プロポキシ基（−ＯnＣ3Ｈ7，−ＯnＰｒ）、ｉ−プロポキシ基（−ＯiＣ3Ｈ7，−ＯiＰｒ）、ｎ−ブトキシ基（−ＯnＣ4Ｈ9，−ＯnＢｕ）、ｔ−ブトキシ基（−ＯtＣ4Ｈ9，−ＯtＢｕ）、フェノキシ基（−ＯＣ6Ｈ5，−ＯＰｈ）等が挙げられる。
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3としては、メチル基（−ＣＨ3，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ2Ｈ5，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−nＣ3Ｈ7，−nＰｒ）、ｉ−プロピル基（−iＣ3Ｈ7，−iＰｒ）、ｎ−ブチル基（−nＣ4Ｈ9，−nＢｕ）、ｔ−ブチル基（−tＣ4Ｈ9，−tＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−nＣ5Ｈ11）、ｎ−ヘキシル基（−nＣ6Ｈ13，−nＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−cＣ6Ｈ11，−Ｃｙ）、フェニル基（−Ｃ6Ｈ5，−Ｐｈ）、メトキシ基（−ＯＣＨ3，−ＯＭｅ）、エトキシ基（−ＯＣ2Ｈ5，−ＯＥｔ）、ｎ−プロポキシ基（−ＯnＣ3Ｈ7，−ＯnＰｒ）、ｉ−プロポキシ基（−ＯiＣ3Ｈ7，−ＯiＰｒ）、ｎ−ブトキシ基（−ＯnＣ4Ｈ9，−ＯnＢｕ）、ｔ−ブトキシ基（−ＯtＣ4Ｈ9，−ＯtＢｕ）、フェノキシ基（−ＯＣ6Ｈ5，−ＯＰｈ）、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基、トリフェニルシロキシ基等が挙げられる。この中でも、メチル基、エチル基、フェニル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基が特に好ましい。
反応工程において使用する式（Ａ）で表されるヒドロシラン化合物の具体的種類は、特に限定されず、目的とするイオウ含有有機ケイ素化合物に応じて適宜選択されるべきである。
Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＨ （Ａ）
式（Ａ）中のＲ1、Ｒ2、及びＲ3は、それぞれ独立して「炭素原子数１〜２０のアルキル基」、「炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基」、「炭素原子数６〜２０のアリール基」、「炭素原子数１〜１０のアルコキシ基」、又は「シロキシ基（−ＯＳｉＲ3）」を表しているが、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及びアルコキシ基は、それぞれ炭素鎖が２以上に枝分かれしている分岐構造を有するものであってもよいものとする。
また、シロキシ基（−ＯＳｉＲ3）のＲは、それぞれ独立して「炭素原子数１〜２０のアルキル基」、「炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基」、「炭素原子数６〜２０のアリール基」、又は「炭素原子数１〜１０のアルコキシ基」を表しているが、これらも同じく分岐構造を有するものであってもよい。
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒの炭素原子数は、アルキル基、アリール基、又はアルコキシ基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。シクロアルキル基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下であり、好ましくは４以上、より好ましくは５以上である。
Ｒとしては、メチル基（−ＣＨ3，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ2Ｈ5，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−nＣ3Ｈ7，−nＰｒ）、ｉ−プロピル基（−iＣ3Ｈ7，−iＰｒ）、ｎ−ヘキシル基（−nＣ6Ｈ13，−nＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−cＣ6Ｈ11，−Ｃｙ）、フェニル基（−Ｃ6Ｈ5，−Ｐｈ）、メトキシ基（−ＯＣＨ3，−ＯＭｅ）、エトキシ基（−ＯＣ2Ｈ5，−ＯＥｔ）、ｎ−プロポキシ基（−ＯnＣ3Ｈ7，−ＯnＰｒ）、ｉ−プロポキシ基（−ＯiＣ3Ｈ7，−ＯiＰｒ）、ｎ−ブトキシ基（−ＯnＣ4Ｈ9，−ＯnＢｕ）、ｔ−ブトキシ基（−ＯtＣ4Ｈ9，−ＯtＢｕ）、フェノキシ基（−ＯＣ6Ｈ5，−ＯＰｈ）等が挙げられる。
