JP2016155771A - シロキシ基を有するビスシリルエタン化合物及びその製造方法 - Google Patents

シロキシ基を有するビスシリルエタン化合物及びその製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】シランカップリング剤、表面処理剤、樹脂添加剤、塗料添加剤、接着剤等として有用なシロキシ基を有するビスシリルエタン化合物及びその製造方法の提供。【解決手段】式（１）で示されるシロキシ基を有するビスシリルエタン化合物。［Ｒ1及びＲ2はＣ１〜２０の１価炭化水素基；Ｒ3は式（２）で示される基；Ｒ4及びＲ5はＣ１〜２０の炭化水素基又は式（２）で示される基；Ｘ及びＹはハロゲン又は−ＯＲ11（Ｒ11は炭化水素基）で示される基；ｍ及びｎは０〜２；ａは０〜１（Ｒ6〜Ｒ10はＣ１〜２０の炭化水素基；ｂは０〜２０の整数）］【選択図】なし

Description

本発明は、シランカップリング剤、表面処理剤、樹脂添加剤、塗料添加剤、接着剤等として有用なシロキシ基を有するビスシリルエタン化合物及びその製造方法に関する。
オルガノキシシリル基を有するシロキサン化合物は、シランカップリング剤、表面処理剤、樹脂添加剤、塗料添加剤、接着剤等として有用である。
このようなオルガノキシシリル基を有するシロキサン化合物としては、例えば特許文献１（特開２００６−１１１５３３号公報）記載のｔ−ブチルジメチルシロキシトリメトキシシラン、トリイソプロピルシロキシトリエトキシシランや、特許文献２（特開２０１２−２３３１１０号公報）記載の末端アルコキシ変性ポリオルガノシロキサンが例示される。そして、特許文献１記載のｔ−ブチルジメチルシロキシトリメトキシシラン、トリイソプロピルシロキシトリエトキシシランはガラスや金属の表面撥水処理剤として、特許文献２記載の末端アルコキシ変性ポリオルガノシロキサンは化粧品用途の粉体表面処理剤として有用であることが開示されている。
特開２００６−１１１５３３号公報 特開２０１２−２３３１１０号公報
しかしながら、特許文献１、特許文献２記載の化合物はいずれもオルガノキシシリル基を分子内に１つしか有しておらず、表面撥水処理剤やシランカップリング剤、化粧品用途の表面粉体処理剤として用いた場合に表面処理性能、カップリング性能等が充分発揮されない場合があり、満足する添加効果が得られない場合があった。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、シランカップリング剤、表面処理剤、樹脂添加剤、塗料添加剤、接着剤等として用いた場合に充分な表面処理性能、カップリング性能を発揮できるビスシリルエタン化合物及びその製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、シロキサン化合物にオルガノキシシリル基を２つ導入した化合物、即ちシロキシ基を有するビスシリルエタン化合物が、シランカップリング剤、表面処理剤、樹脂添加剤、塗料添加剤、接着剤等として用いた場合に充分な表面処理性能、カップリング性能を発揮できることを見出し、本発明を完成するに至った。
従って、本発明は下記に示すシロキシ基を有するビスシリルエタン化合物及びその製造方法を提供する。
〔１〕
下記一般式（１）
［式中、Ｒ1、Ｒ2は炭素数１〜２０の１価炭化水素基、Ｒ3は下記一般式（２）
（式中、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10は炭素数１〜２０の１価炭化水素基であり、ｂは０〜２０の整数である。）で示される基、Ｒ4、Ｒ5は炭素数１〜２０の１価炭化水素基又は上記一般式（２）で示される基、Ｘ、Ｙはハロゲン原子又は−ＯＲ11（式中、Ｒ11は炭素数１〜２０の１価炭化水素基である。）で示される基であり、ｍ、ｎは０、１又は２、ａは０又は１である。］
で示されるシロキシ基を有するビスシリルエタン化合物。
〔２〕
ｂは１〜３の整数、Ｙはメトキシ基又はエトキシ基である〔１〕記載のシロキシ基を有するビスシリルエタン化合物。
〔３〕
下記一般式（３）
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ、Ｙ、ｍ、ｎは、上記と同様である。）
又は下記一般式（４）
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ、Ｙ、ｍ、ｎは、上記と同様である。）
で示される不飽和結合含有シラン化合物と、下記一般式（５）
（式中、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は、上記と同様である。）
で示されるハイドロジェンシロキサン化合物を白金触媒下に反応させることを特徴とする〔１〕又は〔２〕に記載の上記一般式（１）で示されるシロキシ基を有するビスシリルエタン化合物の製造方法。
本発明により提供されるシロキシ基を有するビスシリルエタン化合物は、充分な表面処理性能、カップリング性能を発揮できるため、シランカップリング剤、表面処理剤、樹脂添加剤、塗料添加剤、接着剤等として有用である。
実施例１で得られた１−［１，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。 実施例１で得られた１−［１，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサンのＩＲスペクトルである。 実施例２で得られた３−［１，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。 実施例２で得られた３−［１，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサンのＩＲスペクトルである。 実施例３で得られた１−［１，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。 実施例３で得られた１−［１，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサンのＩＲスペクトルである。 実施例４で得られた１−［１，２−ビス（トリエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。 実施例４で得られた１−［１，２−ビス（トリエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサンのＩＲスペクトルである。 実施例５で得られた１−［１，２−ビス（メチルジメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサンの1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。 実施例５で得られた１−［１，２−ビス（メチルジメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサンのＩＲスペクトルである。
本発明のシロキシ基を有するビスシリルエタン化合物は、下記一般式（１）で示される化合物である。
［式中、Ｒ1、Ｒ2は炭素数１〜２０の１価炭化水素基、Ｒ3は下記一般式（２）
（式中、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10は炭素数１〜２０の１価炭化水素基であり、ｂは０〜２０の整数である。）で示される基、Ｒ4、Ｒ5は炭素数１〜２０の１価炭化水素基又は上記一般式（２）で示される基、Ｘ、Ｙはハロゲン原子又は−ＯＲ11（式中、Ｒ11は炭素数１〜２０の１価炭化水素基である。）で示される基であり、ｍ、ｎは０、１又は２、ａは０又は１である。］
ここで、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11の炭素数１〜２０の１価炭化水素基としては、炭素数1〜１０、特に1〜6のものが好ましく、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシル基等の直鎖状のアルキル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、テキシル基、２−エチルヘキシル基等の分岐鎖状のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の環状のアルキル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基等のアラルキル基等が例示され、特にメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が原料の入手容易性、生成物の有用性の点で好ましい。
