WO2018101416A1 - イオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法 - Google Patents
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- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 31
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 28
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 title claims abstract description 28
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 title abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 32
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims abstract description 29
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 80
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 32
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 31
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 30
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims description 24
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 15
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 10
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 5
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 claims description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004354 sulfur functional group Chemical group 0.000 abstract description 8
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 abstract description 6
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000006651 (C3-C20) cycloalkyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- -1 allyl sulfide compound Chemical class 0.000 description 17
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 8
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- VYXHVRARDIDEHS-UHFFFAOYSA-N 1,5-cyclooctadiene Chemical compound C1CC=CCCC=C1 VYXHVRARDIDEHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004912 1,5-cyclooctadiene Substances 0.000 description 7
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 4
- PFRGXCVKLLPLIP-UHFFFAOYSA-N diallyl disulfide Chemical compound C=CCSSCC=C PFRGXCVKLLPLIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 3
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000003057 platinum Chemical class 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 0 *C1(*)/C(/*)=C(\*)/C(*)(*)C(*)(*)/C(/N)=C(/*)\C1(*)* Chemical compound *C1(*)/C(/*)=C(\*)/C(*)(*)C(*)(*)/C(/N)=C(/*)\C1(*)* 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- HYNPVZICZWUMBX-UHFFFAOYSA-N [Ir+].ClC1=CC=CCCCC1 Chemical class [Ir+].ClC1=CC=CCCCC1 HYNPVZICZWUMBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 229940008075 allyl sulfide Drugs 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- URYYVOIYTNXXBN-UPHRSURJSA-N cyclooctene Chemical compound C1CCC\C=C/CC1 URYYVOIYTNXXBN-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000004913 cyclooctene Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006392 deoxygenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
- B01J31/16—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing coordination complexes
- B01J31/22—Organic complexes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B61/00—Other general methods
Definitions
- the present invention relates to a method for producing a sulfur-containing organosilicon compound. More specifically, the present invention relates to a method for producing a sulfur-containing organosilicon compound, in which an alkene having a sulfur functional group containing an allyl sulfide compound is hydrosilylated in the presence of an iridium catalyst.
- Hydrosilylation reaction in which hydrosilanes are added to olefins is one of useful reactions capable of forming a carbon-silicon bond, and is used in a wide range of fields.
- hydrosilylation catalysts platinum complexes such as Karstedt's catalyst and Speier's catalyst are known, but these are poisoned by sulfur compounds, so hydrosilylation of olefins having a sulfur functional group
- there is room for improvement in activity and reaction selectivity see, for example, Non-Patent Documents 1 and 2).
- An object of the present invention is to provide a method for producing a sulfur-containing organosilicon compound that efficiently hydrosilylates olefins (alkenes) having a sulfur functional group.
- a sulfur represented by the following formula (C-1) by reacting a hydrosilane represented by the following formula (A) with an alkene represented by the following formula (B-1) in the presence of an iridium complex. Or a hydrosilane represented by the following formula (A) and an alkene represented by the following formula (B-2) in the presence of an iridium complex to produce an organic silicon compound containing:
- the manufacturing method of the sulfur containing organosilicon compound characterized by including the reaction process which produces
- R 1 R 2 R 3 SiH (A) (In the formula (A), R 1 , R 2 , and R 3 are each independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, or an aryl having 6 to 20 carbon atoms.
- R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, or an aryl having 6 to 20 carbon atoms.
- R 1 , R 2 , R 3 and R are the same as those in the formula (A), and R 4 , m and n are (It is the same as that of formula (B-1) or (B-2).)
- ⁇ 2> The method for producing a sulfur-containing organosilicon compound according to ⁇ 1>, wherein the iridium complex is a complex containing a compound represented by the following formula (d-1) as a ligand.
- R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a hetero atom, or a hetero atom. Represents a good cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may contain a hetero atom.
- R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a hetero atom, or a hetero atom. Represents a good cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may contain a hetero atom.
- a hydrosilane represented by the following formula (A) and an alkene represented by the following formula (B-1) are reacted in the presence of an iridium complex.
- a reaction step for producing a sulfur-containing organosilicon compound represented by the following formula (C-2) by reacting in the presence of the complex.
- R 1 R 2 R 3 SiH (A) (In the formula (A), R 1 , R 2 , and R 3 are each independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, or an aryl having 6 to 20 carbon atoms.
- R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, aryl of 6 to 20 carbon atoms A group, an acyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, m represents an integer of 1 to 5 and n represents an integer of 1 to 20).
- R 1 R 2 R 3 SiH (A) R 1 , R 2 , and R 3 in formula (A) are each independently “an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms”, “a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms”, or “the number of carbon atoms” “Aryl group having 6 to 20”, “Alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms”, or “Siloxy group (—OSiR 3 )”, wherein an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, and an alkoxy group are Each of the carbon chains may have a branched structure in which the carbon chain is branched into two or more.
- each R of the siloxy group (—OSiR 3 ) independently represents “an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms”, “a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms”, “an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms”.
- "Aryl group” or "Alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms” is represented, but these may also have a branched structure.
- R 1 , R 2 , R 3 , and R are an alkyl group, an aryl group, or an alkoxy group, the number of carbon atoms is preferably 16 or less, more preferably 12 or less, and still more preferably 8 or less.
- R includes a methyl group (—CH 3 , —Me), an ethyl group (—C 2 H 5 , —Et), an n-propyl group ( —n C 3 H 7 , —n Pr), an i-propyl group ( - i C 3 H 7, - i Pr), n- hexyl group (- n C 6 H 13, - n Hex), cyclohexyl (- c C 6 H 11, -Cy), phenyl group (-C 6 H 5 , Ph), methoxy group (—OCH 3 , —OMe), ethoxy group (—OC 2 H 5 , —OEt), n-propoxy group (—O n C 3 H 7 , —O n Pr), i -Pro
- R 1 , R 2 , and R 3 include a methyl group (—CH 3 , —Me), an ethyl group (—C 2 H 5 , —Et), an n-propyl group ( —n C 3 H 7 , —n Pr).
- the amount (charge) of the hydrosilane represented by the formula (A) is usually 1 time in terms of the amount of the carbon-carbon double bond such as alkenes represented by the formula (B-1). Above, preferably 1.2 times or more, more preferably 1.5 times or more, usually 10 times or less, preferably 7 times or less, more preferably 5 times or less. Within the above range, the sulfur-containing organosilicon compound can be produced more efficiently.
- alkenes represented by formula (B-1) / Alkenes represented by formula (B-2) The specific types of alkenes represented by the formula (B-1) and alkenes represented by the formula (B-2) used in the reaction step are not particularly limited. It should be selected accordingly.
- R 4 in the formula (B-1) is “hydrogen atom”, “alkyl group having 1 to 20 carbon atoms”, “cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms”, “6 to 20 carbon atoms” “Aryl group”, “acyl group having 1 to 20 carbon atoms” and “acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms”, but alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, acyl group and acyloxy group are Each of the carbon chains may have a branched structure in which the carbon chain is branched into two or more.
- the “acyloxy group” means a functional group represented by the following formula.
- R ′ represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group.
- R 4 is an alkyl group or an aryl group
- the number of carbon atoms is preferably 16 or less, more preferably 12 or less, and still more preferably 8 or less.
- it is a cycloalkyl group
- it is preferably 16 or less, more preferably 12 or less, still more preferably 8 or less, preferably 4 or more, more preferably 5 or more.
- it is an acyl group or an acyloxy group it is preferably 16 or less, more preferably 18 or less, and still more preferably 4 or less.
- R 4 includes a methyl group (—CH 3 , —Me), an ethyl group (—C 2 H 5 , —Et), an n-propyl group ( —n C 3 H 7 , —n Pr), and an i-propyl group.