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3としては、メチル基（−ＣＨ3，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ2Ｈ5，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−nＣ3Ｈ7，−nＰｒ）、ｉ−プロピル基（−iＣ3Ｈ7，−iＰｒ）、ｎ−ブチル基（−nＣ4Ｈ9，−nＢｕ）、ｔ−ブチル基（−tＣ4Ｈ9，−tＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−nＣ5Ｈ11）、ｎ−ヘキシル基（−nＣ6Ｈ13，−nＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−cＣ6Ｈ11，−Ｃｙ）、フェニル基（−Ｃ6Ｈ5，−Ｐｈ）、メトキシ基（−ＯＣＨ3，−ＯＭｅ）、エトキシ基（−ＯＣ2Ｈ5，−ＯＥｔ）、ｎ−プロポキシ基（−ＯnＣ3Ｈ7，−ＯnＰｒ）、ｉ−プロポキシ基（−ＯiＣ3Ｈ7，−ＯiＰｒ）、ｎ−ブトキシ基（−ＯnＣ4Ｈ9，−ＯnＢｕ）、ｔ−ブトキシ基（−ＯtＣ4Ｈ9，−ＯtＢｕ）、フェノキシ基（−ＯＣ6Ｈ5，−ＯＰｈ）、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基、トリフェニルシロキシ基等が挙げられる。この中でも、メチル基、エチル基、フェニル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基が特に好ましい。
式（Ａ）で表されるヒドロシラン類としては、
（ＭｅＯ）3ＳｉＨ、（ＥｔＯ）3ＳｉＨ、（ＰｈＯ）3ＳｉＨ、
（ＭｅＯ）2ＭｅＳｉＨ、（ＥｔＯ）2ＭｅＳｉＨ、（ＰｈＯ）2ＭｅＳｉＨ、
（ＭｅＯ）2ＥｔＳｉＨ、（ＥｔＯ）2ＥｔＳｉＨ、（ＰｈＯ）2ＥｔＳｉＨ、
（ＭｅＯ）2ＰｈＳｉＨ、（ＥｔＯ）2ＰｈＳｉＨ、（ＰｈＯ）2ＰｈＳｉＨ、
（ＭｅＯ）Ｍｅ2ＳｉＨ、（ＥｔＯ）Ｍｅ2ＳｉＨ、（ＰｈＯ）Ｍｅ2ＳｉＨ、
（ＭｅＯ）Ｅｔ2ＳｉＨ、（ＥｔＯ）Ｅｔ2ＳｉＨ、（ＰｈＯ）Ｅｔ2ＳｉＨ、
（ＭｅＯ）Ｐｈ2ＳｉＨ、（ＥｔＯ）Ｐｈ2ＳｉＨ、（ＰｈＯ）Ｐｈ2ＳｉＨ、
（ＭｅＯ）ＭｅＥｔＳｉＨ、（ＥｔＯ）ＭｅＥｔＳｉＨ、（ＰｈＯ）ＭｅＥｔＳｉＨ、
（ＭｅＯ）ＭｅＰｈＳｉＨ、（ＥｔＯ）ＭｅＰｈＳｉＨ、（ＰｈＯ）ＭｅＰｈＳｉＨ、
（ＭｅＯ）ＥｔＰｈＳｉＨ、（ＥｔＯ）ＥｔＰｈＳｉＨ、（ＰｈＯ）ＥｔＰｈＳｉＨ、
等が挙げられる。
（ＭｅＯ）3ＳｉＨ、（ＥｔＯ）3ＳｉＨ、（ＰｈＯ）3ＳｉＨ、
（ＭｅＯ）2ＭｅＳｉＨ、（ＥｔＯ）2ＭｅＳｉＨ、（ＰｈＯ）2ＭｅＳｉＨ、
（ＭｅＯ）2ＥｔＳｉＨ、（ＥｔＯ）2ＥｔＳｉＨ、（ＰｈＯ）2ＥｔＳｉＨ、
（ＭｅＯ）2ＰｈＳｉＨ、（ＥｔＯ）2ＰｈＳｉＨ、（ＰｈＯ）2ＰｈＳｉＨ、
（ＭｅＯ）Ｍｅ2ＳｉＨ、（ＥｔＯ）Ｍｅ2ＳｉＨ、（ＰｈＯ）Ｍｅ2ＳｉＨ、
（ＭｅＯ）Ｅｔ2ＳｉＨ、（ＥｔＯ）Ｅｔ2ＳｉＨ、（ＰｈＯ）Ｅｔ2ＳｉＨ、
（ＭｅＯ）Ｐｈ2ＳｉＨ、（ＥｔＯ）Ｐｈ2ＳｉＨ、（ＰｈＯ）Ｐｈ2ＳｉＨ、
（ＭｅＯ）ＭｅＥｔＳｉＨ、（ＥｔＯ）ＭｅＥｔＳｉＨ、（ＰｈＯ）ＭｅＥｔＳｉＨ、
（ＭｅＯ）ＭｅＰｈＳｉＨ、（ＥｔＯ）ＭｅＰｈＳｉＨ、（ＰｈＯ）ＭｅＰｈＳｉＨ、
（ＭｅＯ）ＥｔＰｈＳｉＨ、（ＥｔＯ）ＥｔＰｈＳｉＨ、（ＰｈＯ）ＥｔＰｈＳｉＨ、
等が挙げられる。
式（Ａ）で表されるヒドロシラン類の使用量（仕込量）は、式（Ｂ−１）で表されるアルケン類等の炭素−炭素二重結合に対して物質量換算で、通常１倍以上、好ましくは１．２倍以上、より好ましくは１．５倍以上であり、通常１０倍以下、好ましくは７倍以下、より好ましくは５倍以下である。上記範囲内であると、イオウ含有有機ケイ素化合物をより効率良く製造することができる。
（式（Ｂ−１）で表されるアルケン類・式（Ｂ−２）で表されるアルケン類）
反応工程において使用する式（Ｂ−１）で表されるアルケン類及び式（Ｂ−２）で表されるアルケン類の具体的種類は、特に限定されず、目的とするイオウ含有有機ケイ素化合物に応じて適宜選択されるべきである。
式（Ｂ−１）中のＲ4は、「水素原子」、「炭素原子数１〜２０のアルキル基」、「炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基」、「炭素原子数６〜２０のアリール基」、「炭素原子数１〜２０のアシル基」、「炭素原子数１〜２０のアシロキシ基」を表しているが、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシル基、及びアシロキシ基は、それぞれ炭素鎖が２以上に枝分かれしている分岐構造を有するものであってもよいものとする。なお、「アシロキシ基」は、下記式で表される官能基を意味する。
（式中、Ｒ'はアルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基である。）
Ｒ4の炭素原子数は、アルキル基又はアリール基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。シクロアルキル基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下であり、好ましくは４以上、より好ましくは５以上である。アシル基又はアシロキシ基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１８以下、さらに好ましくは４以下である。