Ｘ、Ｙがハロゲン原子の場合、具体的にはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示される。Ｘ、Ｙが−ＯＲ11の場合、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基が例示される。
本発明では、特にＸ、Ｙがオルガノキシ基（−ＯＲ11基）の場合、オルガノキシシリル基が同じ炭素又は隣り合う炭素に結合しているため、表面処理や粉体処理時に緻密に処理することができる。更に、オルガノキシシリル基が同じ炭素に結合している場合は、オルガノキシシリル基の反応性が向上し、より強固に処理することができる。
上記一般式（１）のシロキシ基を有するビスシリルエタン化合物の具体例としては、１−［１，２−ビス（トリクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１−［１，２−ビス（メチルジクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１−［１，２−ビス（ジメチルクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１−［１，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１−［１，２−ビス（メチルジメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１−［１，２−ビス（ジメチルメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１−［１，２−ビス（トリエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１−［１，２−ビス（メチルジエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１−［１，２−ビス（ジメチルエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１−［１，２−ビス（トリクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１−［１，２−ビス（メチルジクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１−［１，２−ビス（ジメチルクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１−［１，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１−［１，２−ビス（メチルジメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１−［１，２−ビス（ジメチルメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１−［１，２−ビス（トリエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１−［１，２−ビス（メチルジエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１−［１，２−ビス（ジメチルエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１−［１，２−ビス（トリクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，７−ノナメチルテトラシロキサン、１−［１，２−ビス（メチルジクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，７−ノナメチルテトラシロキサン、１−［１，２−ビス（ジメチルクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，７−ノナメチルテトラシロキサン、１−［１，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，７−ノナメチルテトラシロキサン、１−［１，２−ビス（メチルジメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，７−ノナメチルテトラシロキサン、１−［１，２−ビス（ジメチルメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，７−ノナメチルテトラシロキサン、１−［１，２−ビス（トリエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，７−ノナメチルテトラシロキサン、１−［１，２−ビス（メチルジエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，７−ノナメチルテトラシロキサン、１−［１，２−ビス（ジメチルエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，７−ノナメチルテトラシロキサン、１−［１，２−ビス（トリクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン、１−［１，２−ビス（メチルジクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン、１−［１，２−ビス（ジメチルクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン、１−［１，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン、１−［１，２−ビス（メチルジメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン、１−［１，２−ビス（ジメチルメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン、１−［１，２−ビス（トリエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン、１−［１，２−ビス（メチルジエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン、１−［１，２−ビス（ジメチルエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン、３−［１，２−ビス（トリクロロシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、３−［１，２−ビス（メチルジクロロシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、３−［１，２−ビス（ジメチルクロロシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、３−［１，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、３−［１，２−ビス（メチルジメトキシシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、３−［１，２−ビス（ジメチルメトキシシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、３−［１，２−ビス（トリエトキシシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、