- M in the formula (B-2) represents an integer of 1 to 5, preferably an integer of 3 or less, more preferably 1 or 2, and particularly preferably 1.
- N in the formulas (B-1) and (B-2) represents an integer of 1 to 20, preferably an integer of 12 or less, more preferably an integer of 6 or less, further preferably 2 or less, particularly Preferably it is 1.
- alkene represented by the formula (B-1) or the alkene represented by the formula (B-2) include those represented by the following formula.
- the reaction step is a step performed in the presence of an iridium complex, but the iridium oxidation number in the iridium complex, the specific type of the ligand or counter ion, etc. are not particularly limited and should be appropriately selected according to the purpose. Can do.
- the oxidation number of iridium is usually 0, +1, +2, +3, +4, +5, and +6, but is preferably +1.
- Examples of the ligand or counter ion, or a compound capable of forming these include cyclooctene, a compound represented by the following formula (d-1), an alkoxy anion represented by the following formula (d-2), and a compound represented by the following formula (d-3).
- R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a hetero atom, or a hetero atom.
- each R 7 independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, or 6 to 20 carbon atoms.
- R 5 and R 6 in formula (d-1) are each independently a “hydrogen atom”, or “an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may contain a hetero atom”, “a hetero atom A cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms which may be contained "or an" aryl group having 6 to 20 carbon atoms which may contain a hetero atom ".
- the group and the aryl group may each have a branched structure in which the carbon chain is branched into two or more.
- hetero atom means that one or more carbon atoms and / or one or more hydrogen atoms of an alkyl group, cycloalkyl group, or aryl group are a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom.
- Phosphorus atom, chlorine atom, iodine atom, and bromine atom may be substituted with at least one atom (heteroatom) selected from the group consisting of.
- R 5 is an alkyl group or an aryl group, it is preferably 16 or less, more preferably 12 or less, and still more preferably 8 or less.
- R 5 includes a hydrogen atom, a methyl group (—CH 3 , —Me), an ethyl group (—C 2 H 5 , —Et), an n-propyl group ( —n C 3 H 7 , —n Pr), i -Propyl group ( -i C 3 H 7 , -i Pr), oxygen atom, nitrogen atom, sulfur atom and the like, n-propyl group ( -n C 3 H 7 , -n Pr), i- And a propyl group ( —i C 3 H 7 , —i Pr).
- R 6 is an alkyl group or an aryl group
- the number of carbon atoms is preferably 16 or less, more preferably 12 or less, and still more preferably 8 or less.
- it is a cycloalkyl group, it is preferably 16 or less, more preferably 12 or less, still more preferably 8 or less, preferably 4 or more, more preferably 5 or more.
- R 6 includes a hydrogen atom, a methyl group (—CH 3 , —Me), an ethyl group (—C 2 H 5 , —Et), an n-propyl group ( —n C 3 H 7 , —n Pr), i -Propyl group ( -i C 3 H 7 , -i Pr), oxygen atom, nitrogen atom, sulfur atom and the like, n-propyl group ( -n C 3 H 7 , -n Pr), i- And a propyl group ( —i C 3 H 7 , —i Pr).
- a hydrogen atom is particularly preferable.
- 1,5-cyclooctadiene (cod) is particularly preferable.
- R 7 in the formulas (d-2) and (d-3) each independently represents an “alkyl group having 1 to 20 carbon atoms”, a “cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms”, or “carbon
- An alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group may each have a branched structure in which the carbon chain is branched into two or more. To do.
- R 7 is an alkyl group or an aryl group, the number of carbon atoms is preferably 16 or less, more preferably 12 or less, and still more preferably 8 or less.
- R 7 includes a methyl group (—CH 3 , —Me), an ethyl group (—C 2 H 5 , —Et), an n-propyl group ( —n C 3 H 7 , —n Pr), and an i-propyl group.
- iridium complex examples include chloro (cyclooctadiene) iridium (I) dimer ([IrCl (cod)] 2 ) represented by the following formula (D-1) and the following formula (D-2) ([ Ir (SPh) (cod)] 2 ) is particularly preferred.
- a sulfur-containing organosilicon compound can be produced more efficiently.
- the amount of iridium complex or the like used is usually 0.01 times or more, preferably 0, in terms of the amount of the carbon-carbon double bond such as alkenes represented by formula (B-1). 0.05 times or more, more preferably 0.1 times or more, usually 0.5 times or less, preferably 0.3 times or less, more preferably 0.2 times or less. Within the above range, the sulfur-containing organosilicon compound can be produced more efficiently.
- a solvent may be used.
- the type of the solvent is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. Specifically, hydrocarbon solvents such as hexane, benzene and toluene; halogen solvents such as methylene chloride and chloroform, etc. Can be mentioned. Of these, toluene, methylene chloride, benzene and the like are particularly preferable. Within the above range, the sulfur-containing organosilicon compound can be produced more efficiently.
- the reaction temperature in the reaction step is usually ⁇ 60 ° C. or higher, preferably ⁇ 10 ° C. or higher, more preferably 20 ° C. or higher, and usually 50 ° C. or lower, preferably 40 ° C. or lower, more preferably 25 ° C. or lower.
- the reaction time in the reaction step is usually 30 seconds or longer, preferably 60 seconds or longer, more preferably 10 minutes or longer, and is usually 72 hours or shorter, preferably 8 hours or shorter, more preferably 6 hours or shorter.
- the reaction step is usually performed under an inert atmosphere such as nitrogen or argon. Within the above range, the sulfur-containing organosilicon compound can be produced more efficiently.
- a compound represented by the following formula (d-1) By adding the compound represented by the formula (d-1), decomposition of the iridium complex due to elimination of the ligand can be suppressed.
- R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms, or 6 to 6 carbon atoms. Represents 20 aryl groups.
- 1,5-cyclooctadiene (cod) is particularly preferable.
- the amount of the compound represented by the formula (d-1) (charge amount) is usually 0.01 times or more, preferably 0.1 times or more, more preferably 0.2 times in terms of the amount of the iridium complex. It is more than double and is usually less than 5.0 times. A sulfur-containing organosilicon compound can be produced more efficiently.
- the sulfur-containing organosilicon compound obtained by the production method of the present invention can be used as a raw material for various materials such as a silane coupling agent.
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Abstract
イリジウム錯体の存在下で、式（Ｂ－１）や式（Ｂ－２）のようなイオウ官能基を有するアルケン類を効率よくヒドロシリル化してイオウ含有有機ケイ素化合物を得る。 （式（Ｂ－１）及び（Ｂ－２）中、Ｒ4は炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数１～２０のアシル基、又は炭素原子数１～２０のアシロキシ基を、ｍは１～５の整数を、ｎは１～２０の整数を表す。）
Description
本発明はイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法に関する。さらに詳しくは、アリルスルフィド化合物を含むイオウ官能基を有するアルケン類をイリジウム触媒存在下でヒドロシリル化するイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法に関する。
オレフィン類にヒドロシラン類を付加させるヒドロシリル化反応は、炭素－ケイ素結合を形成することができる有用な反応の１つであり、幅広い分野に利用されている。代表的なヒドロシリル化触媒として、Ｋａｒｓｔｅｄｔ’ｓ触媒やＳｐｅｉｅｒ’ｓ触媒などの白金錯体が知られているが、これらは硫黄化合物によって被毒されてしまうため、イオウ官能基を有するオレフィン類のヒドロシリル化に対しては、活性および反応選択性に改善の余地がある（例えば、非特許文献１及び２参照）。