Ｒ4としては、メチル基（−ＣＨ3，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ2Ｈ5，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−nＣ3Ｈ7，−nＰｒ）、ｉ−プロピル基（−iＣ3Ｈ7，−iＰｒ）、ｎ−ブチル基（−nＣ4Ｈ9，−nＢｕ）、ｔ−ブチル基（−tＣ4Ｈ9，−tＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−nＣ5Ｈ11）、ｎ−ヘキシル基（−nＣ6Ｈ13，−nＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−cＣ6Ｈ11，−Ｃｙ）、フェニル基（−Ｃ6Ｈ5，−Ｐｈ）、アセチル基（−ＣＯＣＨ3，Ａｃ）、アセトキシ基（−ＯＣＯＣＨ3，−ＯＡｃ）等が挙げられる。この中でも、メチル基、フェニル基、アセチル基が特に好ましい。
式（Ｂ−２）中のｍは、１〜５の整数を表しているが、好ましくは３以下の整数、より好ましくは１又は２、特に好ましくは１である。
式（Ｂ−１）及び（Ｂ−２）中のｎは、１〜２０の整数を表しているが、好ましくは１２以下の整数、より好ましくは６以下の整数、さらに好ましくは２以下、特に好ましくは１である。
反応工程において使用する式（Ｂ−１）で表されるアルケン類及び式（Ｂ−２）で表されるアルケン類の具体的種類は、特に限定されず、目的とするイオウ含有有機ケイ素化合物に応じて適宜選択されるべきである。
Ｒ4の炭素原子数は、アルキル基又はアリール基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。シクロアルキル基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下であり、好ましくは４以上、より好ましくは５以上である。アシル基又はアシロキシ基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１８以下、さらに好ましくは４以下である。
Ｒ4としては、メチル基（−ＣＨ3，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ2Ｈ5，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−nＣ3Ｈ7，−nＰｒ）、ｉ−プロピル基（−iＣ3Ｈ7，−iＰｒ）、ｎ−ブチル基（−nＣ4Ｈ9，−nＢｕ）、ｔ−ブチル基（−tＣ4Ｈ9，−tＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−nＣ5Ｈ11）、ｎ−ヘキシル基（−nＣ6Ｈ13，−nＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−cＣ6Ｈ11，−Ｃｙ）、フェニル基（−Ｃ6Ｈ5，−Ｐｈ）、アセチル基（−ＣＯＣＨ3，Ａｃ）、アセトキシ基（−ＯＣＯＣＨ3，−ＯＡｃ）等が挙げられる。この中でも、メチル基、フェニル基、アセチル基が特に好ましい。
式（Ｂ−２）中のｍは、１〜５の整数を表しているが、好ましくは３以下の整数、より好ましくは１又は２、特に好ましくは１である。
式（Ｂ−１）及び（Ｂ−２）中のｎは、１〜２０の整数を表しているが、好ましくは１２以下の整数、より好ましくは６以下の整数、さらに好ましくは２以下、特に好ましくは１である。
式（Ｂ−１）で表されるアルケン類又は式（Ｂ−２）で表されるアルケン類としては、下記式で表されるものが挙げられる。
（イリジウム錯体）
反応工程は、イリジウム錯体の存在下で行われる工程であるが、イリジウム錯体におけるイリジウムの酸化数、配位子若しくは対イオンの具体的種類等は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。
イリジウムの酸化数は、通常０、＋１、＋２、＋３、＋４、＋５、＋６であるが、＋１であることが好ましい。
配位子若しくは対イオン、又はこれらになり得る化合物としては、シクロオクテン、下記式（ｄ−１）で表わされる化合物、下記式（ｄ−２）で表わされるアルコキシアニオン、下記式（ｄ−３）で表わされるチオラートアニオン、水素化物アニオン（Ｈ-）、トリメチルシリルアニオン（Ｍｅ3Ｓｉ-）、トリエチルシリルアニオン（Ｅｔ3Ｓｉ-）、塩化物アニオン（Ｃｌ-）、臭化物アニオン（Ｂｒ-）、アセトキシアニオン等が挙げられる。この中でも式（ｄ−１）で表わされる化合物及び式（ｄ−３）で表わされるチオラートアニオンが特に好ましい。
（式（ｄ−１）中、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立して水素原子、又はヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、ヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、若しくはヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基を表す。）