３−［１，２−ビス（トメチルジエトキシシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、３−［１，２−ビス（ジメチルエトキシシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、３−［１，２−ビス（トリクロロシリル）］エチル−３−トリメチルシロキシ−１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、３−［１，２−ビス（メチルジクロロシリル）］エチル−３−トリメチルシロキシ−１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、３−［１，２−ビス（ジメチルクロロシリル）］エチル−３−トリメチルシロキシ−１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、３−［１，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−３−トリメチルシロキシ−１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、３−［１，２−ビス（メチルジメトキシシリル）］エチル−３−トリメチルシロキシ−１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、３−［１，２−ビス（ジメチルメトキシシリル）］エチル−３−トリメチルシロキシ−１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、３−［１，２−ビス（トリエトキシシリル）］エチル−３−トリメチルシロキシ−１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、３−［１，２−ビス（メチルジエトキシシリル）］エチル−３−トリメチルシロキシ−１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、３−［１，２−ビス（ジメチルエトキシシリル）］エチル−３−トリメチルシロキシ−１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、１−［２，２−ビス（トリクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１−［２，２−ビス（メチルジクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１−［２，２−ビス（ジメチルクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１−［２，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１−［２，２−ビス（メチルジメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１−［２，２−ビス（ジメチルメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１−［２，２−ビス（トリエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１−［２，２−ビス（メチルジエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１−［２，２−ビス（ジメチルエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１−［２，２−ビス（トリクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１−［２，２−ビス（メチルジクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１−［２，２−ビス（ジメチルクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１−［２，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１−［２，２−ビス（メチルジメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１−［２，２−ビス（ジメチルメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１−［２，２−ビス（トリエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１−［２，２−ビス（メチルジエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１−［２，２−ビス（ジメチルエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１−［２，２−ビス（トリクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，３，５，５，７，７，７−ノナメチルテトラシロキサン、１−［２，２−ビス（メチルジクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，３，５，５，７，７，７−ノナメチルテトラシロキサン、１−［２，２−ビス（ジメチルクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，３，５，５，７，７，７−ノナメチルテトラシロキサン、１−［２，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３，５，５，７，７，７−ノナメチルテトラシロキサン、１−［２，２−ビス（メチルジメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３，５，５，７，７，７−ノナメチルテトラシロキサン、１−［２，２−ビス（ジメチルメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３，５，５，７，７，７−ノナメチルテトラシロキサン、１−［２，２−ビス（トリエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３，５，５，７，７，７−ノナメチルテトラシロキサン、１−［２，２−ビス（メチルジエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３，５，５，７，７，７−ノナメチルテトラシロキサン、１−［２，２−ビス（ジメチルエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３，５，５，７，７，７−ノナメチルテトラシロキサン、１−［２，２−ビス（トリクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン、１−［２，２−ビス（メチルジクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン、１−［２，２−ビス（ジメチルクロロシリル）］エチル−１，１，３，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン、１−［２，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン、１−［２，２−ビス（メチルジメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン、１−［２，２−ビス（ジメチルメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン、１−［２，２−ビス（トリエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン、１−［２，２−ビス（メチルジエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン、１−［２，２−ビス（ジメチルエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン、３−［