J. B. Perales, D. L. Van Vranken, J. Org. Chem. 2001, 66, 7270-7274.
S. Ding, L.-J. Song, Y. Wang, X. Zhang, L. W. Chung, Y.-D. Wu, J. Sun Angew. Chem. Int. Ed. 2015, 54, 5632-5635.
本発明は、イオウ官能基を有するオレフィン類（アルケン類）を効率よくヒドロシリル化するイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、イリジウム錯体の存在下で、イオウ官能基を有するアルケン類を効率よくヒドロシリル化することができることを見出し、本発明を完成させた。
即ち、本発明は以下の通りである。
＜１＞ 下記式（Ａ）で表されるヒドロシラン類と下記式（Ｂ－１）で表されるアルケン類をイリジウム錯体の存在下で反応させて下記式（Ｃ－１）で表されるイオウ含有有機ケイ素化合物を生成する、又は下記式（Ａ）で表されるヒドロシラン類と下記式（Ｂ－２）で表されるアルケン類をイリジウム錯体の存在下で反応させて下記式（Ｃ－２）で表されるイオウ含有有機ケイ素化合物を生成する反応工程を含むことを特徴とするイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法。
Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＨ （Ａ）
（式（Ａ）中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3はそれぞれ独立して炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、又はシロキシ基（－ＯＳｉＲ3）を、Ｒはそれぞれ独立して炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、又は炭素原子数１～１０のアルコキシ基を表す。）
（式（Ｂ－１）及び（Ｂ－２）中、Ｒ4は水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数１～２０のアシル基、又は炭素原子数１～２０のアシロキシ基を、ｍは１～５の整数を、ｎは１～２０の整数を表す。）
（式（Ｃ－１）及び（Ｃ－２）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、及びＲは、前記式（Ａ）のものと同一であり、Ｒ4、ｍ、及びｎは、前記式（Ｂ－１）又は（Ｂ－２）のものと同一である。）
＜２＞ 前記イリジウム錯体が、配位子として下記式（ｄ－１）で表される化合物を含む錯体である、＜１＞に記載のイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法。
（式（ｄ－１）中、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立して水素原子、又はヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、ヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、若しくはヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数６～２０のアリール基を表す。）
＜３＞ 前記反応工程において、下記式（ｄ－１）で表される化合物を添加する、＜２＞に記載のイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法。
（式（ｄ－１）中、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立して水素原子、又はヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、ヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、若しくはヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数６～２０のアリール基を表す。）
＜１＞ 下記式（Ａ）で表されるヒドロシラン類と下記式（Ｂ－１）で表されるアルケン類をイリジウム錯体の存在下で反応させて下記式（Ｃ－１）で表されるイオウ含有有機ケイ素化合物を生成する、又は下記式（Ａ）で表されるヒドロシラン類と下記式（Ｂ－２）で表されるアルケン類をイリジウム錯体の存在下で反応させて下記式（Ｃ－２）で表されるイオウ含有有機ケイ素化合物を生成する反応工程を含むことを特徴とするイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法。
Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＨ （Ａ）
（式（Ａ）中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3はそれぞれ独立して炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、又はシロキシ基（－ＯＳｉＲ3）を、Ｒはそれぞれ独立して炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、又は炭素原子数１～１０のアルコキシ基を表す。）
＜２＞ 前記イリジウム錯体が、配位子として下記式（ｄ－１）で表される化合物を含む錯体である、＜１＞に記載のイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法。
＜３＞ 前記反応工程において、下記式（ｄ－１）で表される化合物を添加する、＜２＞に記載のイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法。
イオウ官能基を有するアルケン類を効率よくヒドロシリル化し、イオウ含有有機ケイ素化合物の製造を効率的に行うことができる。
本発明の詳細を説明するに当たり、具体例を挙げて説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り以下の内容に限定されるものではなく、適宜変更して実施することができる。
＜イオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法＞
本発明の一態様であるイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法は、下記式（Ａ）で表されるヒドロシラン類と下記式（Ｂ－１）で表されるアルケン類をイリジウム錯体の存在下で反応させて下記式（Ｃ－１）で表されるイオウ含有有機ケイ素化合物を生成する、又は下記式（Ａ）で表されるヒドロシラン類と下記式（Ｂ－２）で表されるアルケン類をイリジウム錯体の存在下で反応させて下記式（Ｃ－２）で表されるイオウ含有有機ケイ素化合物を生成する反応工程（以下、「反応工程」と略す場合がある。）を含むことを特徴とする。
Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＨ （Ａ）
（式（Ａ）中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3はそれぞれ独立して炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、又はシロキシ基（－ＯＳｉＲ3）を、Ｒはそれぞれ独立して炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、又は炭素原子数１～１０のアルコキシ基を表す。）
（式（Ｂ－１）及び（Ｂ－２）中、Ｒ4は水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数１～２０のアシル基、又は炭素原子数１～２０のアシロキシ基を、ｍは１～５の整数を、ｎは１～２０の整数を表す。）
（式（Ｃ－１）及び（Ｃ－２）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、及びＲは、前記式（Ａ）のものと同一であり、Ｒ4、ｍ、及びｎは、前記式（Ｂ－１）又は（Ｂ－２）のものと同一である。）
代表的なヒドロシリル化触媒として白金錯体が知られているが、式（Ｂ－１）や式（Ｂ－２）のようなイオウ官能基を有するアルケン類のヒドロシリル化反応において使用する場合、これらが白金錯体を被毒して、活性および反応選択性に影響してしまうものと考えられる。本発明者らは、触媒としてイリジウム錯体を利用することにより、イオウ官能基を有するアルケン類を効率よくヒドロシリル化することができることを見出したのである。