Ｒ7Ｏ- （ｄ−２）
Ｒ7Ｓ- （ｄ−３）
（式（ｄ−２）及び（ｄ−３）中、Ｒ7はそれぞれ独立して炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜２０のアリール基を表す。）
反応工程は、イリジウム錯体の存在下で行われる工程であるが、イリジウム錯体におけるイリジウムの酸化数、配位子若しくは対イオンの具体的種類等は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。
イリジウムの酸化数は、通常０、＋１、＋２、＋３、＋４、＋５、＋６であるが、＋１であることが好ましい。
配位子若しくは対イオン、又はこれらになり得る化合物としては、シクロオクテン、下記式（ｄ−１）で表わされる化合物、下記式（ｄ−２）で表わされるアルコキシアニオン、下記式（ｄ−３）で表わされるチオラートアニオン、水素化物アニオン（Ｈ-）、トリメチルシリルアニオン（Ｍｅ3Ｓｉ-）、トリエチルシリルアニオン（Ｅｔ3Ｓｉ-）、塩化物アニオン（Ｃｌ-）、臭化物アニオン（Ｂｒ-）、アセトキシアニオン等が挙げられる。この中でも式（ｄ−１）で表わされる化合物及び式（ｄ−３）で表わされるチオラートアニオンが特に好ましい。
Ｒ7Ｏ- （ｄ−２）
Ｒ7Ｓ- （ｄ−３）
（式（ｄ−２）及び（ｄ−３）中、Ｒ7はそれぞれ独立して炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜２０のアリール基を表す。）
式（ｄ−１）中のＲ5及びＲ6は、それぞれ独立して「水素原子」、又は「ヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基」、「ヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基」、若しくは「ヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基」を表しているが、アルキル基、シクロアルキル基、及びアリール基は、それぞれ炭素鎖が２以上に枝分かれしている分岐構造を有するものであってもよいものとする。また、「ヘテロ原子が含まれていてもよい」とは、アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基の１以上の炭素原子及び／又は１以上の水素原子が、窒素原子、酸素原子、イオウ原子、リン原子、塩素原子、ヨウ素原子、及び臭素原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子（ヘテロ原子）に置換されていてもよいことを意味する。
Ｒ5の炭素原子数は、アルキル基又はアリール基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。シクロアルキル基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下であり、好ましくは４以上、より好ましくは５以上である。
Ｒ5としては、水素原子、メチル基（−ＣＨ3，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ2Ｈ5，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−nＣ3Ｈ7，−nＰｒ）、ｉ−プロピル基（−iＣ3Ｈ7，−iＰｒ）、酸素原子、窒素原子、イオウ原子等が含まれている、ｎ−プロピル基（−nＣ3Ｈ7，−nＰｒ）、ｉ−プロピル基（−iＣ3Ｈ7，−iＰｒ）等が挙げられる。この中でも、水素原子が特に好ましい。
Ｒ6の炭素原子数は、アルキル基又はアリール基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。シクロアルキル基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下であり、好ましくは４以上、より好ましくは５以上である。
Ｒ6としては、水素原子、メチル基（−ＣＨ3，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ2Ｈ5，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−nＣ3Ｈ7，−nＰｒ）、ｉ−プロピル基（−iＣ3Ｈ7，−iＰｒ）、酸素原子、窒素原子、イオウ原子等が含まれている、ｎ−プロピル基（−nＣ3Ｈ7，−nＰｒ）、ｉ−プロピル基（−iＣ3Ｈ7，−iＰｒ）等が挙げられる。この中でも、水素原子が特に好ましい。
式（ｄ−１）で表わされる化合物としては、１，５−シクロオクタジエン（ｃｏｄ）が特に好ましい。
Ｒ5の炭素原子数は、アルキル基又はアリール基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。シクロアルキル基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下であり、好ましくは４以上、より好ましくは５以上である。