２，２−ビス（トリクロロシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、３−［２，２−ビス（メチルジクロロシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、３−［２，２−ビス（ジメチルクロロシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、３−［２，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、３−［２，２−ビス（メチルジメトキシシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、３−［２，２−ビス（ジメチルメトキシシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、３−［２，２−ビス（トリエトキシシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、３−［２，２−ビス（トメチルジエトキシシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、３−［２，２−ビス（ジメチルエトキシシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、３−［２，２−ビス（トリクロロシリル）］エチル−３−トリメチルシロキシ−１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、３−［２，２−ビス（メチルジクロロシリル）］エチル−３−トリメチルシロキシ−１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、３−［２，２−ビス（ジメチルクロロシリル）］エチル−３−トリメチルシロキシ−１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、３−［２，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−３−トリメチルシロキシ−１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、３−［２，２−ビス（メチルジメトキシシリル）］エチル−３−トリメチルシロキシ−１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、３−［２，２−ビス（ジメチルメトキシシリル）］エチル−３−トリメチルシロキシ−１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、３−［２，２−ビス（トリエトキシシリル）］エチル−３−トリメチルシロキシ−１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、３−［２，２−ビス（メチルジエトキシシリル）］エチル−３−トリメチルシロキシ−１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、３−［２，２−ビス（ジメチルエトキシシリル）］エチル−３−トリメチルシロキシ−１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン等が例示される。
本発明における上記一般式（１）で示されるシロキシ基を有するビスシリルエタン化合物の製造方法は、例えば、下記一般式（３）
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ、Ｙ、ｍ、ｎは、上記と同様である。）
又は下記一般式（４）

（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ、Ｙ、ｍ、ｎは、上記と同様である。）
で示される不飽和結合含有シラン化合物と、下記一般式（５）
（式中、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は、上記と同様である。）
で示されるハイドロジェンシロキサン化合物を白金触媒下に反応させる方法が例示される。
上記一般式（３）又は（４）で示される不飽和結合含有シラン化合物としては、具体的には１，２−ビス（トリクロロシリル）エチレン、１，２−ビス（メチルジクロロシリル）エチレン、１，２−ビス（ジメチルクロロシリル）エチレン、１，２−ビス（トリメトキシシリル）エチレン、１，２−ビス（メチルジメトキシシリル）エチレン、１，２−ビス（ジメチルメトキシシリル）エチレン、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エチレン、１，２−ビス（メチルジエトキシシリル）エチレン、１，２−ビス（ジメリルエトキシシリル）エチレン、１，１−ビス（トリクロロシリル）エチレン、１，１−ビス（メチルジクロロシリル）エチレン、１，１−ビス（ジメチルクロロシリル）エチレン、１，１−ビス（トリメトキシシリル）エチレン、１，１−ビス（メチルジメトキシシリル）エチレン、１，１−ビス（ジメチルメトキシシリル）エチレン、１，１−ビス（トリエトキシシリル）エチレン、１，１−ビス（メチルジエトキシシリル）エチレン、１，１−ビス（ジメリルエトキシシリル）エチレン等が例示される。
上記一般式（５）で示されるハイドロジェンシロキサン化合物としては、具体的には１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１，１，１，３，３，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、１，１，１，３，３，５，５，７，７−ノナメチルテトラシロキサン、１，１，１，３，３，５，５，７，７，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン、３−トリメチルシロキシ−１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン等が例示される。
上記一般式（３）又は（４）で示される不飽和結合含有シラン化合物と上記一般式（５）で示されるハイドロジェンシロキサン化合物の配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、一般式（３）又は（４）で示される不飽和結合含有シラン化合物１モルに対し一般式（５）で示されるハイドロジェンシロキサン化合物を０．１〜４モル、特に０．２〜２モルの範囲が好ましい。
上記反応で用いられる白金触媒としては、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン又はキシレン溶液、テトラキストリフェニルホスフィン白金、ジクロロビストリフェニルホスフィン白金、ジクロロビスアセトニトリル白金、ジクロロビスベンゾニトリル白金、ジクロロシクロオクタジエン白金、白金−活性炭等が例示される。
白金触媒の使用量は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、一般式（３）又は（４）で示される不飽和結合含有シラン化合物１モルに対し、０．０００００１〜０．０１モル、特に０．００００１〜０．００１モルの範囲が好ましい。
上記反応の反応温度は特に限定されないが、０〜２００℃、特に２０〜１５０℃が好ましく、反応時間も特に限定されないが、１〜４０時間、特に１〜２０時間が好ましい。反応雰囲気は窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気とすることが好ましい。
なお、上記反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。用いられる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒等が例示される。これらの溶媒は１種を単独で使用してもよく、あるいは２種以上を混合して使用してもよい。
以上のようにして得られた反応液からは蒸留、低沸点成分留去、カラムクロマトグラフィー等、通常の方法で目的物を回収することができるが、目的物が高純度となる点から蒸留精製する方法を採用するのが好ましい。