以下、「式（Ａ）で表されるヒドロシラン類」、「式（Ｂ－１）で表されるアルケン類・式（Ｂ－２）で表されるアルケン類」、「イリジウム錯体」等について詳細に説明する。
本発明の一態様であるイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法は、下記式（Ａ）で表されるヒドロシラン類と下記式（Ｂ－１）で表されるアルケン類をイリジウム錯体の存在下で反応させて下記式（Ｃ－１）で表されるイオウ含有有機ケイ素化合物を生成する、又は下記式（Ａ）で表されるヒドロシラン類と下記式（Ｂ－２）で表されるアルケン類をイリジウム錯体の存在下で反応させて下記式（Ｃ－２）で表されるイオウ含有有機ケイ素化合物を生成する反応工程（以下、「反応工程」と略す場合がある。）を含むことを特徴とする。
Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＨ （Ａ）
（式（Ａ）中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3はそれぞれ独立して炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、又はシロキシ基（－ＯＳｉＲ3）を、Ｒはそれぞれ独立して炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、又は炭素原子数１～１０のアルコキシ基を表す。）
代表的なヒドロシリル化触媒として白金錯体が知られているが、式（Ｂ－１）や式（Ｂ－２）のようなイオウ官能基を有するアルケン類のヒドロシリル化反応において使用する場合、これらが白金錯体を被毒して、活性および反応選択性に影響してしまうものと考えられる。本発明者らは、触媒としてイリジウム錯体を利用することにより、イオウ官能基を有するアルケン類を効率よくヒドロシリル化することができることを見出したのである。
以下、「式（Ａ）で表されるヒドロシラン類」、「式（Ｂ－１）で表されるアルケン類・式（Ｂ－２）で表されるアルケン類」、「イリジウム錯体」等について詳細に説明する。
（式（Ａ）で表されるヒドロシラン類）
反応工程において使用する式（Ａ）で表されるヒドロシラン化合物の具体的種類は、特に限定されず、目的とするイオウ含有有機ケイ素化合物に応じて適宜選択されるべきである。
Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＨ （Ａ）
式（Ａ）中のＲ1、Ｒ2、及びＲ3は、それぞれ独立して「炭素原子数１～２０のアルキル基」、「炭素原子数３～２０のシクロアルキル基」、「炭素原子数６～２０のアリール基」、「炭素原子数１～１０のアルコキシ基」、又は「シロキシ基（－ＯＳｉＲ3）」を表しているが、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及びアルコキシ基は、それぞれ炭素鎖が２以上に枝分かれしている分岐構造を有するものであってもよいものとする。
また、シロキシ基（－ＯＳｉＲ3）のＲは、それぞれ独立して「炭素原子数１～２０のアルキル基」、「炭素原子数３～２０のシクロアルキル基」、「炭素原子数６～２０のアリール基」、又は「炭素原子数１～１０のアルコキシ基」を表しているが、これらも同じく分岐構造を有するものであってもよい。
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒの炭素原子数は、アルキル基、アリール基、又はアルコキシ基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。シクロアルキル基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下であり、好ましくは４以上、より好ましくは５以上である。
Ｒとしては、メチル基（－ＣＨ3，－Ｍｅ）、エチル基（－Ｃ2Ｈ5，－Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（－nＣ3Ｈ7，－nＰｒ）、ｉ－プロピル基（－iＣ3Ｈ7，－iＰｒ）、ｎ－ヘキシル基（－nＣ6Ｈ13，－nＨｅｘ）、シクロヘキシル基（－cＣ6Ｈ11，－Ｃｙ）、フェニル基（－Ｃ6Ｈ5，－Ｐｈ）、メトキシ基（－ＯＣＨ3，－ＯＭｅ）、エトキシ基（－ＯＣ2Ｈ5，－ＯＥｔ）、ｎ－プロポキシ基（－ＯnＣ3Ｈ7，－ＯnＰｒ）、ｉ－プロポキシ基（－ＯiＣ3Ｈ7，－ＯiＰｒ）、ｎ－ブトキシ基（－ＯnＣ4Ｈ9，－ＯnＢｕ）、ｔ－ブトキシ基（－ＯtＣ4Ｈ9，－ＯtＢｕ）、フェノキシ基（－ＯＣ6Ｈ5，－ＯＰｈ）等が挙げられる。
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3としては、メチル基（－ＣＨ3，－Ｍｅ）、エチル基（－Ｃ2Ｈ5，－Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（－nＣ3Ｈ7，－nＰｒ）、ｉ－プロピル基（－iＣ3Ｈ7，－iＰｒ）、ｎ－ブチル基（－nＣ4Ｈ9，－nＢｕ）、ｔ－ブチル基（－tＣ4Ｈ9，－tＢｕ）、ｎ－ペンチル基（－nＣ5Ｈ11）、ｎ－ヘキシル基（－nＣ6Ｈ13，－nＨｅｘ）、シクロヘキシル基（－cＣ6Ｈ11，－Ｃｙ）、フェニル基（－Ｃ6Ｈ5，－Ｐｈ）、メトキシ基（－ＯＣＨ3，－ＯＭｅ）、エトキシ基（－ＯＣ2Ｈ5，－ＯＥｔ）、ｎ－プロポキシ基（－ＯnＣ3Ｈ7，－ＯnＰｒ）、ｉ－プロポキシ基（－ＯiＣ3Ｈ7，－ＯiＰｒ）、ｎ－ブトキシ基（－ＯnＣ4Ｈ9，－ＯnＢｕ）、ｔ－ブトキシ基（－ＯtＣ4Ｈ9，－ＯtＢｕ）、フェノキシ基（－ＯＣ6Ｈ5，－ＯＰｈ）、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基、トリフェニルシロキシ基等が挙げられる。この中でも、メチル基、エチル基、フェニル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基が特に好ましい。
反応工程において使用する式（Ａ）で表されるヒドロシラン化合物の具体的種類は、特に限定されず、目的とするイオウ含有有機ケイ素化合物に応じて適宜選択されるべきである。
Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＨ （Ａ）
式（Ａ）中のＲ1、Ｒ2、及びＲ3は、それぞれ独立して「炭素原子数１～２０のアルキル基」、「炭素原子数３～２０のシクロアルキル基」、「炭素原子数６～２０のアリール基」、「炭素原子数１～１０のアルコキシ基」、又は「シロキシ基（－ＯＳｉＲ3）」を表しているが、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及びアルコキシ基は、それぞれ炭素鎖が２以上に枝分かれしている分岐構造を有するものであってもよいものとする。
また、シロキシ基（－ＯＳｉＲ3）のＲは、それぞれ独立して「炭素原子数１～２０のアルキル基」、「炭素原子数３～２０のシクロアルキル基」、「炭素原子数６～２０のアリール基」、又は「炭素原子数１～１０のアルコキシ基」を表しているが、これらも同じく分岐構造を有するものであってもよい。
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒの炭素原子数は、アルキル基、アリール基、又はアルコキシ基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。シクロアルキル基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下であり、好ましくは４以上、より好ましくは５以上である。
Ｒとしては、メチル基（－ＣＨ3，－Ｍｅ）、エチル基（－Ｃ2Ｈ5，－Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（－nＣ3Ｈ7，－nＰｒ）、ｉ－プロピル基（－iＣ3Ｈ7，－iＰｒ）、ｎ－ヘキシル基（－nＣ6Ｈ13，－nＨｅｘ）、シクロヘキシル基（－cＣ6Ｈ11，－Ｃｙ）、フェニル基（－Ｃ6Ｈ5，－Ｐｈ）、メトキシ基（－ＯＣＨ3，－ＯＭｅ）、エトキシ基（－ＯＣ2Ｈ5，－ＯＥｔ）、ｎ－プロポキシ基（－ＯnＣ3Ｈ7，－ＯnＰｒ）、ｉ－プロポキシ基（－ＯiＣ3Ｈ7，－ＯiＰｒ）、ｎ－ブトキシ基（－ＯnＣ4Ｈ9，－ＯnＢｕ）、ｔ－ブトキシ基（－ＯtＣ4Ｈ9，－ＯtＢｕ）、フェノキシ基（－ＯＣ6Ｈ5，－ＯＰｈ）等が挙げられる。