Ｒ5としては、水素原子、メチル基（−ＣＨ3，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ2Ｈ5，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−nＣ3Ｈ7，−nＰｒ）、ｉ−プロピル基（−iＣ3Ｈ7，−iＰｒ）、酸素原子、窒素原子、イオウ原子等が含まれている、ｎ−プロピル基（−nＣ3Ｈ7，−nＰｒ）、ｉ−プロピル基（−iＣ3Ｈ7，−iＰｒ）等が挙げられる。この中でも、水素原子が特に好ましい。
Ｒ6の炭素原子数は、アルキル基又はアリール基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。シクロアルキル基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下であり、好ましくは４以上、より好ましくは５以上である。
Ｒ6としては、水素原子、メチル基（−ＣＨ3，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ2Ｈ5，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−nＣ3Ｈ7，−nＰｒ）、ｉ−プロピル基（−iＣ3Ｈ7，−iＰｒ）、酸素原子、窒素原子、イオウ原子等が含まれている、ｎ−プロピル基（−nＣ3Ｈ7，−nＰｒ）、ｉ−プロピル基（−iＣ3Ｈ7，−iＰｒ）等が挙げられる。この中でも、水素原子が特に好ましい。
式（ｄ−１）で表わされる化合物としては、１，５−シクロオクタジエン（ｃｏｄ）が特に好ましい。
式（ｄ−２）及び（ｄ−３）中のＲ7は、それぞれ独立して「炭素原子数１〜２０のアルキル基」、「炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基」、又は「炭素原子数６〜２０のアリール基」を表しているが、アルキル基、シクロアルキル基、及びアリール基は、それぞれ炭素鎖が２以上に枝分かれしている分岐構造を有するものであってもよいものとする。
Ｒ7の炭素原子数は、アルキル基又はアリール基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。シクロアルキル基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下であり、好ましくは４以上、より好ましくは５以上である。
Ｒ7としては、メチル基（−ＣＨ3，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ2Ｈ5，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−nＣ3Ｈ7，−nＰｒ）、ｉ−プロピル基（−iＣ3Ｈ7，−iＰｒ）、ｎ−ブチル基（−nＣ4Ｈ9，−nＢｕ）、ｔ−ブチル基（−tＣ4Ｈ9，−tＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−nＣ5Ｈ11）、ｎ−ヘキシル基（−nＣ6Ｈ13，−nＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−cＣ6Ｈ11，−Ｃｙ）、フェニル基（−Ｃ6Ｈ5，−Ｐｈ）等が挙げられる。この中でも、フェニル基が特に好ましい。
Ｒ7の炭素原子数は、アルキル基又はアリール基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。シクロアルキル基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下であり、好ましくは４以上、より好ましくは５以上である。
Ｒ7としては、メチル基（−ＣＨ3，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ2Ｈ5，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−nＣ3Ｈ7，−nＰｒ）、ｉ−プロピル基（−iＣ3Ｈ7，−iＰｒ）、ｎ−ブチル基（−nＣ4Ｈ9，−nＢｕ）、ｔ−ブチル基（−tＣ4Ｈ9，−tＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−nＣ5Ｈ11）、ｎ−ヘキシル基（−nＣ6Ｈ13，−nＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−cＣ6Ｈ11，−Ｃｙ）、フェニル基（−Ｃ6Ｈ5，−Ｐｈ）等が挙げられる。この中でも、フェニル基が特に好ましい。
イリジウム錯体としては、下記式（Ｄ−１）で表されるクロロ（シクロオクタジエン）イリジウム（Ｉ）ダイマー（［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］2）及び下記式（Ｄ−２）で表される（[Ｉｒ（ＳＰｈ）（ｃｏｄ）]2）が特に好ましい。上記のイリジウム錯体であると、イオウ含有有機ケイ素化合物をより効率良く製造することができる。