以下、実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
［実施例１］１−［１，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、１，２−ビス（トリメトキシシリル）エチレン２６．８ｇ（０．１モル）、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液を０．０７ｇ仕込み、６０℃に加熱した。内温が安定した後、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン１４．８ｇ（０．１モル）を１時間かけて滴下し、その温度で１時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点１２３−１２４℃／０．４ｋＰａの留分を３７．２ｇ得た。
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ４０１，２９７，２６４，２３８，１９３，１４７
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）
図１にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図２にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は１−［１，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサンであることが確認された。
［実施例２］３−［１，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、１，２−ビス（トリメトキシシリル）エチレン２６．８ｇ（０．１モル）、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液を０．０７ｇ仕込み、６０℃に加熱した。内温が安定した後、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン２２．３ｇ（０．１モル）を１時間かけて滴下し、その温度で１時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点１３３−１３４℃／０．４ｋＰａの留分を３０．５ｇ得た。
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ４７５，３５５，２３８，１９３，１２１，７３
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）
図３にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図４にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は３−［１，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサンであることが確認された。
［実施例３］１−［１，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、１，２−ビス（トリメトキシシリル）エチレン２６．８ｇ（０．１モル）、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液を０．０７ｇ仕込み、６０℃に加熱した。内温が安定した後、１，１，１，３，３，５，５，７，７，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサン３７．１ｇ（０．１モル）を１時間かけて滴下し、その温度で１時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点１６９−１７４℃／０．３ｋＰａの留分を５０．０ｇ得た。
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ６２３，４０１，２８１，２３８，１４７，７３
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）
図５にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図６にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は１−［１，２−ビス（トリメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシロキサンであることが確認された。
［実施例４］１−［１，２−ビス（トリエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エチレン３５．３ｇ（０．１モル）、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液を０．０７ｇ仕込み、６０℃に加熱した。内温が安定した後、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン１４．８ｇ（０．１モル）を１時間かけて滴下し、その温度で１時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点１４３−１４６℃／０．４ｋＰａの留分を４４．５ｇ得た。
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ４８５，４１１，３０８，２３５，２０７，１４７
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）
図７にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図８にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は１−［１，２−ビス（トリエトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサンであることが確認された。
［実施例５］１−［１，２−ビス（メチルジメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、１，２−ビス（メチルジメトキシシリル）エチレン２３．６ｇ（０．１モル）、白金−１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液を０．０７ｇ仕込み、６０℃に加熱した。内温が安定した後、１，１，１，３，３−ペンタメチルジシロキサン１４．８ｇ（０．１モル）を１時間かけて滴下し、その温度で１時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点１１５−１１６℃／０．４ｋＰａの留分を３３．２ｇ得た。
得られた留分の質量スペクトル、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ３６９，２６５，２４９，２０６，１７８，１４７
1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）
図９にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図１０にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は１−［１，２−ビス（メチルジメトキシシリル）］エチル−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサンであることが確認された。

Claims (3)

  1. 下記一般式（１）
    ［式中、Ｒ1、Ｒ2は炭素数１〜２０の１価炭化水素基、Ｒ3は下記一般式（２）
    （式中、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10は炭素数１〜２０の１価炭化水素基であり、ｂは０〜２０の整数である。）で示される基、Ｒ4、Ｒ5は炭素数１〜２０の１価炭化水素基又は上記一般式（２）で示される基、Ｘ、Ｙはハロゲン原子又は−ＯＲ11（式中、Ｒ11は炭素数１〜２０の１価炭化水素基である。）で示される基であり、ｍ、ｎは０、１又は２、ａは０又は１である。］