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3としては、メチル基（－ＣＨ3，－Ｍｅ）、エチル基（－Ｃ2Ｈ5，－Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（－nＣ3Ｈ7，－nＰｒ）、ｉ－プロピル基（－iＣ3Ｈ7，－iＰｒ）、ｎ－ブチル基（－nＣ4Ｈ9，－nＢｕ）、ｔ－ブチル基（－tＣ4Ｈ9，－tＢｕ）、ｎ－ペンチル基（－nＣ5Ｈ11）、ｎ－ヘキシル基（－nＣ6Ｈ13，－nＨｅｘ）、シクロヘキシル基（－cＣ6Ｈ11，－Ｃｙ）、フェニル基（－Ｃ6Ｈ5，－Ｐｈ）、メトキシ基（－ＯＣＨ3，－ＯＭｅ）、エトキシ基（－ＯＣ2Ｈ5，－ＯＥｔ）、ｎ－プロポキシ基（－ＯnＣ3Ｈ7，－ＯnＰｒ）、ｉ－プロポキシ基（－ＯiＣ3Ｈ7，－ＯiＰｒ）、ｎ－ブトキシ基（－ＯnＣ4Ｈ9，－ＯnＢｕ）、ｔ－ブトキシ基（－ＯtＣ4Ｈ9，－ＯtＢｕ）、フェノキシ基（－ＯＣ6Ｈ5，－ＯＰｈ）、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基、トリフェニルシロキシ基等が挙げられる。この中でも、メチル基、エチル基、フェニル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基が特に好ましい。
式（Ａ）で表されるヒドロシラン類としては、
（ＭｅＯ）3ＳｉＨ、（ＥｔＯ）3ＳｉＨ、（ＰｈＯ）3ＳｉＨ、
（ＭｅＯ）2ＭｅＳｉＨ、（ＥｔＯ）2ＭｅＳｉＨ、（ＰｈＯ）2ＭｅＳｉＨ、
（ＭｅＯ）2ＥｔＳｉＨ、（ＥｔＯ）2ＥｔＳｉＨ、（ＰｈＯ）2ＥｔＳｉＨ、
（ＭｅＯ）2ＰｈＳｉＨ、（ＥｔＯ）2ＰｈＳｉＨ、（ＰｈＯ）2ＰｈＳｉＨ、
（ＭｅＯ）Ｍｅ2ＳｉＨ、（ＥｔＯ）Ｍｅ2ＳｉＨ、（ＰｈＯ）Ｍｅ2ＳｉＨ、
（ＭｅＯ）Ｅｔ2ＳｉＨ、（ＥｔＯ）Ｅｔ2ＳｉＨ、（ＰｈＯ）Ｅｔ2ＳｉＨ、
（ＭｅＯ）Ｐｈ2ＳｉＨ、（ＥｔＯ）Ｐｈ2ＳｉＨ、（ＰｈＯ）Ｐｈ2ＳｉＨ、
（ＭｅＯ）ＭｅＥｔＳｉＨ、（ＥｔＯ）ＭｅＥｔＳｉＨ、（ＰｈＯ）ＭｅＥｔＳｉＨ、
（ＭｅＯ）ＭｅＰｈＳｉＨ、（ＥｔＯ）ＭｅＰｈＳｉＨ、（ＰｈＯ）ＭｅＰｈＳｉＨ、
（ＭｅＯ）ＥｔＰｈＳｉＨ、（ＥｔＯ）ＥｔＰｈＳｉＨ、（ＰｈＯ）ＥｔＰｈＳｉＨ、
等が挙げられる。
（ＭｅＯ）3ＳｉＨ、（ＥｔＯ）3ＳｉＨ、（ＰｈＯ）3ＳｉＨ、
（ＭｅＯ）2ＭｅＳｉＨ、（ＥｔＯ）2ＭｅＳｉＨ、（ＰｈＯ）2ＭｅＳｉＨ、
（ＭｅＯ）2ＥｔＳｉＨ、（ＥｔＯ）2ＥｔＳｉＨ、（ＰｈＯ）2ＥｔＳｉＨ、
（ＭｅＯ）2ＰｈＳｉＨ、（ＥｔＯ）2ＰｈＳｉＨ、（ＰｈＯ）2ＰｈＳｉＨ、
（ＭｅＯ）Ｍｅ2ＳｉＨ、（ＥｔＯ）Ｍｅ2ＳｉＨ、（ＰｈＯ）Ｍｅ2ＳｉＨ、
（ＭｅＯ）Ｅｔ2ＳｉＨ、（ＥｔＯ）Ｅｔ2ＳｉＨ、（ＰｈＯ）Ｅｔ2ＳｉＨ、
（ＭｅＯ）Ｐｈ2ＳｉＨ、（ＥｔＯ）Ｐｈ2ＳｉＨ、（ＰｈＯ）Ｐｈ2ＳｉＨ、
（ＭｅＯ）ＭｅＥｔＳｉＨ、（ＥｔＯ）ＭｅＥｔＳｉＨ、（ＰｈＯ）ＭｅＥｔＳｉＨ、
（ＭｅＯ）ＭｅＰｈＳｉＨ、（ＥｔＯ）ＭｅＰｈＳｉＨ、（ＰｈＯ）ＭｅＰｈＳｉＨ、
（ＭｅＯ）ＥｔＰｈＳｉＨ、（ＥｔＯ）ＥｔＰｈＳｉＨ、（ＰｈＯ）ＥｔＰｈＳｉＨ、
等が挙げられる。
式（Ａ）で表されるヒドロシラン類の使用量（仕込量）は、式（Ｂ－１）で表されるアルケン類等の炭素－炭素二重結合に対して物質量換算で、通常１倍以上、好ましくは１．２倍以上、より好ましくは１．５倍以上であり、通常１０倍以下、好ましくは７倍以下、より好ましくは５倍以下である。上記範囲内であると、イオウ含有有機ケイ素化合物をより効率良く製造することができる。
（式（Ｂ－１）で表されるアルケン類・式（Ｂ－２）で表されるアルケン類）
反応工程において使用する式（Ｂ－１）で表されるアルケン類及び式（Ｂ－２）で表されるアルケン類の具体的種類は、特に限定されず、目的とするイオウ含有有機ケイ素化合物に応じて適宜選択されるべきである。
式（Ｂ－１）中のＲ4は、「水素原子」、「炭素原子数１～２０のアルキル基」、「炭素原子数３～２０のシクロアルキル基」、「炭素原子数６～２０のアリール基」、「炭素原子数１～２０のアシル基」、「炭素原子数１～２０のアシロキシ基」を表しているが、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシル基、及びアシロキシ基は、それぞれ炭素鎖が２以上に枝分かれしている分岐構造を有するものであってもよいものとする。なお、「アシロキシ基」は、下記式で表される官能基を意味する。
（式中、Ｒ'はアルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基である。）
Ｒ4の炭素原子数は、アルキル基又はアリール基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。シクロアルキル基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下であり、好ましくは４以上、より好ましくは５以上である。アシル基又はアシロキシ基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１８以下、さらに好ましくは４以下である。
Ｒ4としては、メチル基（－ＣＨ3，－Ｍｅ）、エチル基（－Ｃ2Ｈ5，－Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（－nＣ3Ｈ7，－nＰｒ）、ｉ－プロピル基（－iＣ3Ｈ7，－iＰｒ）、ｎ－ブチル基（－nＣ4Ｈ9，－nＢｕ）、ｔ－ブチル基（－tＣ4Ｈ9，－tＢｕ）、ｎ－ペンチル基（－nＣ5Ｈ11）、ｎ－ヘキシル基（－nＣ6Ｈ13，－nＨｅｘ）、シクロヘキシル基（－cＣ6Ｈ11，－Ｃｙ）、フェニル基（－Ｃ6Ｈ5，－Ｐｈ）、アセチル基（－ＣＯＣＨ3，Ａｃ）、アセトキシ基（－ＯＣＯＣＨ3，－ＯＡｃ）等が挙げられる。この中でも、メチル基、フェニル基、アセチル基が特に好ましい。
式（Ｂ－２）中のｍは、１～５の整数を表しているが、好ましくは３以下の整数、より好ましくは１又は２、特に好ましくは１である。
式（Ｂ－１）及び（Ｂ－２）中のｎは、１～２０の整数を表しているが、好ましくは１２以下の整数、より好ましくは６以下の整数、さらに好ましくは２以下、特に好ましくは１である。
反応工程において使用する式（Ｂ－１）で表されるアルケン類及び式（Ｂ－２）で表されるアルケン類の具体的種類は、特に限定されず、目的とするイオウ含有有機ケイ素化合物に応じて適宜選択されるべきである。
Ｒ4の炭素原子数は、アルキル基又はアリール基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。シクロアルキル基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下であり、好ましくは４以上、より好ましくは５以上である。アシル基又はアシロキシ基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１８以下、さらに好ましくは４以下である。
Ｒ4としては、メチル基（－ＣＨ3，－Ｍｅ）、エチル基（－Ｃ2Ｈ5，－Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（－nＣ3Ｈ7，－nＰｒ）、ｉ－プロピル基（－iＣ3Ｈ7，－iＰｒ）、ｎ－ブチル基（－nＣ4Ｈ9，－nＢｕ）、ｔ－ブチル基（－tＣ4Ｈ9，－tＢｕ）、ｎ－ペンチル基（－nＣ5Ｈ11）、ｎ－ヘキシル基（－nＣ6Ｈ13，－nＨｅｘ）、シクロヘキシル基（－cＣ6Ｈ11，－Ｃｙ）、フェニル基（－Ｃ6Ｈ5，－Ｐｈ）、アセチル基（－ＣＯＣＨ3，Ａｃ）、アセトキシ基（－ＯＣＯＣＨ3，－ＯＡｃ）等が挙げられる。この中でも、メチル基、フェニル基、アセチル基が特に好ましい。
式（Ｂ－２）中のｍは、１～５の整数を表しているが、好ましくは３以下の整数、より好ましくは１又は２、特に好ましくは１である。
式（Ｂ－１）及び（Ｂ－２）中のｎは、１～２０の整数を表しているが、好ましくは１２以下の整数、より好ましくは６以下の整数、さらに好ましくは２以下、特に好ましくは１である。
式（Ｂ－１）で表されるアルケン類又は式（Ｂ－２）で表されるアルケン類としては、下記式で表されるものが挙げられる。
（イリジウム錯体）
反応工程は、イリジウム錯体の存在下で行われる工程であるが、イリジウム錯体におけるイリジウムの酸化数、配位子若しくは対イオンの具体的種類等は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。
イリジウムの酸化数は、通常０、＋１、＋２、＋３、＋４、＋５、＋６であるが、＋１であることが好ましい。
配位子若しくは対イオン、又はこれらになり得る化合物としては、シクロオクテン、下記式（ｄ－１）で表わされる化合物、下記式（ｄ－２）で表わされるアルコキシアニオン、下記式（ｄ－３）で表わされるチオラートアニオン、水素化物アニオン（Ｈ-）、トリメチルシリルアニオン（Ｍｅ3Ｓｉ-）、トリエチルシリルアニオン（Ｅｔ3Ｓｉ-）、塩化物アニオン（Ｃｌ-）、臭化物アニオン（Ｂｒ-）、アセトキシアニオン等が挙げられる。この中でも式（ｄ－１）で表わされる化合物及び式（ｄ－３）で表わされるチオラートアニオンが特に好ましい。