イリジウム錯体等の使用量（仕込量）は、式（Ｂ−１）で表されるアルケン類等の炭素−炭素二重結合に対して物質量換算で、通常０．０１倍以上、好ましくは０．０５倍以上、より好ましくは０．１倍以上であり、通常０．５倍以下、好ましくは０．３倍以下、より好ましくは０．２倍以下である。上記範囲内であると、イオウ含有有機ケイ素化合物をより効率良く製造することができる。
反応工程は、溶媒を使用してもよい。また、溶媒の種類は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができるが、具体的にはヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。この中でもトルエン、塩化メチレン、ベンゼン等が特に好ましい。
上記範囲内であると、イオウ含有有機ケイ素化合物をより効率良く製造することができる。
上記範囲内であると、イオウ含有有機ケイ素化合物をより効率良く製造することができる。
反応工程の反応温度は、通常−６０℃以上、好ましくは−１０℃以上、より好ましくは２０℃以上であり、通常５０℃以下、好ましくは４０℃以下、より好ましくは２５℃以下である。
反応工程の反応時間は、通常３０秒以上、好ましくは６０秒以上、より好ましくは１０分以上であり、通常７２時間以下、好ましくは８時間以下、より好ましくは６時間以下である。
反応工程は、通常窒素、アルゴン等の不活性雰囲気下で行う。
上記範囲内であると、イオウ含有有機ケイ素化合物をより効率良く製造することができる。
反応工程の反応時間は、通常３０秒以上、好ましくは６０秒以上、より好ましくは１０分以上であり、通常７２時間以下、好ましくは８時間以下、より好ましくは６時間以下である。
反応工程は、通常窒素、アルゴン等の不活性雰囲気下で行う。
上記範囲内であると、イオウ含有有機ケイ素化合物をより効率良く製造することができる。
反応工程において、下記式（ｄ−１）で表される化合物を添加することが好ましい。式（ｄ−１）で表わされる化合物を添加することにより、配位子の脱離によるイリジウム錯体の分解を抑制することができる。
（式（ｄ−１）中、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、若しくは炭素原子数６〜２０のアリール基を表す。）
式（ｄ−１）で表わされる化合物としては、１，５−シクロオクタジエン（ｃｏｄ）が特に好ましい。
式（ｄ−１）で表わされる化合物としては、１，５−シクロオクタジエン（ｃｏｄ）が特に好ましい。
式（ｄ−１）で表わされる化合物の使用量（仕込量）は、イリジウム錯体に対して物質量換算で、通常０．０１倍以上、好ましくは０．１倍以上、より好ましくは０．２倍以上であり、通常５．０倍以下である。イオウ含有有機ケイ素化合物をより効率良く製造することができる。
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
以下に挙げる実施例の全ての操作は、真空ライン、Ｓｃｈｌｅｎｋ操作、又は窒素雰囲気下に保たれたＭＢｒａｕｎドライボックスを用いて実施された。また、溶媒は、脱水脱酸素化して用いた。
以下に挙げる実施例の全ての操作は、真空ライン、Ｓｃｈｌｅｎｋ操作、又は窒素雰囲気下に保たれたＭＢｒａｕｎドライボックスを用いて実施された。また、溶媒は、脱水脱酸素化して用いた。
＜実施例１＞
［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］2（３．７ｍｇ，０．００６ｍｍｏｌ）（ｃｏｄ＝１，５−シクロオクタジエン）の重塩化メチレン溶液（０．４ｍＬ）に、トリメトキシシラン（（ＭｅＯ）3ＳｉＨ，５０ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）及びジアリルジスルフィド（２０ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）を加えた。反応を1ＨＮＭＲにより追跡し、室温６時間で終了したことを確認した。反応溶液にメシチレン（１２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え、1ＨＮＭＲを測定することにより、ヒドロシリル化体（下記反応式参照）が７６％収率で生成したことを確認した。
［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］2（３．７ｍｇ，０．００６ｍｍｏｌ）（ｃｏｄ＝１，５−シクロオクタジエン）の重塩化メチレン溶液（０．４ｍＬ）に、トリメトキシシラン（（ＭｅＯ）3ＳｉＨ，５０ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）及びジアリルジスルフィド（２０ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）を加えた。反応を1ＨＮＭＲにより追跡し、室温６時間で終了したことを確認した。反応溶液にメシチレン（１２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え、1ＨＮＭＲを測定することにより、ヒドロシリル化体（下記反応式参照）が７６％収率で生成したことを確認した。