    で示されるシロキシ基を有するビスシリルエタン化合物。
  2. ｂは１〜３の整数、Ｙはメトキシ基又はエトキシ基である請求項１記載のシロキシ基を有するビスシリルエタン化合物。
  3. 下記一般式（３）
    （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ、Ｙ、ｍ、ｎは、上記と同様である。）
    又は下記一般式（４）
    （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ、Ｙ、ｍ、ｎは、上記と同様である。）
    で示される不飽和結合含有シラン化合物と、下記一般式（５）
    （式中、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は、上記と同様である。）
    で示されるハイドロジェンシロキサン化合物を白金触媒下に反応させることを特徴とする請求項１又は２に記載の上記一般式（１）で示されるシロキシ基を有するビスシリルエタン化合物の製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018159756A1 (ja) * 2017-03-02 2018-09-07 国立研究開発法人産業技術総合研究所 配列制御オリゴシロキサン、それらの製造方法及びオリゴシロキサン合成機
JP2018193419A (ja) * 2017-05-12 2018-12-06 信越化学工業株式会社 表面改質剤およびこれを用いた表面改質方法
WO2019159476A1 (ja) * 2018-02-13 2019-08-22 信越化学工業株式会社 オルガノシロキサン化合物及び表面処理剤

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003034782A (ja) * 2001-07-24 2003-02-07 Shin Etsu Chem Co Ltd 半導体部品用シリコーン接着剤
WO2004005392A2 (en) * 2002-07-03 2004-01-15 Henkel Loctite Corporation Maleimidopropyl trimethoxysilane and related free-radically polymerizable coupling agents as adhesion promotors in adhesive formulations
JP2007077136A (ja) * 2005-08-15 2007-03-29 Shin Etsu Chem Co Ltd １−（アルコキシシリル）エチル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンの製造方法
JP2007332104A (ja) * 2006-06-16 2007-12-27 Shin Etsu Chem Co Ltd 有機ケイ素化合物
WO2010026992A1 (ja) * 2008-09-05 2010-03-11 株式会社日本触媒 シリコーン樹脂組成物、酸化金属粒子及びその製造方法
JP2010095457A (ja) * 2008-10-15 2010-04-30 Shin-Etsu Chemical Co Ltd シランカップリング剤、これを用いた環状ポリオレフィンの改質方法及び有機ケイ素化合物の製造方法
JP2010138270A (ja) * 2008-12-11 2010-06-24 Kaneka Corp 金属酸化物微粒子含有硬化性樹脂組成物、その硬化物、及び光拡散材
JP2014077115A (ja) * 2012-09-21 2014-05-01 Dow Corning Toray Co Ltd 光学材料用表面処理剤および光学材料

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003034782A (ja) * 2001-07-24 2003-02-07 Shin Etsu Chem Co Ltd 半導体部品用シリコーン接着剤
WO2004005392A2 (en) * 2002-07-03 2004-01-15 Henkel Loctite Corporation Maleimidopropyl trimethoxysilane and related free-radically polymerizable coupling agents as adhesion promotors in adhesive formulations
JP2007077136A (ja) * 2005-08-15 2007-03-29 Shin Etsu Chem Co Ltd １−（アルコキシシリル）エチル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンの製造方法
JP2007332104A (ja) * 2006-06-16 2007-12-27 Shin Etsu Chem Co Ltd 有機ケイ素化合物
WO2010026992A1 (ja) * 2008-09-05 2010-03-11 株式会社日本触媒 シリコーン樹脂組成物、酸化金属粒子及びその製造方法
JP2010095457A (ja) * 2008-10-15 2010-04-30 Shin-Etsu Chemical Co Ltd シランカップリング剤、これを用いた環状ポリオレフィンの改質方法及び有機ケイ素化合物の製造方法
JP2010138270A (ja) * 2008-12-11 2010-06-24 Kaneka Corp 金属酸化物微粒子含有硬化性樹脂組成物、その硬化物、及び光拡散材
JP2014077115A (ja) * 2012-09-21 2014-05-01 Dow Corning Toray Co Ltd 光学材料用表面処理剤および光学材料

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018159756A1 (ja) * 2017-03-02 2018-09-07 国立研究開発法人産業技術総合研究所 配列制御オリゴシロキサン、それらの製造方法及びオリゴシロキサン合成機
JPWO2018159756A1 (ja) * 2017-03-02 2019-12-19 国立研究開発法人産業技術総合研究所 配列制御オリゴシロキサン、それらの製造方法及びオリゴシロキサン合成機
US10975107B2 (en) 2017-03-02 2021-04-13 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Sequence-controlled oligosiloxane and manufacturing method and oligosiloxane synthesizer therefor
JP2018193419A (ja) * 2017-05-12 2018-12-06 信越化学工業株式会社 表面改質剤およびこれを用いた表面改質方法
WO2019159476A1 (ja) * 2018-02-13 2019-08-22 信越化学工業株式会社 オルガノシロキサン化合物及び表面処理剤
CN111712504A (zh) * 2018-02-13 2020-09-25 信越化学工业株式会社 有机硅氧烷化合物和表面处理剂
JPWO2019159476A1 (ja) * 2018-02-13 2021-01-28 信越化学工業株式会社 オルガノシロキサン化合物及び表面処理剤
US11746237B2 (en) 2018-02-13 2023-09-05 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Organosiloxane compound and surface treatment agent

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