（式（ｄ－１）中、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立して水素原子、又はヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基、ヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、若しくはヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数６～２０のアリール基を表す。）
Ｒ7Ｏ- （ｄ－２）
Ｒ7Ｓ- （ｄ－３）
（式（ｄ－２）及び（ｄ－３）中、Ｒ7はそれぞれ独立して炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６～２０のアリール基を表す。）
反応工程は、イリジウム錯体の存在下で行われる工程であるが、イリジウム錯体におけるイリジウムの酸化数、配位子若しくは対イオンの具体的種類等は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。
イリジウムの酸化数は、通常０、＋１、＋２、＋３、＋４、＋５、＋６であるが、＋１であることが好ましい。
配位子若しくは対イオン、又はこれらになり得る化合物としては、シクロオクテン、下記式（ｄ－１）で表わされる化合物、下記式（ｄ－２）で表わされるアルコキシアニオン、下記式（ｄ－３）で表わされるチオラートアニオン、水素化物アニオン（Ｈ-）、トリメチルシリルアニオン（Ｍｅ3Ｓｉ-）、トリエチルシリルアニオン（Ｅｔ3Ｓｉ-）、塩化物アニオン（Ｃｌ-）、臭化物アニオン（Ｂｒ-）、アセトキシアニオン等が挙げられる。この中でも式（ｄ－１）で表わされる化合物及び式（ｄ－３）で表わされるチオラートアニオンが特に好ましい。
Ｒ7Ｏ- （ｄ－２）
Ｒ7Ｓ- （ｄ－３）
（式（ｄ－２）及び（ｄ－３）中、Ｒ7はそれぞれ独立して炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６～２０のアリール基を表す。）
式（ｄ－１）中のＲ5及びＲ6は、それぞれ独立して「水素原子」、又は「ヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数１～２０のアルキル基」、「ヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数３～２０のシクロアルキル基」、若しくは「ヘテロ原子が含まれていてもよい炭素原子数６～２０のアリール基」を表しているが、アルキル基、シクロアルキル基、及びアリール基は、それぞれ炭素鎖が２以上に枝分かれしている分岐構造を有するものであってもよいものとする。また、「ヘテロ原子が含まれていてもよい」とは、アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基の１以上の炭素原子及び／又は１以上の水素原子が、窒素原子、酸素原子、イオウ原子、リン原子、塩素原子、ヨウ素原子、及び臭素原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子（ヘテロ原子）に置換されていてもよいことを意味する。
Ｒ5の炭素原子数は、アルキル基又はアリール基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。シクロアルキル基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下であり、好ましくは４以上、より好ましくは５以上である。
Ｒ5としては、水素原子、メチル基（－ＣＨ3，－Ｍｅ）、エチル基（－Ｃ2Ｈ5，－Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（－nＣ3Ｈ7，－nＰｒ）、ｉ－プロピル基（－iＣ3Ｈ7，－iＰｒ）、酸素原子、窒素原子、イオウ原子等が含まれている、ｎ－プロピル基（－nＣ3Ｈ7，－nＰｒ）、ｉ－プロピル基（－iＣ3Ｈ7，－iＰｒ）等が挙げられる。この中でも、水素原子が特に好ましい。
Ｒ6の炭素原子数は、アルキル基又はアリール基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。シクロアルキル基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下であり、好ましくは４以上、より好ましくは５以上である。
Ｒ6としては、水素原子、メチル基（－ＣＨ3，－Ｍｅ）、エチル基（－Ｃ2Ｈ5，－Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（－nＣ3Ｈ7，－nＰｒ）、ｉ－プロピル基（－iＣ3Ｈ7，－iＰｒ）、酸素原子、窒素原子、イオウ原子等が含まれている、ｎ－プロピル基（－nＣ3Ｈ7，－nＰｒ）、ｉ－プロピル基（－iＣ3Ｈ7，－iＰｒ）等が挙げられる。この中でも、水素原子が特に好ましい。
式（ｄ－１）で表わされる化合物としては、１，５－シクロオクタジエン（ｃｏｄ）が特に好ましい。
Ｒ5の炭素原子数は、アルキル基又はアリール基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。シクロアルキル基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下であり、好ましくは４以上、より好ましくは５以上である。
Ｒ5としては、水素原子、メチル基（－ＣＨ3，－Ｍｅ）、エチル基（－Ｃ2Ｈ5，－Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（－nＣ3Ｈ7，－nＰｒ）、ｉ－プロピル基（－iＣ3Ｈ7，－iＰｒ）、酸素原子、窒素原子、イオウ原子等が含まれている、ｎ－プロピル基（－nＣ3Ｈ7，－nＰｒ）、ｉ－プロピル基（－iＣ3Ｈ7，－iＰｒ）等が挙げられる。この中でも、水素原子が特に好ましい。
Ｒ6の炭素原子数は、アルキル基又はアリール基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。シクロアルキル基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下であり、好ましくは４以上、より好ましくは５以上である。
Ｒ6としては、水素原子、メチル基（－ＣＨ3，－Ｍｅ）、エチル基（－Ｃ2Ｈ5，－Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（－nＣ3Ｈ7，－nＰｒ）、ｉ－プロピル基（－iＣ3Ｈ7，－iＰｒ）、酸素原子、窒素原子、イオウ原子等が含まれている、ｎ－プロピル基（－nＣ3Ｈ7，－nＰｒ）、ｉ－プロピル基（－iＣ3Ｈ7，－iＰｒ）等が挙げられる。この中でも、水素原子が特に好ましい。
式（ｄ－１）で表わされる化合物としては、１，５－シクロオクタジエン（ｃｏｄ）が特に好ましい。
式（ｄ－２）及び（ｄ－３）中のＲ7は、それぞれ独立して「炭素原子数１～２０のアルキル基」、「炭素原子数３～２０のシクロアルキル基」、又は「炭素原子数６～２０のアリール基」を表しているが、アルキル基、シクロアルキル基、及びアリール基は、それぞれ炭素鎖が２以上に枝分かれしている分岐構造を有するものであってもよいものとする。
Ｒ7の炭素原子数は、アルキル基又はアリール基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。シクロアルキル基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下であり、好ましくは４以上、より好ましくは５以上である。
Ｒ7としては、メチル基（－ＣＨ3，－Ｍｅ）、エチル基（－Ｃ2Ｈ5，－Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（－nＣ3Ｈ7，－nＰｒ）、ｉ－プロピル基（－iＣ3Ｈ7，－iＰｒ）、ｎ－ブチル基（－nＣ4Ｈ9，－nＢｕ）、ｔ－ブチル基（－tＣ4Ｈ9，－tＢｕ）、ｎ－ペンチル基（－nＣ5Ｈ11）、ｎ－ヘキシル基（－nＣ6Ｈ13，－nＨｅｘ）、シクロヘキシル基（－cＣ6Ｈ11，－Ｃｙ）、フェニル基（－Ｃ6Ｈ5，－Ｐｈ）等が挙げられる。この中でも、フェニル基が特に好ましい。
Ｒ7の炭素原子数は、アルキル基又はアリール基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下である。シクロアルキル基である場合、好ましくは１６以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは８以下であり、好ましくは４以上、より好ましくは５以上である。
