JP6295581B2 - 電気機器の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の第1実施形態による電気機器の製造方法における、封止工程の一部を、図1に模式的に示す。第1実施形態による製造方法では、脱泡用真空チャンバ3内に、超音波発生装置41と、封止材を注型する前のパワーモジュール1の被封止体を収容するパッケージと、未硬化の封止材18の入ったビーカー21を設置する。超音波発生装置41は、パッケージに注型される封止材に作用可能なように、パッケージ外部を包囲した形で設置される。脱泡用真空チャンバ3は、低分子ガスの一例である水素ガスの供給手段34と弁33を介して接続され、また、ロータリーポンプ32と弁31を介して接続されている。ビーカー21は、操作ロッド22を用いて、真空チャンバ3外から操作できるように構成されている。
本発明の第2実施形態による電気機器の製造方法における、封止工程の一部を、図7に模式的に示す。第2実施形態による製造方法では、脱泡用真空チャンバ3内に、超音波発生装置42と、封止材18を注型する前のパワーモジュール1の被封止体を収容するパッケージと、未硬化の封止材18の入ったビーカー21を設置する。超音波発生装置42は、注型前のビーカー内の封止材18に作用可能に設置される。脱泡用真空チャンバ3の構成は、第1実施形態と同様である。
本発明の第3実施形態による電気機器の製造方法における、封止工程の一部を、図8に模式的に示す。第3実施形態による製造方法では、脱泡用真空チャンバ3内に、超音波発生装置42と、封止材18を注型する前のパワーモジュール1の被封止体を収容するパッケージと、未硬化の封止材18の入ったビーカー21を設置する。超音波発生装置42、脱泡用真空チャンバ3の構成は、第2実施形態と同様である。
本発明の第4実施形態による電気機器の製造方法における、封止工程の一部を、図9に模式的に示す。第4実施形態による製造方法では、脱泡用真空チャンバ3内に、超音波発生装置42と、封止材18を注型する前のパワーモジュール1の被封止体を収容するパッケージと、未硬化の封止材18の入ったビーカー21を設置する。超音波発生装置42、脱泡用真空チャンバ3の構成は、第2実施形態と同様である。
本発明の第5実施形態による電気機器の製造方法における、封止工程の一部を、図10に模式的に示す。第5実施形態による製造方法では、脱泡用真空チャンバ3内に、超音波発生装置41と、封止材18を注型する前のパワーモジュール1の被封止体を収容するパッケージと、未硬化の封止材18の入ったビーカー21を設置する。超音波発生装置41、脱泡用真空チャンバ3の構成は、第1実施形態と同様である。
本発明の第6実施形態による電気機器の製造方法における、封止工程の一部を、図11に模式的に示す。第6実施形態による製造方法では、脱泡用真空チャンバ3内に、超音波発生装置41と、封止材18を注型する前のパワーモジュール1の被封止体を収容するパッケージと、未硬化の封止材18の入ったビーカー21を設置する。超音波発生装置41、脱泡用真空チャンバ3の構成は、第1実施形態と同様である。
図示はしないが、本発明は、その他の様々な実施形態を包含するものである。例えば、第1実施形態から第6実施形態で示したすべての超音波印加態様を備える施工とすることもできるし、これらのうち2以上の超音波印加態様を備える施工とすることもできる。
10 空孔・欠陥
11 銅ベース
12 接合材
13 電極
14 絶縁基板
15 半導体素子
16 アルミワイヤー
17 銅配線
18 封止材
19 ボイド
21 ビーカー
22 操作ロッド
3 脱泡用真空チャンバ
31 弁
32 真空ポンプ
33 弁
34 水素ガス供給手段
35 ガス供給手段
41 超音波処理装置
42 超音波処理装置
Claims (7)
- 一以上の電極と絶縁基板とを少なくとも備えてなる部材から構成される被封止体を封止材により封止してなる、電極に電圧を印加して機能させる電気機器の製造方法であって、前記封止材の注型工程と、前記封止材の脱泡工程と、前記封止材の硬化工程とを含み、
前記注型工程の前に、前記封止材と前記被封止体との周囲雰囲気を水素ガス、ヘリウムガス、あるいはそれらの混合物から選択されるガス雰囲気で置換する工程とを含み、
前記脱泡工程後であって、前記硬化工程の前に、封止材を加圧する工程を含むことを特徴とする、電気機器の製造方法。 - 前記ガス雰囲気で置換する工程、及び/または、前記封止材の注型工程、及び/または、前記封止材の脱泡工程において、及び/または、各工程の間に、前記封止材及び/または前記被封止体に、超音波を印加することを特徴とする、請求項1に記載の電気機器の製造方法。
- 前記ガス雰囲気で置換する工程、及び/または、前記封止材の注型工程、及び/または、前記封止材の脱泡工程において、前記封止材及び/または前記被封止体を、前記封止材の硬化温度以下の温度で加熱することを特徴とする、請求項1または2に記載の電気機器の製造方法。
- 一以上の電極と絶縁基板とを少なくとも備えてなる部材から構成される被封止体を封止材により封止してなる、電極に電圧を印加して機能させる電気機器の製造方法であって、
前記封止材と前記被封止体との周囲雰囲気を減圧する減圧工程と、
前記封止材と前記被封止体との周囲雰囲気を水素ガス、ヘリウムガス、あるいはそれらの混合物から選択されるガス雰囲気で置換するガス置換工程と、
前記封止材と前記被封止体との周囲雰囲気を再度減圧し、前記封止材を注型する注型工程と、
前記減圧雰囲気を継続したまま、注型された前記封止材を脱泡する脱泡工程と、
前記封止材で封止された被封止体を、常圧に戻す大気開放工程と、
前記注型された封止材を加熱硬化させる加熱硬化工程と
を含み、
前記大気開放工程後であって、前記加熱硬化工程の前に、封止材を加圧する工程を含む、電気機器の製造方法。 - 前記減圧工程、前記ガス置換工程、前記注型工程、前記脱泡工程、大気開放工程、及び各工程の間のいずれか1以上において、前記封止材及び/または前記被封止体に、超音波を重畳的に印加することを特徴とする、請求項4に記載の方法。
- 前記減圧工程、前記ガス置換工程、前記注型工程、前記脱泡工程、及び大気開放工程のいずれか1以上の工程において、前記封止材及び/または前記被封止体を、前記封止材の硬化温度以下の温度で加熱することを特徴とする、請求項4または5に記載の方法。
- 前記大気開放工程が、前記ガスを用いて、大気開放する工程を含む、請求項4〜6のいずれかに記載の方法。
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