＜実施例２＞
［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］2（３．７ｍｇ，０．００６ｍｍｏｌ）の重塩化メチレン溶液（０．４ｍＬ）に、１，５−シクロオクタジエン（１．５ｍｇ，０．０１４ｍｍｏｌ）、トリメトキシシラン（（ＭｅＯ）3ＳｉＨ，５０ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）及びジアリルジスルフィド（２０ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）を加えた。反応を1ＨＮＭＲにより追跡し、室温６時間で終了したことを確認した。反応溶液にメシチレン（１２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え、1ＨＮＭＲを測定することによりヒドロシリル化体（下記反応式参照）が９０％収率で生成したことを確認した。
［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］2（３．７ｍｇ，０．００６ｍｍｏｌ）の重塩化メチレン溶液（０．４ｍＬ）に、１，５−シクロオクタジエン（１．５ｍｇ，０．０１４ｍｍｏｌ）、トリメトキシシラン（（ＭｅＯ）3ＳｉＨ，５０ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）及びジアリルジスルフィド（２０ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）を加えた。反応を1ＨＮＭＲにより追跡し、室温６時間で終了したことを確認した。反応溶液にメシチレン（１２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え、1ＨＮＭＲを測定することによりヒドロシリル化体（下記反応式参照）が９０％収率で生成したことを確認した。
＜実施例３〜７＞
［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］2（１．９ｍｇ，０．００３ｍｍｏｌ）の重塩化メチレン溶液（０．４ｍＬ）に、１，５−シクロオクタジエン（１．５ｍｇ，０．０１４ｍｍｏｌ）、トリメトキシシラン（（ＭｅＯ）3ＳｉＨ，添加量は表１に記載）、及び表１に記載のアルケン類（０．１４ｍｍｏｌ）を加えた。反応（温度：２５℃）をガスクロマトグラフにより追跡し、収束したことを確認した後、メシチレン（１２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え、1ＨＮＭＲを測定することにより各生成物の収率を決定した。各結果を表１に示す。
［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］2（１．９ｍｇ，０．００３ｍｍｏｌ）の重塩化メチレン溶液（０．４ｍＬ）に、１，５−シクロオクタジエン（１．５ｍｇ，０．０１４ｍｍｏｌ）、トリメトキシシラン（（ＭｅＯ）3ＳｉＨ，添加量は表１に記載）、及び表１に記載のアルケン類（０．１４ｍｍｏｌ）を加えた。反応（温度：２５℃）をガスクロマトグラフにより追跡し、収束したことを確認した後、メシチレン（１２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え、1ＨＮＭＲを測定することにより各生成物の収率を決定した。各結果を表１に示す。
＜実施例８〜１０＞
［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］2（１．９ｍｇ，０．００３ｍｍｏｌ）の重塩化メチレン溶液（０．４ｍＬ）に、１，５−シクロオクタジエン（１．５ｍｇ，０．０１４ｍｍｏｌ）、トリエトキシシラン（（ＥｔＯ）3ＳｉＨ，添加量は表２に記載）、及び表２に記載のアルケン類（０．１４ｍｍｏｌ）を加えた。反応（温度：２５℃）をガスクロマトグラフにより追跡し、収束したことを確認した後、メシチレン（１２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え、1ＨＮＭＲを測定することにより各生成物の収率を決定した。各結果を表２に示す。
［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］2（１．９ｍｇ，０．００３ｍｍｏｌ）の重塩化メチレン溶液（０．４ｍＬ）に、１，５−シクロオクタジエン（１．５ｍｇ，０．０１４ｍｍｏｌ）、トリエトキシシラン（（ＥｔＯ）3ＳｉＨ，添加量は表２に記載）、及び表２に記載のアルケン類（０．１４ｍｍｏｌ）を加えた。反応（温度：２５℃）をガスクロマトグラフにより追跡し、収束したことを確認した後、メシチレン（１２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え、1ＨＮＭＲを測定することにより各生成物の収率を決定した。各結果を表２に示す。
＜実施例１１〜１４＞