Ｒ7としては、メチル基（－ＣＨ3，－Ｍｅ）、エチル基（－Ｃ2Ｈ5，－Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（－nＣ3Ｈ7，－nＰｒ）、ｉ－プロピル基（－iＣ3Ｈ7，－iＰｒ）、ｎ－ブチル基（－nＣ4Ｈ9，－nＢｕ）、ｔ－ブチル基（－tＣ4Ｈ9，－tＢｕ）、ｎ－ペンチル基（－nＣ5Ｈ11）、ｎ－ヘキシル基（－nＣ6Ｈ13，－nＨｅｘ）、シクロヘキシル基（－cＣ6Ｈ11，－Ｃｙ）、フェニル基（－Ｃ6Ｈ5，－Ｐｈ）等が挙げられる。この中でも、フェニル基が特に好ましい。
イリジウム錯体としては、下記式（Ｄ－１）で表されるクロロ（シクロオクタジエン）イリジウム（Ｉ）ダイマー（［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］2）及び下記式（Ｄ－２）で表される（[Ｉｒ（ＳＰｈ）（ｃｏｄ）]2）が特に好ましい。上記のイリジウム錯体であると、イオウ含有有機ケイ素化合物をより効率良く製造することができる。
イリジウム錯体等の使用量（仕込量）は、式（Ｂ－１）で表されるアルケン類等の炭素－炭素二重結合に対して物質量換算で、通常０．０１倍以上、好ましくは０．０５倍以上、より好ましくは０．１倍以上であり、通常０．５倍以下、好ましくは０．３倍以下、より好ましくは０．２倍以下である。上記範囲内であると、イオウ含有有機ケイ素化合物をより効率良く製造することができる。
反応工程は、溶媒を使用してもよい。また、溶媒の種類は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができるが、具体的にはヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。この中でもトルエン、塩化メチレン、ベンゼン等が特に好ましい。
上記範囲内であると、イオウ含有有機ケイ素化合物をより効率良く製造することができる。
上記範囲内であると、イオウ含有有機ケイ素化合物をより効率良く製造することができる。
反応工程の反応温度は、通常－６０℃以上、好ましくは－１０℃以上、より好ましくは２０℃以上であり、通常５０℃以下、好ましくは４０℃以下、より好ましくは２５℃以下である。
反応工程の反応時間は、通常３０秒以上、好ましくは６０秒以上、より好ましくは１０分以上であり、通常７２時間以下、好ましくは８時間以下、より好ましくは６時間以下である。
反応工程は、通常窒素、アルゴン等の不活性雰囲気下で行う。
上記範囲内であると、イオウ含有有機ケイ素化合物をより効率良く製造することができる。
反応工程の反応時間は、通常３０秒以上、好ましくは６０秒以上、より好ましくは１０分以上であり、通常７２時間以下、好ましくは８時間以下、より好ましくは６時間以下である。
反応工程は、通常窒素、アルゴン等の不活性雰囲気下で行う。
上記範囲内であると、イオウ含有有機ケイ素化合物をより効率良く製造することができる。
反応工程において、下記式（ｄ－１）で表される化合物を添加することが好ましい。式（ｄ－１）で表わされる化合物を添加することにより、配位子の脱離によるイリジウム錯体の分解を抑制することができる。
（式（ｄ－１）中、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立して水素原子、又は炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、若しくは炭素原子数６～２０のアリール基を表す。）
式（ｄ－１）で表わされる化合物としては、１，５－シクロオクタジエン（ｃｏｄ）が特に好ましい。
式（ｄ－１）で表わされる化合物としては、１，５－シクロオクタジエン（ｃｏｄ）が特に好ましい。
式（ｄ－１）で表わされる化合物の使用量（仕込量）は、イリジウム錯体に対して物質量換算で、通常０．０１倍以上、好ましくは０．１倍以上、より好ましくは０．２倍以上であり、通常５．０倍以下である。イオウ含有有機ケイ素化合物をより効率良く製造することができる。
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
以下に挙げる実施例の全ての操作は、真空ライン、Ｓｃｈｌｅｎｋ操作、又は窒素雰囲気下に保たれたＭＢｒａｕｎドライボックスを用いて実施された。また、溶媒は、脱水脱酸素化して用いた。
以下に挙げる実施例の全ての操作は、真空ライン、Ｓｃｈｌｅｎｋ操作、又は窒素雰囲気下に保たれたＭＢｒａｕｎドライボックスを用いて実施された。また、溶媒は、脱水脱酸素化して用いた。
＜実施例１＞
［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］2（３．７ｍｇ，０．００６ｍｍｏｌ）（ｃｏｄ＝１，５－シクロオクタジエン）の重塩化メチレン溶液（０．４ｍＬ）に、トリメトキシシラン（（ＭｅＯ）3ＳｉＨ，５０ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）及びジアリルジスルフィド（２０ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）を加えた。反応を1ＨＮＭＲにより追跡し、室温６時間で終了したことを確認した。反応溶液にメシチレン（１２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え、1ＨＮＭＲを測定することにより、ヒドロシリル化体（下記反応式参照）が７６％収率で生成したことを確認した。
［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］2（３．７ｍｇ，０．００６ｍｍｏｌ）（ｃｏｄ＝１，５－シクロオクタジエン）の重塩化メチレン溶液（０．４ｍＬ）に、トリメトキシシラン（（ＭｅＯ）3ＳｉＨ，５０ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）及びジアリルジスルフィド（２０ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）を加えた。反応を1ＨＮＭＲにより追跡し、室温６時間で終了したことを確認した。反応溶液にメシチレン（１２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え、1ＨＮＭＲを測定することにより、ヒドロシリル化体（下記反応式参照）が７６％収率で生成したことを確認した。
＜実施例２＞
［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］2（３．７ｍｇ，０．００６ｍｍｏｌ）の重塩化メチレン溶液（０．４ｍＬ）に、１，５－シクロオクタジエン（１．５ｍｇ，０．０１４ｍｍｏｌ）、トリメトキシシラン（（ＭｅＯ）3ＳｉＨ，５０ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）及びジアリルジスルフィド（２０ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）を加えた。反応を1ＨＮＭＲにより追跡し、室温６時間で終了したことを確認した。反応溶液にメシチレン（１２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え、1ＨＮＭＲを測定することによりヒドロシリル化体（下記反応式参照）が９０％収率で生成したことを確認した。
［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］2（３．７ｍｇ，０．００６ｍｍｏｌ）の重塩化メチレン溶液（０．４ｍＬ）に、１，５－シクロオクタジエン（１．５ｍｇ，０．０１４ｍｍｏｌ）、トリメトキシシラン（（ＭｅＯ）3ＳｉＨ，５０ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）及びジアリルジスルフィド（２０ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）を加えた。反応を1ＨＮＭＲにより追跡し、室温６時間で終了したことを確認した。反応溶液にメシチレン（１２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え、1ＨＮＭＲを測定することによりヒドロシリル化体（下記反応式参照）が９０％収率で生成したことを確認した。
＜実施例３～７＞
［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］2（１．９ｍｇ，０．００３ｍｍｏｌ）の重塩化メチレン溶液（０．４ｍＬ）に、１，５－シクロオクタジエン（１．５ｍｇ，０．０１４ｍｍｏｌ）、トリメトキシシラン（（ＭｅＯ）3ＳｉＨ，添加量は表１に記載）、及び表１に記載のアルケン類（０．１４ｍｍｏｌ）を加えた。反応（温度：２５℃）をガスクロマトグラフにより追跡し、収束したことを確認した後、メシチレン（１２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え、1ＨＮＭＲを測定することにより各生成物の収率を決定した。各結果を表１に示す。
［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］2（１．９ｍｇ，０．００３ｍｍｏｌ）の重塩化メチレン溶液（０．４ｍＬ）に、１，５－シクロオクタジエン（１．５ｍｇ，０．０１４ｍｍｏｌ）、トリメトキシシラン（（ＭｅＯ）3ＳｉＨ，添加量は表１に記載）、及び表１に記載のアルケン類（０．１４ｍｍｏｌ）を加えた。反応（温度：２５℃）をガスクロマトグラフにより追跡し、収束したことを確認した後、メシチレン（１２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え、1ＨＮＭＲを測定することにより各生成物の収率を決定した。各結果を表１に示す。
＜実施例８～１０＞
［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］2（１．９ｍｇ，０．００３ｍｍｏｌ）の重塩化メチレン溶液（０．４ｍＬ）に、１，５－シクロオクタジエン（１．５ｍｇ，０．０１４ｍｍｏｌ）、トリエトキシシラン（（ＥｔＯ）3ＳｉＨ，添加量は表２に記載）、及び表２に記載のアルケン類（０．１４ｍｍｏｌ）を加えた。反応（温度：２５℃）をガスクロマトグラフにより追跡し、収束したことを確認した後、メシチレン（１２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え、1ＨＮＭＲを測定することにより各生成物の収率を決定した。各結果を表２に示す。
［ＩｒＣｌ（ｃｏｄ）］2（１．９ｍｇ，０．００３ｍｍｏｌ）の重塩化メチレン溶液（０．４ｍＬ）に、１，５－シクロオクタジエン（１．５ｍｇ，０．０１４ｍｍｏｌ）、トリエトキシシラン（（ＥｔＯ）3ＳｉＨ，添加量は表２に記載）、及び表２に記載のアルケン類（０．１４ｍｍｏｌ）を加えた。反応（温度：２５℃）をガスクロマトグラフにより追跡し、収束したことを確認した後、メシチレン（１２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え、1ＨＮＭＲを測定することにより各生成物の収率を決定した。各結果を表２に示す。
＜実施例１１～１４＞
［Ｉｒ（ＳＰｈ）（ｃｏｄ）］2は、R. Uson, L. A. Oro, J. A. Cabeza, Inorg. Synth., 23, 128(1983)に記載の方法で調製した。
［Ｉｒ（ＳＰｈ）（ｃｏｄ）］2（４．６ｍｇ，０．００５５ｍｍｏｌ）の重塩化メチレン溶液（０．４ｍＬ）に、１，５－シクロオクタジエン（１．５ｍｇ，０．０１４ｍｍｏｌ）、トリメトキシシラン（（ＭeＯ）3ＳｉＨ，添加量は表３に記載）、表３に記載のアルケン類（０．１４ｍｍｏｌ）を加えた。反応（温度：２５℃）をガスクロマトグラフにより追跡し、収束したことを確認した後、メシチレン（１２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え、1ＨＮＭＲを測定することにより各生成物の収率を決定した。各結果を表３に示す。
［Ｉｒ（ＳＰｈ）（ｃｏｄ）］2は、R. Uson, L. A. Oro, J. A. Cabeza, Inorg. Synth., 23, 128(1983)に記載の方法で調製した。
［Ｉｒ（ＳＰｈ）（ｃｏｄ）］2（４．６ｍｇ，０．００５５ｍｍｏｌ）の重塩化メチレン溶液（０．４ｍＬ）に、１，５－シクロオクタジエン（１．５ｍｇ，０．０１４ｍｍｏｌ）、トリメトキシシラン（（ＭeＯ）3ＳｉＨ，添加量は表３に記載）、表３に記載のアルケン類（０．１４ｍｍｏｌ）を加えた。反応（温度：２５℃）をガスクロマトグラフにより追跡し、収束したことを確認した後、メシチレン（１２ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）を加え、1ＨＮＭＲを測定することにより各生成物の収率を決定した。各結果を表３に示す。
本発明の製造方法によって得られたイオウ含有有機ケイ素化合物は、シランカップリング剤など様々な材料の原料として使用することができる。
Claims (3)
- 下記式（Ａ）で表されるヒドロシラン類と下記式（Ｂ－１）で表されるアルケン類をイリジウム錯体の存在下で反応させて下記式（Ｃ－１）で表されるイオウ含有有機ケイ素化合物を生成する、又は下記式（Ａ）で表されるヒドロシラン類と下記式（Ｂ－２）で表されるアルケン類をイリジウム錯体の存在下で反応させて下記式（Ｃ－２）で表されるイオウ含有有機ケイ素化合物を生成する反応工程を含むことを特徴とするイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法。
Ｒ1Ｒ2Ｒ3ＳｉＨ （Ａ）
（式（Ａ）中、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3はそれぞれ独立して炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、又はシロキシ基（－ＯＳｉＲ3）を、Ｒはそれぞれ独立して炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数３～２０のシクロアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、又は炭素原子数１～１０のアルコキシ基を表す。）
- 前記イリジウム錯体が、配位子として下記式（ｄ－１）で表される化合物を含む錯体である、請求項１に記載のイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法。
- 前記反応工程において、下記式（ｄ－１）で表される化合物を添加する、請求項２に記載のイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018554250A JP6762043B2 (ja) | 2016-12-02 | 2017-11-30 | イオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016235362 | 2016-12-02 | ||
| JP2016-235362 | 2016-12-02 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO2018101416A1 true WO2018101416A1 (ja) | 2018-06-07 |
Family
ID=62241759
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PCT/JP2017/043100 WO2018101416A1 (ja) | 2016-12-02 | 2017-11-30 | イオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6762043B2 (ja) |
| WO (1) | WO2018101416A1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2017
- 2017-11-30 WO PCT/JP2017/043100 patent/WO2018101416A1/ja active Application Filing
- 2017-11-30 JP JP2018554250A patent/JP6762043B2/ja active Active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0959290A (ja) * | 1995-08-24 | 1997-03-04 | Nissan Chem Ind Ltd | フェロセニルジフェニルホスフィン誘導体、該配位子金属錯体によるヒドロシリル化 |
| JP2009215197A (ja) * | 2008-03-10 | 2009-09-24 | Univ Kanagawa | ｏ−ニトロベンジル基含有シラザン化合物、その製造方法及び用途 |
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Non-Patent Citations (3)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6762043B2 (ja) | 2020-09-30 |
| JPWO2018101416A1 (ja) | 2019-10-24 |
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