［Ｉｒ（ＳＰｈ）（ｃｏｄ）］2は、R. Uson, L. A. Oro, J. A. Cabeza, Inorg. Synth., 23, 128(1983)に記載の方法で調製した。
［Ｉｒ（ＳＰｈ）（ｃｏｄ）］2（４．６ｍｇ，０．００５５ｍｍｏｌ）の重塩化メチレン溶液（０．４ｍＬ）に、１，５−シクロオクタジエン（１．５ｍｇ，０．０１４ｍｍｏｌ）、トリメトキシシラン（（ＭeＯ）3ＳｉＨ，添加量は表３に記載）、表３に記載のアルケン類（０．１４ｍｍｏｌ）を加えた。反応（温度：２５℃）をガスクロマトグラフにより追跡し、収束したことを確認した後、メシチレン（１２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え、1ＨＮＭＲを測定することにより各生成物の収率を決定した。各結果を表３に示す。
［Ｉｒ（ＳＰｈ）（ｃｏｄ）］2は、R. Uson, L. A. Oro, J. A. Cabeza, Inorg. Synth., 23, 128(1983)に記載の方法で調製した。
［Ｉｒ（ＳＰｈ）（ｃｏｄ）］2（４．６ｍｇ，０．００５５ｍｍｏｌ）の重塩化メチレン溶液（０．４ｍＬ）に、１，５−シクロオクタジエン（１．５ｍｇ，０．０１４ｍｍｏｌ）、トリメトキシシラン（（ＭeＯ）3ＳｉＨ，添加量は表３に記載）、表３に記載のアルケン類（０．１４ｍｍｏｌ）を加えた。反応（温度：２５℃）をガスクロマトグラフにより追跡し、収束したことを確認した後、メシチレン（１２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え、1ＨＮＭＲを測定することにより各生成物の収率を決定した。各結果を表３に示す。
本発明の製造方法によって得られたイオウ含有有機ケイ素化合物は、シランカップリング剤など様々な材料の原料として使用することができる。
Claims (2)
- 下記式（Ａ）で表されるヒドロシラン類と下記式（Ｂ−１）で表されるアルケン類をイリジウム錯体の存在下で反応させて下記式（Ｃ−１）で表されるイオウ含有有機ケイ素化合物を生成する、又は下記式（Ａ）で表されるヒドロシラン類と下記式（Ｂ−２）で表されるアルケン類をイリジウム錯体の存在下で反応させて下記式（Ｃ−２）で表されるイオウ含有有機ケイ素化合物を生成する反応工程を含み、前記イリジウム錯体が、配位子として下記式（ｄ−１）で表される化合物を含む錯体であることを特徴とするイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法。
Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＨ （Ａ）
（式（Ａ）中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3はそれぞれ独立して炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、又はシロキシ基（−ＯＳｉＲ3）を、Ｒはそれぞれ独立して炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、又は炭素原子数１〜１０のアルコキシ基を表す。）
（式（Ｂ−１）及び（Ｂ−２）中、Ｒ4は水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数１〜２０のアシル基、又は炭素原子数１〜２０のアシロキシ基を、ｍは１〜５の整数を、ｎは１〜２０の整数を表す。）
（式（Ｃ−１）及び（Ｃ−２）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、及びＲは、前記式（Ａ）のものと同一であり、Ｒ4、ｍ、及びｎは、前記式（Ｂ−１）又は（Ｂ−２）のものと同一である。）
（式（ｄ−１）中、Ｒ 5 及びＲ 6 はそれぞれ独立して水素原子、又はヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、ヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、若しくはヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基を表す。） - 前記反応工程において、下記式（ｄ−１）で表される化合物を添加する、請求項１に記載のイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法。
（式（ｄ−１）中、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立して水素原子、又はヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、ヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、若しくはヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基を表す。）
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